JPH0769672A - 鉛不含有のリン酸スズガラス - Google Patents
鉛不含有のリン酸スズガラスInfo
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- JPH0769672A JPH0769672A JP6138749A JP13874994A JPH0769672A JP H0769672 A JPH0769672 A JP H0769672A JP 6138749 A JP6138749 A JP 6138749A JP 13874994 A JP13874994 A JP 13874994A JP H0769672 A JPH0769672 A JP H0769672A
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- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/16—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
- C03C3/17—Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing aluminium or beryllium
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- C03C8/24—Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 小さい熱膨脹係数を有し、鉛を含有しないリ
ン酸スズガラスを提供する。 【構成】 酸化物基準のモルパーセントで計算して、25
−50％のＰ2 Ｏ5 と、30−70％のＳｎＯと、０−15％の
ＺｎＯと、25％までのＲ2 Ｏ、20％までのＢ2Ｏ3 、５
％までのＡｌ2 Ｏ3 、５％までのＳｉＯ2 、および５％
までのＷＯ3 からなる群より選択される合計が25％まで
の効果的な量の少なくとも１つの安定化酸化物とから実
質的になる。ＳｎＯ：ＺｎＯのモル比はＳｎＯの観点か
ら見て５：１より大きい。ここでＲ2 Ｏは、０−25％の
Ｌｉ2 Ｏ、０−25％のＮａ2 Ｏ、および０−25％のＫ2
Ｏからなる。
ン酸スズガラスを提供する。 【構成】 酸化物基準のモルパーセントで計算して、25
−50％のＰ2 Ｏ5 と、30−70％のＳｎＯと、０−15％の
ＺｎＯと、25％までのＲ2 Ｏ、20％までのＢ2Ｏ3 、５
％までのＡｌ2 Ｏ3 、５％までのＳｉＯ2 、および５％
までのＷＯ3 からなる群より選択される合計が25％まで
の効果的な量の少なくとも１つの安定化酸化物とから実
質的になる。ＳｎＯ：ＺｎＯのモル比はＳｎＯの観点か
ら見て５：１より大きい。ここでＲ2 Ｏは、０−25％の
Ｌｉ2 Ｏ、０−25％のＮａ2 Ｏ、および０−25％のＫ2
Ｏからなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガラス質の溶融シールに
おけるシーリングフリットとして使用するリン酸スズガ
ラスに関するものである。
おけるシーリングフリットとして使用するリン酸スズガ
ラスに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ガラス部品を互いに接合する、またはガ
ラス部品を金属、合金、もしくはセラミックと接合する
際に使用するため、多くの特殊なシーリングガラスが開
発されてきた。
ラス部品を金属、合金、もしくはセラミックと接合する
際に使用するため、多くの特殊なシーリングガラスが開
発されてきた。
【０００３】溶融タイプのシールを作成する際には、材
料がシーリング表面を濡らして付着密封結合を形成する
のに十分な程軟化する温度までこの材料を加熱しなけれ
ばならず、一方では、特にシーリング電気および電子製
品にとって、シーリング温度はできる限り低く維持しな
ければならない。
料がシーリング表面を濡らして付着密封結合を形成する
のに十分な程軟化する温度までこの材料を加熱しなけれ
ばならず、一方では、特にシーリング電気および電子製
品にとって、シーリング温度はできる限り低く維持しな
ければならない。
【０００４】430 ℃−500 ℃の範囲の軟化点と、70−90
×10-7／℃の範囲の熱膨脹係数とを有する低温シーリン
グ鉛ガラスが、例えば、米国特許第2,642,633 号に記載
されている。熱的に失透するかまたは結晶化する鉛−亜
鉛ホウ酸塩ガラスが、陰極線管（ＣＲＴ）シーリング材
料として研究されてきた。
×10-7／℃の範囲の熱膨脹係数とを有する低温シーリン
グ鉛ガラスが、例えば、米国特許第2,642,633 号に記載
されている。熱的に失透するかまたは結晶化する鉛−亜
鉛ホウ酸塩ガラスが、陰極線管（ＣＲＴ）シーリング材
料として研究されてきた。
【０００５】このためと他の目的のため、上記ガラスは
粉末またはフリットとして用いられ、通常、酢酸アミル
のような有機ビヒクルと混合されて流動可能または押出
可能なペーストを形成する。この混合物をシーリング表
面に施すが、必要に応じてミル添加物と混合してシール
の熱膨脹を変更および／またはコントロールする。
粉末またはフリットとして用いられ、通常、酢酸アミル
のような有機ビヒクルと混合されて流動可能または押出
可能なペーストを形成する。この混合物をシーリング表
面に施すが、必要に応じてミル添加物と混合してシール
の熱膨脹を変更および／またはコントロールする。
【０００６】電気および電子シーリングを目的とする場
合には、より低いシーリング温度が必要とされる。
合には、より低いシーリング温度が必要とされる。
【０００７】シール中における残留歪みを小さくするた
めには、シールの熱膨脹係数（ＣＴＥ）を、シールされ
る部品の熱膨張係数に対して密接に整合させるべきであ
る。
めには、シールの熱膨脹係数（ＣＴＥ）を、シールされ
る部品の熱膨張係数に対して密接に整合させるべきであ
る。
【０００８】電子・電気シーリング用途では、シールは
多くの異なる物質とかかわり合う可能性がある。さら
に、これらの物質は広範囲に亘る熱膨脹係数を有する傾
向にある。必要とされる熱膨脹係数は、例えば、アルミ
ナと整合させるため、ＣＲＴ部品をシールする際に用い
