DE855287C - Linsen und Linsensysteme fuer elektronenoptische Abbildung - Google Patents

Linsen und Linsensysteme fuer elektronenoptische Abbildung

Info

Publication number
DE855287C
DE855287C DEP13564A DEP0013564A DE855287C DE 855287 C DE855287 C DE 855287C DE P13564 A DEP13564 A DE P13564A DE P0013564 A DEP0013564 A DE P0013564A DE 855287 C DE855287 C DE 855287C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
systems according
imaging systems
fields
rotationally symmetrical
lenses
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DEP13564A
Other languages
English (en)
Inventor
Otto Dr Phil Scherzer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
Original Assignee
SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH filed Critical SUEDDEUTSCHE LABORATORIEN GmbH
Priority to DEP13564A priority Critical patent/DE855287C/de
Application granted granted Critical
Publication of DE855287C publication Critical patent/DE855287C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

  • Linsen und Linsensysteme für elektronenoptische Abbildung Es ist bekannt, daB sich die heute üblichen elektrischen und magnetischen Elektronenlinsen weder sphärisch noch chromatisch korrigieren lassen, solange die angewandten Felder raumladungsfrei und zeitlich konstant sind. Durch diesen Umstand werden die Leuchtfleckschärfe der Braunschen Röhren, die Bildschärfe der Fernsehröhren und das Auflösungsvermögen des Elektronenmikroskops erheblich beeinträchtigt. Zur Beseitigung dieses MiB-standes sind bisher nur zwei Wege in Betracht gezogenworden: dieAnhäufung korrigierenderRaumladungen im Strahlengang der Elektronen und die rasche zeitliche Änderung der abbildenden Felder. Beide Wege führen auf erhebliche technische Schwierigkeiten. Die Ansammlung von Raumladungen erfordert zusätzliche Elektronenquellen und zusätzliche konzentrierende Felder und beeinträchtigt überdies den Strahlengang durch die innere Struktur und die Instabilität der Ladungswolke. Die Korrektur durch zeitlich veränderliche Felder verlangt Frequenzen über iooo MHz, die sich nur schwer mit der erforderlichen Stärke und Stabilität herstellen lassen.
  • Das Wesen der vorliegenden Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß zur sphärischen und chromatischen Korrektur der Elektronenlinsen weder Raumladungen noch zeitlich veränderliche Felder erforderlich sind, sondern daB es genügt, beim Bau der Linsen in geeigneter Weise von der bisher für die elektronenoptische Abbildung als unerläBlich betrachteten Rotationssymmetrie abzugehen. Denken wir uns beispielsweise, wie in Fig. i angedeutet, eine elektronenoptische Abbildung durch nichtrotationssymmetrische Felder in der Weise vorgenommen, daß @dasZwischenbild einen Astigmatismus erster Ordnung aufweist, so treten statt der bei rotationssymmetrischen Feldern üblichen Zwischenbildebene zwei Teilbildebenen auf, deren eine die waagerechte, die andere die senkrechte Bildlinie enthält. Wird der Strahlengang in der unmittelbaren Nachbarschaft einer solchen Bildlinie durch ein zusätzliches Feld beeinflußt, so kommt nur der Teil des Feldes zur Wirkung, der in der durch die optische Achse und die Bildlinie ausgespannten Ebene gelegen ist, weil ja neben der Bildlinie keine aus der O,bjektivmitte kommenden Elektronen vorhanden sind. Soll das zusätzliche Feld die Abbildungsfehler beseitigen, so brauchte also bei seiner Gestaltung nur auf den in der genannten Ebene liegenden Teil des Feldes Rücksicht genommen zu werden. Unter diesen vereinfachten Umständen ist sowohl die Beseitigung der sphärischen als auch der chromatischen Aberration wie auch beider gemeinsam möglich.
  • Betrachten wir beispielsweise das auf die Kathode als Nullpunkt bezogene Potential Es beschreibt in der Nähe der optischen Achse ein ladungsfreies statisches Feld, das bei hinreichend großem bin der xz-Ebene so stark chromatisch überkorrigiert ist, daß es den chromatischen Fehler ,der übrigen Teile des Mikroskops für diese Ebene aufhebt. Wird ein solches Feld in der Umgebung der waagerechten Bildlinie von Fig. i angeordnet und ein um 9o0 gedrehtes entsprechendes Feld in der Umgebung der senkrechten Bildlinie, so ist damit der chromatische Fehler in den beiden in Fig. i gezeichneten Hauptschnitten beseitigt. Wegen der Linearität (der Bahngleichungen für achsennahe Elektronen ist damit die Korrektion auch für alle übrigen von der Objektmitte und ihrer Nachbarschaft ausgehenden Bahnen gesichert.
  • In ganz entsprechender Weise läßt sich die Geschwindigkeitsabhängigkeit der Vergrößerung und die sphärische Aberration der Strahlen durch Eingriffe in der Nähe der Teilbildebenen beseitigen. Die dazu erforderlichen unrunden, also nicht rotationssymmetrischen Felder lassen sich ohne besondere Schwierigkeiten durch Elektroden der in Fig. 2 im Schnitt dargestellten Art erzeugen.
  • Das Objekt, das das astigmatische Bild entwirft, kann entweder eine einzelne astigmatische Linse sein oder aus zwei räumlich getrennten Zylinderlinsen mit zueinander senkrechten Zylindermantellinien bestehen. Dasselbe gilt für das Projektiv, das die beiden Teilbilder zum astigmatischen Bild vereinigt, und für etwa vorhandene Zwischensysteme, die etwaige weitere Zwischenbilder erzeugen.
  • Die Durchrechnung der Strahlengänge zeigt, daß die Beschränkung der korrigierenden Felder auf die Umgebung der Bildlinien nicht unbedingt erforderlich ist, sondern daß auch an anderer Stelle des Strahlenganges gelegene geeignete Abweichungen von der Rotationssymmetrie die gewünschten Korrekturen herbeiführen können. Die Ergebnisse sind nicht an rein elektrische Linsen gebunden, sondern lassen sich auch auf maigneti@sche und kombinierte Linsen übertragen. Ebenso zeigt die Rechnung, daß die Korrekturmöglichkeit der sphärischen Aberration nicht auf die Aberration dritter Ordnung beschränkt ist, sondern .daß durch unrunde Felder auch Strahlen, die in erheblichem Abstand von der optischen Achse verlaufen, zizm Gaußschen Bildpunkt geführt werden können. Die Feinheit der für Abtastzwecke und für die Schattenmikroskopie benötigten Elektronensonden, die Leuchtfleckschärfe der Braunschen und Fernsehröhren und das Auflösungsvermögen der Mikroskope lassen sich damit um ein bis zwei Zehnerpotenzen verbessern.

