JPH0757318B2 - 芳香族炭化水素の気相接触酸化用流動触媒およびその製造方法 - Google Patents

芳香族炭化水素の気相接触酸化用流動触媒およびその製造方法

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JPH0757318B2
JPH0757318B2 JP2077233A JP7723390A JPH0757318B2 JP H0757318 B2 JPH0757318 B2 JP H0757318B2 JP 2077233 A JP2077233 A JP 2077233A JP 7723390 A JP7723390 A JP 7723390A JP H0757318 B2 JPH0757318 B2 JP H0757318B2
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Description

【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、芳香族カルボン酸無水物の製造に際して、よ
り詳しくは炭化水素原料、特にｏ−キシレンまたはナフ
タレンを気相接触酸化して無水フタル酸を製造する際に
用いる流動触媒およびその製造方法に関する。
＜従来の技術＞ 芳香族カルボン酸無水物は、炭化水素原料の気相接触酸
化により製造され、特にｏ−キシレンまたナフタレンの
気相接触酸化による無水フタル酸の製造を挙げることが
できる。
従来、固定床でｏ−キシレンを気相酸化して無水フタル
酸を製造する際に用いる触媒としては、アランダム、シ
リコンカーバイド、石英、軽石、α−アルミナなどの不
活性担体に、五酸化バナジウムと酸化チタン（アナター
ゼ型）を、または五酸化バナジウムと酸化テルル、酸化
モリブデン、酸化ダングステン、酸化ニッケル、酸化ニ
オブ、酸化スズ、酸化クロムなどの活性金属酸化物を、
さらにはカリウム、リチウム、ナトリウムなどのアルカ
リ金属塩を担持した触媒が発表されている（たとえば多
羅間公雄監修、反応別実用触媒、P.358（1970）、化学
工業社）。
固定床では、酸化反応における高い発熱を除去するため
に、約１インチの小さな径のパイプ状反応管に触媒を均
一充填し、外部に冷却のための熱媒体を用いて除熱する
方法が採用されているが、数千本の反応管１本毎に触媒
を均一に充填する労力・費用は膨大であるとともに、各
反応管の圧力損失、温度を一定に保つための設備費、運
転管理の負担が大きい。また、劣化後の触媒交換に要す
る費用、労力も大である。
さらに、前記のように不活性担体に活性成分をコーティ
ングした触媒では、充填や運転時の活性成分の剥離・離
脱にともなう反応ガスの偏流やホット・スポットの発生
あるいは圧力損失の増加などによる反応の暴走が起こる
危険性がある。加えて、固定床では、濃度を反応ガスの
爆発限界内に保持せねばならないため、低濃度でのガス
供給が求められ、よって生産性に劣る。
これらの問題を解決するためには、流動床を用いること
が好ましい。
流動床によれば、除熱が容易であり、偏流やホット・ス
ポットの発生を抑制できるばかりでなく、触媒の交換、
補充など、いずれをとっても固定床にくらべ大幅に有利
である。さらに、反応物濃度を高めることが可能であ
り、生産性の面からも大きな利点を有する。
ｏ−キシレンを気相酸化して無水フタル酸を製造する際
に用いる流動触媒としては、ナフタレンを原料とする場
合と同じく、シリカを担体とし、五酸化バナジウム、硫
酸カリウムを、さらには酸化モリブデン、酸化ダングス
テン、酸化リン、酸化ホウ素などを担持させた触媒が提
案されている（たとえばB.P.,941293（1963）;U.S.P.,3
232955（1966））。しかし、シリカを担体とした前記触
媒を用いると、COやCO2を生成する過剰酸化反応や副反
応のために、高収率で無水フタル酸を得ることは困難で
あり、収率を向上させるために、反応ガス中にBr2のよ
うなハロゲンガスを混合する試みも行なわれているが、
ハロゲンガスを用いると、腐食による装置トラブルが起
こる（D.P.,1144709（1963）;U.S.P.,3455962（196
9））。
酸化チタンを担体として用い、これに五酸化バナジウム
を担持させた触媒も数多く提案されており（たとえばB.