る95−105 ×10-7／℃という値、ケイ素ガラスおよびホ
ウケイ酸塩ガラスと整合させるために用いる30−40×10
-7／℃という値、ある種のガラスセラミックおよび溶融
シリカと整合させるために用いる０−10×10-7／℃とい
う値より一般的に低い。
多くの異なる物質とかかわり合う可能性がある。さら
に、これらの物質は広範囲に亘る熱膨脹係数を有する傾
向にある。必要とされる熱膨脹係数は、例えば、アルミ
ナと整合させるため、ＣＲＴ部品をシールする際に用い
る95−105 ×10-7／℃という値、ケイ素ガラスおよびホ
ウケイ酸塩ガラスと整合させるために用いる30−40×10
-7／℃という値、ある種のガラスセラミックおよび溶融
シリカと整合させるために用いる０−10×10-7／℃とい
う値より一般的に低い。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】シーリングガラスフリ
ットにおいては、流動性および膨脹性における整合性に
加え、シールされるガラス部品に対する湿潤性、廃物回
収を念頭においた通常の工業溶媒への溶解性、および有
機ビヒクル、特に酢酸アミルとの相溶性が良好であるこ
とが望ましい。
ットにおいては、流動性および膨脹性における整合性に
加え、シールされるガラス部品に対する湿潤性、廃物回
収を念頭においた通常の工業溶媒への溶解性、および有
機ビヒクル、特に酢酸アミルとの相溶性が良好であるこ
とが望ましい。
【００１０】鉛−亜鉛ホウ酸塩ガラスの好ましい特徴の
全てを有するが、シーリング温度がより低く、健康と安
全のために鉛を含まないシーリングガラスフリットが引
き続き望まれている。
全てを有するが、シーリング温度がより低く、健康と安
全のために鉛を含まないシーリングガラスフリットが引
き続き望まれている。
【００１１】上記に鑑みて、本発明は、小さい熱膨脹係
数を有する部品をシールするのに有用な熱膨脹係数を有
する、電子・電気部品間の溶融シールを形成するのに特
に適した鉛不含有シーリングガラスフリットを提供する
ことを目的とする。また本発明は、必要に応じて強化繊
維および充填剤により強化した、400 ℃−430 ℃の範囲
の温度での溶融シーリングのための中温シーリングガラ
スフリットを提供することを目的とする。
数を有する部品をシールするのに有用な熱膨脹係数を有
する、電子・電気部品間の溶融シールを形成するのに特
に適した鉛不含有シーリングガラスフリットを提供する
ことを目的とする。また本発明は、必要に応じて強化繊
維および充填剤により強化した、400 ℃−430 ℃の範囲
の温度での溶融シーリングのための中温シーリングガラ
スフリットを提供することを目的とする。
【００１２】スズおよび／または亜鉛を含有することの
あるリン酸塩ガラスが、米国特許第2,400,147 号、第4,
940,677 号、第5,021,355 号、第5,071,795 号、第3,40
7,091 号、第4,314,031 号、第5,089,445 号、および第
5,089,446 号等に記載されている。
あるリン酸塩ガラスが、米国特許第2,400,147 号、第4,
940,677 号、第5,021,355 号、第5,071,795 号、第3,40
7,091 号、第4,314,031 号、第5,089,445 号、および第
5,089,446 号等に記載されている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、鉛を含有しな
いリン酸スズガラスであって、該リン酸スズガラスの組
成が、酸化物基準のモルパーセントで計算して、25−50
％のＰ2 Ｏ5 と、30−70％のＳｎＯと、０−15％のＺｎ
Ｏと、25％までのＲ2 Ｏ、20％までのＢ2 Ｏ3、５％ま
でのＡｌ2 Ｏ3 、５％までのＳｉＯ2 、および５％まで
のＷＯ3 からなる群より選択される合計が25％までの指
示した割合の少なくとも１つの効果的な量の安定化酸化
物とから実質的になり、ＳｎＯ：ＺｎＯのモル比がＳｎ
Ｏの観点から見て５：１より大きく、前記Ｒ2 Ｏが、０
−25％のＬｉ2 Ｏ、０−25％のＮａ2 Ｏ、および０−25
％のＫ2 Ｏからなることを特徴とするリン酸スズガラス
を提供する。本発明はまた、そのようなリン酸スズガラ
スを有効物質（active ingredient ）として含むシーリ
ング材料を提供する。さらにまた、本発明は、溶融シー
ル、すなわち、上記のようなリン酸スズガラスを有効物
質として含有するシーリング材料の溶融生成物によって
接合された少なくとも２つの構成部分を有する複合品を
提供する。ここで「有効物質」とは単に、溶融シールに
おいて十分にシーリング機能を果たすガラス物質、すな
わち、溶融し、次いで硬化してそれによりシールとして
機能するガラス物質を意味する。
いリン酸スズガラスであって、該リン酸スズガラスの組
成が、酸化物基準のモルパーセントで計算して、25−50
％のＰ2 Ｏ5 と、30−70％のＳｎＯと、０−15％のＺｎ
Ｏと、25％までのＲ2 Ｏ、20％までのＢ2 Ｏ3、５％ま
でのＡｌ2 Ｏ3 、５％までのＳｉＯ2 、および５％まで
のＷＯ3 からなる群より選択される合計が25％までの指
示した割合の少なくとも１つの効果的な量の安定化酸化
物とから実質的になり、ＳｎＯ：ＺｎＯのモル比がＳｎ
Ｏの観点から見て５：１より大きく、前記Ｒ2 Ｏが、０
−25％のＬｉ2 Ｏ、０−25％のＮａ2 Ｏ、および０−25
％のＫ2 Ｏからなることを特徴とするリン酸スズガラス
を提供する。本発明はまた、そのようなリン酸スズガラ
スを有効物質（active ingredient ）として含むシーリ
ング材料を提供する。さらにまた、本発明は、溶融シー
ル、すなわち、上記のようなリン酸スズガラスを有効物
質として含有するシーリング材料の溶融生成物によって
接合された少なくとも２つの構成部分を有する複合品を
提供する。ここで「有効物質」とは単に、溶融シールに
おいて十分にシーリング機能を果たすガラス物質、すな
わち、溶融し、次いで硬化してそれによりシールとして
機能するガラス物質を意味する。
【００１４】本発明は大部分、リン酸スズガラスの系統
を発見したことに基づくものである。本発明はさらに、
これらのガラスにより、特にフリットの形態において、
非常に効果的な低温および中温（350 ℃−450 ℃）シー
