JP2628007B2 - 鉛不含有ガラスおよびそれを用いたシーリング材料 - Google Patents

鉛不含有ガラスおよびそれを用いたシーリング材料

Info

Publication number
JP2628007B2
JP2628007B2 JP5183636A JP18363693A JP2628007B2 JP 2628007 B2 JP2628007 B2 JP 2628007B2 JP 5183636 A JP5183636 A JP 5183636A JP 18363693 A JP18363693 A JP 18363693A JP 2628007 B2 JP2628007 B2 JP 2628007B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
mole percent
zno
sno
frit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP5183636A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH06183775A (ja
Inventor
ガーディナー エイキン ブルース
クレイグ ブックバインダー ダナ
エドナ グリーン マーガレット
マイケル モレーナ ロバート
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Corning Inc
Original Assignee
Corning Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Corning Inc filed Critical Corning Inc
Publication of JPH06183775A publication Critical patent/JPH06183775A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2628007B2 publication Critical patent/JP2628007B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C10/00Devitrified glass ceramics, i.e. glass ceramics having a crystalline phase dispersed in a glassy phase and constituting at least 50% by weight of the total composition
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/062Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/16Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/16Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
    • C03C3/17Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing aluminium or beryllium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/12Silica-free oxide glass compositions
    • C03C3/16Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus
    • C03C3/19Silica-free oxide glass compositions containing phosphorus containing boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C8/00Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
    • C03C8/24Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions, i.e. for use as seals between dissimilar materials, e.g. glass and metal; Glass solders

