JPS612251A - 荷電粒子ビ−ム装置 - Google Patents
荷電粒子ビ−ム装置Info
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- JPS612251A JPS612251A JP12172484A JP12172484A JPS612251A JP S612251 A JPS612251 A JP S612251A JP 12172484 A JP12172484 A JP 12172484A JP 12172484 A JP12172484 A JP 12172484A JP S612251 A JPS612251 A JP S612251A
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- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 claims abstract description 62
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
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- 238000012937 correction Methods 0.000 abstract description 18
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- 239000000523 sample Substances 0.000 description 13
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の利用分野〕
本発明は走査形電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置の焦
点合わせ、および非点収差補正に係り、特にその自動化
に好適な装置に関する。
点合わせ、および非点収差補正に係り、特にその自動化
に好適な装置に関する。
走査形電子顕微鏡では、試料上を走査するプローブの直
径は装置性能とくに分解能を決定する重要な要因であり
、焦点合わせおよび非点収差補正は微細なプローブ径を
得るための基本調整である。
径は装置性能とくに分解能を決定する重要な要因であり
、焦点合わせおよび非点収差補正は微細なプローブ径を
得るための基本調整である。
第1図は光学系の2次非点収差を概略的に示すものであ
る。非点収差は光学系の電磁場の軸非対称性等で生ずる
。ある直交軸(U、V軸)方向で収束幅に差が発生して
焦点付11fv、fuに相異を生ずる。このため、マイ
クロプローブはU軸又はV軸方向に長軸父は短軸を有す
る楕円形状となる。
る。非点収差は光学系の電磁場の軸非対称性等で生ずる
。ある直交軸(U、V軸)方向で収束幅に差が発生して
焦点付11fv、fuに相異を生ずる。このため、マイ
クロプローブはU軸又はV軸方向に長軸父は短軸を有す
る楕円形状となる。
電子レンズ)ミ面に設けられた開口を通過した電子ビー
ムは最初真円であったものが収束される過程で、A−+
B→0→D −) E −) F→G→Hの様に変化す
る。そして、19点とF点のほぼ中間に真円で小さい最
小錯乱円ト:が形成される。ところが、U軸方向だけを
見ると、F点でE点より細くなっている。■軸でも同様
にD点でE点よりも細くなっている。非点収差が存在し
なければD点とF点がE点に一致し、最も細い電子ビー
ムが得られることになる。
ムは最初真円であったものが収束される過程で、A−+
B→0→D −) E −) F→G→Hの様に変化す
る。そして、19点とF点のほぼ中間に真円で小さい最
小錯乱円ト:が形成される。ところが、U軸方向だけを
見ると、F点でE点より細くなっている。■軸でも同様
にD点でE点よりも細くなっている。非点収差が存在し
なければD点とF点がE点に一致し、最も細い電子ビー
ムが得られることになる。
以上説明したように、微細なマイクロプローブを得るた
