JP5601838B2 - 粒子光学装置 - Google Patents
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- 粒子光学装置であって、
電子顕微鏡システム(3)の主軸(5)に沿って被検査対象物(13)に向けて一次電子ビーム(19)を照射する電子顕微鏡システム(3)と、
イオンビーム加工システム(7)の主軸(9)に沿って前記被検査対象物(13)に向かってイオンビームを照射するイオンビーム加工システム(7)とを備え、前記電子顕微鏡システム(3)の前記主軸(5)と前記イオンビーム加工システム(7)の前記主軸(9)とは、角度(α)を成すように相互に方向づけられており、
前記電子顕微鏡システム(3)は、前記電子ビーム(19)を集束させるための、磁界レンズ(45)および静電レンズ(47)を備える対物レンズ(43)を備え、かつ、前記電子顕微鏡システム(3)の前記主軸(5)が通る環状電極(59)を備え、該環状電極(59)は、前記被検査対象物(13)の位置(11)近傍に配置された前記電子顕微鏡システム(3)の構成要素であって、
前記環状電極(59)と、前記イオンビーム加工システム(7)の前記主軸(9)との間に配置された、シールド電極(81)を特徴とし、
前記環状電極(59)に電圧を供給するための電圧源(60)と、前記被検査対象物(13)を、前記電子顕微鏡システム(3)の前記主軸(5)に対して、前記対象物の表面の少なくとも2つの異なる方向において保持するように構成された対象物ホルダ(16)とを更に含み、
前記粒子光学装置の操作中に前記電圧源(60)から前記環状電極(59)に供給される電圧は、前記電子顕微鏡システム(3)の前記主軸(5)に対する角度が異なる前記被検査対象物(13)の前記表面(15)について、異なる値であり、
前記シールド電極(81)が、
前記対象物(13)の前記表面(15)の方向が前記イオンビーム加工システム(7)の前記主軸(9)に略垂直であって、対応して操作中に前記環状電極(59)に供給される電圧を調節する場合に、
イオンビーム加工システムの主軸に沿った電場の分布が以下の関係性を満たすように構成され、
- 前記シールド電極(81)は、前記イオンビーム加工システム(7)の前記主軸(9)に垂直な、少なくとも1つの数学的な直線が、前記シールド電極(81)および前記環状電極(59)の両方と交差するように配置されたことを特徴とする、請求項1に従う粒子光学装置。
- 前記シールド電極(81)は、前記イオンビーム加工システム(7)のハウジング(75)の1部分に導電的に接続されており、前記1部分は、前記被検査対象物(13)の前記位置(11)の最近傍に位置することを特徴とする、請求項1または2に従う粒子光学装置。
- 前記シールド電極(81)に電圧を供給するための電圧源を更に備える、請求項1または2に記載の粒子光学装置。
- 前記イオンビーム加工システム(7)の前記主軸(9)に面する、前記シールド電極(81)の表面が、凹んで湾曲していることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の粒子光学装置。
- 前記シールド電極(81)は、前記イオンビーム加工システム(7)の前記主軸(9)を、少なくとも部分的に包含するスリーブとして構成されていることを特徴とする、請求項5に従う粒子光学装置。
- 前記スリーブは、前記被検査対象物(13)の前記位置(11)に向かって、円錐状に先細ることを特徴とする、請求項6に従う粒子光学装置。
- 前記被検査対象物(13)の前記位置(11)に面する、前記シールド電極(81)の前面(85)が、前記イオンビーム加工システム(7)の前記主軸(9)に対して垂直な数学的な面(15)に対して斜め方向に延在することを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の粒子光学装置。
- 前記シールド電極(81)の前記前面(85)は、前記電子顕微鏡システム(3)の前記主軸(5)に対して垂直な数学的な面(15’)に対して略平行に延在することを特徴とする、請求項8に従う粒子光学装置。
- 前記環状電極(59)は、前記被検査対象物(13)の前記位置(11)に向かって、円錐状に先細ることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の粒子光学装置。
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