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は中温シーリングガラスフ
リットとして用いられるSnO−ZnO−P2 5 ガラ
スであって、シール中でガラス質であるか、または結晶
化せしめられているガラスに関するものである。
【0002】
【従来の技術】融解ガラスシールで構成部分をともに接
合して複合体物品を形成することは熟達した技術であ
る。特に、ガラスどうしを互いに、または金属、合金、
またはセラミックとガラス部分とを接合する用途に数多
くの特別なシーリングガラスが開発されてきた。
【0003】融解型のシールの製造において、材料がシ
ーリング表面をぬらすのに十分に軟化せしめられ、接着
気密結合を形成する温度まで、その材料を加熱しなけれ
ばならない。多くの目的のために、できるだけシーリン
グ温度を低く保持することが望ましい。このことは、通
常、熱感応性部分または被膜が用いられる電気製品およ
び電子製品において特に重要である。
【0004】したがって、低温シーリングガラスとして
の鉛ガラスは非常に注目されている。例えば、430 °−
500 ℃の範囲の軟化点および70−90×10-7/℃範囲の熱
膨脹係数を有する安定なシーリングガラスが米国特許第
2,642,633 号(ダルトン)に開示されている。その後の
研究は、熱的失透または結晶化にさらされた鉛−亜鉛ホ
ウ酸塩型ガラスに集中した。これらのガラスは、陰極線
管シーリング材料を探すために意図的に開発された。
【0005】多くのシーリングや被膜を目的として、ガ
ラスはガラスフリットと称する粉末形状で用いられる。
そのような用途の1つは、陰極線管のファンネル部材と
パネル部材の間にシールを形成することである。シーリ
ングガラスフリットは、通常酢酸アミルのような有機ビ
ヒクルと混合し、流動可能または押出可能ペーストを形
成する。次いでこの混合物をシーリング表面、例えば、
ファンネル部材またはパネル部材の周囲の縁に施す。ま
た、ミル添加物をガラスフリット混合物中に含有せしめ
ることが知られており、その主な理由は、シールの極限
(ultimate)熱膨脹係数を変更および/または
制御することにある。
【0006】陰極線管部分、特にファンネル部材とパネ
ル部材を接合するシーリングガラスフリットには多くの
要件がある。そのなかで主な要件は、440 °−450 ℃の
最大温度におけるガラスの優れた流動、およびシール中
の低い残留ひずみである。後者は一般的に、約100 ×10
-7/℃の熱膨張係数(CTE)を必要とする。
【0007】流動と膨脹の適合性に加えて、シーリング
ガラスフリットは多くの他の好ましい特性を有するべき
である。これらの特性には、シーリングされるガラス部
分の良好な湿潤性、回収目的のための通常の工業溶媒へ
の溶解度、および有機ビヒクルとの相容性があげられ
る。特に、フリットは、鉛ガラスフリットに対して現在
商業的に用いられているビヒクルである酢酸アミルとの
相容性を有しなければならない。
【0008】工業フリットシーリング方法は、真空蒸
着、真空脱気またアニーリングのための二次的な(シー
ル後の)熱処理を必要とする。この第2の熱工程は、一
般的にシーリング操作よりも低い温度で行なわれる。し
かしながら、必要とされる温度は、フリットシールの粘
性変形を生じるほど十分に高い。これは、シーリングし
た組立体のゆがみとミスアラインメントをもたらす。こ
れらの理由のために、シーリング工程の最初の段階で広
い間隔でガラス質流動を生じる(理想的に)失透フリッ
トが用いられる。その後は、フリットが結晶化して、ゆ
がむことなく続いてのいかなる熱工程にも耐えられる堅
い、変形抵抗物質となる。
【0009】陰極線管をシーリングするのに通常用いら
れるフリットは、結晶化および非結晶化の両者の亜鉛−
鉛ホウ酸塩シーリングガラスである。これらのガラス
は、長年に亘って用いられており、非常にうまくいくこ
とが証明されている。いうまでもなく、鉛−亜鉛ホウ酸
塩ガラスの好ましい特性の全てを有するが、いくぶん低
いシーリング温度を有するシーリングガラスフリットが
続いて望まれている。さらに、健康と安全の尺度とし
て、できるだけ鉛化合物の使用を避けるために奮闘して
いる。
【0010】リン酸亜鉛ガラスを開示している以下の米
国特許にも注意を向けられたい。
【0011】第2,400,147 号(ホーリー)は、蛍光剤と
してSnOとMnOを含有する蛍光アルミノリン酸亜鉛
ガラスを記載している。
【0012】第4,940,677 号(ビオールら)は、必要に
応じて多くの酸化物を含有し、そのうちの1つが35モル
パーセントまでのSnOを含有するR2 O−ZnO−P
2 5 ガラスを開示している。そのガラスは450 ℃より
低い転移温度を有する。
【0013】第5,021,366 号(エイトケン)は、成形ガ
ラスレンズ用のR2 O−ZnO−P2 5 ガラスを開示
している。そのガラスは、20モルパーセントまでのSn
Oを含有し、屈折率を増大せしめている。
【0014】第5,071,795 号(ビオールら)は、必要に
応じて10モルパーセントまでのSnOを含有するR2
−ZnO−P2 5 ガラスを開示している。そのガラス
は350 ℃より低い転移温度を有する。
【0015】以下の米国特許はシーリングガラスおよび
混合物を開示している。
【0016】第3,407,091 号(バスディーカー)は、金
属を金属またはガラスにシーリングするR2 O−Al2
3 −ZnO−P2 5 ガラスを開示している。
【0017】第4,314,031 号(サンフォードら)は、非
常に低い転移温度を有するスズ−亜リン酸−オキシフッ
化物ガラスを開示している。
【0018】第5,089,445 号(フランシス)は、ホウ酸
鉛シーリングガラスの有効CTEを減じるピロリン酸マ
グネシウムの結晶性構造を有するピロリン酸塩の使用を
開示している。
【0019】第5,089,446 号(コーネリウスら)は、サ
ンフォードらのガラスの有効CTEを減少せしめる、ピ
ロリン酸塩を含有するミル添加物を開示している。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明の
基本目的は、鉛不含有シーリングガラスフリットを提供
することにある。本発明のさらなる目的は、陰極線管の
ファンネル部材とパネル部材の間に融解シールを形成す
るのに適合した特性を有する鉛不含有ガラスを提供する
ことにある。本発明の別の目的は、新しい鉛不含有ガラ
スの有効CTEを変更して、潜在的な用途を、より低い
CTEを有するシーリング成分に広げる手段を提供する
ことにある。さらに別の目的は、400 −450 ℃の範囲の
温度で融解シールを形成できる中温シーリングガラスフ
リットを提供することにある。さらなる目的は、結晶化
シールを形成するが、結晶化前の450 ℃で良好な流動特
性を保持し、およそ100 ×10-7/℃のCTEを有する鉛
不含有シーリングガラスフリットを提供することにあ
る。
【0021】
【課題を解決するための手段】本発明のガラスは、鉛不
含有のSnO−ZnO−P2 5 ガラスであって、該ガ
ラス組成が、酸化物基準のモルパーセントで計算して、
25−50%のP2 5 およびSnO:ZnOのモル比が
1:1から5:1の範囲にあるような量のSnOとZn
Oから実質的になる。
【0022】本発明はさらに、活性成分として鉛不含有
のSnO−ZnO−P2 5 ガラスフリットを含有する
シーリング材料であって、該ガラスフリットの組成が、
酸化物基準のモルパーセントで計算して、25−50%のP
2 5 およびSnO:ZnOのモル比が1:1から5:
1の範囲にあるような量のSnOとZnOから実質的に
なるものであるシーリング材料にある。
【0023】本発明はまた、少なくとも2つの構成部分
からなる複合体物品であって、前記構成部分が、融解シ
ール、すなわち、活性成分としてSnO−ZnO−P2
5シーリングガラスフリットを含有するシーリング材
料の融解物により接合され、そのガラスフリットの組成
が、酸化物基準のモルパーセントで計算して、25−50%
のP2 5 およびSnO:ZnOのモル比が1:1から
5:1の範囲にあるような量のSnOとZnOから実質
的になるものである複合体物品に関する。
【0024】本発明はまた、25−50%のP2 5 および
SnO:ZnOのモル比が1:1から5:1の範囲にあ
るような量のSnOとZnOから実質的になり、1−5
モルパーセントのジルコンおよび/またはジルコニアお
よび1−15モルパーセントのR2 O(Li2 Oおよび/
またはNa2 Oおよび/またはK2 O)からなる群より
選択される少なくとも1つの結晶化促進剤を含有するガ
ラスのバッチを配合し、混合し、溶融せしめ、その溶融
物からシーリングガラスフリットを生成し、該フリット