Claims (7)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Linsen und Linsensysteme für elektronenoptische Abbildung, dadurch gekennzeichnet, daß die abbildenden Felder nicht rotationssymmetrisch bezüglich der optischen Achse sind.
  2. 2. Abbildungssysteme nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Abweichungen von der Rotationssymmetrie die chromatische und/oder die sphärische Aberration und/oder andere (Abbildungsfehler beseitigt werden.
  3. 3. Abbildungssysteme nach Anspruch i und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Abbildung mit einem oder mehreren astigmatischen Zwischenbildern erfolgt.
  4. 4. Abbildungssysteme nach Anspruch 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß die korrigierenden Felder am Ort der Zwischenbilder wirksam sind.
  5. 5. Abbildungssysteme nach Anspruch i bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß einzelne räumlich getrennte Zylindlerli@nsen mit zueinander senkrechten Zylindermantellinien Verwendung finden.
  6. 6. .Abbildungssysteme nach Anspruch,i bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht rotationssymmetrischen Felder vom elektrischen; und oder magnetischen Typ sind.
  7. 7. Abbildungssysteme nach Anspruch i bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht rotationssymmetrischen Felder zur Erzeugung des Leuchtflecks von Braunschen Röhren oder Fernsehröhren verwendet werden. B. Abbildungssysteme nach Anspruch i bis 6, dadurch gekennzeichnet, daB die nicht rotationssymmetrischen Felder zur Erzeugung des Leuchtzentrums für schattenmikroskopische Aufnahmen Verwendung finden. g. Abbildungssysteme nach Anspruch i bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die nicht rotationssymmetrischen Felder der Schaffung einer Elektronensonde für Abtastzwecke dienen.
DEP13564A 1948-10-02 1948-10-02 Linsen und Linsensysteme fuer elektronenoptische Abbildung Expired DE855287C (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEP13564A DE855287C (de) 1948-10-02 1948-10-02 Linsen und Linsensysteme fuer elektronenoptische Abbildung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEP13564A DE855287C (de) 1948-10-02 1948-10-02 Linsen und Linsensysteme fuer elektronenoptische Abbildung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE855287C true DE855287C (de) 1952-11-10

Family

ID=7364683

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEP13564A Expired DE855287C (de) 1948-10-02 1948-10-02 Linsen und Linsensysteme fuer elektronenoptische Abbildung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE855287C (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE971743C (de) * 1954-01-08 1959-03-19 Freiberger Praez Smechanik Veb Verfahren zur Herstellung von auf axialen Astigmatismus korrigierten elektrostatischen elektronenoptischen Linsensystemen
DE1133838B (de) * 1958-09-06 1962-07-26 Zeiss Carl Fa Strahlquelle zur Erzeugung eines intensitaetsreichen Elektronenstrahles
DE1187335B (de) * 1958-04-24 1965-02-18 Tesla Np Vorrichtung zur Kompensation des axialen Astigmatismus von Elektronenlinsen

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE971743C (de) * 1954-01-08 1959-03-19 Freiberger Praez Smechanik Veb Verfahren zur Herstellung von auf axialen Astigmatismus korrigierten elektrostatischen elektronenoptischen Linsensystemen
DE1187335B (de) * 1958-04-24 1965-02-18 Tesla Np Vorrichtung zur Kompensation des axialen Astigmatismus von Elektronenlinsen
DE1133838B (de) * 1958-09-06 1962-07-26 Zeiss Carl Fa Strahlquelle zur Erzeugung eines intensitaetsreichen Elektronenstrahles

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0530640B1 (de) Abbildungssystem für Strahlung geladener Teilchen mit Spiegelkorrektor
DE69733873T2 (de) Vorrichtung zur korrektur von linsenfehlern in teilchen-optischer geräte
EP0373399A3 (de) Abbildender Korrektor vom Wien-Typ für Elektronenmikroskope
DE102007058443B4 (de) Korrektor für axialen und außeraxialen Strahlengang und TEM damit
DE69822802T2 (de) Korrigiervorrichtung zur behebung des chromatischen fehlers in korpuskularoptischen geräten
US2418349A (en) Method of and means for correcting for distortion in electron lens systems
DE102013020399B4 (de) Vorrichtung zur Korrektur chromatischer Aberration und Elektronenmikroskop
EP2051279B1 (de) Korrektor
DE112010004145B4 (de) Vorrichtung zur Abtastung mit einem geladenen Teilchenstrahl und Vefahren zur Korrektur der chromatischen und sphärischen Aberration in Kombination
DE102019122013B3 (de) Teilchenoptischer Korrektor frei von axialen Fehlern sechster Ordnung und Elektronenmikroskop mit Korrektor
DE855287C (de) Linsen und Linsensysteme fuer elektronenoptische Abbildung
DE4204512A1 (de) Elektronenoptisches korrektiv
DE102011009954A1 (de) Korrektor
EP1941531B1 (de) Elektronenoptischer korrektor für aplanatische abbildungssysteme
US3597609A (en) Method of image focusing in particle-beam apparatus comprising changing the beam incidence angle at 10 to 15 hertz
EP2466613B1 (de) Korrektor
DE879877C (de) Elektrostatische Einzellinse
US3256432A (en) Equal energy selection in an electron microscope using electron optics
DE873729C (de) Einrichtung zur Verminderung des astigmatischen Fehlers elektronenoptischer Systeme
Maas et al. Electrostatic aberration correction in low-voltage SEM
DE932922C (de) Einrichtung zum Justieren eines elektronenoptischen Stigmators
AT148915B (de) Sammelvorrichtung für Elektronen.
DE735873C (de) Elektronenoptische Abbildungseinrichtung mit zwei oder mehr Einzellinsen
DE886755C (de) Speichernde Bildsenderoehre
DE112022006914T5 (de) Aberrationskorrekturvorrichtung und Aberrationskorrekturverfahren