リングガラスが得られることを発見したことに基づくも
のである。これらのガラスの用途は特定の分野の用途に
限定されるものではないが、これらのガラスは、中温シ
ーリングガラスとして現在使用されている鉛の含有量が
多いシーリングガラスの代替として特に有益である。本
発明のガラスの主たる利点は鉛を含有しないことであ
る。
を発見したことに基づくものである。本発明はさらに、
これらのガラスにより、特にフリットの形態において、
非常に効果的な低温および中温（350 ℃−450 ℃）シー
リングガラスが得られることを発見したことに基づくも
のである。これらのガラスの用途は特定の分野の用途に
限定されるものではないが、これらのガラスは、中温シ
ーリングガラスとして現在使用されている鉛の含有量が
多いシーリングガラスの代替として特に有益である。本
発明のガラスの主たる利点は鉛を含有しないことであ
る。
【００１５】エイトケン等の特許出願に開示されたガラ
スはＳｎＯ：ＺｎＯの比が１：１から５：１までである
ことを特徴としている。本発明のガラスも好ましくはＺ
ｎＯを含有するが、ＳｎＯの含有量に対しては少量であ
る。したがって、本発明においてはＺｎＯの含有は任意
であり、含有する場合には、ＳｎＯ：ＺｎＯのモル比は
ＳｎＯの観点から見て５：１より大きい。
スはＳｎＯ：ＺｎＯの比が１：１から５：１までである
ことを特徴としている。本発明のガラスも好ましくはＺ
ｎＯを含有するが、ＳｎＯの含有量に対しては少量であ
る。したがって、本発明においてはＺｎＯの含有は任意
であり、含有する場合には、ＳｎＯ：ＺｎＯのモル比は
ＳｎＯの観点から見て５：１より大きい。
【００１６】相対的なＺｎＯ含有量の減少は、ガラスを
軟化させる傾向があり、その結果として良好な流動特性
が得られる。しかしながら、相対的なＺｎＯの含有量が
減少することにより、シーリング中にガラスがしみ出る
（glass exuding ）という問題が生じ、シールが弱いも
のとなってしまう。例えば、ピロリン酸第一スズ成分、
すなわち、ＳｎＯおよびＰ2 Ｏ5 からなるガラスは、34
5 ℃でいくぶん流動性を示したが、ガラスをしみ出させ
て失透する傾向にあり、また高いシーリング温度では脆
弱になる傾向があった。ガラスのしみ出しは失透と一体
的に関連している。このような傾向を克服するために、
ＺｎＯを加えてもよいが、ＳｎＯ：ＺｎＯの比がＳｎＯ
の観点から見て大きいガラスはいまだ調整するのが困難
である。
軟化させる傾向があり、その結果として良好な流動特性
が得られる。しかしながら、相対的なＺｎＯの含有量が
減少することにより、シーリング中にガラスがしみ出る
（glass exuding ）という問題が生じ、シールが弱いも
のとなってしまう。例えば、ピロリン酸第一スズ成分、
すなわち、ＳｎＯおよびＰ2 Ｏ5 からなるガラスは、34
5 ℃でいくぶん流動性を示したが、ガラスをしみ出させ
て失透する傾向にあり、また高いシーリング温度では脆
弱になる傾向があった。ガラスのしみ出しは失透と一体
的に関連している。このような傾向を克服するために、
ＺｎＯを加えてもよいが、ＳｎＯ：ＺｎＯの比がＳｎＯ
の観点から見て大きいガラスはいまだ調整するのが困難
である。
【００１７】ＳｎＯ：ＺｎＯの比がＳｎＯの観点から見
て大きいガラスを安定化させることにより良好なシーリ
ングフリットを提供できることが判明した。この目的を
達成するために、25モル％までのＲ2 Ｏ、20モル％まで
のＢ2 Ｏ3 、５モル％までのＡｌ2 Ｏ3 、５モル％まで
のＳｉＯ2 、および５モル％までのＷＯ3 からなる群よ
り選択される少なくとも１つの酸化物を合計で25モル％
まで含有する。ここで、Ｒ2 Ｏは、０−25モル％のＬｉ
2 Ｏ、０−25モル％のＮａ2 Ｏ、および０−25モル％の
Ｋ2 Ｏからなり、選択した上記酸化物を、シーリング中
の失透および／またはしみ出しに対してガラスを安定化
させるのに効果的な量で含有する。一般的に、上述した
酸化物単体の１つまたは該酸化物のうち２つ以上の組合
せを少なくとも１モル％含有することが実質的な安定化
を確実にするのに必要であることが明らかとなった。そ
のような添加により、上記酸化物を含有しない場合に遭
遇した結晶化および強度の損失を避ける一方で適度に良
好な流動特性を維持できる。安定化を目的とする場合に
は、Ｌｉ2 Ｏが最も好ましいアルカリ金属酸化物（Ｒ2
Ｏ）である。
て大きいガラスを安定化させることにより良好なシーリ
ングフリットを提供できることが判明した。この目的を
達成するために、25モル％までのＲ2 Ｏ、20モル％まで
のＢ2 Ｏ3 、５モル％までのＡｌ2 Ｏ3 、５モル％まで
のＳｉＯ2 、および５モル％までのＷＯ3 からなる群よ
り選択される少なくとも１つの酸化物を合計で25モル％
まで含有する。ここで、Ｒ2 Ｏは、０−25モル％のＬｉ
2 Ｏ、０−25モル％のＮａ2 Ｏ、および０−25モル％の
Ｋ2 Ｏからなり、選択した上記酸化物を、シーリング中
の失透および／またはしみ出しに対してガラスを安定化
させるのに効果的な量で含有する。一般的に、上述した
酸化物単体の１つまたは該酸化物のうち２つ以上の組合
せを少なくとも１モル％含有することが実質的な安定化
を確実にするのに必要であることが明らかとなった。そ
のような添加により、上記酸化物を含有しない場合に遭
遇した結晶化および強度の損失を避ける一方で適度に良
好な流動特性を維持できる。安定化を目的とする場合に
は、Ｌｉ2 Ｏが最も好ましいアルカリ金属酸化物（Ｒ2
Ｏ）である。
【００１８】本発明のガラスの熱膨脹係数は120 −140
×10-7／℃の範囲にある傾向にあり、このことが問題と
なっている。前述したように、そのような値は多くの電
子および電気シーリング用途にはあまりに高すぎる。こ
の問題は、より低い効果的な熱膨脹係数を与えるある充
填剤をシーリングフリット中に大量に加えることにより
克服できることが判明した。特に効果的であることが判
明した充填剤の例としては、コージエライト、Ｌｉ2 Ｏ
−Ａｌ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 ガラスセラミック、およびＭｇ
+2とＣｏ+2からなる群より選択される少なくとも１つの
陽イオン成分を有する結晶性ピロリン酸塩等が挙げられ