めには非点収差の補正が不可欠な調整となる。U軸、■
軸の焦線の偏差(DF間)を非点隔差Afと呼んでいる
。
めには非点収差の補正が不可欠な調整となる。U軸、■
軸の焦線の偏差(DF間)を非点隔差Afと呼んでいる
。
第2図は電子レンズの非点収差とAfとの関係を示した
ものである。電子レンズの像側主面での開口半径り、U
軸、V軸における焦線の屈折角θU、θVとすると非点
収差による屈折角の偏差toはAθ=θV−θUとなる
。また焦点距離fのビーム半開口角をOとする。非点収
差補正を完全に実行するためにはこの屈折角の偏差AO
を検出して、後述する非点収差補正装置によってAOを
0にすることが必要である。ここで、非点収差の大きさ
AOは第2図よりA FJ=A f・1、/f”となる
。(但し、電子ビームの場合、近軸光線を使用するため
に5ine:θ(rad)と近似する。)したがって、
非点収差の大きさAOは非点隔差Afと焦点圧@fを検
出することにより計算で求めることが可能となる。実際
には非点収差の発生方向が予知できないため、第3図(
a)のような互いに45度だけ異なる方向に配置された
X−Yの二重丸印とY、、Y2軸上の丸印の2組)から
なる非点収差補正装置を用いている。同図は簡単なため
静電形非点収差補正器を示したが、磁界形弁点収差補正
器であってもよい。図示するように、非点収差の発生方
向(U−V軸)と2組の非点収差補正器の座標軸(X、
−X2軸及びY、−Y2軸)は一般に相異する。今、こ
の相異する角度をα(rad) とし1発生した非点
収差のベクトルSで表わし、第1象現のみに着目すると
、第3図(b)のように表わせる。ここで、非点収差ベ
クトルSを大きさr角度αで示し、また、r=にΔθ=
にΔf−1、/f”である。
ものである。電子レンズの像側主面での開口半径り、U
軸、V軸における焦線の屈折角θU、θVとすると非点
収差による屈折角の偏差toはAθ=θV−θUとなる
。また焦点距離fのビーム半開口角をOとする。非点収
差補正を完全に実行するためにはこの屈折角の偏差AO
を検出して、後述する非点収差補正装置によってAOを
0にすることが必要である。ここで、非点収差の大きさ
AOは第2図よりA FJ=A f・1、/f”となる
。(但し、電子ビームの場合、近軸光線を使用するため
に5ine:θ(rad)と近似する。)したがって、
非点収差の大きさAOは非点隔差Afと焦点圧@fを検
出することにより計算で求めることが可能となる。実際
には非点収差の発生方向が予知できないため、第3図(
a)のような互いに45度だけ異なる方向に配置された
X−Yの二重丸印とY、、Y2軸上の丸印の2組)から
なる非点収差補正装置を用いている。同図は簡単なため
静電形非点収差補正器を示したが、磁界形弁点収差補正
器であってもよい。図示するように、非点収差の発生方
向(U−V軸)と2組の非点収差補正器の座標軸(X、
−X2軸及びY、−Y2軸)は一般に相異する。今、こ
の相異する角度をα(rad) とし1発生した非点
収差のベクトルSで表わし、第1象現のみに着目すると
、第3図(b)のように表わせる。ここで、非点収差ベ
クトルSを大きさr角度αで示し、また、r=にΔθ=
にΔf−1、/f”である。
(k:実験で決まる比例定数)
同図から、非点収差ペルトルSはX1′軸とYI′軸に
分解すると、各々Sx、S、となる。
分解すると、各々Sx、S、となる。
故に、非点収差補正器xI軸、YI軸に供給する補正量
を* SX+ 32とすれば非点収差を完全に補正
することができる。同図よりSx、S。
を* SX+ 32とすれば非点収差を完全に補正
することができる。同図よりSx、S。
はそれぞれSX= r (cosa−sinα)、Sy
=12 rsinαとなる。
=12 rsinαとなる。
以上、説明したように、電子線装置において微ホなプロ
ーブ径を得るには、焦点距離f、非点隔差71fそして
非点収差と非点収差補正器の相異角αを検出することが
必要である。
ーブ径を得るには、焦点距離f、非点隔差71fそして
非点収差と非点収差補正器の相異角αを検出することが
必要である。
従来は、装置操作者が走査像の鮮明度ならびに流れ具合