を含有するシーリング材料を形成し、該シーリング材料
をシーリング表面に施し、該表面にシールを形成するの
に十分な時間に亘り400 −450 ℃の範囲に加熱する各工
程からなる、少なくとも部分的に結晶化せしめられたシ
ールを製造する方法を含む。
【0025】本発明はP2 5 、SnOおよびZnOか
ら実質的になる一群のガラスの発見に主に基づくもので
ある。本発明はさらに、これらのガラスは、特にフリッ
トの形態で、非常に有効な中温(400 −450 ℃)シーリ
ングガラスを提供するという発見に基づくものである。
そのガラスの応用分野を限定するものではないが、これ
らのガラスは、中温シーリングガラスとして現在用いら
れている鉛高含有量シーリングガラスの代替として特に
興味を引くものである。本発明のガラスの主な特徴は、
鉛を含有しないことにある。
【0026】ガラスを軟化し、それゆえシーリング温度
を低下せしめる、ハロゲン化物、特にフッ化物の能力は
よく知られている。したがって、本発明のガラスは必要
に応じて10モルパーセントまでのハロゲン化物を含有す
る。しかしながら、製品を真空下で操作しなければなら
ない場合、そのようなハロゲン化物含有ガラスは加熱中
にガスを放出する心配がある。それゆえ、陰極線管シー
リングに関して、シーリングガラスはハロゲン化物を含
まないことが好ましい。
【0027】アルカリ金属酸化物(R2 O)がガラスを
軟化せしめることも知られている。そのような添加物
は、シーリング表面の湿潤性も改善する。しかしなが
ら、それらの添加物は、熱膨脹係数を増大せしめ、およ
び/または耐候性を低下せしめる傾向にある。さらに、
電気的用途において、ガラス中のアルカリは、電気特性
に悪影響を与え、移行を起こす傾向がある。したがっ
て、本発明のガラスにおいて15モルパーセントまでのR
2 Oは許容されるが、10モルパーセント未満が好まし
く、本発明のガラスの特徴は、アルカリを含まなくても
よいことにある。
【0028】他の任意の添加剤には、熱膨張係数を下げ
るための、約5モルパーセントまでのSiO2 、ガラス
を軟化せしめるための、約20モルパーセントまでである
が好ましくは10モルパーセントを超えないB2 3 、お
よび耐水性を改善するための、約5モルパーセントまで
のAl2 3 があげられる。ガラスはまた、5モルパー
セントまでのR′O(ここでR′は1つ以上のアルカリ
土類金属)、合計で10モルパーセントまでの1つ以上の
ハロゲン化物、合計が5モルパーセントまでのTi
2 、ZrO2 およびNb2 5 の1つ以上を含有して
もよい。そのような任意の酸化物成分の合計、すなわ
ち、SnO、ZnOおよびP2 5 以外の成分の合計は
約20モルパーセントを超えるべきではない。
【0029】本発明のガラスの鍵となる必要条件は、ガ
ラスが還元状態にあること、すなわち、スズが主に第一
スズ(Sn+2)状態にあることである。この目的のため
に、スズを第一スズ状態、すなわち、スズ精鉱(Sn
O)としてガラスバッチに添加する。あるいは、ライト
スズ(SnO2 )を用いる場合、大部分のスズが2価
(SnO)状態となるように、糖などの還元剤を加える
べきである。しかしながら、スズがさらに金属にまで還
元されるような激しい還元条件を用いないように注意し
なければならない。SnO2 が相当な量で存在する場
合、フリットがシーリング温度に加熱されると早期に結
晶化するように思われる。その結果、フリットは、強力
なシールに望まれるようには流動せずかつシーリング表
面をぬらさない。
【0030】良好なガラスは、オルトリン酸塩のレベ
ル、すなわち、約25モルパーセントのP2 5 から、メ
タリン酸塩のレベル、すなわち、約50モルパーセントの
2 5 までの範囲のP2 5 含有量に対して得られ
る。
【0031】シーリング成分に用いるフリットに関し
て、ガラスは29−33モルパーセントのP2 5 を含有す
ることが好ましい。より低いP2 5 含有量のフリット
は、シーリング処理中に不規則で再生不可能な流動挙動
を示す傾向にある。高いP2 5 含有量のフリットは、
結晶化が全く起こらないシールであるところの全ガラス
質シールを形成する傾向にある。また、そのような高い
2 5 含有量のガラスは、化学攻撃に対する耐久性が
小さい傾向にある。
【0032】前述したように、工業シーリング用途では
しばしばその後の再加熱工程を必要とする。そのような
用途で特に興味のある1つは、陰極線管のファンネル部
材とパネル部材の間のシールである。そこでその陰極線
管は、焼出し等のその後の処理において325 −375 ℃の
範囲の温度に再加熱される。そのような温度では、全ガ
ラス質シールは、ガラス流動が生じるほど十分に軟化し
て陰極線管の成分のミスアラインメントを生じさせる可
能性がある。
【0033】このため、そのような再加熱中にガラスの
流動を避ける堅い結晶化シールの必要性が生じる。この
必要条件により、シーリング工程中の本発明のガラスを
結晶化せしめることを意図した研究が行なわれた。より
詳しくは、結晶化を遅れさせて、完全な結晶化前に、45
0 ℃までの良好なガラス流動特性が保持されるようにす
ることが求められた。
【0034】ジルコン(ZrSiO4 )またはジルコニ
ア(ZrO2 )のいずれかをガラスバッチに添加するこ
とにより、SnO−ZnO−P2 5 系のガラスフリッ
トの結晶化が達成できることが分かった。1から5モル
パーセントの量のいずれかの材料は、内部核剤として作
用して結晶化を促進せしめる。ZrSiO4 は、2つの
内でより効果的なものである。
【0035】1−15モルパーセントに亘る範囲の量でR
2 Oを含有させることによっても、結晶化は達成でき
る。アルカリ金属酸化物は、前駆体ガラス中でガラス−
イン−ガラスの相分離を生じさせるようである。これ
は、核形成および結晶化の部位を形成する。
【0036】アルカリ金属酸化物は、結晶化を促進せし
める際に、ZrSiO4 またはZrO2 のいずれよりも
効果的ではない。しかしながら、驚くべきことに、アル
カリ金属酸化物がZrSiO4 またはZrO2 のいずれ
かとともにSnO−ZnO−P2 5 ガラスに加えられ
る場合、その組合せにより、いずれのジルコニウム化合
物単体よりも高い結晶化が得られた。
【0037】ジルコンと組み合わせて、少量の粉末白金
が相乗作用を起こし、SnO−ZnO−P2 5 ガラス
において高度な結晶化度を達成する。しかしながら、白
金が単体で用いられる場合、結晶化度を実際には高めて
いない。必要とされる白金の量は非常に小さく、その上
限は価格により規定される。0.001 から0.1 モルパーセ
ントが効果的であることが分かった。
【0038】白金とジルコンの組合せは、高い結晶化度
を与えるだけでなく、結晶化工程も遅れるので、この組
合せが特に望ましい。それゆえ、白金とジルコンで変性
したガラスの流動ボタンを450 ℃に加熱して1時間保持
した。最初の保持段階で流動が生じ、ボタンは、完全に
ガラス質であることを示すガラス質外観を有した。保持
期間の終り際に、ボタン表面は織りの外観を示した。こ
れは結晶化が生じたことを示すものである。
【0039】前述した結晶化促進剤を溶融により前駆体
ガラス中に取り込まなければならない;それらはミル添
加物として添加される場合には効果的ではない。また、
他のガラスにとって効果的な他の内部核剤は、本発明の
ガラスにおいて結晶化を促進せしめるのには効果的では
ないことが分かった。
【0040】上述した2つの方法、すなわち、ジルコニ
ウム化合物またはアルカリ金属酸化物の添加のいずれか
により達成される結晶化度をさらに高める様々な応用手
段を発見した。そのような応用手段の1つは、SnO:
ZnOのモル比を1.8 :1まで低下せしめることであ
る。もう1つは、29−30%の範囲でP2 5 含有量を用
いることである。また、別な手段は、10−20ミクロンの
範囲の平均粒子フリットサイズを用いることである。
【0041】WO3 、MoO3 および/または銀金属を
SnO−ZnO−P2 5 ガラスバッチに添加すること
は、ガラスから生成したシーリングフリット、特にソー
ダ石灰シリカガラスによるシールの接着特性に非常に有
利な効果がある。ガラス中に溶融させる量は、5モルパ
ーセントまでのMoO3 、5モルパーセントまでのWO
3 および/または0.10モルパーセントまでのAgであっ
た(5.5 重量%までのMoO3 、8.7 重量%までのWO
3 および0.08重量%までのAg金属に相当する)。
【0042】SnO/ZnOモル比の広い範囲に亘って
安定なガラスが形成される。ガラスの溶融と冷却中に失
透しないためには、1:1から5:1の範囲のSnO:
ZnOモル比が好ましい。シール中の最大限の流動特性
と耐水性特性を得るためには、1.7 :1から2.3 :1の