る。
×10-7／℃の範囲にある傾向にあり、このことが問題と
なっている。前述したように、そのような値は多くの電
子および電気シーリング用途にはあまりに高すぎる。こ
の問題は、より低い効果的な熱膨脹係数を与えるある充
填剤をシーリングフリット中に大量に加えることにより
克服できることが判明した。特に効果的であることが判
明した充填剤の例としては、コージエライト、Ｌｉ2 Ｏ
−Ａｌ2 Ｏ3 −ＳｉＯ2 ガラスセラミック、およびＭｇ
+2とＣｏ+2からなる群より選択される少なくとも１つの
陽イオン成分を有する結晶性ピロリン酸塩等が挙げられ
る。
【００１９】ハロゲン化物、特にフッ化物の、ガラスを
軟化させ、したがって、そのシーリング温度を低くする
能力が知られている。しかしながら、製品が真空下で操
作される場合、そのようなハロゲン化物含有ガラスには
ベークアウト（bakeout ）中にガス抜けするかもしれな
いという心配がある。したがって、ハロゲン化物を含有
しないことが本発明のガラスの特徴である。
軟化させ、したがって、そのシーリング温度を低くする
能力が知られている。しかしながら、製品が真空下で操
作される場合、そのようなハロゲン化物含有ガラスには
ベークアウト（bakeout ）中にガス抜けするかもしれな
いという心配がある。したがって、ハロゲン化物を含有
しないことが本発明のガラスの特徴である。
【００２０】アルカリ金属酸化物（Ｒ2 Ｏ）を含有する
ことによりガラスを軟化させることもまた知られてい
る。そのような添加剤はシーリング表面に対する湿潤性
も改善する。しかしながら、それらの添加剤には熱膨張
係数を増加させる傾向、および／または耐候性を低下さ
せる傾向がある。さらに、電気用途においては、ガラス
中のアルカリは電気特性に悪影響を及ぼし、移動する傾
向にある。加えて、本発明のガラスのさらなる特徴は、
アルカリを含まなくともよいことである。
ことによりガラスを軟化させることもまた知られてい
る。そのような添加剤はシーリング表面に対する湿潤性
も改善する。しかしながら、それらの添加剤には熱膨張
係数を増加させる傾向、および／または耐候性を低下さ
せる傾向がある。さらに、電気用途においては、ガラス
中のアルカリは電気特性に悪影響を及ぼし、移動する傾
向にある。加えて、本発明のガラスのさらなる特徴は、
アルカリを含まなくともよいことである。
【００２１】本発明のガラスを安定化させるこの主な機
能に加え、約５モル％までのＳｉＯ2 を含有することに
より熱膨張係数を小さくする。約20モル％までの、好ま
しくは10モル％以下のＢ2 Ｏ3 を含有することにより、
ガラスの熱膨脹係数を小さくし、約５モル％までのＡｌ
2 Ｏ3 を含有することにより、耐久性を改善する。
能に加え、約５モル％までのＳｉＯ2 を含有することに
より熱膨張係数を小さくする。約20モル％までの、好ま
しくは10モル％以下のＢ2 Ｏ3 を含有することにより、
ガラスの熱膨脹係数を小さくし、約５モル％までのＡｌ
2 Ｏ3 を含有することにより、耐久性を改善する。
【００２２】本発明のガラスの鍵となる必要条件は、ガ
ラスが還元状態にあること、すなわち、スズが主に第一
スズ（Ｓｎ+2）の状態にあることである。この目的のた
めに、スズを第一スズ形態、すなわち、スズ精鉱（Ｓｎ
Ｏ）としてガラスバッチに加える。あるいは、ライトス
ズ（light tin ：ＳｎＯ2 ）を用いる場合、スズの大部
分が２価（ＳｎＯ）の状態にあることを確実にするため
に、糖のような還元剤を加えるべきである。しかしなが
ら、スズがさらに金属にまで還元されるような強烈な還
元条件を用いないように注意しなければならない。Ｓｎ
Ｏ2 が多量に含まれる場合、フリットは流動せず、強力
なシールに望ましいようにはシーリング表面を濡らさな
い。
ラスが還元状態にあること、すなわち、スズが主に第一
スズ（Ｓｎ+2）の状態にあることである。この目的のた
めに、スズを第一スズ形態、すなわち、スズ精鉱（Ｓｎ
Ｏ）としてガラスバッチに加える。あるいは、ライトス
ズ（light tin ：ＳｎＯ2 ）を用いる場合、スズの大部
分が２価（ＳｎＯ）の状態にあることを確実にするため
に、糖のような還元剤を加えるべきである。しかしなが
ら、スズがさらに金属にまで還元されるような強烈な還
元条件を用いないように注意しなければならない。Ｓｎ
Ｏ2 が多量に含まれる場合、フリットは流動せず、強力
なシールに望ましいようにはシーリング表面を濡らさな
い。
【００２３】オルトリン酸塩水準、すなわち、約25モル
％のＰ2 Ｏ5 から、メタリン酸塩水準、すなわち、約50
モル％のＰ2 Ｏ5 までに亘る範囲でＰ2 Ｏ5 を含有する
と、良好なガラスが形成される。
％のＰ2 Ｏ5 から、メタリン酸塩水準、すなわち、約50
モル％のＰ2 Ｏ5 までに亘る範囲でＰ2 Ｏ5 を含有する
と、良好なガラスが形成される。
【００２４】シーリング材料に使用するフリットについ
て、ガラスは好ましくは29モル％−35モル％の範囲のＰ
2 Ｏ5 、より好ましくはピロリン酸塩化学量論のまたは
その近傍のＰ2 Ｏ5 、すなわち、約33モル％のＰ2 Ｏ5
を含有する。Ｐ2 Ｏ5 の含有量が少ないフリットは、シ
ーリング操作において不規則で非再現性の流動挙動を示
す傾向にある。Ｐ2 Ｏ5 の含有量が多いフリットは、化
学的な攻撃に対して耐久性が小さい傾向にある。
て、ガラスは好ましくは29モル％−35モル％の範囲のＰ
2 Ｏ5 、より好ましくはピロリン酸塩化学量論のまたは
その近傍のＰ2 Ｏ5 、すなわち、約33モル％のＰ2 Ｏ5
を含有する。Ｐ2 Ｏ5 の含有量が少ないフリットは、シ
ーリング操作において不規則で非再現性の流動挙動を示
す傾向にある。Ｐ2 Ｏ5 の含有量が多いフリットは、化
学的な攻撃に対して耐久性が小さい傾向にある。
【００２５】必要に応じて、５モル％までのＭｏＯ3 、
５モル％までのＷＯ3 、および0.1モル％までのＡｇか
らなる群より選択される少なくとも１つの成分をガラス
バッチ中に含有でき、その選択した成分は、シーリング
フリットの接着特性を高めるのに効果的な量で含有され
る。上記成分の最大値は、重量％では、5.5 重量％のＭ
ｏＯ3 、8.7 重量％のＷＯ3 、および0.08重量％のＡｇ
金属に対応する。
５モル％までのＷＯ3 、および0.1モル％までのＡｇか
らなる群より選択される少なくとも１つの成分をガラス
バッチ中に含有でき、その選択した成分は、シーリング
フリットの接着特性を高めるのに効果的な量で含有され
る。上記成分の最大値は、重量％では、5.5 重量％のＭ
ｏＯ3 、8.7 重量％のＷＯ3 、および0.08重量％のＡｇ
金属に対応する。
【００２６】前述したエイトケン等の出願に記載したガ
ラスシーリングフリットと比較した、本発明のガラスシ
ーリングフリットに特有な性質は、適切な特徴の比較に
より明らかとなるであろう。比較したすべてのガラスは
33モル％のＰ2 Ｏ5 を有し、ＳｎＯ：ＺｎＯの比のみが
異なる三成分ガラス（ＳｎＯ−ＺｎＯ−Ｐ2 Ｏ5 ）であ
った。
ラスシーリングフリットと比較した、本発明のガラスシ
ーリングフリットに特有な性質は、適切な特徴の比較に
より明らかとなるであろう。比較したすべてのガラスは
33モル％のＰ2 Ｏ5 を有し、ＳｎＯ：ＺｎＯの比のみが
異なる三成分ガラス（ＳｎＯ−ＺｎＯ−Ｐ2 Ｏ5 ）であ
った。
【００２７】ガラス転移温度（Ｔｇ）は、ガラス中で流
動が開始される温度を示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）に
より測定した値である。ＳｎＯ：ＺｎＯの比が０（すな
わち、ピロリン酸亜鉛）から５：１まで増加するにつ
れ、Ｔｇ値は約450 ℃から約285 ℃にまで急速に減少す
る。ＳｎＯ：ＺｎＯの比がＳｎＯの観点から見てさらに
増加すると（本発明のガラス）、Ｔｇ値は250 −275 ℃
の範囲で安定する。
動が開始される温度を示差走査熱量測定法（ＤＳＣ）に
より測定した値である。ＳｎＯ：ＺｎＯの比が０（すな
わち、ピロリン酸亜鉛）から５：１まで増加するにつ
れ、Ｔｇ値は約450 ℃から約285 ℃にまで急速に減少す
る。ＳｎＯ：ＺｎＯの比がＳｎＯの観点から見てさらに
増加すると（本発明のガラス）、Ｔｇ値は250 −275 ℃
の範囲で安定する。
【００２８】同様に、ガラスのアニーリング点は、Ｓｎ
Ｏ：ＺｎＯの比が約１：１のときの約270 ℃から約245
℃まで急速に減少し、ＳｎＯの含有量がさらに増加する
と安定する。しかしながら、フリットが低い流動温度と
小さい熱膨張係数（ＣＴＥ）の両者を有するというのは
ほとんど互いに矛盾するものである。ＳｎＯ−ＺｎＯ−
Ｐ2 Ｏ5 ガラスも例外ではない。結果として、本発明の
ＺｎＯの含有量が少ないガラスは室温から250 ℃までの
温度範囲に亘り120 −140 ×10-7／℃の範囲の熱膨脹係
数を有する。
Ｏ：ＺｎＯの比が約１：１のときの約270 ℃から約245
℃まで急速に減少し、ＳｎＯの含有量がさらに増加する
と安定する。しかしながら、フリットが低い流動温度と
小さい熱膨張係数（ＣＴＥ）の両者を有するというのは
ほとんど互いに矛盾するものである。ＳｎＯ−ＺｎＯ−
Ｐ2 Ｏ5 ガラスも例外ではない。結果として、本発明の
ＺｎＯの含有量が少ないガラスは室温から250 ℃までの
温度範囲に亘り120 −140 ×10-7／℃の範囲の熱膨脹係
数を有する。
【００２９】
【実施例】以下、ガラス組成物およびシーリング混合物
についての実施例を参照して本発明を説明する。
についての実施例を参照して本発明を説明する。
【００３０】表ＩＡの組成物は、ガラスバッチから計算
した酸化物基準のモルパーセントで表わされている。重
量部に関して対応する組成物を表ＩＢに示す。これらの
組成の合計がほぼ100 であるので、個々の値は重量パー
セントとしてみなしてもよい。
した酸化物基準のモルパーセントで表わされている。重
量部に関して対応する組成物を表ＩＢに示す。これらの
組成の合計がほぼ100 であるので、個々の値は重量パー
セントとしてみなしてもよい。
【００３１】表ＩＡは一連の基礎三成分ＳｎＯ−ＺｎＯ
−Ｐ2 Ｏ5 ガラス組成物（モルパーセント）を、Ｓｎ
Ｏ：ＺｎＯの比を増加させつつ示している。押形フリッ
トガラスシリンダーまたはボタンが優れた流動を示した
温度（℃）もまた列記する。しかしながら、そのような
流動は、ガラスのしみ出し、および試験片を冷却したと
きの弱い砕ける構造により達成されたことに注意すべき
である。このことは、ＳｎＯ：ＺｎＯの比がＳｎＯに観
点から見て大きくなるほどより顕著になった。
−Ｐ2 Ｏ5 ガラス組成物（モルパーセント）を、Ｓｎ
Ｏ：ＺｎＯの比を増加させつつ示している。押形フリッ
トガラスシリンダーまたはボタンが優れた流動を示した
温度（℃）もまた列記する。しかしながら、そのような
流動は、ガラスのしみ出し、および試験片を冷却したと
きの弱い砕ける構造により達成されたことに注意すべき
である。このことは、ＳｎＯ：ＺｎＯの比がＳｎＯに観
点から見て大きくなるほどより顕著になった。
【００３２】
【表１】
【００３３】すべてのバッチを蓋付シリカるつぼ中で溶
融した。典型的なバッチは800 ｇ−1000ｇの範囲にあっ
た。溶融温度は、ガラス組成に依存して800 ℃−1100℃
の範囲にあった。溶融時間は２時間と一定に保持した。
バッチの原材料は、ＳｎＯ（スズ精鉱）、酸化亜鉛、お
よびリン酸アンモニウムからなるものを用いた。溶融物
をスチールテーブル上に注ぎ、ローラーを用いてその溶
融物を冷却して0.1”（〜0.25ｃｍ）厚のリボンを形成
させることによりガラスを造形した。次いで、平均粒径
が20−50μｍとなるまで乾式ボールミル粉砕することに
より、すべての組成物をフリットとして調製した。これ
らの粉末から製造したバーを乾式圧縮して（dry-pressi
ng）焼結することにより、熱膨脹係数または粘度を測定
するための試料を得た。冷却後に試験片を焼結バーから
切り取れるように、十分な高密度化が行なわれるのに十
分に高温までそれらのバーを焼成した。典型的にすべて
の試験片について、最大温度で１時間の浸漬を用いた。
融した。典型的なバッチは800 ｇ−1000ｇの範囲にあっ
た。溶融温度は、ガラス組成に依存して800 ℃−1100℃
の範囲にあった。溶融時間は２時間と一定に保持した。
バッチの原材料は、ＳｎＯ（スズ精鉱）、酸化亜鉛、お
よびリン酸アンモニウムからなるものを用いた。溶融物
をスチールテーブル上に注ぎ、ローラーを用いてその溶
融物を冷却して0.1”（〜0.25ｃｍ）厚のリボンを形成
させることによりガラスを造形した。次いで、平均粒径
が20−50μｍとなるまで乾式ボールミル粉砕することに
より、すべての組成物をフリットとして調製した。これ
らの粉末から製造したバーを乾式圧縮して（dry-pressi
ng）焼結することにより、熱膨脹係数または粘度を測定
するための試料を得た。冷却後に試験片を焼結バーから
切り取れるように、十分な高密度化が行なわれるのに十
分に高温までそれらのバーを焼成した。典型的にすべて
の試験片について、最大温度で１時間の浸漬を用いた。
【００３４】流動は350 ℃の温度で生じ得るので、Ｓｎ
Ｏ／ＺｎＯの比がＳｎＯの観点から見て大きいフリット
と実質的な利点が関係することは表ＩＡから明らかであ
る。これらの低い流動温度は、アルカリ酸化物またはハ
ロゲン化物を使用せずに達成されることは顕著なことで
ある。シールした装置の電気的安定性が低下する可能性
および汚染物のためにアルカリまたはハロゲン化物のい
ずれかを含有することが望ましくない場合、これらのフ
リットは上述した利点により電子シーリング用途にとっ
て非常に魅力的なものとなる。さらに、この一連のフリ
ットに関して低いシーリング温度を達成するために、酸
化鉛または酸化タリウムを使用することを必要としな
い。その両酸化物は毒性および／または危険であり、典
型的に低温のフリット中に含有されるものである。
Ｏ／ＺｎＯの比がＳｎＯの観点から見て大きいフリット
と実質的な利点が関係することは表ＩＡから明らかであ
る。これらの低い流動温度は、アルカリ酸化物またはハ
ロゲン化物を使用せずに達成されることは顕著なことで
ある。シールした装置の電気的安定性が低下する可能性
および汚染物のためにアルカリまたはハロゲン化物のい
ずれかを含有することが望ましくない場合、これらのフ
リットは上述した利点により電子シーリング用途にとっ
て非常に魅力的なものとなる。さらに、この一連のフリ
ットに関して低いシーリング温度を達成するために、酸
化鉛または酸化タリウムを使用することを必要としな
い。その両酸化物は毒性および／または危険であり、典
型的に低温のフリット中に含有されるものである。
【００３５】しかしながら、前述したように、ＳｎＯ／
ＺｎＯの比がＳｎＯの観点から見て大きいフリットは、
残留するガラス相が表面にしみ出すような状態で結晶化
する傾向にある（特に＞0.5 時間の浸漬時間で）。この
ことは、これらのフリットをシーリング用途に使用する
にはきわめて望ましくない。さらに、フリット内部にガ
ラス相がないと、非常に多孔性で弱い構造となってしま
う。
ＺｎＯの比がＳｎＯの観点から見て大きいフリットは、
残留するガラス相が表面にしみ出すような状態で結晶化
する傾向にある（特に＞0.5 時間の浸漬時間で）。この
ことは、これらのフリットをシーリング用途に使用する
にはきわめて望ましくない。さらに、フリット内部にガ
ラス相がないと、非常に多孔性で弱い構造となってしま
う。
【００３６】ガラスのしみ出し／結晶化現象は、主にＡ
ｌ2 Ｏ3 、Ｂ2 Ｏ3 、またはＳｉＯ2 を添加することに
よって、ガラスの組成を変更することによりなくすこと
ができる。これらの追加の酸化物はおそらく、ガラス中
のリン−酸素鎖を強め、結晶化につながる構造的な再配
置が生じるのを困難にすることにより、結晶化の傾向を
抑圧するように機能する。
ｌ2 Ｏ3 、Ｂ2 Ｏ3 、またはＳｉＯ2 を添加することに
よって、ガラスの組成を変更することによりなくすこと
ができる。これらの追加の酸化物はおそらく、ガラス中
のリン−酸素鎖を強め、結晶化につながる構造的な再配
置が生じるのを困難にすることにより、結晶化の傾向を
抑圧するように機能する。
【００３７】Ｂ2 Ｏ3 およびＡｌ2 Ｏ3 による結晶化と
ガラスのしみ出しへの影響を、ＳｎＯ／ＺｎＯの比が1
0.0から∞、すなわち、ピロリン酸スズとなるまでの一
連のフリットについて表IIＡに示す。「単純な」三成分
フリット（すなわち、ＳｎＯ、ＺｎＯ、およびＰ
2 Ｏ5 ）について３つの異なるＳｎＯ／ＺｎＯの比に関
してのデータ、およびすべてモル基準で表した、ガラス
に少量のＡｌ2 Ｏ3 、Ｂ2 Ｏ3、および／またはＬｉ2
Ｏ、またはＷＯ3 を加えた同一組成物に関してのデータ
を示す。各々の実施例において、これらの追加の成分
は、ガラスがしみ出す傾向を抑えるように機能した。
ガラスのしみ出しへの影響を、ＳｎＯ／ＺｎＯの比が1
0.0から∞、すなわち、ピロリン酸スズとなるまでの一
連のフリットについて表IIＡに示す。「単純な」三成分
フリット（すなわち、ＳｎＯ、ＺｎＯ、およびＰ
2 Ｏ5 ）について３つの異なるＳｎＯ／ＺｎＯの比に関
してのデータ、およびすべてモル基準で表した、ガラス
に少量のＡｌ2 Ｏ3 、Ｂ2 Ｏ3、および／またはＬｉ2
Ｏ、またはＷＯ3 を加えた同一組成物に関してのデータ
を示す。各々の実施例において、これらの追加の成分
は、ガラスがしみ出す傾向を抑えるように機能した。
【００３８】
【表２】
【００３９】
【表３】
【００４０】表IIＢは重量部で表IIＡの組成を示したも
のである。表ＩＢと同様に、組成の合計がほぼ100 であ
るので、全ての目的にとって、各々の成分の表に示した
値は重量パーセントを表すものと考えてよい。
のである。表ＩＢと同様に、組成の合計がほぼ100 であ
るので、全ての目的にとって、各々の成分の表に示した
値は重量パーセントを表すものと考えてよい。
【００４１】
【表４】
【００４２】本発明の開示に記載したＳｎＯ−ＺｎＯ−
Ｐ2 Ｏ5 フリットはガラス質であり、小さい弾性係数
［約６×106 ｐｓｉ（〜4.2 ×104 ＭＰａ）］を有す
る。その結果、流動が生じる温度まで焼成した押形バー
またはディスクについて試験する場合、これらのフリッ
トは比較的小さい強度値を有する。焼結ディスクの典型
的な強度値は、3,000 ｐｓｉ−4,000 ｐｓｉ（〜21ＭＰ
ａ−28ＭＰａ）であり、一方市販のガラス質のＰｂＯ含
有フリットの強度値は5,000 ｐｓｉ−5,500 ｐｓｉ（〜
35ＭＰａ−38.5ＭＰａ）である。しかしながら、前述し
たように、これらの低い流動温度を有するフリットには
比較的多量の充填剤（ミル添加物として加える）を加え
ることができ、それでもまだこれらのフリットは400 ℃
−500 ℃で流動する。ヤング率が低いために、マイクロ
クラックが生じて強度が低下することなく充填剤をフリ
ット中に含有することができるので、ヤング率が低いこ
とは実際に有益である。
Ｐ2 Ｏ5 フリットはガラス質であり、小さい弾性係数
［約６×106 ｐｓｉ（〜4.2 ×104 ＭＰａ）］を有す
る。その結果、流動が生じる温度まで焼成した押形バー
またはディスクについて試験する場合、これらのフリッ
トは比較的小さい強度値を有する。焼結ディスクの典型
的な強度値は、3,000 ｐｓｉ−4,000 ｐｓｉ（〜21ＭＰ
ａ−28ＭＰａ）であり、一方市販のガラス質のＰｂＯ含
有フリットの強度値は5,000 ｐｓｉ−5,500 ｐｓｉ（〜
35ＭＰａ−38.5ＭＰａ）である。しかしながら、前述し
たように、これらの低い流動温度を有するフリットには
比較的多量の充填剤（ミル添加物として加える）を加え
ることができ、それでもまだこれらのフリットは400 ℃
−500 ℃で流動する。ヤング率が低いために、マイクロ
クラックが生じて強度が低下することなく充填剤をフリ
ット中に含有することができるので、ヤング率が低いこ
とは実際に有益である。
【００４３】強度試験のために、一組のローラー上で乾
式混合することにより粉末フリットと充填剤を混合し
た。様々な粉末を粉砕媒体とともにプラスチック容器中
に配し、15−30分間に亘りローラー混合した。これらの
混合粉末を約1.5 ”の直径×約0.20”の厚さ（〜3.8 ×
0.5 ｃｍ）を有するディスクに圧縮し、強度を測定する
ための試験片を調製した。焼成後、コアを穿孔し研削す
ることにより薄いディスクを調製した。一方の面（引張
り表面：tensile surface ）を研磨して、実際の強度試
験の直前に、摩耗させて均一にひびを分布させた。
式混合することにより粉末フリットと充填剤を混合し
た。様々な粉末を粉砕媒体とともにプラスチック容器中
に配し、15−30分間に亘りローラー混合した。これらの
混合粉末を約1.5 ”の直径×約0.20”の厚さ（〜3.8 ×
0.5 ｃｍ）を有するディスクに圧縮し、強度を測定する
ための試験片を調製した。焼成後、コアを穿孔し研削す
ることにより薄いディスクを調製した。一方の面（引張
り表面：tensile surface ）を研磨して、実際の強度試
験の直前に、摩耗させて均一にひびを分布させた。
【００４４】研究に使用した充填剤は、−325 メッシュ
のＡｌ2 Ｏ3 、（推測の熱膨脹係数＝70×10-7／℃）、
Ｅ−ミルのジルコン、（推測の熱膨脹係数＝50×10-7／
℃）、Ｓグレードの酸化ジルコニウム、（推測の熱膨脹
係数＝150 ×10-7／℃）であった。これらの充填剤の平
均粒径は５−10μｍの範囲内にあった。充填剤として評
価した物質の内、α−Ａｌ2 Ｏ3 およびジルコンのみが
強度の改善に効果的であった。おそらく、これは、充填
剤の熱膨脹係数がフリットの熱膨脹係数（フリットの熱
膨脹係数＝120 −140 ×10-7／℃）よりも低かったため
であろう。周りのマトリックスの熱膨脹係数より小さい
熱膨脹係数を有する第２の相の含有物のほうにクラック
は偏り、その含有物と相互作用する傾向にある。したが
って、＜120 ×10-7／℃の熱膨脹係数、または好ましく
は＜100 ×10-7／℃の熱膨脹係数を有する他の充填剤も
また、強化剤として効果的であろうと考えられる。
のＡｌ2 Ｏ3 、（推測の熱膨脹係数＝70×10-7／℃）、
Ｅ−ミルのジルコン、（推測の熱膨脹係数＝50×10-7／
℃）、Ｓグレードの酸化ジルコニウム、（推測の熱膨脹
係数＝150 ×10-7／℃）であった。これらの充填剤の平
均粒径は５−10μｍの範囲内にあった。充填剤として評
価した物質の内、α−Ａｌ2 Ｏ3 およびジルコンのみが
強度の改善に効果的であった。おそらく、これは、充填
剤の熱膨脹係数がフリットの熱膨脹係数（フリットの熱
膨脹係数＝120 −140 ×10-7／℃）よりも低かったため
であろう。周りのマトリックスの熱膨脹係数より小さい
熱膨脹係数を有する第２の相の含有物のほうにクラック
は偏り、その含有物と相互作用する傾向にある。したが
って、＜120 ×10-7／℃の熱膨脹係数、または好ましく
は＜100 ×10-7／℃の熱膨脹係数を有する他の充填剤も
また、強化剤として効果的であろうと考えられる。
【００４５】測定した強度とともに強化フリットの実施
例を表III に示す。一組当たり全般的に８−10の試験片
について試験した。すべての試験片を450 ℃以下で焼成
した。保有シール温度（potential seal temperature）
を＜450 ℃にしたかったので、充填剤の充填量を40重量
％以下に維持した。充填剤の充填量として＞25重量％よ
り多くＡｌ2 Ｏ3 および／またはジルコンを含有するす
べての充填剤の組合せについて、5,000 ｐｓｉ（〜35Ｍ
Ｐａ）を超えた強度値が得られた。Ａｌ2 Ｏ3とジルコ
ンのある組合せにより、8,000 ｐｓｉ（〜56ＭＰａ）を
超えた強度値が得られた。
例を表III に示す。一組当たり全般的に８−10の試験片
について試験した。すべての試験片を450 ℃以下で焼成
した。保有シール温度（potential seal temperature）
を＜450 ℃にしたかったので、充填剤の充填量を40重量
％以下に維持した。充填剤の充填量として＞25重量％よ
り多くＡｌ2 Ｏ3 および／またはジルコンを含有するす
べての充填剤の組合せについて、5,000 ｐｓｉ（〜35Ｍ
Ｐａ）を超えた強度値が得られた。Ａｌ2 Ｏ3とジルコ
ンのある組合せにより、8,000 ｐｓｉ（〜56ＭＰａ）を
超えた強度値が得られた。
【００４６】
【表５】
【００４７】ＳｎＯ／ＺｎＯの比がＳｎＯの観点から見
て大きいフリットは、低い流動温度を有するけれども、
一般的に120 −140 ×10-7／℃の範囲にある比較的大き
い熱膨脹係数を有する。このような熱膨脹係数は、ソー
ダ石灰−シリカガラス（熱膨脹係数＝90×10-7／℃）、
アルミナ（熱膨脹係数＝70×10-7／℃）、ＺｎＯ（熱膨
脹係数＝55×10-7／℃）、ホウケイ酸塩ガラス（熱膨脹
係数＝35×10-7／℃）、およびケイ素（熱膨脹係数＝30
×10-7／℃）のような基体へのシーリングに望ましい保
有値よりもかなり高い。しかしながら、これらのガラス
は良好な流動特性を有するので、400 ℃−500 ℃の適度
の範囲内で保有シーリング温度を維持しつつ、比較的多
量のミル添加物を添加することができる。可能性のある
ミル添加物の例としては、アルミノケイ酸リチウムガラ
スセラミック（ＬＡＳ）、コージエライト、および結晶
性ピロリン酸マグネシウム等が挙げられる。表IVには、
膨脹改質剤としてのミル添加物により作成したＳｎＯ−
ＺｎＯ−Ｐ2 Ｏ5 フリットの実施例をいくつか列記して
いる。表IVには、シーリング温度および使用した特定の
基体も列記する。
て大きいフリットは、低い流動温度を有するけれども、
一般的に120 −140 ×10-7／℃の範囲にある比較的大き
い熱膨脹係数を有する。このような熱膨脹係数は、ソー
ダ石灰−シリカガラス（熱膨脹係数＝90×10-7／℃）、
アルミナ（熱膨脹係数＝70×10-7／℃）、ＺｎＯ（熱膨
脹係数＝55×10-7／℃）、ホウケイ酸塩ガラス（熱膨脹
係数＝35×10-7／℃）、およびケイ素（熱膨脹係数＝30
×10-7／℃）のような基体へのシーリングに望ましい保
有値よりもかなり高い。しかしながら、これらのガラス
は良好な流動特性を有するので、400 ℃−500 ℃の適度
の範囲内で保有シーリング温度を維持しつつ、比較的多
量のミル添加物を添加することができる。可能性のある
ミル添加物の例としては、アルミノケイ酸リチウムガラ
スセラミック（ＬＡＳ）、コージエライト、および結晶
性ピロリン酸マグネシウム等が挙げられる。表IVには、
膨脹改質剤としてのミル添加物により作成したＳｎＯ−
ＺｎＯ−Ｐ2 Ｏ5 フリットの実施例をいくつか列記して
いる。表IVには、シーリング温度および使用した特定の
基体も列記する。
【００４８】
【表６】
【００４９】
【表７】
【００５０】
【表８】
【００５１】
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年９月２１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
フロントページの続き (72)発明者 ロバート マイケル モレナ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14848 ケイトン ブラウンタウン ロード 438
Claims (11)
- 【請求項１】 鉛を含有しないリン酸スズガラスであっ
て、該リン酸スズガラスの組成が、酸化物基準のモルパ
ーセントで計算して、25−50％のＰ2 Ｏ5 と；30−70％
のＳｎＯと；０−15％のＺｎＯと；25％までのＲ2 Ｏ、
20％までのＢ2Ｏ3 、５％までのＡｌ2 Ｏ3 、５％まで
のＳｉＯ2 、および５％までのＷＯ3からなる群より選
択される合計が25％までの有効な量の少なくとも１つの
安定化酸化物とから実質的になり、ＳｎＯ：ＺｎＯのモ
ル比がＳｎＯの観点から見て５：１より大きく、前記Ｒ
2 Ｏが、０−25％のＬｉ2 Ｏ、０−25％のＮａ2 Ｏ、お
よび０−25％のＫ2 Ｏからなることを特徴とするリン酸
スズガラス。 - 【請求項２】 選択される前記安定化酸化物がＢ2 Ｏ3
および／またはＡｌ2 Ｏ3 であることを特徴とする請求
項１記載のリン酸スズガラス。 - 【請求項３】 前記Ｐ2 Ｏ5 の含有量が29モル％から35
モル％の範囲にあることを特徴とする請求項１記載のリ
ン酸スズガラス。 - 【請求項４】 前記Ｐ2 Ｏ5 の含有量が約33モル％であ
ることを特徴とする請求項３記載のリン酸スズガラス。 - 【請求項５】 ５モル％までのＷＯ3 、５モル％までの
ＭｏＯ3 、および0.10モル％までのＡｇ金属からなる群
より選択される少なくとも１つのシール接着促進剤を含
有することを特徴とする請求項１記載のリン酸スズガラ
ス。 - 【請求項６】 120 ×10-7／℃未満の熱膨脹係数を有す
る強度強化充填剤を含有することを特徴とする請求項１
から５いずれか１項記載のリン酸スズガラス。 - 【請求項７】 前記強度強化充填剤が、アルミナおよび
ジルコンからなる群より選択されることを特徴とする請
求項６記載のリン酸スズガラス。 - 【請求項８】 請求項１から７いずれか１項記載のガラ
スから調製される溶融シールに用いるフリットであっ
て、前記ガラスが前記フリットの熱膨張係数を減少させ
るために低い熱膨脹係数を有するミル添加物を含有する
ことを特徴とするフリット。 - 【請求項９】 前記ミル添加物が、アルミノケイ酸リチ
ウムガラスセラミックと；コージエライトと；Ｍｇ+2お
よびＣｏ+2からなる群より選択される少なくとも１つの
陽イオンを有するピロリン酸塩、またはピロリン酸マグ
ネシウム結晶性物質の粒子とからなる群より選択される
ことを特徴とする請求項８記載のフリット。 - 【請求項１０】 有効物質として請求項１から９いずれ
か１項記載のガラスを含有するシーリング物質。 - 【請求項１１】 請求項１０記載のシーリング物質を溶
融することにより得られる溶融シールにより接合される
少なくとも２つの構成部分からなる複合品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US078648 | 1993-06-21 | ||
| US08/078,648 US5281560A (en) | 1993-06-21 | 1993-06-21 | Non-lead sealing glasses |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0769672A true JPH0769672A (ja) | 1995-03-14 |
Family
ID=22145399
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6138749A Pending JPH0769672A (ja) | 1993-06-21 | 1994-06-21 | 鉛不含有のリン酸スズガラス |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5281560A (ja) |
| EP (1) | EP0630867B1 (ja) |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030812 |