(U、Y方向へのボケ)を観察しながら、電子レンズ電
流、および前記2組の非点収差補正器の補正f&(Sx
、S、)を独立に手動調整して焦点合わせ、非点収差補
正をしていた。斯かる手動補正は煩雑な調整作業を要す
るうえに、操作者による人為的誤差を伴う等の問題があ
った。
(U、Y方向へのボケ)を観察しながら、電子レンズ電
流、および前記2組の非点収差補正器の補正f&(Sx
、S、)を独立に手動調整して焦点合わせ、非点収差補
正をしていた。斯かる手動補正は煩雑な調整作業を要す
るうえに、操作者による人為的誤差を伴う等の問題があ
った。
最近、自動焦点合わせの実用化が盛んに行なわれている
。以下に、従来の方法および問題点を第4図より説明す
る。陰極1から放出された1次電子ビームはX−Y偏向
コイル2によりX方向、Y方向に偏向され、非点収差補
正コイル3により非点収差補正を受け、電子レンズ4に
よって、試料面上5に収束され最適ビームスボッ1〜径
を得る。
。以下に、従来の方法および問題点を第4図より説明す
る。陰極1から放出された1次電子ビームはX−Y偏向
コイル2によりX方向、Y方向に偏向され、非点収差補
正コイル3により非点収差補正を受け、電子レンズ4に
よって、試料面上5に収束され最適ビームスボッ1〜径
を得る。
X−Y偏向コイル2には円走査供給部7より、X偏向コ
イルに余弦波電流が、Y偏向コイルには正弦波電流が、
任意の振幅、任意の周期で供給される。すると、1次電
子ビームは試料面上5を円形走査することになる。1次
電子ビームを試料に照射すると、試料から2次電子が発
生し、2次電子検出暮6により捕捉され信号検出部9に
入力される。信号検出部9は試料面上を照射する1次電
子ビームの最小錯乱円Eを検出する回路である。一般的
には、1次電子ビームスポット径が小さくなればなるほ
ど、発生する2次電子信号の周波数成分が高くなる特性
を利用して、微分回路を用いて検出し、任意の時間その
出力信号を積分してその値を比較する微分値比較法や、
発生する2次電子信号波形のピーク値が1次電子ビーム
スポット径に依存しで変化することを利用するピーク値
比校法等を用いている。電子レンズコイル4に任意の電
流工。〔Δ〕を電子レンズ電流供給部8により供給し、
1回あるいは数回円形走査した後、得られた信号検出部
9の出力電圧を制御回路10の中にあるメモリーに記憶
する。
イルに余弦波電流が、Y偏向コイルには正弦波電流が、
任意の振幅、任意の周期で供給される。すると、1次電
子ビームは試料面上5を円形走査することになる。1次
電子ビームを試料に照射すると、試料から2次電子が発
生し、2次電子検出暮6により捕捉され信号検出部9に
入力される。信号検出部9は試料面上を照射する1次電
子ビームの最小錯乱円Eを検出する回路である。一般的
には、1次電子ビームスポット径が小さくなればなるほ
ど、発生する2次電子信号の周波数成分が高くなる特性
を利用して、微分回路を用いて検出し、任意の時間その
出力信号を積分してその値を比較する微分値比較法や、
発生する2次電子信号波形のピーク値が1次電子ビーム
スポット径に依存しで変化することを利用するピーク値
比校法等を用いている。電子レンズコイル4に任意の電
流工。〔Δ〕を電子レンズ電流供給部8により供給し、
1回あるいは数回円形走査した後、得られた信号検出部
9の出力電圧を制御回路10の中にあるメモリーに記憶
する。
次に、対物レンズコイル4に供給する電流をJIだけ増
加(あるいは減少)させ、同様の円形走査を実行する。
加(あるいは減少)させ、同様の円形走査を実行する。
そして、得られた信号検出部9の出力電圧と、前回のメ
モリーの内容も比較し大きい方を再度メモリーに記憶す
る。対物レンズコイル電流を順次71■だけ増加させ一
連の動作を繰り返す。メモリーの内容が最大となった値
ならびにその時の対物レンズコイルに供給した電流値を
捜し出し、コイルに供給すると1次電子ビームスポット
径は最小となり最小錯乱円が得られる。
モリーの内容も比較し大きい方を再度メモリーに記憶す
る。対物レンズコイル電流を順次71■だけ増加させ一
連の動作を繰り返す。メモリーの内容が最大となった値
ならびにその時の対物レンズコイルに供給した電流値を
捜し出し、コイルに供給すると1次電子ビームスポット
径は最小となり最小錯乱円が得られる。
しかしながら、この様な方法では最小錯乱円を得ること
ができるが非点収差補正するための情報は得ることがで
きない。
ができるが非点収差補正するための情報は得ることがで
きない。
本発明の目的は円形走査を実行しながら、非点の方向な
らびに非点隔差の量を検出し、自動焦点合わせ、自動非
点収差補正を実行する方法および装置を提供することに
ある。
らびに非点隔差の量を検出し、自動焦点合わせ、自動非
点収差補正を実行する方法および装置を提供することに
ある。
本発明は前述したように、焦点距離「、非点隔差Afそ
して非点収差の方向αを検出し、これから補正量を計算
し、非点収差補正器を動作させ焦点合わせと非点収差補
正の自動化を行なうものである。以上、ヒ記の諸量を検
出する方法を第5図を用いて説明する。同図は非点収差
のある電子ビームで試料面にを円形走査している様子を
示したものである。理解しやすいように、非点収差が4
5度の方向にある場合を考える。走査回転角度βにおけ
る走査方向の電子ビーム径Dβはその点の接線の長さと
なり、同図に矢印で示すように(見かけ上)変化する。
して非点収差の方向αを検出し、これから補正量を計算
し、非点収差補正器を動作させ焦点合わせと非点収差補
正の自動化を行なうものである。以上、ヒ記の諸量を検
出する方法を第5図を用いて説明する。同図は非点収差
のある電子ビームで試料面にを円形走査している様子を
示したものである。理解しやすいように、非点収差が4
5度の方向にある場合を考える。走査回転角度βにおけ
る走査方向の電子ビーム径Dβはその点の接線の長さと
なり、同図に矢印で示すように(見かけ上)変化する。
走査回転角度βが180度で楕円の短軸から長軸まで変
化することに相当し、1サイクルの変化が起る。したが
って、1回の円形走査で2サイクルの電子ビーム径Dβ
の変化となる。走査回転角度βと電子ビーム径Dβの関
係をプロワ1−すると第6図(a)のようになる。
化することに相当し、1サイクルの変化が起る。したが
って、1回の円形走査で2サイクルの電子ビーム径Dβ
の変化となる。走査回転角度βと電子ビーム径Dβの関
係をプロワ1−すると第6図(a)のようになる。
ここで、電子ビーム径Dβが最小になる走査回転角度β
ユ。が非点収差の方向αとなる。したがって、βユ。=
αとなり、β。1nを検出すれば非点収差の方向が決定
できる。
ユ。が非点収差の方向αとなる。したがって、βユ。=
αとなり、β。1nを検出すれば非点収差の方向が決定
できる。
次に、電子レンズの焦点距離fと非点隔差7!Ifの検
出方法について述べる。電子レンズの励磁電流Ifを零
から順次、dIずつ増加させると、第1図に示す様に変
化し、U−V軸の各々焦線f 11とfv点において電
子ビーム径Dβは最小となる。
出方法について述べる。電子レンズの励磁電流Ifを零
から順次、dIずつ増加させると、第1図に示す様に変
化し、U−V軸の各々焦線f 11とfv点において電
子ビーム径Dβは最小となる。
したがって、第6図(a)のβ11,1点における電子
ビーム径Dβlt+Inが最も小さくなる時の励磁電流
IfuがU軸の焦線fuに相当し、走査回転角度β、、
h+90度の点において電子ビーム径■〕βmlh +
90°が最も小さくなる時の励磁電流IfνがV軸の焦
線fvに相当する。したがって、非点隔差AfはA I
f=I fu −I fvで求まり、また焦点距離f
はI f=T fv +1/2,4 I fで求まる。
ビーム径Dβlt+Inが最も小さくなる時の励磁電流
IfuがU軸の焦線fuに相当し、走査回転角度β、、
h+90度の点において電子ビーム径■〕βmlh +
90°が最も小さくなる時の励磁電流IfνがV軸の焦
線fvに相当する。したがって、非点隔差AfはA I
f=I fu −I fvで求まり、また焦点距離f
はI f=T fv +1/2,4 I fで求まる。
以上詳述した様に、走査回転角度β□I11とβ□1.