範囲が好ましい。その比はモルパーセント基準である。
【0043】本発明のガラスがフリットの形態に焼成さ
れてシールのようになるときに、熱膨脹係数は一般的
に、95−115 ×10-7/℃の範囲にある。これらの値は、
焼成ボディが全てガラス質または部分的に結晶化してい
る形態にある場合に得られる。
【0044】最良の流動は、全ガラス質の組成、または
ガラスおよび未知の結晶相からなるフリットに対して得
られた。後者は、X線回折(XRD)により示される3.
86オングストロームの最大ピークにより特徴付けられ
る。この特定の化合物は、25から約33モルパーセントの
2 5 含有量に亘り容易に形成された。第2の結晶相
が存在した場合に(3.41オングストロームのXRD最大
ピーク)、フリット中に望ましくない流動が生じた。3.
41オングストロームの相はおそらく、第2の結晶化物と
して生じ、シーリング用フリットに必要な長い期間のガ
ラス質流動を妨害した。
【0045】望ましくない3.41オングストローム相は、
25−28モルパーセントのP2 5 範囲に亘ってフリット
中に一貫性なく生じた:この相の存在は、Sn+2/Sn
+4比に敏感であるように思われた。この相は、約29モル
パーセント以上のP2 5 含有量の元ではほとんど観察
されなかった。Zn−メタリン酸塩ガラスとSnOおよ
びSnO2 の様々な混合物とを400 °−600 ℃で長時間
に亘り反応させることによる、「良い」3.86オングスト
ローム相、または「悪い」3.41オングストローム相のい
ずれかを合成する試みは失敗に終わった。
【0046】最初の評価により、SnO−ZnO−P2
5 フリットの、市販のファンネルガラスとの良好な膨
脹適合性および優れた440 ℃の流動が確認された。加え
て、フリットは、満足できる、酢酸アミルとの物理的お
よび化学的特性を有することが報告され、陰極線管ガラ
スとの良好な湿潤性を有することが観察された。また、
フリット/酢酸アミルペーストの焼成試料は、コンダク
タンス試験における漏電で非常に満足な水準(0.1 nA
未満の電流量と測定された)を有した。
【0047】本発明を説明するガラス組成の群を記録し
た表Iを参照しながら、本発明についてさらに詳細に説
明する。熱膨脹係数(CTE)は、室温と250 ℃の間の
平均膨張変化である。示した値に10-7/℃を掛けたもの
が、実際の測定値である。ひずみ点(St.Pt.)お
よびアニール点(An.Pt.)は℃で示す。450 ℃で
作られたシール中のガラス流動の質も示してある。
【0048】表IAに、ガラスバッチから計算した酸化
物基準のモルパーセントで組成を示す。対応する重量部
で示した組成を、表IBに示す。これらの組成の合計は
ほぼ100 になるので、パーセントとみなせる。表IC
は、記録した組成を有するガラスの関連特性を記載す
る。
【0049】前述したように、スズは主に第1スズ(+
2)状態で存在しなければならない。しかしながら、ス
ズの計算はSnO2 として報告するのが慣例であり、そ
の慣例をここでも採用する。このため、還元の程度に応
じて、酸化スズの値において約10パーセントまでの不一
致が生じるかもしれないことに留意されたい。
【0050】
【表1】
【0051】
【表2】
【0052】
【表3】
【0053】これらの組成に基づくガラスバッチは、容
易に得られる原材料から調製した。これらの原材料に
は、リン酸アンモニウム、酸化亜鉛およびスズ精鉱(S
nO)があげられる。所望であれば、酸化物を形成でき
る他の材料も使用できる。例えば、リン酸アンモニウム
は、リン酸(H3 PO4 )により全体を、または一部を
代替できる。また、ライトスズ(SnO2 )と糖、また
はピロリン酸第1スズ(Sn2 2 7 )は、酸化第1
スズ(SnO)の供給源として用いられる。
【0054】ガラスバッチをボールミル粉砕して、均質
な混合物を得て、次いで覆い付きシリカるつぼ中に装填
した。各バッチを900 °−1000℃の範囲の温度で2−4
時間に亘り溶融せしめた。この溶融物をスチールローラ
ーの間に注いで、フレークに冷却した。フレークを集積
し、約20ミクロンの平均粒径を有する粉末フリットにボ
ールミル粉砕した。バルクガラスで得られた、粘度また
は膨脹データのようなデータは、フリット挙動を予測す
るのにあまり適切ではないので、各組成はフリット形状
で評価した。
【0055】表IIは、結晶化を促進させることを意図
した様々な添加物を有する一連のSnO−ZnO−P2
5 ガラス組成を示す。表IIAはモルで組成を示し、
一方表IIBは重量部で同一の組成を示す。基礎成分
(SnO2 、P2 5 およびZnO)に関して示した含
有量は、合計が各組成においてほぼ100 になる。そのた
め、添加物は過剰分を構成する。
【0056】
【表4】
【0057】
【表5】
【0058】ガラスバッチを配合して混合し、上述した
ように溶融せしめた。このように調製したガラスを急冷
して破砕ガラスとし、これを粉砕して約20ミクロンサイ
ズのフリットとした。各フリットを型に入れ、乾燥プレ
スしてもとの直径が0.5 インチの流動ボタンを形成し
た。これらのボタンを耐火性の土台上に配し、450 ℃で
1時間の標準焼成スケジュールを施した。予備的なスク
リーニングの目的で、流動の程度を焼成ボタンの状態か
ら視覚により測定した。
【0059】さらに、各ガラスフリットの一部をバー状
にプレスして、ボタンと同様なスケジュールで焼成し
た。ボタンとバーの両方をXRDにより試験した。ほと
んどの場合、単一の未確認結晶相が、3.86オングストロ
ーム、2.99オングストロームおよび2.52オングストロー
ムでの主要XRDピークで得られた。これは、Sn−Z
nリン酸塩化合物であると同定されたが、その結晶型は
同定されなかった。観察したXRDピーク強度(カウン
ト/秒)は、表IIAのXRDピーク高さで示した。ピ
ーク強度の相対的な大きさにより、結晶化潜在能力の大
雑把な比較ができる。データが示すように、最大の潜在
能力、従って観察された結晶化度が最大であったのは、
実施例14のガラスであった。この実施例においては、ジ
ルコンとアルカリ金属酸化物が添加され、比較的低いP
2 5 含有量およびSnO/ZnO比が使用された。
【0060】図1は実施例18の焼成フリットのXRD分
析を示す。この図において、3つのピークが明確に示さ
れている。図2は、表IIの実施例15の基礎ガラスの焼
成フリットについての結果を示す。この結果にはピーク
がなく、この試料に結晶化がないということを示してい
る。この図において、1秒当たりのカウント数でX線の
強度を縦軸にプロットし、2θの角度の回折角度(銅の
照射)を横軸にプロットしている。
【0061】440 ℃での本発明のフリットの良好な流動
により、このフリットは、陰極線管製造のためのシーリ
ングフリットとしての使用に特に魅力的である。シーリ
ングされる陰極線管ガラス部材の線熱膨脹係数は、本発
明のシーリングフリットの示す値である95−115 ×10-7
/℃よりも低くてもよい。そのような場合、このこと
は、低膨脹のミル添加により改良される。
【0062】ミル添加物としての使用に特に有利な材料
は、β−石英固溶体である。この材料の結晶は、ゼロ近
傍のCTE値を示す。この材料の劇的な効果は、5重量
%と10重量%のミル添加物を、表Iの実施例1の組成を
有するガラスフリットに行った試験により分かる。この
添加により、104.2 ×10-7/℃の実際のCTEが、それ
ぞれ、95.8×10-7/℃と84.2×10-7/℃の効果的な値に
変化した。
【0063】この作業に使用したβ−石英固溶体の供給
源は、約20ミクロンの平均粒径を有する粒子からなるも
のであった。これらは、ビジョンR の商標でニューヨー
ク州、コーニング、コーニングインコーポレーテッドか
ら市販されているガラスセラミックの調理器具をボール
ミル粉砕したものから得た。米国特許第4,018,612 号
(チャン)にその組成が記載されているガラスセラミッ
ク材料は、90容積%以上が結晶質である。β−石英固溶
体は実質的に唯一の結晶相を構成する。
【0064】コージエライトやジルコンのような、シー
リングフリットの膨脹係数を低下させる、当業者に知ら
れた他のミル添加物を本発明のフリットに含ませること
もできる。しかしながら、所望の範囲に膨脹係数を低減
させるのには、それらの材料を約15−30%添加する必要
がある。この量は、フリットの流動に不利な影響を与え
る。したがって、本発明のフリットに使用可能なミル添
加物は、約15重量%を超えるような量の添加を必要とし
ないような、非常に小さい線熱膨脹係数を有するもので
ある。そのような材料としては、β−スポジュメン固溶
体、インバー合金(Invar alloy)(64%鉄/36%ニッ
ケル)、β−ユークリプタイト固溶体、溶融石英、およ
