JP4351108B2 - Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 - Google Patents
Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4351108B2 JP4351108B2 JP2004113001A JP2004113001A JP4351108B2 JP 4351108 B2 JP4351108 B2 JP 4351108B2 JP 2004113001 A JP2004113001 A JP 2004113001A JP 2004113001 A JP2004113001 A JP 2004113001A JP 4351108 B2 JP4351108 B2 JP 4351108B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- aberration correction
- aberration
- state
- electric field
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000004075 alteration Effects 0.000 title claims description 171
- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims description 126
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 60
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 45
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 claims description 23
- 230000005686 electrostatic field Effects 0.000 claims description 15
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 101100042258 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) sem-1 gene Proteins 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 201000009310 astigmatism Diseases 0.000 description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 3
- 206010010071 Coma Diseases 0.000 description 2
- 238000005311 autocorrelation function Methods 0.000 description 2
- 230000005405 multipole Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 2
- 101100042265 Caenorhabditis elegans sem-2 gene Proteins 0.000 description 1
- 108010018961 N(5)-(carboxyethyl)ornithine synthase Proteins 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 238000013519 translation Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/153—Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/21—Means for adjusting the focus
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/21—Focus adjustment
- H01J2237/216—Automatic focusing methods
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/22—Treatment of data
- H01J2237/221—Image processing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Description
図1は本発明の一実施の形態例を示す構成図である。図において、1はSEMである。SEM1において、2は電子線を集束・偏向する電子光学系、3はSEMに関する各種の収差を補正するための収差補正装置、4は試料(図示せず)に電子線を結像させるための対物レンズ(OL)である。5は試料に入射した電子線により試料表面から放射される信号から画像を生成する画像生成装置である。
(1)軸ずれ補正
オペレータが収差補正の開始をコンピュータ10に指示すると、コンピュータ10はまず自動的に電子線の軸ずれを測定して補正する。この作業は、具体的には以下のように行なわれる。先ず、初期の状態で画像を得る。この画像をIfとする。次に、収差補正装置3の双極子電場(互いに反対になる電圧をもつ2つの極子によって作られる電場)の値を操作して、電子線の断面をある方向を向いた線の状態にした上で画像を得る。この画像をIuとする。更に、双極子電場の値を変えて電子線の断面がIuの時とは直角方向を向いた線の状態になるようにした上で画像を得る。この画像をIoとする。
(2)フォーカス合わせ
コンピュータ10は、軸ずれの補正に続いてフォーカス合わせソフトウェアにより自動的にフォーカス合わせを行なう。この作業は以下のように行なわれる。
(3)色収差補正
コンピュータ10はフォーカス合わせに続いて、色収差補正ソフトウェアを用いて自動的に色収差の補正を行なう。この作業は以下のように行なわれる。
(4)開口収差補正
開口収差補正は球面収差を含み、その他にレンズの中心からのずれに加えて方向成分を含む。コンピュータの開口収差補正ソフトウェアは、色収差補正に続いて、自動的に開口収差の補正を行なう。この作業は開口収差補正ソフトウェアを用いて以下のように行なわれる。
(1)パラメータの設定
オペレータが収差の視覚化を指示すると、コンピュータ10は、パラメータとして操作する対象のレンズ若しくは収差補正装置3の電場を入力するようオペレータに促す。オペレータは、操作する対象と操作する量を指定する。例えば、色収差を視覚化したいなら、オペレータは電子線の加速電圧を数十V増減するように指定する。また、二次・三次の開口収差を視覚化したい場合には、オペレータは収差補正装置3の四重極電場の値を増減するように指定する。
(2)画像の撮影
コンピュータ10は、初期状態で1枚の画像を取り込む。これをIfとする。更に、オペレータが指定した操作対象のレンズ若しくは収差補正装置3の電場を、オペレータが指定した量だけ増やして画像を取り込む。これをIuとする。更に、初期状態から、オペレータが指定した操作対象のレンズ若しくは収差補正装置3の電場を、オペレータが指定した量だけ減らして画像を取り込む。これをIoとする。
(3)電子線の断面の視覚化
前記したIf、Iu、Ioは、それぞれ撮影対象の試料の構造と電子線の断面形状を掛け合わせた情報となっているが、最初にオペレータによってIf、Iu、Ioをそれぞれフーリエ変換してFf、Fu、Foをそれぞれ得る。更にこれらの割り算を行ない、Fu/Ff、Fo/Ffを求める。次に、これらの割り算Fu/Ff、Fo/Ffのフーリエ変換をもう一度計算する(デコンボリーションする)と、これらはIu、Ioにおける電子線の断面図と見なすことができる。
2 電子光学系
3 収差補正装置
4 対物レンズ
5 画像生成装置
6 ケーブル
7 ケーブル
8 ケーブル
10 コンピュータ
11 表示部
Claims (6)