P.,1067726（1967）;Fr.P.,1537351（1968））、アンモ
ニウムチオシアネートやアルカリ化合物と共に溶融体を
形成させることにより、強度のある触媒を得ているが、
これらの方法で得られる触媒は、溶融体の形成により、
比表面積は低下し、細孔容積は減少しているので、活性
が著しく低く、従って高い反応温度を必要とし、その結
果、過剰酸化や副反応を併発させるので、この方法で得
られる触媒を用い、収率よく無水フタル酸を得ることは
困難である。
また、溶融体の形成は、酸化チタンの高い比重とも重な
って、かさ比重の著しく大きい触媒しか与えず、それら
の触媒を用いて、効率のよい流動床反応を行なうことは
困難である。
これらの理由により、流動床を用いたｏ−キシレンの気
相酸化による無水フタル酸の製造は、実用化に至ってい
ない。
＜発明が解決しようとする課題＞ 本発明は、前述のように、ｏ−キシレンまたはナフタレ
ンを気相接触酸化して無水フタル酸を製造する反応にお
いて、固定床に比し格段に有利な流動床に用いる触媒お
よびその製造方法を提供することを目的とし、詳しく
は、酸化チタン、シリカおよび酸化ホウ素を担体とし、
十分な強度と適度な嵩密度を有する高活性・高選択性の
流動床用接触およびその製造方法を提供することを目的
としている。
＜課題を解決するための手段＞ 本発明者らは、酸化チタンを主成分とする無水フタル酸
製造用流動触媒について鋭意研究の結果、本発明を成す
に至った。
即ち、本発明に係る芳香族炭化水素の気相接触酸化用流
動触媒は、 （Ａ）酸化チタン、シリカおよび酸化ホウ素からなるＡ
成分と、 （Ｂ）酸化バナジウム、アルカリ金属酸化物および硫酸
からなるＢ成分 からなり、 Ａ成分＝50〜95重量％ Ｂ成分＝５〜50重量％ の範囲で、かつＡ成分は B2O3/TiO2＝0.02〜0.5重量比 SiO2/TiO2＝0.25〜1.0重量比 の範囲にあることを特徴とする。
触媒中のＡ成分が50重量％より小さい場合は、流動床触
媒としての所望の嵩比重を有する触媒が得られず、また
触媒の活性が低下するので望ましくない。また、触媒中
のＡ成分が95重量％より大きい場合は、活性成分である
Ｂ成分の量が少なくなるため所望の活性が得られない。
好ましい触媒中のＡ成分の量は、60〜90重量％の範囲に
ある。
さらにＡ成分は、B2O3/TiO2の重量比が0.02〜0.5の範囲
にあり、SiO2/TiO2の重量比が0.25〜1.0の範囲にあるこ
とが必要である。
B2O3/TiO2の重量比が0.02よりも小さい場合は、触媒の
耐摩耗性に対する酸化ホウ素の添加効果が現われず、さ
らに触媒の選択性に対しても効果が発現しない。また、
該重量比が0.5よりも大きい場合は、耐摩耗性に対する
効果は良いが、触媒の活性が著しく低下するので好まし
くない。
また、SiO2/TiO2の重量比が0.25よりも小さい場合は、
得られる触媒の嵩比重が大きくなり、流動床用触媒に適
する所望の触媒が得られない。該重量比が1.0より大き
い場合は、得られる触媒の比表面積が高くなり、触媒の
選択性が低下するので好ましくない。
触媒中の活性成分であるＢ成分は、（V2O5＋M2O（Ｍは
アルカリ金属）＋SO3）として５〜50重量％、好ましく
は10〜40重量％の範囲にある。
触媒中のＢ成分の含有量が５重量％未満では、十分な活
性が得られず、50重量％より大きい場合は得られる触媒
の比表面積が著しく低下し、活性成分の分散状態が不良
化し、結晶析出を生ずるなどにより、触媒活性のみなら
ず流動性も低下するので好ましくない。
また、Ｂ成分のうちのバナジウム化合物は、得られる触
媒中に（V2O5）として１〜30重量％、好ましくは１〜15
重量％含有することが望ましい。
さらに、Ｂ成分のうちの（SO3/M2O（モル比））は、0.1
〜6.0、好ましくは1.0〜4.0、また（M2O/V2O5（モル
比））は、0.1〜5.0、好ましくは0.3〜3.0の範囲にある
のが望ましい。
なお、本発明に係る気相接触酸化用流動触媒は、Ａ成
分、Ｂ成分の外に稀土類などの第３成分を含有すること
もできる。
また、他の本発明に係る製造方法は、前述の芳香族炭化
水素の気相接触酸化用流動触媒を製造するに際し、酸化
チタン源として、300℃で乾燥すると結晶子径が300Å以
下の酸化チタンを生成する水酸化チタンを用いることを
特徴とする。
即ち、上記目的を達成するために本発明によれば、酸化
チタン源、シリカ源、バナジウム化合物、アルカリ金属
化合物、硫酸化合物およびホウ素化合物を混合したの
ち、噴霧乾燥し、焼成することにより酸化チタン、シリ
カ、酸化バナジウム、アルカリ金属酸化物、硫酸、酸化
ホウ素を主成分とする流動触媒を製造するに際し、前記
酸化チタン源として、300℃で乾燥すると結晶子径が300
Å以下の酸化チタンを生成する水酸化チタンを用いるこ
とを特徴とする芳香族炭化水素の気相接触酸化用流動触
媒の製造方法が提供される。
以下に本発明をさらに詳細に説明する。
本発明の製造方法に用いる原料は、酸化チタン源、シリ
カ源、バナジウム化合物、アルカリ金属化合物、硫酸化
合物およびホウ素化合物を含む水溶液または懸濁液であ
る。
本発明に用いられる酸化チタン源は、300℃で乾燥した
ときに結晶子径が300Å以下の酸化チタンを生成する水
酸化チタンであることが望ましい。本発明で規定する結
晶子径は、デバイ−シェラー法に基づき、Ｘ線回折図の
２θ＝25.3゜（CuKαアナターゼ型酸化チタン）におけ
る回折ピークの半値幅より、次式で求められる値であ
る。
結晶子径が300Å超の酸化チタンを含有する触媒は、300
Å以下の酸化チタンを含有する触媒に比較して、耐摩耗
性が著しく低く、流動床に用いる場合、触媒の流出・飛
散が大きく、非経済的であると同時に、サイクロン、熱
交換器の閉鎖トラブルの原因となる。また、反応生成物
中への多量の触媒の混入を惹起し、加えて、良好な流動
状態を保つことが困難となる。さらに、結晶子径が300
Å超の酸化チタンを含有する触媒では、酸化チタンの比
表面積が小さいために、活性成分の均一、かつ十分な担
持が達成されず、触媒活性が著しく低くなるので、接触
時間の長い流動床でも、十分な無水フタル酸収率が得ら
れない。
ここで、本発明に用いられる「300℃で乾燥したときに
結晶子径が300Å以下の酸化チタンを生成する水酸化チ
タン」とは、水酸化チタン、メタチタン酸、オルソチタ
ン酸、チタニアゾル、チタニアゲルなどと呼称される湿
潤した状態（水を含んだ状態）にあるもののみではな
く、それらを低温で乾燥することによって得られる粉末
をも含む。
本発明に用いられる酸化チタン源（水酸化チタン）は、
300℃で乾燥された粉末中の酸化チタンの結晶子径が300
Å以下、好ましくは200Å以下であれば、それを得るた
めの原料および調整法は問わない。
これらの酸化チタン源（水酸化チタン）としては、顔料
酸化チタンを製造する中間工程で得られる熱加水分解法
によるチタン酸や、これに酸を加えて得られるチタニア
ゾルなどが挙げられる。さらに、硫酸チタン、硫酸チタ
ニル、四塩化チタンなどを中和加水分解したり、イオン
交換法により脱酸加水分解して得られる水酸化チタンや
チタニアゾルなどが挙げられる。
特に、硫酸チタニルなどの溶液を40℃以下の低温で中和
加水分解することによって得られる水酸化チタンは、乾
燥後、数10Åの結晶子径を示し、好適である。
本発明に用いられない乾燥後の結晶子径が300Å超の酸
化チタンの例としては、すでに構成工程を経た熱加水分
解法のアナターゼ、ルチル型などの顔料酸化チタン、中
和やイオン交換により得られる水酸化チタンやゾルの焼
成粉末、加水分解時または水酸化チタン型をオートクレ
ーブなどにより結晶成長させた水酸化チタンなどが挙げ
られる。
本発明では、シリカ源は軽質化剤（低嵩比重化剤）およ
びバインダーとして用いられる。
本発明に用いられるシリカ源としては、溶液やシリカゾ
ルなど分散性の良い原料が望ましい。例えば、ケイ酸ソ
ーダやケイ酸カリウムを中和したり、陽イオン交換して
得られるケイ酸やエチルシリケートのような有機ケイ素
化合物およびその酸性加水分解物、第４級アンモニウム
シリケートおよびその酸性加水分解物、コロイダルシリ
カなどが望ましい。
特に、高濃度で長時間安定なコロイダルシリカは好適で
あり、このうち安定化剤としてナトリウムを含むもの
は、予め陽イオン交換や限外濾過などの手段でナトリウ
ムを除去して用いるのが好ましい。コロイダルシリカの
うち、その粒子径が50mμ以上のものは軽質化には有効
であるが、バインダー力に劣るので好ましくない。シリ
カ源としてゲル状のもの、例えばケイ酸ソーダを中和し
て得られるヒドロゲルや、ゲル状粉末であるホワイトカ
ーボンやアエロジルなどは分散が悪く、バインダー力に
劣るばかりか、同時に加えるホウ素化合物（酸化ホウ
素）の効果を減少させるのでは好ましくない。
本発明に用いられるバナジウム化合物は、水に可溶であ
り、空気中焼成により酸化バナジウムを生成するもの、
例えばメタバナジン酸アンモニウム、硫酸バナジル（オ
キシ硫酸バナジウム）、ギ酸バナジウム、酢酸バナジウ
ム、シュウ酸バナジル、シュウ酸バナジウムアンモニウ
ム、リン酸バナジル、オキシハロゲン化バナジウムなど
である。これらのうちで硫酸バナジル、メタバナジン酸
アンモニウム、シュウ酸バナジル等を用いることが好ま
しい。
また本発明に用いられるアルカリ金属化合物としては、
カリウム、セシウム、ルビジウム等の水酸化物、硫酸
塩、炭酸塩、塩化物、硝酸塩、オキシハロゲン化物、チ
オ硫酸塩、亜硝酸塩、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、硫酸水
素塩、シュウ酸塩、シュウ酸水素塩等が挙げられる。こ
れらのうちで、水酸化物、硫酸塩、端酸塩等を用いるこ
とが好ましい。
硫酸化合物としては、硫酸、硫酸アンモニウム、硫酸水
素アンモニウム等が挙げられる。
これらのうちで、硫酸、硫酸アンモニウム等を用いるこ
とが好ましい。
本発明では、バナジウム化合物、アルカリ金属化合物、
硫酸化合物は活性成分として用いられている。
本発明に用いられるホウ素化合物は、酸化ホウ素、ホウ
酸、四ホウ酸カリウム、五ホウ酸カリウム、メタホウ酸
カリウム、メタホウ酸アンモニウム、四ホウ酸アンモニ
ウムなど可溶性化合物が用いられるが、比較的溶解度の
大きいホウ酸、メタホウ酸アンモニウム等が好適であ
る。ホウ素化合物（酸化ホウ素）は、触媒強度（耐摩耗
性）を著しく向上させるばかりでなく、反応選択性を向
上させる効果を有する。
即ち、活性成分と、酸化チタン源として300℃で乾燥し
たときに、結晶子径が300Å以下の酸化チタンを生成す
る水酸化チタンを用いて製造された触媒も活性、選択
性、耐摩耗性に優れるが、本発明においてはホウ素化合
物を用いることにより、特に触媒焼成時に酸化チタンの
結晶化が促進されるにもかかわらず触媒強度が向上し、
かつ反応選択性の向上が達成される。
本発明の触媒の製造方法は、前記各成分の原料を混合
し、噴霧乾燥、焼成する工程を含む。各成分の混合順序
は任意でよく、２種以上の原料を同時に溶解する方法、
水酸チタンの分散液に活性成分を溶解する方法等も採用
できる。
また酸化チタン源として、結晶子径が300Å以下の酸化
チタンを生成する水酸化チタンを、結晶子径が300Å超
の酸化チタンを生成するもの等の他のチタン化合物と混
合して使用することも可能である。
上記のようにして得られた混合スラリーを必要に応じて
濃縮し、適当な濃度に調整したのち、噴霧乾燥により球
状微小粒子を得ることができる。噴霧乾燥方法として
は、公知の方法が採用可能である。噴霧に当っては、得
られる球状微小粒子の重量平均粒子径が、40〜150μｍ
となるように噴霧条件を設定するのが好ましい。得られ
た球状粒子は、空気中で、好ましくは300〜700℃、より
好ましくは400〜600℃の温度で、好ましくは１〜６時
間、より好ましくは２〜４時間焼成する。
以上のような本発明の製造方法により、下記にような性
状の触媒が得られる。
嵩比重（g/ml）:0.5〜1.3 比表面積（m2/g）:5〜60 細孔容積（ml/g）:0.1〜0.6 摩耗率（wt％/15Hr）:5以下 重量平均粒子径（μｍ）:40〜150 本発明で得られる触媒は、芳香族炭化水素を気相接触酸
化して対応する無水カルボン酸を得るために使用でき
る。適切な芳香族炭化水素の代表例としては、ベンゼ
ン、キシレン、クメン、プソイドクメン、デュレン、お
よびそれらの混合物を包含する。かくして本発明で得ら
れる触媒は、ベンゼンを無水マレイン酸に；プソイドク
メンを無水トリメリット酸に；デュレンを無水ピロメリ
ット酸に；並びにｏ−キシレンおよびナフタレンを無水
フタル酸に転化するのに使用できる。
本発明の触媒を用いて無水フタル酸を製造するための好
ましい炭化水素供給源は、ｏ−キシレン、より好ましく
は少くとも、10モル％以上のｏ−キシレンを含む芳香族
留分である。
それ故、下記の例示においては、ｏ−キシレンが無水フ
タル酸製造用として、本発明の方法によって得られた触
媒の使用を説明する主要例（但し、これに限定されるも
のではない）において使用される（例えば、ナフタレン
もまた無水フタル酸製造用炭化水素供給源として使用し
うる。） ｏ−キシレンあるいはナフタレンの無水フタル酸への酸
化において、酸素の供給源としては空気が全体的に好ま
しいが、酸素と、窒素・炭酸ガスなどの希釈ガスとの合
成混合物もまた使用できる。酸素に富んだ空気も使用で
きる。
該酸素含有ガス供給源（例えば空気）は、それが反応器
に導入される前に、好ましくは予備加熱（例えば100〜3
00℃）される。
該反応は、大気圧、大気圧以上、または大気圧以下でも
実施できる。一般には、0.5〜3.0気圧が好適である。
＜実施例＞ 以下に本発明を実施例に基づき具体的に説明する。
下記実施例は、特許請求の範囲に記載の発明の特定の説
明を与えるものであるが、本発明は実施例に記載された
特定の詳細事項に限定されるものではない。
（実施例１、比較例１および２） TiO2として５重量％を含む硫酸チタニル水溶液600kgを1
2℃に冷却したのち、よく攪拌しながら15重量％アンモ
ニア水140kgを10分程度で注加して中和し、水酸化チタ
ンのゲルを得た。このゲルのpHは8.5、温度は25℃であ
った。
このゲルのスラリー20kgを採り、平板式フィルターによ
り減圧脱水して得られたケーキ状ゲルに、さらに300
の純水を徐々に注ぎ、中和により生成した硫酸アンモニ
ウムを除去した。得られた水酸化チタンゲル中のTiO2濃
度は11.8重量％であった。
このゲルの一部を採り、300℃で乾燥して得られた粉末
のＸ線回折図の２θ＝25.3゜における回折ピークより求
めたアナターゼ型酸化チタンの結晶子径は、51Åであっ
た。
前記平板式フィルターでの洗浄をくり返して得られたTi
O2濃度11.8重量％のゲル100kgを採り、よく攪拌しなが
ら純水140kgを加えて、TiO2濃度5.0重量％のスラリーと
した。
平均粒径が5nmから成るシリカゾル（カタロイド SI−5
50、触媒化成工業（株）製、性状は表１に示す）を予め
陽イオン交換樹脂層を通過させ、脱Naシリカゾル200kg
を得た。脱NaシリカゾルのSiO2濃度は10.3重量％で、Na
2O/SiO2重量比は0.002であった。
スチームジャケット付の600ステンレス製槽に、先に
調整した5.0重量％のTiO2ゲルスラリーの全量の入れ、
攪拌しながら前記脱Naシリカゾル97.5kg、V2O5濃度が1
9.3重量％の硫酸バナジル水溶液7.82kg、Cs2SO4濃度が5
0.0重量％から成る硫酸セシウム水溶液2.36kgを順次添
加した。次いで、硫酸アンモニウム結晶0.97kgを加え、
最後に予め調整したホウ酸水溶液（H3BO3濃度として2.8
重量％）80kgをこれに加えた。この時のpHは2.5であっ
た。
得られたスラリーを十分に攪拌しながら加熱して水分を
蒸発させ、（TiO2＋SiO2＋V2O5＋Cs2SO4＋SO3＋B2O3）
として、20重量％の濃度まで濃縮した。このスラリーを
ホモジナイザーによりよく分散したのち、ディスク式ス
プレードライヤーにて噴霧乾燥して得た粉末を、150℃
で一昼夜乾燥し、その後570℃で３時間焼成して触媒Ｃ
を得た。
触媒Ｃと同様の方法で、酸化ホウ素の含有量を変えた触
媒A,B,C,D,Eを調整した。これらの触媒の化学組成、物
理性状を表２に示す（本実施例１〜３、比較例１および
２）。
（実施例２） 顔料酸化チタンを製造するための中間品であるメタチタ
ン酸スラリーを希釈後、実施例１と同様の中和と洗浄操
作を行って、硫酸を除去した水酸化チタンゲルを得た。
このゲル中のTiO2濃度は29.0重量％であった。このゲル
の一部を採り、300℃で乾燥して得られた粉末の結晶子
径は160Åであった。このゲルを用い触媒Ｃと同様の方
法で、シリカ、活性成分、酸化ホウ素を含む粉末を得た
のち、600℃で３時間焼成して触媒Ｆを得た（本発明例
４）。
（実施例３） 実施例２で得られた水酸化チタンゲルを純水でゲル濃度
15重量％に希釈し、さらに硝酸を加えて、pH2に調整し
た。このスラリーを外熱式オートクレーブに入れ、攪拌
しながら180℃で100時間加熱した。得られた水酸化チタ
ンの300℃乾燥粉末の結晶子径は350Åであった。この水
酸化チタンを用い実施例１の方法で、表２に示す性状を
有する触媒Ｇを得た（本発明例５）。
（実施例４） 市販のアナターゼ型酸化チタン粉末（帝国化工（株）
製、Ａ＃200）を純水に懸濁させ、TiO2として30重量％
濃度のスラリーとし、このスラリーを用いて実施例１の
方法で表２に示す性状を有する触媒Ｈを得た（本発明例
６）。
（実施例５） 実施例１と同一の水酸化チタンゲル53.5kgを200スチ
ームジャケット付ステンレス製槽（タンク）に投入し、
等量の純水を加え、表１に示す平均粒径が17nmのシリカ
ゾル（カタロイド Ｓ−20L、触媒化成工業（株）製、S
iO2濃度20.5重量％）9.5kg,19.3重量％のV2O5を含有す
る硫酸バナジル水溶液2.95kg、硫酸カリウム結晶（純度
99重量％）0.45kg、硫酸アンモニウム結晶0.37kgをそ
れぞれ添加したのち、最後にB2O3濃度1.6重量％のホウ
酸水溶液30kgを加えた。
得られたスラリーを（TiO2＋SiO2＋V2O5＋K2SO4＋SO3＋
B2O3）として16重量％まで濃縮したのち、実施例１と同
様に噴霧乾燥し、乾燥・焼成して触媒Ｉを得た（本発明
例７）。
前記水酸化チタンゲル53.5kgを投入したタンクに、予め
陽イオン交換樹脂層を通して脱Na処理を行った平均粒径
26nmのシリカゾル（カタロイド SI−50、性状は表１に
示す）5.6kg、硫酸バナジル水溶液2.7kg、硫酸セシウム
1.0kg、硫酸アンモニウム結晶0.35kg、ホウ酸水溶液（B
2O3濃度1.6重量％）30.5kgを加えて実施例１と同様に処
理して触媒Ｊを得た（本発明例８）。
前記水酸化チタンゲルに、表１に示すシリカゾル（カタ
ロイド Ｓ−20L）17.5kg、硫酸バナジル水溶液6.4kg、
硫酸セシウム0.9kg、硫酸アンモニウム結晶0.38kg、ホ
ウ酸水溶液30.5kgを加えた。このスラリー液を十分に攪
拌しながらスラリー濃度21重量％まで濃縮し、噴霧乾燥
を行い、以後実施例１と同様に処理して、触媒Ｋを得た
（本発明例９）。
これら触媒の化学組成および物理性状を表２に示す。
（比較例３） 実施例１の触媒Ｃと同一の水酸化チタンゲルを用い、シ
リカゾルを全く用いないで、触媒Ｃと同様の方法で触媒
Ｌを調整した（比較例３）。
（実施例６） TiO2として、５重量％を含む硫酸チタニル水溶液500kg
と表１に示すカタロイドSI−550のシリカゲルより得たS
iO2濃度10.3重量％の脱Naシリカゾル80.6kgを混合した
液を10℃まで冷却したのち、よく攪拌しながら15重量
％、アンモニア水128kgを約13分かけて添加して中和
し、水酸化チタンとシリカの共沈ゲルを得た。このゲル
のpHは9.1、温度は22℃であった。
このゲルのスラリーを平板式フィルターで脱水洗浄し
た。得られた共沈ゲル中の固形物濃度は9.5重量％であ
った。このゲルの一部をとり、300℃で乾燥して得られ
た粉末のアナターゼ型酸化チタンの結晶子径は40Åであ
った。この共沈ゲル350kgに攪拌下で純水を加えて固形
分濃度５重量％のスラリーとした。
このスラリーに前記脱Naシリカゾル120kg、硫酸バナジ
ル水溶液15.0kg、Cs2SO4水溶液5.0kg、硫酸アンモニウ
ム結晶2.0kg、2.8重量％のホウ酸水溶液175kgを加え、
よく混合したのち、加熱により濃縮を行った。濃縮スラ
リーの（TiO2＋SiO2＋V2O5＋Cs2SO4＋SO3＋B2O3）とし
ての濃度は、17.8重量％であった。実施例１と同様にし
て噴霧乾燥、焼成して触媒Ｍを得た（本発明例10）。
（実施例７） 触媒Ｃと同様に、水酸化チタンゲル、シリカゾル、硫酸
バナジル水溶液、硫酸セシウム水溶液、硫酸アンモニウ
ム結晶、ホウ酸水溶液を混合したのち、さらに硝酸ラン
タン水溶液を混合したのち、噴霧乾燥、焼成して触媒Ｎ
を得た（本発明例11）。
これら触媒の化学組成および物理性状を表２に示す。
（実施例８） 実施例１〜７、比較例１〜３において得られた触媒Ａ〜
Ｎについて、流動層反応器（SUS304製、83mmφ×3400mm
L）を用いてｏ−キシレンの気相接触酸化による無水フ
タル酸の製造試験を行った時の結果を表３に示す。未反
応ｏ−キシレン、反応生成物としての無水フタル酸、フ
タリド、トリアルデヒド、無水マレイン酸、CO＋CO2は
すべてガスクロマトグラフにより分析した。
＜反応条件＞ ｏ−キシレン供給速度 230g/Hr （含硫黄濃度1000ppm、含窒素濃度500ppm） 空気量 2200Nl/Hr 線速度（空塔基準） 17cm/sec 空気/o−キシレン比 12.2kg/kg 圧力 1.0kg/cm2−Ｇ 反応温度 340℃ 触媒量 5000cm3 なお、ｏ−キシレン転化率、無水フタル酸選択率、無水
フタル酸収率は下記式により計算した。
（実施例９） 実施例８と同一の流動層反応器を用い、ナフタレンの気
相接触酸化による無水フタル酸の製造試験を行った時の
結果を表３に示す。分析方法および反応成績の計算式は
実施例８の場合と同じである。
＜反応条件＞ ナフタレン供給速度 275g/Hr （含硫黄濃度1000ppm、含窒素濃度500ppm） 空気量 2200Nl/Hr 線速度（空塔基準） 16cm/sec 空気／ナフタレン比 10.3kg/kg 圧力 1.0kg/cm2−Ｇ 反応温度 330℃ 触媒量 5000cm3 ＜発明の効果＞ 本発明は以上説明したように構成されているので、本発
明の触媒は流動層によるｏ−キシレンあるいはナフタレ
ンのような炭化水素類の気相接触酸化により無水フタル
酸を製造するにあたり、従来の触媒では満足し得なかっ
た高活性、高選択性および高い耐摩耗性（強度）を満足
すると同時に流動化に適当な嵩比重を有する。
本発明に係る触媒は、Ａ成分としてTiO2、SiO2およびB2
O3の３成分を必須とする担体成分と活性成分であるＢ成
分からなるため、表２からわかるように流動床用触媒と
して所望の性状、活性を有する。しかし、担体成分中に
SiO2が存在しない触媒Ｌ（比較例３）は嵩比重が非常に
大きくなり、流動触媒としては好ましくないことがわか
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 広岡 昇 東京都千代田区内幸町２丁目２番３号 川 崎製鉄株式会社東京本社内 (72)発明者 有馬 悠策 福岡県遠賀郡遠賀町広渡1560 (72)発明者 藤井 進 福岡県北九州市若松区二島１丁目１―36

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】酸化チタン、シリカおよび酸化ホウ素から
    なるＡ成分と、酸化バナジウム、アルカリ金属酸化物お
    よび硫酸からなるＢ成分からなり、 Ａ成分＝50〜95重量％ Ｂ成分＝５〜50重量％ の範囲で、かつＡ成分は B2O3/TiO2＝0.02〜0.5重量比 SiO2/TiO2＝0.25〜1.0重量比 の範囲にあることを特徴とする芳香族炭化水素の気相接
    触酸化用流動触媒。
  2. 【請求項２】請求項１記載の流動触媒を製造するに際
    し、前記酸化チタン源として、300℃で乾燥すると結晶
    子径が300Å以下の酸化チタンを生成する水酸化チタン
    を用いることを特徴とする芳香族炭化水素の気相接触酸
    化用流動触媒の製造方法。
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