びビカーR ブランドの96%SiO2 ガラスが挙げられ
る。
【0065】ピロリン酸マグネシウムの結晶構造を有す
るピロリン酸塩結晶性物質が、米国特許第5,089,445 号
(フランシス)に、小さい熱膨脹係数を示すミル添加物
として記載されている。そこに開示されたピロリン酸塩
ミル添加物は、マグネシウム、アルミニウム、ヒ素、コ
バルト、鉄、亜鉛およびジルコニウムからなる群より選
択される少なくとも1つの陽イオンを含有する。
【0066】これらのピロリン酸塩物質はまた、本発明
のガラスの膨脹係数を効果的に下げることが分かった。
それらの材料は比較的少量の添加で、比較的小さい膨脹
材料と共に使用できるシーリング混合物を提供するの
で、特に望ましく用いられる。これらの添加物には、約
65×10-7/℃の熱膨張係数を有するアルミナ、35−55×
10-7/℃の膨脹係数を有するホウケイ酸塩ガラスおよび
40×10-7/℃の膨脹係数を有するシリコンがあげられ
る。
【0067】ミル添加物として用いられる場合、ピロリ
ン酸塩は、10ミクロンから25ミクロンの範囲の粒径を有
するべきである。10ミクロン未満では、効果的なCTE
の低下をもたらす反転が生じない。一方、25ミクロンよ
り大きい場合には、シール中に亀裂が生じる傾向があ
る。これは、粉末形状のインバー(Invar)を添加する
ことにより、ある程度緩和できる。
【0068】典型的な例は、アルミナにシールするシー
リング材料である。これは、10グラムの実施例1のガラ
スと、0.8 グラムのMg Co P2 7 および3.0 グ
ラムのインバー粉末を混合することにより調製できる。
シーリング材料を、アルミナの膨脹特性を有するガラス
に施した。この材料を430 ℃に加熱してガラスを溶融
し、シールを調製した。旋光計測定により、融解シール
とガラスとの間でガラスTgから室温への膨脹係数の整
合が示された。
【0069】以下、本発明の実施態様を項分け記載す
る。
【0070】(実施態様1) 鉛不含有のSnO−Zn
O−P2 5 ガラスであって、該ガラス組成が、酸化物
基準のモルパーセントで計算して、25−50%のP
2 5 、およびSnO:ZnOのモル比が1:1から
5:1の範囲にあるような量のSnOとZnOから実質
的になることを特徴とするリン酸塩ガラス。
【0071】(実施態様2) 前記ガラスの組成が追加
的に、5モルパーセントまでのSiO2 、20モルパーセ
ントまでのB2 3 および5モルパーセント%までのA
2 3 からなる群より選択される少なくとも1つの変
性酸化物(modifying oxide)(すなわち改質用酸化物)
を含有し、該変性酸化物の合計が20モルパーセントを超
えないことを特徴とする実施態様1記載のリン酸塩ガラ
ス。
【0072】(実施態様3) 前記P2 5 の含有量が
29−33モルパーセントであることを特徴とする実施態様
1記載のリン酸塩ガラス。
【0073】(実施態様4) 前記SnO:ZnOのモ
ル比が1.7 :1から2.3 :1の範囲にあることを特徴と
する実施態様1記載のリン酸塩ガラス。
【0074】(実施態様5) 前記ガラスの組成が追加
的に、1−5モルパーセントのジルコンおよび/または
ジルコニアおよび1−15モルパーセントのアルカリ金属
酸化物からなる群より選択される少なくとも1つの結晶
化促進剤を含有することを特徴とする実施態様1記載の
リン酸塩ガラス。
【0075】(実施態様6) 前記選択された結晶化促
進剤が1−5モルパーセントのジルコンであることを特
徴とする実施態様5記載のリン酸塩ガラス。
【0076】(実施態様7) 前記ガラスの組成が追加
的に、0.001 −0.1 モルパーセントの粉末白金を含有す
ることを特徴とする実施態様6記載のリン酸塩ガラス。
【0077】(実施態様8) 前記ガラスの組成が追加
的に、1−15モルパーセントのアルカリ金属酸化物を含
有することを特徴とする実施態様6記載のリン酸塩ガラ
ス。
【0078】(実施態様9) P2 5 、SnOおよび
ZnOからなることを特徴とする実施態様1記載のリン
酸塩ガラス。
【0079】(実施態様10) 5モルパーセントまで
のWO3 、5モルパーセントまでのMoO3 および0.10
モルパーセントまでのAg金属からなる群より選択され
るシール密着促進剤を含有することを特徴とする実施態
様1記載のリン酸塩ガラス。
【0080】(実施態様11) 活性成分として鉛不含
有のSnO−ZnO−P2 5 ガラスフリットを含有す
るシーリング材料であって、該ガラスフリットの組成
が、酸化物基準のモルパーセントで計算して、25−50%
のP2 5 およびSnO:ZnOのモル比が1:1から
5:1の範囲にあるような量のSnOとZnOから実質
的になることを特徴とするシーリング材料。
【0081】(実施態様12) 前記SnO−ZnO−
2 5 ガラスフリットがその組成中に追加的に、合計
の15パーセントまでの、1−5モルパーセントのジルコ
ンおよび/またはジルコニア、1−15モルパーセントの
アルカリ金属酸化物およびジルコンと0.001 −0.1 モル
パーセントの粉末白金との組合せからなる群より選択さ
れる少なくとも1つの結晶化促進剤を含有することを特
徴とする実施態様11記載のシーリング材料。
【0082】(実施態様13) 5モルパーセントまで
のWO3 、5モルパーセントまでのMoO3 および0.10
モルパーセントまでのAg金属からなる群より選択され
るシール密着促進剤を含有することを特徴とする実施態
様11記載のシーリング材料。
【0083】(実施態様14) 追加的に、融解シール
中のフリットの有効熱膨脹係数を下げる小さい熱膨張係
数を有するミル添加物を含有することを特徴とする実施
態様11記載のシーリング材料。
【0084】(実施態様15) 前記ミル添加物がβ石
英結晶性粒子からなることを特徴とする実施態様14記
載のシーリング材料。
【0085】(実施態様16) 前記ミル添加物が、M
g、Al、As、Co、Fe、ZnおよびZrからなる
群より選択される少なくとも1つの陽イオンを含有する
ピロリン酸塩結晶性物質の粒子からなることを特徴とす
る実施態様14記載のシーリング材料。
【0086】(実施態様17) 少なくとも2つの構成
部分からなる複合体物品であって、前記構成部分が、活
性成分としてSnO−ZnO−P2 5 シーリングガラ
スフリットを含有するシーリング材料の融解物である融
解シールにより接合され、そのガラスフリットの組成
が、酸化物基準のモルパーセントで計算して、25−50%
のP2 5 およびSnO:ZnOのモル比が1:1から
5:1の範囲にあるような量のSnOとZnOから実質
的になることを特徴とする物品。
【0087】(実施態様18) 前記シーリング材料が
追加的に、前記融解物品中の有効熱膨脹係数を下げる小
さい熱膨脹係数を有するミル添加物を含有することを特
徴とする実施態様17記載の物品。
【0088】(実施態様19) 前記融解シールが少な
くとも部分的に結晶化せしめられていることを特徴とす
る実施態様17記載の物品。
【0089】(実施態様20) 前記2つの構成部分が
陰極線管のファンネル部材とパネル部材であることを特
徴とする実施態様17記載の物品。
【0090】(実施態様21) 25−50%のP2 5
よびSnO:ZnOのモル比が1:1から5:1の範囲
にあるような量のSnOとZnOから実質的になり、1
−5モルパーセントのジルコンおよび/またはジルコニ
アおよび1−15モルパーセントのR2 Oからなる群より
選択される少なくとも1つの結晶化促進剤を含有するガ
ラスのバッチを配合し、混合し、溶融せしめ、その溶融
物からシーリングガラスフリットを生成し、該フリット
を含有するシーリング材料を形成し、該シーリング材料
をシーリング表面に施し、該表面にシールを形成するの
に十分な時間に亘り400 −450 ℃の範囲に加熱する各工
程からなる実施態様19記載の少なくとも部分的に結晶
化せしめられたシールを製造する方法。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の結晶化フリットを説明するX線強度の
グラフ
【図2】本発明における比較例としての未結晶化フリッ
トを説明するグラフ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マーガレット エドナ グリーン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14830 コーニング パイン ヒル ロ ード 3616 (72)発明者 ロバート マイケル モレーナ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 14848 ケイトン ブラウンタウン ロ ード 438