- 初期状態で得られる第1の画像と、電子線の断面がある方向を向いた線の状態にして得た第2の画像を得、更に第2の画像とは直角方向を向いた線の状態にして第3の画像を得、これら第2及び第3の画像に対して第1の画像を用いたデコンボリューションを行なうことによって電子線の軸ずれが画像の中心からどれだけずれているかを測定して、該ずれがなくなるようにSEMの対物レンズと収差補正装置の静電場にフィードバックをかける軸ずれ補正を行ない、
次に、軸ずれの補正に続いて初期状態から収差補正装置の四重極電場の値を変えて元の状態よりアンダーフォーカスの状態で第1の画像を得、次に元の状態よりオーバーフォーカスの状態で第2の画像を得、これらの画像に対して自己相関演算を行なってこの自己相関画像のピークの幅に基づいてフォーカスのずれ具合を測定し、収差補正装置の四重極電場若しくは静電場と四重極磁場にフィードバックをかけるフォーカス合わせ補正を行ない、
次に、初期状態から電子線の加速電圧を前後にすこしだけ振って2つの画像を得、加速電圧増減によって生じるフォーカスのずれを自己相関演算を行なってその結果に基づいて収差補正装置の静電場と四重極磁場にフィードバックかける色収差補正を行ない、
次に、初期状態で得られる第1の画像と、収差補正装置の四重極電場の値を変えて元の状態よりアンダーフォーカスの状態にして第2の画像を得、更に前記四重極電場の値を変えて元の状態よりオーバーフォーカス状態にして第3の画像を得、第2及び第3の画像に対して第1の画像を用いたデコンボリューションを行ない、その結果に基づいて開口収差が小さくなるように収差補正装置の四重極電場、六極電場、八極電場にフィードバックをかける開口収差補正を行なう、
ようにしたことを特徴とするSEMの収差自動補正方法。 - 走査電子顕微鏡と、
該走査電子顕微鏡の画像信号を入力するインタフェースと、
該走査電子顕微鏡を制御するインタフェースと、
該走査電子顕微鏡の収差を補正する収差補正装置を制御するインタフェースと、
これらインタフェースと接続され、各種の制御動作を行なうコンピュータと、
を具備し、
軸ずれを補正する軸ずれ補正手段と、焦点ずれを補正するフォーカス合わせ補正手段と、色収差を補正する色収差補正手段と、開口収差を補正する開口収差補正手段と、
をコンピュータ内部に持つことを特徴とするSEMの収差自動補正装置。 - 前記軸ずれ補正手段は、初期状態で得られる第1の画像と、電子線の断面がある方向を向いた線の状態にして得た第2の画像を得、更に第2の画像とは直角方向を向いた線の状態にして第3の画像を得、第2及び第3の画像に対して第1の画像を用いたデコンボリューションを行なうことによって電子線の軸ずれが画像の中心からどれだけずれているかを測定して、該ずれがなくなるようにSEMの対物レンズと収差補正装置の静電場にフィードバックをかける軸ずれ補正を行なうことを特徴とする請求項2記載のSEMの収差自動補正装置。
- 前記フォーカス合わせ補正手段は、軸ずれの補正に続いて初期状態から収差補正装置の収差補正装置の四重極電場の値を変えて元の状態よりアンダーフォーカスの状態で第1の画像を得、次に元の状態よりオーバーフォーカスの状態で第2の画像を得、これらの画像に対して自己相関演算を行なってこの自己相関画像のピークの幅に基づいてフォーカスのずれ具合を測定し、収差補正装置の四重極電場若しくは静電場と四重極磁場にフィードバックをかけるフォーカス合わせ補正を行なうことを特徴とする請求項2記載のSEMの収差自動補正装置。
- 前記色収差補正手段は、初期状態から電子線の加速電圧を前後にすこしだけ振って2つの画像を得、加速電圧増減によって生じるフォーカスのずれを自己相関演算を行なってその結果に基づいて収差補正装置の静電場と四重極磁場にフィードバックかける色収差補正を行なうことを特徴とする請求項2記載の収差自動補正装置。
- 前記開口収差補正手段は、初期状態で得られる第1の画像と、収差補正装置の四重極電場の値を変えて元の状態よりアンダーフォーカスの状態にして第2の画像を得、更に前記四重極電場の値を変えて元の状態よりオーバーフォーカス状態にして第3の画像を得、第2及び第3の画像に対して第1の画像を用いたデコンボリューションを行ない、その結果に基づいて開口収差が小さくなるように収差補正装置の四重極電場、六極電場、八極電場にフィードバックをかける開口収差補正を行なうことを特徴とする請求項2記載の収差自動補正装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004113001A JP4351108B2 (ja) | 2004-04-07 | 2004-04-07 | Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 |
US11/100,350 US7060986B2 (en) | 2004-04-07 | 2005-04-06 | Automated method of correcting aberrations in electron beam, method of visualizing aberrations, and automated aberration corrector |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004113001A JP4351108B2 (ja) | 2004-04-07 | 2004-04-07 | Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005302359A JP2005302359A (ja) | 2005-10-27 |
JP4351108B2 true JP4351108B2 (ja) | 2009-10-28 |
Family
ID=35238630
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004113001A Expired - Fee Related JP4351108B2 (ja) | 2004-04-07 | 2004-04-07 | Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7060986B2 (ja) |
JP (1) | JP4351108B2 (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4351108B2 (ja) * | 2004-04-07 | 2009-10-28 | 日本電子株式会社 | Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 |
JP4522203B2 (ja) * | 2004-09-14 | 2010-08-11 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子ビーム装置の色収差補正方法及び装置並びに荷電粒子ビーム装置 |
EP1783811A3 (en) * | 2005-11-02 | 2008-02-27 | FEI Company | Corrector for the correction of chromatic aberrations in a particle-optical apparatus |
JP4887030B2 (ja) * | 2005-11-18 | 2012-02-29 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US7619220B2 (en) * | 2005-11-30 | 2009-11-17 | Jeol Ltd. | Method of measuring aberrations and correcting aberrations using Ronchigram and electron microscope |
JP4790567B2 (ja) * | 2005-11-30 | 2011-10-12 | 日本電子株式会社 | ロンチグラムを用いた収差測定方法及び収差補正方法及び電子顕微鏡 |