1十90度の点に注目して、その角度における電子ビー
ム径Dβが最小になる励磁電流Ifを検出すれば焦点距
離f、非点隔差Δfが決定できることになる。
1十90度の点に注目して、その角度における電子ビー
ム径Dβが最小になる励磁電流Ifを検出すれば焦点距
離f、非点隔差Δfが決定できることになる。
以下、本発明の一実施例を第7図により説明する。
陰極】から放射された電子線はX−Y偏向コイル2によ
り円偏向を受け、電子レンズコイル4により収束され、
試料面5上を円形走査する。試料から発生した2次電子
信号は2次電子検出器6によって捕捉され信号処理回路
部17に入力される。
り円偏向を受け、電子レンズコイル4により収束され、
試料面5上を円形走査する。試料から発生した2次電子
信号は2次電子検出器6によって捕捉され信号処理回路
部17に入力される。
信号処理回路部17は電子ビーム径を信号電圧に変換す
る回路で、電子ビーム径が小さくなるほど信号電圧は大
きく出力する。本実施例では先述した微分値比1肢θ(
を用いている。例えば第6図(a)のように電子ビーム
径の変化が生じる波形は第6図(b)のように変換され
る。その出力信号はゲート回路部11に人力し、アナロ
グ−ディジタル変換をしてメーエリ一部12に記憶する
。メモリ一部12のR,からRnは円形走査の回転角度
βに対応した信号を記憶するもので、電子ビームの回転
角度とグー1−回路11が同期して働くために、回転角
度零から180度までn分割すると180/n度間隔で
メモリーR3からRnまで順次各々メモリーに記憶され
る。更に、それらのメモリーR1−Rnの内容はメモリ
一群13の中にあるメモリーM1〜Mnに各々転送され
る。今、電子レンズの励磁電流をIf、と固定し、−回
の円形走査で得られた信号がメモリ一部】2のR1−R
nまで記憶されている。そして、R,の内容はメモリー
M1のIf、メモリーに、R2の内容はメモリーM2の
If、メモリー、・・・Rnの内容はメモリーMnの1
f、メモリーに、各々記憶される。
る回路で、電子ビーム径が小さくなるほど信号電圧は大
きく出力する。本実施例では先述した微分値比1肢θ(
を用いている。例えば第6図(a)のように電子ビーム
径の変化が生じる波形は第6図(b)のように変換され
る。その出力信号はゲート回路部11に人力し、アナロ
グ−ディジタル変換をしてメーエリ一部12に記憶する
。メモリ一部12のR,からRnは円形走査の回転角度
βに対応した信号を記憶するもので、電子ビームの回転
角度とグー1−回路11が同期して働くために、回転角
度零から180度までn分割すると180/n度間隔で
メモリーR3からRnまで順次各々メモリーに記憶され
る。更に、それらのメモリーR1−Rnの内容はメモリ
一群13の中にあるメモリーM1〜Mnに各々転送され
る。今、電子レンズの励磁電流をIf、と固定し、−回
の円形走査で得られた信号がメモリ一部】2のR1−R
nまで記憶されている。そして、R,の内容はメモリー
M1のIf、メモリーに、R2の内容はメモリーM2の
If、メモリー、・・・Rnの内容はメモリーMnの1
f、メモリーに、各々記憶される。
次に、電子レンズの励磁電流をAIだけ増加し。
If、=If、+AIと固定し同様に円形走査を行う。
そしてその信号電圧はR、” R,n 、さらにはメモ
リーM、のIf2メモリー、M、の1f2メモリー、・
・・・・・MnのIf、メモリーに各々記憶される。以
上の動作を電子レンズの励磁電流を順次、QIだけ増加
させn回実行し、メモリ一群13の各メモリーに記憶す
る。これらは第1図に示したようにA点からH点までの
変化を生じる範囲で実行される6次に、メモリ一群13
のメモリーM1の中で最大値およびその時の励磁電流i
fを検出する。これは制御回路14によって実行する。
リーM、のIf2メモリー、M、の1f2メモリー、・
・・・・・MnのIf、メモリーに各々記憶される。以
上の動作を電子レンズの励磁電流を順次、QIだけ増加
させn回実行し、メモリ一群13の各メモリーに記憶す
る。これらは第1図に示したようにA点からH点までの
変化を生じる範囲で実行される6次に、メモリ一群13
のメモリーM1の中で最大値およびその時の励磁電流i
fを検出する。これは制御回路14によって実行する。
同様に、メそり−M 2 、・・・・・・Mnの各々最
大値およびその時の励磁?′Ii流Ifを検出する。更
に、今度は検出された最大値をメモリーM 1 g M
2 y・・・・・・Mn間で比重ひする。そして、そ
の最大値を求める。その時のメモリーの番号Msとする
とそのMsが非点収差の方向αを示し、メモリーMsの
中のメモリーIfuがU軸(あるいはV軸)の焦線の位
置を示すごとになる。そして、メモリ一番号Msから9
0度角度が異なるメモリーがV軸(あるいはU軸)を示
し、そのメモリーの中で最大値を与えるIfvが焦線の
位置を示すものである。したがって、焦線距sfに相当
する電流を演算回路14で計算して求め、電子レンズの
励磁電流として電子レンズ供給部16を経由して、電子
レンズコイル4に供給する。更に、非点収差の方向Ms
と非点隔差4「を演算回路14に入力し、前述したよう
に計算して、非点収差補正器の補正量とする。そして、
非点収差補正電流供給部15を経由して非点収バー補正
コイル3に供給される。以上の動作により、非点収差の
ない最小電子ビーム径が得られる。
大値およびその時の励磁?′Ii流Ifを検出する。更
に、今度は検出された最大値をメモリーM 1 g M
2 y・・・・・・Mn間で比重ひする。そして、そ
の最大値を求める。その時のメモリーの番号Msとする
とそのMsが非点収差の方向αを示し、メモリーMsの
中のメモリーIfuがU軸(あるいはV軸)の焦線の位
置を示すごとになる。そして、メモリ一番号Msから9
0度角度が異なるメモリーがV軸(あるいはU軸)を示
し、そのメモリーの中で最大値を与えるIfvが焦線の
位置を示すものである。したがって、焦線距sfに相当
する電流を演算回路14で計算して求め、電子レンズの
励磁電流として電子レンズ供給部16を経由して、電子
レンズコイル4に供給する。更に、非点収差の方向Ms
と非点隔差4「を演算回路14に入力し、前述したよう
に計算して、非点収差補正器の補正量とする。そして、
非点収差補正電流供給部15を経由して非点収バー補正
コイル3に供給される。以上の動作により、非点収差の
ない最小電子ビーム径が得られる。
本発明によれば、電子レンズ等の励磁電流を一度、順次
変化させることにより、非点収差の方向、非点隔差の量
および、焦点距離を検出することができ、それらの情報
をもとに荷電粒子ビーム装置における基本調整の自動化
が極めて容易となる。
変化させることにより、非点収差の方向、非点隔差の量
および、焦点距離を検出することができ、それらの情報
をもとに荷電粒子ビーム装置における基本調整の自動化
が極めて容易となる。
第1図は焦点距離に対する電子ビームノ、ボッ1−形状
の変化を表わす図、第2図は非点隔差を示す説明図、第
3図は非点収差補正装置の原理図及び非点収差ベクトル
の補正方法を示す図、第4図は従来の自動焦点合わせ方
法を示す荷電粒子ビーム装置のブロック図、第5図は試
料面上を円形走査する電子ビームを示す模式図、第6図
は走査回転角度とビーム径および検出信号の波形を示す
図。 第7図は一実施例になる荷電粒子ビーム装置ブロック図
である。 1・・・陰極、2・・・X−Y偏向コイル、3・・・非
点収差補正コイル、4・・・電子レンズコイル、5・・
・試料、6・・・2次電子検出器、7・・・円走査供給
部、8・・・電子レンズ電流供給部、9・・・信号検出
部、10・・・制御回路部、】5・・非点収差補正電流
供給部、16・・・電子レンズ電流供給部、17・・・
信号処理回路部、11・・・ゲート回路゛部、12・・
・メモリ一部、13・・・第 3 図 (矢) (b) 不 4 図 ■ 、5 図 ■ 6 図 Gす 、′c3転角ββ 回傘云角彦l
の変化を表わす図、第2図は非点隔差を示す説明図、第
3図は非点収差補正装置の原理図及び非点収差ベクトル
の補正方法を示す図、第4図は従来の自動焦点合わせ方
法を示す荷電粒子ビーム装置のブロック図、第5図は試
料面上を円形走査する電子ビームを示す模式図、第6図
は走査回転角度とビーム径および検出信号の波形を示す
図。 第7図は一実施例になる荷電粒子ビーム装置ブロック図
である。 1・・・陰極、2・・・X−Y偏向コイル、3・・・非
点収差補正コイル、4・・・電子レンズコイル、5・・
・試料、6・・・2次電子検出器、7・・・円走査供給
部、8・・・電子レンズ電流供給部、9・・・信号検出
部、10・・・制御回路部、】5・・非点収差補正電流
供給部、16・・・電子レンズ電流供給部、17・・・
信号処理回路部、11・・・ゲート回路゛部、12・・
・メモリ一部、13・・・第 3 図 (矢) (b) 不 4 図 ■ 、5 図 ■ 6 図 Gす 、′c3転角ββ 回傘云角彦l
Claims (1)
- 1、電子ビーム等の荷電粒子を放射する手段と、該荷電
粒子ビームを試料上に走査する手段と、試料から発生し
た2次電子信号で走査像を作る手段とを備えた荷電粒子
ビーム装置において、該荷電粒子ビームを試料上で円形
に走査する手段と、該円形走査の角度に対応して分別し
て信号を検出する2次電子検出手段と、焦点の良否を判
定する信号処理手段とを具備し、荷電粒子ビームの焦点
や非点収差の検出、補正を可能にした荷電粒子ビーム装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12172484A JPS612251A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 荷電粒子ビ−ム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12172484A JPS612251A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 荷電粒子ビ−ム装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS612251A true JPS612251A (ja) | 1986-01-08 |
Family
ID=14818308
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12172484A Pending JPS612251A (ja) | 1984-06-15 | 1984-06-15 | 荷電粒子ビ−ム装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS612251A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004030056A1 (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-08 | Nikon Corporation | 荷電粒子線露光装置における非点収差補正方法、非点感度の決定方法、及び露光方法 |
JP2006114304A (ja) * | 2004-10-14 | 2006-04-27 | Jeol Ltd | 自動収差補正方法及び装置 |
JP2007109408A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Topcon Corp | 電子線装置の自動調整方法及び電子線装置 |
JP2008133554A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Pip Fujimoto Co Ltd | 固形物保有布および固形物保有布の製造方法 |
JPWO2006104193A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2008-09-11 | パイオニア株式会社 | 非点収差の調整方法 |
JPWO2021192164A1 (ja) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 |
-
1984
- 1984-06-15 JP JP12172484A patent/JPS612251A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004030056A1 (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-08 | Nikon Corporation | 荷電粒子線露光装置における非点収差補正方法、非点感度の決定方法、及び露光方法 |
JP2006114304A (ja) * | 2004-10-14 | 2006-04-27 | Jeol Ltd | 自動収差補正方法及び装置 |
JPWO2006104193A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2008-09-11 | パイオニア株式会社 | 非点収差の調整方法 |
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JP2008133554A (ja) * | 2006-11-27 | 2008-06-12 | Pip Fujimoto Co Ltd | 固形物保有布および固形物保有布の製造方法 |
JPWO2021192164A1 (ja) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 | ||
WO2021192164A1 (ja) * | 2020-03-26 | 2021-09-30 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線システム |
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