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 鉛不含有のSnO−ZnO−P2 5
    ラスであって、該ガラスの組成が、酸化物基準のモルパ
    ーセントで計算して、25−50%のP2 5 、およびSn
    O:ZnOのモル比が1:1から5:1の範囲にあるよ
    うな量のSnOとZnOから実質的になることを特徴と
    するリン酸塩ガラス。
  2. 【請求項2】 前記ガラスの組成がさらに、5モルパー
    セントまでのSiO2 、20モルパーセントまでのB2
    3 および5モルパーセントまでのAl2 3からなる群
    より選択される少なくとも1つの改質用酸化物を含有
    し、該改質用酸化物の合計が20モルパーセントを超えな
    いことを特徴とする請求項1記載のリン酸塩ガラス。
  3. 【請求項3】 前記ガラスの組成がさらに、(i) 1−5
    モルパーセントのジルコンおよび/またはジルコニア
    と、(ii)1−15モルパーセントのアルカリ金属酸化物
    と、(iii) ジルコンと0.001 −0.1 モルパーセントの粉
    末白金との組合せという、(i) 〜(iii) の構成要素から
    なる群より選択される少なくとも1つの結晶化促進剤を
    含有することを特徴とする請求項1記載のリン酸塩ガラ
    ス。
  4. 【請求項4】 5モルパーセントまでのWO3 、5モル
    パーセントまでのMoO3 および0.10モルパーセントま
    でのAg金属からなる群より選択されるシール密着促進
    剤を含有することを特徴とする請求項1記載のリン酸塩
    ガラス。
  5. 【請求項5】 鉛不含有のSnO−ZnO−P2 5
    ラスフリットを含有するシーリング材料であって、該ガ
    ラスフリットの組成が、酸化物基準のモルパーセントで
    計算して、25−50%のP2 5 、およびSnO:ZnO
    のモル比が1:1から5:1の範囲にあるような量のS
    nOとZnOから実質的になるものであることを特徴と
    するシーリング材料。
  6. 【請求項6】 融解シールの熱膨脹係数を減少させる低
    い熱膨張係数を有するミル添加物を含有することを特徴
    とする請求項5記載のシーリング材料。
  7. 【請求項7】 少なくとも2つの構成部分からなる複合
    体物品であって、前記構成部分が、SnO−ZnO−P
    2 5 シーリングガラスフリットを含有するシーリング
    材料の融解物である融解シールにより接合されており、
    そのガラスフリットの組成が、酸化物基準のモルパーセ
    ントで計算して、25−50%のP2 5、およびSnO:
    ZnOのモル比が1:1から5:1の範囲にあるような
    量のSnOとZnOから実質的になるものであることを
    特徴とする複合体物品。
JP5183636A 1992-08-03 1993-07-26 鉛不含有ガラスおよびそれを用いたシーリング材料 Expired - Fee Related JP2628007B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/924,107 US5246890A (en) 1992-08-03 1992-08-03 Non-lead sealing glasses
US924107 1992-08-03