DE102006038211A1 (de) * | 2006-08-16 | 2008-02-21 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren und Elektronenmikroskop zur Messung der Ähnlichkeit zweidimensionaler Bilder |
JP4857101B2 (ja) * | 2006-12-21 | 2012-01-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プローブ評価方法 |
JP2008181786A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置 |
KR100858982B1 (ko) | 2007-07-23 | 2008-09-17 | 서울산업대학교 산학협력단 | 통합 제어형 전자현미경 |
JP5188846B2 (ja) * | 2008-03-10 | 2013-04-24 | 日本電子株式会社 | 走査型透過電子顕微鏡の収差補正装置及び収差補正方法 |
US8581190B2 (en) | 2008-09-25 | 2013-11-12 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam apparatus and geometrical aberration measurement method therefor |
JP5623719B2 (ja) * | 2008-10-06 | 2014-11-12 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置の色収差補正装置及びその補正方法 |
EP2325862A1 (en) * | 2009-11-18 | 2011-05-25 | Fei Company | Corrector for axial aberrations of a particle-optical lens |
DE102011009954A1 (de) * | 2011-02-01 | 2012-08-02 | Ceos Corrected Electron Optical Systems Gmbh | Korrektor |
JP5581248B2 (ja) * | 2011-03-08 | 2014-08-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 走査電子顕微鏡 |
EP2511936B1 (en) | 2011-04-13 | 2013-10-02 | Fei Company | Distortion free stigmation of a TEM |
EP2584584A1 (en) | 2011-10-19 | 2013-04-24 | FEI Company | Method for adjusting a STEM equipped with an aberration corrector |
US8933425B1 (en) | 2011-11-02 | 2015-01-13 | Kla-Tencor Corporation | Apparatus and methods for aberration correction in electron beam based system |
US9081287B2 (en) | 2012-12-20 | 2015-07-14 | Kla-Tencor Corporation | Methods of measuring overlay errors in area-imaging e-beam lithography |
JP6470654B2 (ja) | 2015-07-24 | 2019-02-13 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
US10157723B2 (en) | 2016-08-03 | 2018-12-18 | Nuflare Technology, Inc. | Multi charged particle beam writing apparatus and method of adjusting the same |
JP6665809B2 (ja) | 2017-02-24 | 2020-03-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 |
JP2020181629A (ja) | 2017-07-27 | 2020-11-05 | 株式会社日立ハイテク | 電子線観察装置、電子線観察システム及び電子線観察装置の制御方法 |
JP6824210B2 (ja) * | 2018-03-05 | 2021-02-03 | 日本電子株式会社 | 電子顕微鏡 |
CN109187316B (zh) * | 2018-09-06 | 2021-08-24 | 天津大学 | 基于自相关的干涉离焦像散斑转向判别方法 |
EP3651182A1 (en) * | 2018-11-12 | 2020-05-13 | FEI Company | Charged particle microscope for examining a specimen, and method of determining an aberration of said charged particle microscope |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4423305A (en) * | 1981-07-30 | 1983-12-27 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for controlling alignment of an electron beam of a variable shape |
DE3841715A1 (de) * | 1988-12-10 | 1990-06-13 | Zeiss Carl Fa | Abbildender korrektor vom wien-typ fuer elektronenmikroskope |
JP3048857B2 (ja) | 1994-10-27 | 2000-06-05 | 住友重機械工業株式会社 | ベストフォーカスの検出方法 |
US5912469A (en) * | 1996-07-11 | 1999-06-15 | Nikon Corporation | Charged-particle-beam microlithography apparatus |
JP2000003847A (ja) * | 1998-06-15 | 2000-01-07 | Canon Inc | 荷電粒子線縮小転写装置及びデバイス製造方法 |
JP2001077002A (ja) * | 1999-09-02 | 2001-03-23 | Nikon Corp | 荷電粒子ビーム露光方法、荷電粒子ビーム露光装置及び半導体デバイス製造方法 |
DE10003127A1 (de) | 2000-01-26 | 2001-08-02 | Ceos Gmbh | Verfahren zur Ermittlung geometrisch optischer Abbildungsfehler |
US6552340B1 (en) * | 2000-10-12 | 2003-04-22 | Nion Co. | Autoadjusting charged-particle probe-forming apparatus |
KR100893516B1 (ko) * | 2000-12-28 | 2009-04-16 | 가부시키가이샤 니콘 | 결상특성 계측방법, 결상특성 조정방법, 노광방법 및노광장치, 프로그램 및 기록매체, 그리고 디바이스 제조방법 |
JP3645198B2 (ja) * | 2001-06-15 | 2005-05-11 | 独立行政法人理化学研究所 | 電子顕微鏡及びその焦点位置制御方法 |
ATE453205T1 (de) * | 2001-10-10 | 2010-01-15 | Applied Materials Israel Ltd | Verfahren und vorrichtung zur automatischen bilderzeugung geeignet zur ausrichtung einer geladenen teilchen strahlsäule |
CN100345252C (zh) * | 2002-01-29 | 2007-10-24 | 株式会社尼康 | 成像状态调节系统、曝光方法和曝光装置以及程序和信息存储介质 |
AU2003211559A1 (en) * | 2002-03-01 | 2003-09-16 | Nikon Corporation | Projection optical system adjustment method, prediction method, evaluation method, adjustment method, exposure method, exposure device, program, and device manufacturing method |
JP4286625B2 (ja) * | 2003-09-29 | 2009-07-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡による試料観察方法 |
US7067808B2 (en) * | 2003-10-14 | 2006-06-27 | Topcon Corporation | Electron beam system and electron beam measuring and observing method |
JP4351108B2 (ja) * | 2004-04-07 | 2009-10-28 | 日本電子株式会社 | Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 |
JP4383950B2 (ja) * | 2004-04-23 | 2009-12-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 |
JP4993849B2 (ja) * | 2004-05-31 | 2012-08-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 不良検査装置及び荷電粒子線装置 |
-
2004
- 2004-04-07 JP JP2004113001A patent/JP4351108B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2005
- 2005-04-06 US US11/100,350 patent/US7060986B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005302359A (ja) | 2005-10-27 |
US7060986B2 (en) | 2006-06-13 |
US20050247884A1 (en) | 2005-11-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4351108B2 (ja) | Semの収差自動補正方法及び収差自動補正装置 | |
US8304722B2 (en) | Charged particle beam equipment and charged particle microscopy | |
JP5103532B2 (ja) | 収差補正器を備えた荷電粒子線装置 | |
US10332719B2 (en) | Device and method for computing angular range for measurement of aberrations and electron microscope | |
KR101470270B1 (ko) | 하전 입자선 장치 | |
JP4887030B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
US8168956B2 (en) | Scanning transmission electron microscope and method of aberration correction therefor | |
US6864482B2 (en) | Electron beam apparatus | |
EP1441382B1 (en) | Electron beam apparatus having electron energy analyzer and means and method for controlling lenses | |
JP5798424B2 (ja) | 荷電粒子ビームの軸合わせ方法および荷電粒子ビーム装置 | |
JP2006108123A (ja) | 荷電粒子線装置 | |
WO2015174268A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP6106547B2 (ja) | 透過電子顕微鏡 | |
JP6770482B2 (ja) | 荷電粒子線装置および走査像の歪み補正方法 | |
JP4431624B2 (ja) | 荷電粒子線調整方法、及び荷電粒子線装置 | |
US11626266B2 (en) | Charged particle beam device | |
JP7114417B2 (ja) | 電子顕微鏡および電子顕微鏡の調整方法 | |
JP6959969B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP5012756B2 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
JP2007178764A (ja) | オートフォーカス方法およびオートフォーカス装置 | |
JP5435120B2 (ja) | 荷電粒子線装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090203 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090217 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090410 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090410 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090512 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090609 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090609 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090707 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090723 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4351108 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120731 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130731 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130731 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |