NL8304217A - Automatisch instelbare electronenmicroscoop. - Google Patents

Automatisch instelbare electronenmicroscoop. Download PDF

Info

Publication number
NL8304217A
NL8304217A NL8304217A NL8304217A NL8304217A NL 8304217 A NL8304217 A NL 8304217A NL 8304217 A NL8304217 A NL 8304217A NL 8304217 A NL8304217 A NL 8304217A NL 8304217 A NL8304217 A NL 8304217A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
value
electron
correction
electron microscope
wobbler
Prior art date
Application number
NL8304217A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Philips Nv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Nv filed Critical Philips Nv
Priority to NL8304217A priority Critical patent/NL8304217A/nl
Priority to EP84201775A priority patent/EP0145089A3/en
Priority to CA000469402A priority patent/CA1225756A/en
Priority to JP59259057A priority patent/JPS60140641A/ja
Publication of NL8304217A publication Critical patent/NL8304217A/nl
Priority to US06/773,721 priority patent/US4618766A/en

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/21Means for adjusting the focus

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Automatic Focus Adjustment (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

, > - " * * * __ ^ _______________ PHN 10878 1 ' N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken te Eindhoven.
. _ Automatisch instelbare electrcanenmicroscoop. . ------ -------- De uitvinding heeft betrekking qp een werkwijze voor het in- stellen van een optimale focusconditie in een electronenmicroscoop met een electronenbron, een bundelwobhler, een electronen optisch lenzenstelsel en een electronendetectieinrichting en qp een electronemicros-5 cocp uitgerust voor het uitvoeren van deze werkwijze.
Een dergelijke werkwijze en electronenmicroscoop is bekend uit een artikel van H. Koops en G. Walter in "Proceedings Eurcp. Congr. on EM", Den Haag, 1980, vol. I, pp 40-41. In de aldaar beschreven werkwijze wordt gewerkt met een preparaat in de vorm van een diafragma 10 met een, door de electronenbundel vanuit verschillende richtingen te doorstralen centrale kleine opening en een detector met eveneens een kleine centrale opening. De beeldverschuiving wordt dan gemeten door het bepalen van de stroansterkte die nodig is cm met een na het preparaat opgestelde tweede bundelafbuiginrichting de electronenbundel weer door 15 de centrale opening in de detector te doen invallen. Door meten bij verschillende waarden voer de bundelboek kan alrïns de defocussering warden gemeten. Door de meting uit te voeren voor verschillende azimuthale waarden van de bundelboek kan het astigmatisme worden gemeten. Met behulp van de aldus gemeten waarden kan het focus worden bijgesteld en kan bij-20 voorbeeld een stigmator werden bekrachtigd voor het minimaliseren van het astigmatisme.
Het gebruik van een specifiek preparaat in de vorm van een centraal diafragma en een daaraan aangepaste detector met een kleine centrale opening maakt deze werkwijze ongeschikt voor focus instelling 25 in praktische gevallen. Daarbij zou iirmers na het instellen van het focus respectievelijk het bijregelen van het astigmatisme het diafragma vervangen moeten worden door een te onderzoeken preparaat en eventueel ode de detector aan een aan het preparaat uit te voeren meting moeten warden aangepast.
30 De uitvinding beoogt deze bezwaren te ondervangen en een elec tronenmicroscoop te verschaffen waarin ode gedurende het meten aan een preparaat, eventueel automatisch, focus optimalisering en indien gewenst - verdere optimalisering van de instelling van de electronenmicroscoop kan ~ 83 042 1 7 PHN 10878 2 * worden doorgevoerd. De in de aanhef genoemde werkwijze^ heeft daartoe tot kenmerk, dat met behulp van de bundelwobbler een preparaat vanuit verschillende richtingen wordt bestraald, de daarbij optredende beeldinformatie beeldpuntsgewij s wordt gedetecteerd en geregistreerd en ter be-5 paling van een optimale focusconditïe met een algorithme F (s) = (Xi - Yi+s)j* de waarde van s van de beeldverplaatsing wordt bepaald waarvoor de functie F(s) minimaal is, waarna de focussering in afhankelijkheid van de gevonden s-waarde wordt bijgesteld.
Doordat bij de werkwijze volgens de uitvinding voor de optima-10 liser ing van de focusconditïe wordt gewerkt net een willekeurig preparaat en een voor meting aan dat preparaat ingerichte detector leent deze werkwijze zich in het bijzonder voor focus optimalisering gedurende de meting. Onder gedurende de meting is uiteraard ook begrepen ; direct aan de meting voorafgaand zonder dat tussen die handeling en de daarop 15 volgende meting iets aan de electronenmicroscoop wordt gewijzigd.
In een voorkeursuitvoering wordt gebruik gemaakt van een computer die is uitgerust net middelen voor een directe automatische bijsturing van voor optimalisering van de instelling relevante electronen optische lementen van de electronenmicroscoop. Een dergelijke computer is bij 20 voorkeur ook ingericht voor een met het innemen van beeldinformatie synchrone besturing .van de bundelwobbler. Cm te voorkomen dat als gevolg van bijvoorbeeld ruis in de beeldvorming of bij uitzonderlijke preparaten dan wel extreme vergrotings instellingen de optimale focusseringsconditie minder scherp zou worden bepaald is in een voorkeursuitvoering de carr 25 puter uitgerust voor het extrapoleren van de minimale waarde van de functie F (s) uit meerdere meetpunten aan weerszijden daarvan. Dergelijke extreme omstandigheden zouden ook aanleiding kunnen geven tot het niet vinden van een exacte s-waarde waardoor niet .of niet juist zou kunnen warden bijgestuurd. Om dit te voorkomen is er in een voorkeursuitvoering in 30 voorzien de optimalisering in meerdere stappen uit te voeren. Een deel van de voor de praktijk zo gunstige snelheid van de werkwijze gaat daarbij teloor, maar van deze meertraps methode behoeft ook enkel bij de, meestal van te voren bekende extreme situaties gebruik te worden gemaakt. In een eerste stap wordt daarbij bijvoorbeeld het focus grof bijgesteld en 35 volgt een tweede meting bij deze slechts geringe resterende defocussering. Het kan daarbij gunstig zijn voor een opvolgende stap een ander criterium voor het bepalen van de s-waarde te gebruiken. Gebruik kan dan bijvoorbeeld worden gemaakt van een, zij het door niet elk meetpunt met een 8304217 EHN 10878 3 gemiddelde waarde/ maar met telkens een naastliggende waarde te vergelijken, algorithms als beschreven in een artikel van S.J. Erasmus in "Proceedings Vfcarld Congr. on EM", Hamburg/ 1982, vol I, p 529.
Mat het *) teken in de functie voer F(s) is aangegeven, dat 5 naar wens ook met een even macht van (Xi - Yi+s) gewerkt kan worden.
In een verdere voorkeursuitvoering volgens de uitvinding vormt een s-waarde bijvoorbeeld door bepaling daarvan voor verschillende aziraithale waarden voor de wobbler inrichting een goed criterium voor minimalisering van het astigmatisms. Op grand van een aldus gevonden 10 s-waarde kan dan een daartoe geëigende stigmator warden bekrachtigd.
Op overeenkomstige wijze kan ook warden gecorrigeerd voor andere fouten in het electronen optisch systeem, voor preparaatverplaatsing en dergelijke gedurende een meetproces. Steeds warden daarbij s-waarden bepaald uit voor het te corrigeren fenomeen relevante criteria voor de bundel-15 richting en de daarbij behorende beeldinformatie. Bij preparaatverplaatsing zal het veelal gunstig zijn (masker) beeldinformatie van een vaste stand te registreren en deze telkens voor opvolgende correcties te gebruiken en dus niet te werken met telkens opvolgende beeldinformatie zoals veelal voor andere correcties te prefereren is.
20 Aan een voor het uitvoeren van de werkwijze te gebruiken detector behoeven zoals reeds opgemerkt geen specifieke eisen te worden gesteld.
Er kan gebruik gemaakt warden van een detector met een homogeen ingangs-scherm waarover het beeld dan wordt afgetast. Bij de aftasting kunnen eventuele aftastfouten worden vermeden door een besturingsinrichting die 25 bijvoorbeeld bij elke nieuwe aftastlijn het startpunt opnieuw fixeert.
Bij gebruik van een mosaik detector is het gunstig ter vermijding van fouten door onderlinge verschillen in de detectarelementen een shablone met deze verschillen in de ccnputer vast te leggen en de meetsignalen daarmede te corrigeren". Gebruik kan ook warden gemaakt van een televisie-30 keten als detectieinrichting.
Aan de hand van de tekening zullen in het navolgende enkele voorkeursuitvoeringen volgens de uitvinding nader warden beschreven.
De enige figuur van de tekening toont van een electronenmicroscoop 1 een electronenbron 2, een condensor systeem 4, een bundelwobbler 6, een pre-35 paraatdrager 8 met een preparaat 10, een bundelafbuiginrichting 12, een afbeeldend lenzenstelsel 14, een detector 16 en een kijkscherm 18. Mede voor het uitvoeren van de werkwijze volgens de uitvinding is aan de elec-tranenmicrascocp een rekeneenheid 20 met een monitor 22, een signaalver- 3304217 ΡΗΝ 10878 4 Γ V ·» verkingseenteid 24 net bijvoorbeeld een A-D en een D-A converter en een signaaluitleesinrichting en een besturingsinrichting 26 toegevoegd.
Voor bet uitvoeren van de verkwijze volgens de uitvinding wordt een electronenixmdel 30 gekanteld tussen twee tegenover elkaar gelegen 5 richtingen die een hoek x respectievelijk -x net de hoofdas vonten.
Uit beeldinformatie die beeldpuntsgewijs van de detector wordt uitgelezen wordt net behulp van de grootheid F(s) = £/(Xi - Yi-sf* die waarde van de beeldverplaatsing s berekend waarvoor F(s) minimaal is.
Met een aldus berekende s-waarde wordt vervolgens via de bes tarings-10 inrichting 26 de bekrachtiging van de relevante focussererde lens op de voor een optimaal focus geldende waarde ingesteld. Voor een exacte bepaling van de minimale waarde van F(s) kunnen metingen voor verschillende waarden van de hoeken x en -x worden door gevoerd. Zonder beeldverstoring zoals ruis wordt uit dergelijke metingen direct de mini-15 male waarde voor F(s) gevonden. Mat ruis of overeenkomstige verstoring in het beeld kan door bijvoorbeeld een meerpunts extrapolatie zoals de bekende b-punts extrapolatie volgens Savitsky-Golay het exacte minimum worden gevonden en daarmede de gezochte s-waarde. Voor het corrigeren van bijvoorbeeld astigmatisms wordt een overeenkomstige werkwijze toege-20 past maar nu bijvoorbeeld met 4 a 8 azimuthale richtingen voor de hoeken x en -x dan wel over een gehele rotatie over een mantelpppervlak van een kegel met een halve tophoek x. Aldus gewonnen s-waarden worden dan in afhankelijkheid van het azimuth aan elementen van een stigmator toegevoegd waardoor voor het astigmatisms is gecompenseerd. Uit de reeds 25 gevormde metingen voor het instellen van een optimaal focus met meerdere waarden voor de hoeken x en -x kan uit de beeldverschuiving als functie van de kantelhoek ook een grootheid voor het corrigeren van de sferische aberratie van het electronenoptisch systeem worden afgeleid. Evenzo kan uit dergelijke metingen zoals reeds gezegd een grootte id worden afge-30 leid waarmede kan worden gecorrigeerd voor preparaatverschuiving tijdens een meetproces. Het laatste is vooral van belang voor bijvoorbeeld op een zekere temperatuur in te stellen preparaten en dergelijke.
Een gunstige toepassing van de werkwij ze wordt gevonden in het automatisch corrigeren van het focus en het astigmatisms in een aftast-35 electronenmicroscoop. Vooral bij een dergelijk meetapparaat is de grote tijdwinst die volgens de uitvinding kan worden behaald van doorslaggevende betekenis. Ook is het voor vaak toegepast onderling vergelijk van meetresultaten met een dergelijk apparaat van groot belang dat met objectieve 8304217 r Λ . ' *- 9 PHN 10878 5 instelcriteria woedt gewerkt. Veelal zijn voor dit type apparaten de overige fouten van relatief geringe betekenis. Dit geldt zeker niet voor bijvoorbeeld een transmissie elec±ronenmicroscocp, die gelukkigerwijs normaal reeds roet een bundelwobhler is uitgerust. Juist voor deze 5 zeer hoogvaardige apparaten is bet automatisch kunnen instellen en corrigeren van het electronen optisch systeem voor optimale beeldvorming uiterst belangrijk. Vooral ook door de hier gewenste hoge mate van exactheid van de instellingen nodig voor het realiseren van tiet hoog oplossend vermogen en door het grote aantal electrorenqptiscbe elementen 10 vergt een handinstelling hier veel tijd. Afgezien van het tijdsverlies als zodanig is bet ook een groot nadeel, dat een preparaat gedurende die gehele insteltijd moet worden bestraald. Hierdoor zal gemakkelijk inbranding en contaminatie van het preparaat optreden waardoor de beeldvorming weer nadelig wordt beïnvloed. Al deze bezwaren zijn in een 15 electronenmicroscoop volgens de uitvinding vermeden.
20 25 30 35 8304217

Claims (10)

1. Pferkwijze voor het instellen van een optimale focusconditie in een electronenmicroscoqp met een electronenbron, een bunclelwobbler, een electronenoptisch lenzenstelsel en een electronerdetectieinrichting, met het kenmerk, dat met behulp van de wobbler inrichting een preparaat 5 vanuit verschillende richtingen wordt belicht, de daarbij optredende beeldinformatie beeldpuntsgewijs wordt gedetecteerd en ter bepaling van de optimale focusconditie met een algorithms F(s) =^/(Xi - Yi+sf* de waarde s van de beeldverplaatsing wordt bepaald waarvoor de functie F(s) minimaal is waarna de focussering afhankelijk van de gevonden s-10 waarde wordt bijgesteld.
2. Pferkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat een gemeten s-waarde wordt gebruikt voor correctie van aberraties in het electronenoptisch lenzenstelsel.
3. Pferkwijze volgens conclusie 1 of 2, met het kenmerk, dat een 15 gemeten s-waarde wordt gebruikt voor correctie voor ongewenste verplaatsing van een te onderzoeken object.
4. Werkwijze volgens conclusie 1, 2 of 3, met het kenmerk, dat een stuurinrichting, is opgenomen voor een met het meten van de beeldinformatie synchrone besturing van de bundelwobbler. ' 20
5. Pferkwijze volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat beeldaftasting over de detector hysteres is-vrij wordt uitgevoerd.
6. Werkwijze volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat het corrigeren automatisch wordt doorgevoerd. 25
7. Pferkwijze volgens een der voorgaande conclusies, met het kenmerk, dat voor reducties van de invloed van objectverschuiving qp de meting van de s-waarde directe bundelkanteling tussen telkens twee symmetrisch ten opzichte van een nul-waarde gelegen waarden.
8. Pferkwijze volgens een der voorgaande conclusies, met het ken-30 merk, dat voor bepaling van de minimale waarde van F(s) gebruik wordt gemaakt van een meer-punts extrapolatie methode.
9. Aftastelectronenraicroscocp ingericht voor het uitvoeren van de vrerkwijze volgens een der voorgaande conclusies voor automatische focus instelling en astigmatisme correctie. 35
10. Transmissie electronenmicroscoqp- ingericht voor het uitvoeren van de werkwijze volgens een der conclusies 1-8 voor automatische focus-instelling electronenqptische lensfoutcorrectie en/of preparaatshift correctie. 8304217
NL8304217A 1983-12-07 1983-12-07 Automatisch instelbare electronenmicroscoop. NL8304217A (nl)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8304217A NL8304217A (nl) 1983-12-07 1983-12-07 Automatisch instelbare electronenmicroscoop.
EP84201775A EP0145089A3 (en) 1983-12-07 1984-12-03 Automatically adjustable electron microscope
CA000469402A CA1225756A (en) 1983-12-07 1984-12-05 Automatically adjustable electron microscope
JP59259057A JPS60140641A (ja) 1983-12-07 1984-12-07 電子顕微鏡の像補正制御変数を光学的に調整する方法
US06/773,721 US4618766A (en) 1983-12-07 1985-09-09 Automatically adjustable electron microscope

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8304217 1983-12-07
NL8304217A NL8304217A (nl) 1983-12-07 1983-12-07 Automatisch instelbare electronenmicroscoop.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8304217A true NL8304217A (nl) 1985-07-01

Family

ID=19842851

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8304217A NL8304217A (nl) 1983-12-07 1983-12-07 Automatisch instelbare electronenmicroscoop.

Country Status (5)

Country Link
US (1) US4618766A (nl)
EP (1) EP0145089A3 (nl)
JP (1) JPS60140641A (nl)
CA (1) CA1225756A (nl)
NL (1) NL8304217A (nl)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3482769D1 (de) * 1984-05-30 1990-08-23 Siemens Ag Verfahren und vorrichtung zur detektion und abbildung eines messpunkts, der eine spannung wenigstens einer bestimmten frequenz fuehrt.
JPS61233950A (ja) * 1985-04-10 1986-10-18 Hitachi Ltd 電子顕微鏡
JPH0646550B2 (ja) * 1985-08-19 1994-06-15 株式会社東芝 電子ビ−ム定位置照射制御方法および電子ビ−ム定位置照射制御装置
US4907287A (en) * 1985-10-16 1990-03-06 Hitachi, Ltd. Image correction system for scanning electron microscope
NL8602175A (nl) * 1986-08-27 1988-03-16 Philips Nv Werkwijze voor bundelcentrering.
GB8622976D0 (en) * 1986-09-24 1986-10-29 Trialsite Ltd Scanning electron microscopes
US4948971A (en) * 1988-11-14 1990-08-14 Amray Inc. Vibration cancellation system for scanning electron microscopes
JPH0656748B2 (ja) * 1989-11-08 1994-07-27 日本電子株式会社 電子顕微鏡のオートフォーカス方法
US5153434A (en) * 1990-05-18 1992-10-06 Hitachi, Ltd. Electron microscope and method for observing microscopic image
JP2733710B2 (ja) * 1990-11-27 1998-03-30 株式会社日立製作所 電子顕微鏡
US5336891A (en) * 1992-06-16 1994-08-09 Arch Development Corporation Aberration free lens system for electron microscope
JP2877624B2 (ja) * 1992-07-16 1999-03-31 株式会社東芝 走査電子顕微鏡の対物レンズアライメント制御装置及び制御方法
US5300776A (en) * 1992-09-16 1994-04-05 Gatan, Inc. Autoadjusting electron microscope
US5747814A (en) * 1996-12-06 1998-05-05 International Business Machines Corporation Method for centering a lens in a charged-particle system
JP4069545B2 (ja) 1999-05-19 2008-04-02 株式会社日立製作所 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置
DE10083500T1 (de) 1999-10-12 2002-01-31 Toyo Ink Mfg Co Verfahren und Vorrichtung zur Bestrahlung mit einem aktiven Energiestrahl
JP2001357811A (ja) * 2000-06-12 2001-12-26 Hitachi Ltd 走査形荷電粒子顕微鏡、並びに走査形荷電粒子顕微鏡の焦点合わせ方法及び非点収差補正方法
US7084399B2 (en) * 2000-07-18 2006-08-01 Hitachi, Ltd. Ion beam apparatus and sample processing method
JP3597761B2 (ja) * 2000-07-18 2004-12-08 株式会社日立製作所 イオンビーム装置及び試料加工方法
JP3951590B2 (ja) 2000-10-27 2007-08-01 株式会社日立製作所 荷電粒子線装置
ATE453205T1 (de) * 2001-10-10 2010-01-15 Applied Materials Israel Ltd Verfahren und vorrichtung zur automatischen bilderzeugung geeignet zur ausrichtung einer geladenen teilchen strahlsäule
JP3968334B2 (ja) * 2002-09-11 2007-08-29 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置及び荷電粒子線照射方法
JP4012813B2 (ja) * 2002-11-27 2007-11-21 株式会社日立ハイテクノロジーズ 透過型電子顕微鏡及び試料観察方法
JP2004214060A (ja) * 2003-01-06 2004-07-29 Hitachi High-Technologies Corp 走査電子顕微鏡及びそれを用いた試料観察方法
JP2006302523A (ja) * 2005-04-15 2006-11-02 Jeol Ltd 走査像観察機能を有した透過電子顕微鏡
EP1783811A3 (en) * 2005-11-02 2008-02-27 FEI Company Corrector for the correction of chromatic aberrations in a particle-optical apparatus
JP2008112748A (ja) * 2008-02-04 2008-05-15 Hitachi Ltd 走査形荷電粒子顕微鏡、並びに走査形荷電粒子顕微鏡の非点収差補正方法
JP5188846B2 (ja) * 2008-03-10 2013-04-24 日本電子株式会社 走査型透過電子顕微鏡の収差補正装置及び収差補正方法
EP2511936B1 (en) 2011-04-13 2013-10-02 Fei Company Distortion free stigmation of a TEM
JP2017162606A (ja) * 2016-03-08 2017-09-14 日本電子株式会社 軸合わせ方法および電子顕微鏡
EP3951832A1 (en) * 2020-08-03 2022-02-09 FEI Company Method of aligning a charged particle beam apparatus

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1802450B1 (de) * 1968-09-02 1970-07-02 Siemens Ag Verfahren zur Scharfstellung eines korpuskularstrahloptischen Bildes
JPS521869B2 (nl) * 1972-07-11 1977-01-18
DE2542356C2 (de) * 1975-09-19 1977-10-20 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zur Fokussierung der Objektivlinse eines Korpuskular-Durchstrahlungs-Rastermikroskops und Einrichtung zur selbsttätigen Durchführung des Verfahrens, sowie Anwendung
JPS5472980A (en) * 1977-11-24 1979-06-11 Hitachi Ltd Electron-beam drawing unit
JPS55121259A (en) * 1979-03-14 1980-09-18 Hitachi Ltd Elelctron microscope
NL7906632A (nl) * 1979-09-05 1981-03-09 Philips Nv Automatische bundelcorrektie in stem.

Also Published As

Publication number Publication date
EP0145089A2 (en) 1985-06-19
US4618766A (en) 1986-10-21
JPS60140641A (ja) 1985-07-25
EP0145089A3 (en) 1985-07-17
CA1225756A (en) 1987-08-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8304217A (nl) Automatisch instelbare electronenmicroscoop.
US6570156B1 (en) Autoadjusting electron microscope
US5763871A (en) Cytological system autofocus integrity checking apparatus
US7535001B2 (en) Method and system for focusing a charged particle beam
US9195041B2 (en) Spherical aberration correction for non-descanned applications
JP2003016983A (ja) 荷電粒子線装置および自動非点収差調整方法
US7307253B2 (en) Scanning electron microscope
US5144129A (en) Electron microscope
US10481101B2 (en) Asymmetrical magnification inspection system and illumination module
CA1153131A (en) Automatic beam correction in a scanning transmission electron microscope
JP3402868B2 (ja) 荷電粒子光学鏡筒における非点収差の補正及び焦点合わせ方法
JP4547526B2 (ja) 顕微鏡のファーカス制御装置および制御方法
JPH0234139B2 (nl)
JP2588833B2 (ja) 分析電子顕微鏡
JPS61168852A (ja) 透過形電子顕微鏡の焦点合せ装置
WO2021199235A1 (ja) 荷電粒子線装置
JP3282868B2 (ja) 解像度検査方法
JP4431624B2 (ja) 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置
JPS612251A (ja) 荷電粒子ビ−ム装置
WO2024134913A1 (ja) 欠陥検査装置
JP2003317654A (ja) 電子顕微方法及びそれを用いた電子顕微鏡並び生体試料検査方法及び生体検査装置
NL8602175A (nl) Werkwijze voor bundelcentrering.
JPH08148108A (ja) 自動焦点調整方法
US6507360B1 (en) Method of manufacturing a cathode ray tube, in which a display screen is inspected
JP2653967B2 (ja) 分析電子顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
A1B A search report has been drawn up
BV The patent application has lapsed