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06183775A JPH06183775A (ja) 1994-07-05
JP2628007B2 true JP2628007B2 (ja) 1997-07-09

Family

ID=25449715

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5183636A Expired - Fee Related JP2628007B2 (ja) 1992-08-03 1993-07-26 鉛不含有ガラスおよびそれを用いたシーリング材料

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5246890A (ja)
EP (1) EP0582113B1 (ja)
JP (1) JP2628007B2 (ja)
KR (1) KR970000898B1 (ja)
CN (1) CN1087883A (ja)
DE (1) DE69315498T2 (ja)
MX (1) MX9304662A (ja)
MY (1) MY107786A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012046408A (ja) * 2010-07-28 2012-03-08 Nippon Electric Glass Co Ltd 封止用ガラス

Families Citing this family (66)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5281560A (en) * 1993-06-21 1994-01-25 Corning Incorporated Non-lead sealing glasses
US5516733A (en) * 1994-03-31 1996-05-14 Corning Incorporated Fusion seal and sealing mixtures
CA2143692A1 (en) * 1994-03-31 1995-10-01 Robert M. Morena Fusion seal, sealing materials and use in crt
US5514629A (en) * 1994-12-09 1996-05-07 Corning Incorporated Fusion sealing materials and use in CRT
US5510301A (en) 1994-10-24 1996-04-23 Fink; Kimberly S. Sealing frit pastes
WO1997030949A1 (en) * 1996-02-21 1997-08-28 Corning Incorporated Fusion seal and sealing mixtures
KR19990087342A (ko) 1996-02-27 1999-12-27 알프레드 엘. 미첼슨 밀봉 유리 현탁액
US5926599A (en) * 1996-06-13 1999-07-20 Corning Incorporated Optical device and fusion seal
US5721802A (en) * 1996-06-13 1998-02-24 Corning Incorporated Optical device and fusion seal
JPH11283537A (ja) * 1998-03-27 1999-10-15 Futaba Corp 蛍光表示管
JP3845853B2 (ja) * 1998-04-06 2006-11-15 日本電気硝子株式会社 ホウリン酸スズ系ガラス及び封着材料
KR100256970B1 (ko) * 1998-05-28 2000-05-15 구자홍 봉착유리 조성물
JP4154790B2 (ja) * 1998-06-19 2008-09-24 旭硝子株式会社 低融点ガラスの用途
DE19843419A1 (de) * 1998-09-22 2000-03-23 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Entladungslampe mit dielektrisch behinderten Elektroden
CA2349422A1 (en) 1998-11-06 2000-05-18 Corning Incorporated Athermal optical waveguide grating device
JP4013012B2 (ja) * 1998-12-01 2007-11-28 日本電気硝子株式会社 ホウリン酸スズ系ガラス及び封着材料
US6355586B1 (en) * 1999-02-25 2002-03-12 Asahi Glass Company, Limited Low melting point glass and glass ceramic composition
US6218005B1 (en) 1999-04-01 2001-04-17 3M Innovative Properties Company Tapes for heat sealing substrates
JP4474724B2 (ja) * 1999-05-24 2010-06-09 株式会社デンソー 無鉛釉薬及びスパークプラグ
US6514891B1 (en) * 1999-07-14 2003-02-04 Lg Electronics Inc. Thick dielectric composition for solid state display
DE19935707C2 (de) * 1999-07-29 2003-03-20 Schott Glas Glaspulver und dessen Verwendung
US6652972B1 (en) * 1999-11-01 2003-11-25 Schott Glass Technologies Inc. Low temperature joining of phosphate glass
US6882782B2 (en) * 2000-11-01 2005-04-19 Schott Glas Photonic devices for optical and optoelectronic information processing
US6737375B2 (en) 2000-12-21 2004-05-18 Corning Incorporated Phosphate sealing frits with improved H2O durability
JP4765187B2 (ja) * 2001-03-30 2011-09-07 日本電気硝子株式会社 封着材料
US6520689B2 (en) 2001-07-17 2003-02-18 Corning Incorporated Optical fiber splicing method and device
JP3748533B2 (ja) * 2001-11-15 2006-02-22 旭テクノグラス株式会社 低融点ガラス及びその製造方法
JP4261861B2 (ja) * 2002-09-30 2009-04-30 双葉電子工業株式会社 蛍光表示管用封着材及び蛍光表示管
GB0227843D0 (en) 2002-11-29 2003-01-08 Johnson Matthey Plc Glass composition
JP4299021B2 (ja) * 2003-02-19 2009-07-22 ヤマト電子株式会社 封着加工材及び封着加工用ペースト
CN100339324C (zh) * 2004-03-25 2007-09-26 杜建刚 结晶型有排玻盖的封接方法
JP4596358B2 (ja) * 2004-05-11 2010-12-08 日本電気硝子株式会社 封止用ガラス
US6989340B2 (en) * 2004-05-11 2006-01-24 Tokan Material Technology Co., Ltd. Lead-free low softening point glass
JP4529173B2 (ja) * 2004-06-11 2010-08-25 日本電気硝子株式会社 封止用ガラスおよび封止方法
JP4556544B2 (ja) * 2004-08-10 2010-10-06 日本電気硝子株式会社 封止用ガラス
US7435695B2 (en) * 2004-12-09 2008-10-14 B.G. Negev Technologies And Applications Ltd. Lead-free phosphate glasses
US7888870B2 (en) * 2004-12-16 2011-02-15 Panasonic Corporation Plasma display panel, method of producing the same, and sealing member
KR100647307B1 (ko) * 2004-12-23 2006-11-23 삼성에스디아이 주식회사 양성자 전도체와 이를 이용한 전기화학장치
US20060231737A1 (en) * 2005-04-15 2006-10-19 Asahi Glass Company, Limited Light emitting diode element
US8814861B2 (en) 2005-05-12 2014-08-26 Innovatech, Llc Electrosurgical electrode and method of manufacturing same
US7147634B2 (en) 2005-05-12 2006-12-12 Orion Industries, Ltd. Electrosurgical electrode and method of manufacturing same
US20080206589A1 (en) * 2007-02-28 2008-08-28 Bruce Gardiner Aitken Low tempertature sintering using Sn2+ containing inorganic materials to hermetically seal a device
KR100760501B1 (ko) * 2006-04-07 2007-10-04 요업기술원 금속산화물을 포함한 디스플레이용 피비오-프리 유리프릿의저온용융방법
US7439201B2 (en) * 2006-08-29 2008-10-21 Corning Incorporation Lead-free frits for plasma displays and other glass devices utilizing glass sealing materials
US7615506B2 (en) * 2006-10-06 2009-11-10 Corning Incorporated Durable tungsten-doped tin-fluorophosphate glasses
EP2151872A4 (en) * 2007-05-30 2012-12-05 Asahi Glass Co Ltd Glass for covering an optical device, glass-sheathed light-emitting element and glass-sheathed light-emitting device
JP2008300536A (ja) * 2007-05-30 2008-12-11 Asahi Glass Co Ltd ガラス被覆発光素子及びガラス被覆発光装置
KR100880373B1 (ko) * 2007-07-06 2009-01-28 주식회사 케이디엘 평판 디스플레이 소자의 디스펜스 도포 방식 적용 프릿일체형 배기관용 프릿 페이스트 조성물 및 프릿 일체형배기관의 제조방법
CN101234852B (zh) * 2008-01-16 2011-05-11 中南大学 0.3~5μm波段红外透过耐高温玻璃陶瓷材料及制备方法
CN101298365B (zh) * 2008-04-17 2011-04-27 东华大学 电子器件钝化封装改性锌硼硅铅系玻璃粉的制备和应用
US20100095705A1 (en) 2008-10-20 2010-04-22 Burkhalter Robert S Method for forming a dry glass-based frit
CN102292301B (zh) * 2009-01-26 2013-12-25 旭硝子株式会社 有机led元件的散射层用玻璃及有机led元件
EP2383236B1 (en) * 2009-01-26 2018-04-18 Asahi Glass Company, Limited Glass composition and member having the same on substrate
US8084380B2 (en) * 2009-02-27 2011-12-27 Corning Incorporated Transition metal doped Sn phosphate glass
US8536787B2 (en) 2010-04-19 2013-09-17 Panasonic Corporation Glass composition, light source device and illumination device
CN102803170A (zh) * 2010-04-19 2012-11-28 松下电器产业株式会社 玻璃组合物、光源装置以及照明装置
CN101857363A (zh) * 2010-06-18 2010-10-13 华东理工大学 一种白光玻璃及其制备方法
CN103025677A (zh) * 2010-07-28 2013-04-03 日本电气硝子株式会社 密封用玻璃以及密封用复合材料
CN103177791B (zh) * 2011-12-23 2015-12-09 比亚迪股份有限公司 一种太阳能电池用铝导电浆料及其制备方法
WO2014035954A2 (en) 2012-08-30 2014-03-06 Corning Incorporated Antimony-free glass, antimony-free frit and a glass package that is hermetically sealed with the frit
JP2016108164A (ja) * 2014-12-03 2016-06-20 日本電気硝子株式会社 封着用ガラス及び封着材料
CN107008984B (zh) * 2017-03-28 2020-02-07 江苏大学 一种用于电子封装复合材料的表面金属化及钎焊方法
US11351756B2 (en) * 2017-12-15 2022-06-07 Corning Incorporated Laminate glass ceramic articles with UV-and NIR-blocking characteristics and methods of making the same
WO2020013980A1 (en) 2018-07-09 2020-01-16 Corning Incorporated Organic-inorganic composites and methods of manufacturing thereof
CN109666315A (zh) * 2018-12-11 2019-04-23 东旭科技集团有限公司 涂层组合物、涂料、涂层以及铂金通道的保护方法
JP2022131300A (ja) * 2021-02-26 2022-09-07 日本碍子株式会社 排ガス処理装置用筒状部材および該筒状部材を用いた排ガス処理装置、ならびに該筒状部材に用いられる絶縁層

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02116642A (ja) * 1988-10-17 1990-05-01 Corning Inc 亜鉛含有リン酸塩ガラス

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2400147A (en) * 1942-07-17 1946-05-14 Corning Glass Works Fluorescent glass composition
US3407091A (en) * 1964-06-05 1968-10-22 Owens Illinois Inc Method for sealing glass to metal and seal produced thereby
US4314031A (en) * 1980-06-17 1982-02-02 Corning Glass Works Tin-phosphorus oxyfluoride glasses
US4940677A (en) * 1988-10-17 1990-07-10 Corning Incorporated Zinc-containing phosphate glasses
US4874724A (en) * 1988-10-17 1989-10-17 Corning Incorporated Alkali zinc aluminophosphate glass-ceramics
US4996172A (en) * 1989-06-29 1991-02-26 Corning Incorporated Rare earth-containing zinc phosphate glasses
US5089446A (en) * 1990-10-09 1992-02-18 Corning Incorporated Sealing materials and glasses
US5089445A (en) * 1990-10-09 1992-02-18 Corning Incorporated Fusion sealing materials
US5022921A (en) * 1990-10-19 1991-06-11 Corning Incorporated Phosphate glasses for glass molds
US5021366A (en) * 1990-10-19 1991-06-04 Corning Incorporated Fluorine-free phosphate glasses
US5071795A (en) * 1991-01-09 1991-12-10 Corning Incorporated Alkali zinc halophosphate glasses
US5122484A (en) * 1991-05-23 1992-06-16 Corning Incorporated Zinc phosphate low temperature glasses

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02116642A (ja) * 1988-10-17 1990-05-01 Corning Inc 亜鉛含有リン酸塩ガラス

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012046408A (ja) * 2010-07-28 2012-03-08 Nippon Electric Glass Co Ltd 封止用ガラス

Also Published As

Publication number Publication date
DE69315498T2 (de) 1998-04-02
MY107786A (en) 1996-06-15
EP0582113B1 (en) 1997-12-03
CN1087883A (zh) 1994-06-15
US5246890A (en) 1993-09-21
EP0582113A1 (en) 1994-02-09
MX9304662A (es) 1994-02-28
KR970000898B1 (ko) 1997-01-21
JPH06183775A (ja) 1994-07-05
DE69315498D1 (de) 1998-01-15
KR940003876A (ko) 1994-03-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2628007B2 (ja) 鉛不含有ガラスおよびそれを用いたシーリング材料
US5122484A (en) Zinc phosphate low temperature glasses
CA2122459C (en) Non-lead sealing glasses
JP3306809B2 (ja) ガラスのミル添加物およびそれを含む融着シール材料
US5326591A (en) Bismuth-containing lead-free glass enamels and glazes of low silica content
JPH11292564A (ja) ホウリン酸スズ系ガラス及び封着材料
JPH0585490B2 (ja)
JP2003192378A (ja) 封着加工用無鉛低融点ガラス
JP3275182B2 (ja) シーリング材料およびそれに用いられるミル添加物
JP4874492B2 (ja) ガラス組成物及び該組成物を含むガラス形成材料
JP2003146691A (ja) 低融点ガラス及びその製造方法
US6048811A (en) Fusion seal and sealing mixtures
JP3098307B2 (ja) 無毒性ガラスフリット、及びガラス、ガラスセラミック及びセラミックからなる製品の釉掛け及び装飾方法
EP0055052B1 (en) Thermally devitrifiable sealing glasses and method of sealing using such glasses
JPS6132272B2 (ja)
JP3628045B2 (ja) 結晶性シーラントガラス及びそれを使用した情報表示装置の製造方法
JPH0769670A (ja) 封着用ガラス材料
JPS6354660B2 (ja)
JPS59131542A (ja) 封着用組成物
JPH0450133A (ja) 鉛溶出の少ないクリスタルガラス食器
JP3026785B2 (ja) ガラス組成物
JPH07187705A (ja) 鉛およびカドミウムを含有しないガラスフリット組成物、その製造法、ならびに該ガラスフリット組成物からなる、ガラス、陶磁器およびセラミックのための装飾用琺瑯
JPH0458422B2 (ja)
JP2000239042A (ja) Crt用フリット
JPH0432010B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19961015

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090418

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090418

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100418

Year of fee payment: 13

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees