JP2002523232A - 芳香族炭化水素の気相酸化のための多層シェル型触媒 - Google Patents

芳香族炭化水素の気相酸化のための多層シェル型触媒

Info

Publication number
JP2002523232A
JP2002523232A JP2000567305A JP2000567305A JP2002523232A JP 2002523232 A JP2002523232 A JP 2002523232A JP 2000567305 A JP2000567305 A JP 2000567305A JP 2000567305 A JP2000567305 A JP 2000567305A JP 2002523232 A JP2002523232 A JP 2002523232A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
shell
catalytically active
oxide
catalyst
calculated
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000567305A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4571747B2 (ja
Inventor
ハイデマン トーマス
バウアー シュテファン
リンデン ゲルト
ペーターゼン ヘルマン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF SE
Original Assignee
BASF SE
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BASF SE filed Critical BASF SE
Publication of JP2002523232A publication Critical patent/JP2002523232A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4571747B2 publication Critical patent/JP4571747B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
    • C07D307/89—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans with two oxygen atoms directly attached in positions 1 and 3
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/20—Vanadium, niobium or tantalum
    • B01J23/22—Vanadium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00—Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/14—Phosphorus; Compounds thereof
    • B01J27/186—Phosphorus; Compounds thereof with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J27/195—Phosphorus; Compounds thereof with arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium with vanadium, niobium or tantalum
    • B01J27/198—Vanadium
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/024—Multiple impregnation or coating
    • B01J37/0244—Coatings comprising several layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
    • C07C51/21—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen
    • C07C51/255—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of compounds containing six-membered aromatic rings without ring-splitting
    • C07C51/265—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation with molecular oxygen of compounds containing six-membered aromatic rings without ring-splitting having alkyl side chains which are oxidised to carboxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C51/00—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides
    • C07C51/16—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation
    • C07C51/31—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation of cyclic compounds with ring-splitting
    • C07C51/313—Preparation of carboxylic acids or their salts, halides or anhydrides by oxidation of cyclic compounds with ring-splitting with molecular oxygen

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)

Abstract

(57)【要約】 触媒活性物質が２つ以上の層で施与されていて、かつ外側層が１つ以上の内側層に比べて５０〜１００％低い酸化アンチモン含有率を有し、かつ１つ以上の内側層の触媒活性物質の量が触媒活性物質全体の１０〜９０質量％である、不活性非多孔性担体上に、規定の含有率の酸化バナジウム、酸化チタン、セシウム化合物、リン化合物及び酸化アンチモンを有する触媒活性物質を含有する、芳香族炭化水素の接触気相酸化のためのシェル型触媒並びにこの触媒の製法及びこの触媒を使用してのカルボン酸及びカルボン酸無水物及びことに無水フタル酸の製法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は不活性な非多孔性担体上に、それぞれ触媒活性物質の全量に対して、
Ｖ２Ｏ５として算出して酸化バナジウム１〜４０質量％、ＴｉＯ２として算出し
て酸化チタン６０〜９９質量％、Ｃｓとして算出してセシウム化合物１質量％ま
で、Ｐとして算出してリン化合物１質量％まで及びＳｂ２Ｏ３として算出して酸
化アンチモン１０質量％の全含量までの含有率を有する触媒活性物質を含有する
、芳香族炭化水素の接触気相酸化のためのシェル型触媒に関する。更に本発明は
これらの触媒の製法に、かつこれらの触媒を使用してのカルボン酸及び／又はカ
ルボン酸無水物及びことには無水フタル酸の製法に関する。
【０００２】 公知のように数多くのカルボン酸及び／又はカルボン酸無水物は工業的に芳香
族炭化水素、例えばベンゼン、キシレン、ナフタリン、トルエン又はズロールの
接触気相酸化により固定床反応器、有利には管束反応器中で製造される。例えば
その場合、安息香酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸又は無水ピロメリト酸が取得される。このために通常は分子状の酸素を含有
するガス、例えば空気及び酸化すべき出発材料からなる混合物を反応器中に設置
された数多くの管に導通させるが、その際、これらの管中には少なくとも１種の
触媒の堆積物が存在する。温度調節のために管は熱担持媒体、例えば塩溶融物に
囲まれている。この熱調節にも関わらず、触媒堆積物中にはいわゆる「熱フレッ
ク」（Heisser Flekken; ホットスポット）が生じ、そこでは触媒堆積物のほか
の部分よりも高い温度が支配的である。この「ホットスポット」は副反応、例え
ば出発材料の全体的な燃焼のきっかけをもたらすか、又は反応生成物から分離で
きないか、又は分離に多くの経費がかかる不所望な副生成物の形成、例えばｏ−
キシレンからの無水フタル酸（ＰＳＡ）の製造ではフタリド又は安息鉱酸の形成
をもたらす。更に、著しいホットスポットの形成は、反応の反応温度での、反応
器の迅速な効率的運転（Hochfahren）を阻害する。それというのも、一定のホッ
トスポット温度以上では触媒は不可逆的に損傷を受けて、負荷上昇は僅かずつし
か行うことができず、かつ非常に慎重な制御が必要であるためである。
【０００３】 このホットスポットを弱めるために工業的には、様々な活性触媒を層状で、触
媒堆積物中に設置することに移行していて、その際、通常は、より活性の低い触
媒は固定床中に、反応混合物が初めにそれに接触するように設置される、即ちこ
れは堆積物中でガス入口の所に存在し、これに対してより活性な触媒は触媒堆積
物からのガス出口近くに存在する。触媒堆積物中の異なる活性触媒を同じ温度で
反応ガスにさらすことができるが、異なる活性触媒からなる両方の層を、異なる
反応温度に温度調節して、反応ガスに接触させることもできる（ＤＥ−Ａ４０１
３０５１）。
【０００４】 触媒としてこれらの酸化反応のためには、いわゆるシェル型触媒が好適であり
、その際、触媒活性な物質がシェル状に、一般に反応条件下に不活性な担体材料
、例えば石英（ＳｉＯ２）、陶材、酸化マグネシウム、二酸化スズ、ケイ素カー
バイド、ルチル、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネ
シウム（ステアタイト）、ケイ酸ジルコニウム又はケイ酸セリウム又はこれらの
担体材料の混合物上に施与されている。これらのシェル型触媒の触媒活性物質の
触媒活性成分として一般に、そのアナタース変性の形の二酸化チタンの他に五酸
化バナジウムが使用される。更に、触媒活性物質中には少量で数多くの他の酸化
物化合物も含有されていて、それらは助触媒として、例えばその活性を低く、又
は高めることにより触媒の活性及び選択性に影響を及ぼす。このような助触媒と
しては例えば、アルカリ金属酸化物、ことに酸化リチウム、酸化カリウム、酸化
ルビジウム及び酸化セシウム、酸化タリウム（Ｉ）、酸化アルミニウム、酸化ジ
ルコニウム、酸化鉄、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化マンガン、酸化スズ、
酸化銀、酸化銅、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化イリジ
ウム、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ヒ素、酸化アンチモン、酸化セリウム及
び五酸化リンを挙げることができる。活性を低くし、かつ選択率を高くする助触
媒としては例えば、アルカリ金属酸化物が作用するが、これに対して、酸化物の
リン化合物、ことに五酸化リンは触媒の活性は高めるが、その選択性は低下させ
る。
【０００５】 このようなシェル型触媒を製造するためにＤＥ−Ａ１６４２９３８及びＤＥ−
Ａ１７６９９９８の方法では、触媒全質量に対して所望の活性物質割合が達成さ
れるまで、水性及び／又は有機溶剤を含有する活性物質成分及び／又はその前駆
体の溶液又は懸濁液（以下では「マッシュ」と記載）を高温に加熱したコーティ
ングドラム中で担体材料上に噴霧施与する。ＤＥ２１０６７９６では被覆を、例
えばＤＥ１２８０７５６中に記載されているような流動コーティング装置中で実
施することもできる。コーティングドラム中での噴霧施与の際に、並びに流動床
中での被覆の際に勿論、高い損失が生じる。それというのもかなりの量のマッシ
ュが霧状になるか、もしくは摩擦により一部の既に被覆された活性材料が再び剥
がれ落ち、かつ排ガスを介して取り出されるためである。触媒全体の活性物質割
合は一般に、目標値から僅かな偏差しか有してはならず、施与された活性物質の
量及びシェルの層厚が触媒の活性及び選択性に強い影響を及ぼすので、前記の製
法では往々にして触媒を、施与された活性材料の量を測定するために冷却して、
コーティングドラムもしくは流動床から取りだして、かつ計量しなければならな
い。触媒担体上に活性物質が堆積しすぎている場合、一般にシェルの固体を損傷
することなく、ことには触媒シェルに割れを生じさせることなく、施与されすぎ
た活性物質量を後から丁寧に除去することは不可能である。
【０００６】 この問題を軽減するために工業的には、マッシュに有機バインダ、有利には酢
酸ビニル／ラウリン酸ビニル、酢酸ビニル／アクリレート、スチレン／アクリレ
ート、酢酸ビニル／マレエート並びに酢酸ビニル／エチレンのコポリマーを有利
には水性分散液の形で添加することに移行したが、その際、マッシュの固体含有
率に対して１０〜２０質量％のバインダ量を使用した（ＥＰ−Ａ７４４２１４）
。有機バインダを含有しないマッシュを担体に施与する場合には、１５０℃を上
回る温度が有利である。前記のバインダを添加する場合には、適用可能なコーテ
ィング温度は使用されるバインダに応じて５０〜４５０℃である（ＤＥ２１０６
７９６）。施与されたバインダは反応器への触媒の充填及び反応器の運転開始の
後に短時間で焼却される。加えてバインダ添加物は、活性物質が良好に担体上に
付着して、触媒の輸送及び充填が簡略化されるという利点を有する。
【０００７】 前記のシェル型触媒を用いての気相酸化はシェルの外側表面のみで生じるので
はない。工業的方法で使用される高い負荷の反応ガスと出発化合物との完全な反
応に必要な触媒活性及び触媒選択性を達成するためには、触媒の活性物質シェル
全体の有効な使用及びそれと共にこのシェル内に位置する反応中心への反応ガス
の良好な疎通性が必要である。多くの中間段階を経てカルボン酸及び／又はカル
ボン酸無水物へと芳香族化合物が酸化し、かつ有価生成物が触媒により二酸化炭
素及び水へと更に酸化されうるので、出発化合物の高い変換率を達成するために
は有価生成物の酸化分解を同時に抑制しつつ、触媒シェル中に好適な活性物質構
造（例えばその多孔性及び空孔半径分布）を生じさせることにより活性物質中で
の反応ガスの滞留時間を最適に合わせることが必要である。
【０００８】 更に、活性物質シェルの外側表面の所でのガス組成が活性物質の内側部位の所
のガス組成に必ずしも相応しないことも考慮しなければならない。多くの場合、
触媒表面の所よりも一次酸化生成物の濃度は高く、これに対して出発化合物濃度
は低いと、予想される。この異なるガス組成に対しては、最適な触媒活性及び触
媒選択性を達成するために、活性物質シェル内部の活性物質組成を所定に調節す
ることにより配慮しなければならない。例えばＤＥ２２１２９６４では既に、異
なる組成のマッシュを順次に噴霧する方法及びこうして得られた触媒を無水フタ
ル酸を製造するために使用することが記載されている。
【０００９】 しかしこうして得られる多層シェル型触媒は未だ十分な結果をもたらさず、か
つｏ−キシレンを酸化するためのその使用の際に不十分な無水フタル酸収率しか
達成されないという欠点を有する。
【００１０】 従って本発明の課題は、カルボン酸への芳香族炭化水素の酸化の選択性を更に
高めることを可能にする多層シェル型触媒を製造することである。
【００１１】 この課題は、不活性な非多孔性担体上に、それぞれ触媒活性物質の全量に対し
て、Ｖ２Ｏ５として算出して酸化バナジウム１〜４０質量％、ＴｉＯ２として算
出して酸化チタン６０〜９９質量％、Ｃｓとして算出してセシウム化合物１質量
％まで、Ｐとして算出してリン化合物１質量％まで及びＳｂ２Ｏ３として算出し
て酸化アンチモン１０質量％の全含量までの含有率を有する触媒活性物質を含有
する、芳香族炭化水素の接触気相酸化のためのシェル型触媒において、触媒活性
物質が２つ以上の層で施与されていて、その際、１つ以上の内側層が１〜１５質
量％の酸化アンチモン含有率を、かつ外側層がこれに対して５０〜１００％少な
い酸化アンチモン含有率を有し、かつ１つ以上の内側層の触媒活性物質の量が触
媒活性物質の全量の１０〜９０質量％であるものにより解決された。
【００１２】 更に、これらの触媒の製法及びこれらの触媒を使用してのカルボン酸及び／又
はカルボン酸無水物及びことには無水フタル酸の製法を発見した。
【００１３】 内側層の層厚又は内側層の層厚の合計は通常、０．０２〜０．２ｍｍ、有利に
は０．０５〜０．１ｍｍであり、かつ外側層の層厚は０．０２〜０．２ｍｍ、有
利には０．０５〜０．１ｍｍである。
【００１４】 これらの新規の触媒は有利には触媒活性な物質からなる同心層２つを有し、そ
の際、内側層は、酸化バナジウムを有利には２〜１０質量％、かつことには５〜
１０質量％及び酸化アンチモンを有利には２〜７質量％、ことには２．５〜５質
量％、かつ外側層は酸化バナジウムを有利には１〜５、ことには２〜４質量％及
び酸化アンチモンを０〜２質量％、ことには０〜１質量％含有する。
【００１５】 更にこれらのシェル型触媒は、カルボン酸へと芳香族炭化水素を酸化するため
に自体公知のほかの成分、例えばＢＥＴ表面積５〜５０ｍ２／ｇ、有利には１３
〜２８ｍ２／ｇを有するアナタース形の二酸化チタンを含有する。
【００１６】 不活性材料からなる非多孔性担体は例えば、石英（ＳｉＯ２）、陶材、酸化マ
グネシウム、二酸化スズ、ケイ素カーバイド、ルチル、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）
、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム（ステアタイト）、ケイ酸ジルコニ
ウム又はケイ酸セリウム又はこれらの担体材料の混合物からなる。有利には直径
３〜６ｍｍの球形の形の、又は外径５〜９ｍｍ及び長さ４〜７ｍｍのリング形の
形のステアタイトを使用する。
【００１７】 前記のように、セシウム及びリンの場合による添加の他に原則的に、触媒活性
物質中には少量、例えばその活性を低下させるか、又は高めることにより触媒の
活性及び選択性に助触媒として影響を及ぼす他の酸化物化合物多数が含有されて
いてよい。このような助触媒として例えば、アルカリ金属酸化物、ことに前記の
酸化セシウムの他に酸化リチウム、酸化カリウム、酸化ルビジウム及び酸化セシ
ウム、酸化タリウム（Ｉ）、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸
化ニッケル、酸化コバルト、酸化マンガン、酸化スズ、酸化銀、酸化銅、酸化ク
ロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、酸化イリジウム、酸化タンタル、酸
化ニオブ、酸化ヒ素、酸化アンチモン、酸化セリウムを挙げることができる。し
かし通常は、これらの群からセシウムを助触媒として使用する。更に、前記の助
触媒のうちなお有利には、添加物として、触媒活性物質に対して０．０１〜０．
５０質量％の量のニオブ、タングステン及び鉛の酸化物がこれに該当する。活性
は高めるが、選択性は低くする添加物として殊に、酸化物のリン化合物、殊に五
酸化リンが該当する。
【００１８】 通常はこの場合、触媒の内側層がリンを含有し、かつ外側層はリンに乏しいか
、又はリンを含有しない。
【００１９】 不活性非多孔性担体上にシェル型触媒の個々の層を施与することは任意の自体
公知の方法で、例えば次により行うことができる： （ａ）コーティングドラム中で溶液又は懸濁液を噴霧施与する、 （ｂ）流動床中で溶液又は懸濁液で被覆する、又は （ｃ）担体の粉末被覆。
【００２０】 ａ）に関して： 可能な限りクロマトグラフィー効果、即ち他の層への個々の成分の流出を回避
しなければならないという条件付で、順次の噴霧を一般にＤＥ２２１２９６４及
びＥＰ２１３２５の記載と同様に行う。施与すべき活性成分が少なくとも部分的
に不溶性金属化合物として存在する場合、施与すべき粉末を加熱予備処理するか
、もしくは他の方法、例えば添加物により実際に不溶性にすることが有利である
。
【００２１】 ｂ）に関して： 流動床中での被覆は例えばＤＥ１２８０７５６中の記載と同様に行う。
【００２２】 ｃ）に関して： ＷＯ−Ａ９８／３７９６７及びＥＰ−Ａ７１４７００から公知である粉末被覆
の方法を順次の被覆のために複数の工程で適用することもできる。このために、
場合により助剤を添加して触媒活性金属酸化物の溶液及び／又は懸濁液から先ず
粉末を製造し、これを順次場合により中間的に接続される熱処理を伴い、シェル
型に担体上に施与する。
【００２３】 揮発性成分を除去するために、触媒を通常は、少なくとも引き続き、熱処理す
る。
【００２４】 新規の触媒は一般的に、芳香族Ｃ６〜Ｃ１０−炭化水素、例えばベンゼン、キ
シレン、トルエン、ナフタリン又はズロール（１，２，４，５−テトラメチルベ
ンゼン）をカルボン酸及び／又はカルボン酸無水物、例えば無水マレイン酸、無
水フタル酸、安息香酸及び／又はピロメリト酸二無水物に気相酸化するために好
適である。
【００２５】 殊に新規の触媒により、無水フタル酸を製造する際に選択性及び収率を著しく
上昇させることができる。
【００２６】 この目的のためには、本発明により製造された触媒を、例えば塩溶融物により
反応温度に外部から熱安定化される反応管中に充填し、かつこうして用意された
触媒堆積物上に一般に３００〜４５０℃、有利には３２０〜４２０℃及び特に有
利には３４０〜４００℃の温度及び一般に０．１〜２．５、有利に０．３〜１．
５バールの加圧で、一般に７５０〜５０００ｈ-１の空間速度で反応ガスを供給
する。
【００２７】 触媒に供給する反応ガスを通常、酸素の他になお、好適な反応減速剤及び/又
は希釈剤、例えば蒸気、二酸化炭素及び/又は窒素を含有してよい分子状の酸素
を含有するガスと酸化すべき芳香族炭化水素とを混合することにより製造し、そ
の際、分子状の酸素を含有するガスは一般に、酸素１〜１００、有利には２〜５
０及び特に有利には１０〜３０モル％、水蒸気０〜３０、有利には０〜１０モル
％並びに二酸化炭素０〜５０、有利には０〜１モル％、残りの窒素を含有するこ
とができる。反応ガスを製造するために、分子状の酸素を含有するガスを通常、
酸化すべき芳香族炭化水素のガス１Ｎｍ３当たり３０〜１５０ｇで供給する。
【００２８】 有利には、反応管中に存在する触媒堆積物の２つ以上の帯域、有利には２つの
帯域を異なる反応温度に熱安定化させるように気相酸化を実施し、そのために例
えば、ＤＥ−Ａ２２０１５２８又はＤＥ−Ａ２８３０７６５中に記載されている
ような別々の塩浴を有する反応器を使用することができる。ＤＥ−Ａ４０１３０
５１中に記載されているように反応を２つの反応帯域中で実施する場合には一般
に、触媒容量全体の３０〜８０モル％を一般に含有する反応ガスのガス入口の所
に位置する反応帯域を、ガス出口のところに位置する反応帯域よりも１〜２０℃
、有利には１〜１０℃、かつことには２〜８℃高い反応温度に熱安定化にする。
もしくは、気相酸化を温度帯域に分割することなく、唯一の反応温度で実施する
こともできる。温度構造に関わらず、触媒堆積物の前記の反応帯域中で、その活
性物質の触媒活性及び／又は化学組成において異なる触媒を使用するのが特に有
利であると判明している。有利には２つの反応帯域を使用する場合、第１の、即
ち反応ガスのガス入り口の所の反応帯域には、第２の、即ちガス出口の所に位置
する反応帯域に存在する触媒に比べてやや低い触媒活性を有する触媒を使用する
。一般に、第１の帯域で反応ガスに含有される芳香族炭化水素の大部分が最大収
率で反応するように、温度調節により反応を制御する。
【００２９】 ＰＳＡ製造を、異なる触媒がその中に存在する複数の反応帯域を使用して本発
明の触媒を用いて実施する場合、全ての反応帯域で新規のシェル型触媒を使用す
ることができる。しかし一般に、触媒堆積物の反応帯域の一つのみ、例えば第１
の反応帯域のみで本発明のシェル型触媒を使用し、かつ他の反応帯域、例えば第
２又は最後の反応帯域では従来の方法で製造されたシェル型触媒を使用しても、
従来の方法に比べてかなりの利点を達成することができる。
【００３０】 例 使用したアナタースは：Ｓ０．１８質量％、Ｐ０．０８質量％、Ｎｂ０．２４
質量％、Ｎａ０．０１質量％、Ｋ０．０１質量％、Ｚｒ０．００４質量％、Ｐｂ
０．００４質量％を含有した。
【００３１】 例１：シェル型触媒Ｉａの製造（比較） ＢＥＴ表面積２０ｍ２／ｇを有するアナタース２５０．０ｇ、シュウ酸バナジ
ル１３．６ｇ（＝Ｖ２Ｏ５ ７．９８ｇ）、硫酸セシウム１．３７ｇ（＝Ｃｓ１
．０１ｇ）、水９４０ｇ及びホルムアミド１２２ｇからなる懸濁液から、噴霧乾
燥機中でガス入口温度２８０℃及び乾燥ガス（空気）のガス出口温度１２０℃で
、粉末の９０質量％に関して粒度３〜６０μｍを有する粉末２７０ｇを製造した
。粉末のか焼の後に（４００℃で１時間）、か焼された粉末９０ｇをメラミン１
０ｇと混合した。外径８ｍｍ、長さ６ｍｍ及び壁厚１．５ｍｍを有するステアタ
イト（ケイ酸マグネシウム）リング７００ｇをコーティングドラム中、２０℃で
２０分間、メラミン添加された粉末９３ｇで、水３０質量％／グリセリン７０質
量％混合物５６ｇの添加下に被覆した。引き続き、こうして被覆された触媒担体
を２５℃で乾燥させた。こうして施与された触媒活性物質の質量は４００℃での
１／２時間の熱処理の後に、調製された触媒の全質量に対して１０．７質量％で
あった。施与された触媒活性物質、即ち触媒シェルはセシウム（Ｃｓとして算出
して）０．４０質量％、バナジウム（Ｖ２Ｏ５として算出して）３．０質量％及
び二酸化チタン９６．６質量％からなった。
【００３２】 例２：シェル型触媒Ｉｂの製造（比較） 例１の記載と同様に実施するが、ＢＥＴ表面積２１ｍ２／ｇを有するアナター
ス４００．０ｇ、シュウ酸バナジル５７．６ｇ（＝Ｖ２Ｏ５３３．８ｇ）、硫酸
セシウム２．７５ｇ（＝Ｃｓ２．０２ｇ）、三酸化アンチモン１４．４ｇ、リン
酸二水素アンモニウム（＝Ｐ０．６７ｇ）２．５ｇ、水１５００ｇ及びホルムア
ミド１９６ｇからなる懸濁液を使用した。施与された触媒活性物質はリン（Ｐと
して算出して）０．１５質量％、バナジウム（Ｖ２Ｏ５として算出して）７．５
質量％、アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３として算出して）３．２質量％、セシウム（Ｃ
ｓとして算出して）０．４５質量％及び二酸化チタン８９．０５質量％からなっ
た。
【００３３】 例３：シェル型触媒Ｉｃの製造（比較） 例１及び２の記載と同様に行ったが、但し、担体に先ず１に記載の粉末４６ｇ
を、続いて２に記載の粉末４７ｇを施与した。
【００３４】 例４：シェル型触媒Ｉｄの製造（比較） 外径８ｍｍ、長さ６ｍｍ及び壁厚１．５ｍｍを有するステアタイト（ケイ酸マ
グネシウム）リング７００ｇをコーティングドラム中で１６０℃に加熱し、かつ
これに、ＢＥＴ表面積２０ｍ２／ｇを有するアナタース４００．０ｇ、シュウ酸
バナジル５７．６ｇ（＝Ｖ２Ｏ５３３．８ｇ）、三酸化アンチモン１４．４ｇ、
リン酸二水素アンモニウム２．５ｇ（＝Ｐ０．６７ｇ）、硫酸セシウム２．４４
ｇ（＝Ｃｓ１．７９ｇ）、水６１８ｇ及びホルムアミド１２８ｇからなる懸濁液
を、施与された層の質量が調製された触媒の全質量の１０．５％になるまで噴霧
した。こうして施与された触媒活性物質、即ち触媒シェルは平均して、リン（ｐ
として算出して）０．１５質量％、バナジウム（Ｖ２Ｏ５として算出して）７．
５質量％、アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３として算出して）３．２質量％、セシウム（
Ｃｓとして算出して）０．４質量％及び二酸化チタン８９．０５質量％からなっ
た。
【００３５】 例５：触媒ＩＩａの製造（本発明） 例３の記載と同様に行ったが、但し、担体に先ず例２に記載の粉末４６ｇを、
続いて例１に記載の粉末４７ｇを施与した。
【００３６】 例６：触媒ＩＩｂの製造（本発明） 例５の記載と同様に行ったが、但し、例２による粉末はシュウ酸バナジルを５
７．６ｇの代わりに６１．５ｇを含有した。
【００３７】 例７：触媒ＩＩｃの製造（本発明） 例５の記載と同様に行ったが、但し、例２による粉末は三酸化アンチモンを１
４．４ｇの代わりに２０．０２ｇ含有した。
【００３８】 例８：触媒ＩＩｄの製造（本発明） 例５の記載と同様に行ったが、但し、例２による粉末は酸化アンチモンを１４
．４ｇの代わりに９．０ｇ含有した。
【００３９】 例９：触媒ＩＩｅの製造（本発明） 外径８ｍｍ、長さ６ｍｍ及び壁厚１．５ｍｍを有するステアタイト（ケイ酸マ
グネシウム）リング７００ｇをコーティングドラム中で１６０℃に加熱し、かつ
これに、ＢＥＴ表面積２０ｍ２／ｇを有するアナタース４００．０ｇ、シュウ酸
バナジル５７．６ｇ（＝Ｖ２Ｏ５３３．８ｇ）、三酸化アンチモン１４．４ｇ、
リン酸二水素アンモニウム２．５ｇ（＝Ｐ０．６７ｇ）、硫酸セシウム２．４４
ｇ（＝Ｃｓ１．７９ｇ）、水６１８ｇ及びホルムアルデヒド１２８ｇからなる懸
濁液を、施与された層の質量が調製された触媒の全質量の５．３％になるまで噴
霧した。引き続き、この予備被覆されたリングに、ＢＥＴ表面積２０ｍ２／ｇを
有するアナタース４００．０ｇ、シュウ酸バナジル３０．７ｇ、硫酸セシウム２
．４５ｇ、水６１８ｇ及びホルムアルデヒド１２８ｇからなる懸濁液を、施与さ
れた層の質量が調製された触媒の全質量の１０．６％になるまで噴霧した。
【００４０】 例１０：触媒ＩＩＩの製造（本発明によらない） 外径８ｍｍ、長さ６ｍｍ及び壁厚１．５ｍｍを有するステアタイト（ケイ酸マ
グネシウム）リング７００ｇをコーティングドラム中で１６０℃に加熱し、これ
に、ＢＥＴ表面積２０ｍ２／ｇを有するアナタース４００．０ｇ、シュウ酸バナ
ジル５７．６ｇ、三酸化アンチモン１４．４ｇ、リン酸二水素アンモニウム２．
５ｇ、硫酸セシウム０．６１ｇ、水６１８ｇ及びホルムアミド１２８ｇからなる
懸濁液を、施与された層の質量が調製された全質量の１０．５％になるまで噴霧
した。こうして施与された触媒活性物質、即ち触媒シェルはリン（Ｐとして算出
して）０．１５質量％、バナジウム（Ｖ２Ｏ５として算出して）７．５質量％、
アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３として算出して）３．２質量％、セシウム（Ｃｓとして
算出して）０．１質量％及び二酸化チタン８９．０５質量％からなった。
【００４１】 例１１：ＰＳＡの製造（本発明及び比較） 触媒ＩＩＩ１．３０ｍを、続いて触媒Ｉａ〜ＩｄもしくはＩＩａ〜ＩＩｅそれ
ぞれ１．６０ｍを内径幅２５．２ｍｍを有する長さ３．８５ｍの鉄管に充填した
。鉄管は温度調節のために塩溶融物に囲まれていた。この管に上から下に毎時、
９８．５質量％ｏ−キシレン０〜約８５ｇ／空気Ｎｍ３の負荷を伴う４．０Ｎｍ ３ −空気を導通させた。この際、負荷７５〜８５ｇの場合では、次の表にまとめ
た結果が得られた（収率は、１００％ｏ−キシレンに対して得られたＰＳＡを質
量％で示している）。
【００４２】
【表１】
【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成１２年７月３１日（２０００．７．３１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲルト リンデン ドイツ連邦共和国 ハイデルベルク ブラ イヒシュトラーセ 14 (72)発明者 ヘルマン ペーターゼン ドイツ連邦共和国 グリューンシュタット コルゲンシュタイナー ヴェーク 14 Ｆターム(参考） 4C037 RB04 RB07 RB09 RB10 RB13 RB14 4G069 AA03 AA08 BA01A BA02A BA04A BA06A BA13A BA15A BB04A BB06A BB06B BB15A BC06A BC06B BC22A BC26A BC26B BC50A BC50B BC54A BC54B BD05A BD07A BD07B CB07 CB15 CB74 EA02Y EA04Y EB08 EB14Y EB15X EB15Y EB18Y EC29 FA02 FB15 FB63 FC08 4H039 CA65 CC30

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 不活性な非多孔性担体上に、それぞれ触媒活性物質の全量に
    対して、Ｖ２Ｏ５として算出して酸化バナジウム１〜４０質量％、ＴｉＯ２とし
    て算出して酸化チタン６０〜９９質量％、Ｃｓとして算出してセシウム化合物１
    質量％まで、Ｐとして算出してリン化合物１質量％まで及びＳｂ２Ｏ３として算
    出して酸化アンチモン１０質量％の全含量までの含有率を有する触媒活性物質を
    含有する、芳香族炭化水素の接触気相酸化のためのシェル型触媒において、触媒
    活性物質が２つ以上の層で施与されていて、その際、１つ以上の内側層が１〜１
    ５質量％の酸化アンチモン含有率を、かつ外側層がこれに対して５０〜１００％
    少ない酸化アンチモン含有率を有し、かつ１つ以上の内側層の触媒活性物質の量
    が触媒活性物質の全量の１０〜９０質量％であることを特徴とする、芳香族炭化
    水素の接触気相酸化のためのシェル型触媒。
  2. 【請求項２】 内側層又は内側層の合計の触媒活性物質が触媒の触媒活性物
    質全体の３０〜７０質量％に相当する、請求項１に記載のシェル型触媒。
  3. 【請求項３】 内側層の層厚又は内側層の層厚合計が０．０２〜０．２ｍｍ
    であり、かつ外側層の層厚が０．０２〜０．２ｍｍである、請求項１に記載のシ
    ェル型触媒。
  4. 【請求項４】 触媒が触媒活性物質からなる２つの同心層を有し、その際、
    内側層が酸化アンチモン２〜７質量％を、かつ外側層が酸化アンチモン０〜２質
    量％を含有する、請求項１に記載のシェル型触媒。
  5. 【請求項５】 触媒が触媒活性物質からなる２つの同心層を有し、その際、
    内側層が酸化バナジウム５〜１０質量％を、かつ外側層が酸化バナジウム１〜５
    質量％を含有する、請求項１に記載のシェル型触媒。
  6. 【請求項６】 不活性な非多孔性担体の材料がステアタイトである、請求項
    １に記載のシェル型触媒。
  7. 【請求項７】 酸化チタンがその中で、ＢＥＴ表面積１３〜２８ｍ２／ｇを
    有するアナタース型の二酸化チタンとして存在している、請求項１に記載のシェ
    ル型触媒。
  8. 【請求項８】 ステアタイトからなる不活性な非多孔性担体上に、シェル型
    に触媒活性物質からなる２つの同心層が施与されていて、その際、ＢＥＴ表面積
    １３〜２８ｍ２／ｇを有するアナタース型の二酸化チタンの他に、内側層がＶ２ Ｏ５として算出して酸化バナジウム５〜１０質量％の含有率及びＳｂ２Ｏ３とし
    て算出して酸化アンチモン２〜７質量％の含有率を有し、かつ外側層がＶ２Ｏ５ として算出して酸化バナジウム１〜５質量％の含有率及びＳｂ２Ｏ３として算出
    して酸化アンチモン０〜２質量％の含有率を有する、請求項１に記載のシェル型
    触媒。
  9. 【請求項９】 請求項１に記載のシェル型触媒の製法において、不活性な非
    多孔性担体上に順次、触媒活性物質の２つ以上の層を噴霧により施与することを
    特徴とする、請求項１に記載のシェル型触媒の製法。
  10. 【請求項１０】 バインダーを含有する粉末状の触媒活性物質で被覆するこ
    とにより、不活性な非多孔性担体上に順次、触媒活性物質の２つ以上の層を施与
    することを特徴とする、請求項１に記載のシェル型触媒の製法。
  11. 【請求項１１】 芳香族炭化水素の部分酸化によりカルボン酸及び／又はカ
    ルボン酸無水物を製造するための、請求項１に記載の触媒の使用。
  12. 【請求項１２】 分子状の酸素を含有するガスを用いてｏ−キシレン及び／
    又はナフタリンを部分酸化することにより無水フタル酸を製造する方法において
    、請求項１から８までのいずれか１項に記載の触媒を使用することを特徴とする
    、無水フタル酸の製法。
JP2000567305A 1998-08-27 1999-08-17 芳香族炭化水素の気相酸化のための多層シェル型触媒 Expired - Fee Related JP4571747B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19839001A DE19839001A1 (de) 1998-08-27 1998-08-27 Schalenkatalysatoren für die katalytische Gasphasenoxidation von aromatischen Kohlenwasserstoffen
DE19839001.7 1998-08-27
PCT/EP1999/006012 WO2000012214A1 (de) 1998-08-27 1999-08-17 Mehrschichtige schalenkatalysatoren für die gasphasenoxidation von aromatischen kohlenwasserstoffen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002523232A true JP2002523232A (ja) 2002-07-30
JP4571747B2 JP4571747B2 (ja) 2010-10-27

Family

ID=7878915

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000567305A Expired - Fee Related JP4571747B2 (ja) 1998-08-27 1999-08-17 芳香族炭化水素の気相酸化のための多層シェル型触媒

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6586361B1 (ja)
EP (1) EP1117484B1 (ja)
JP (1) JP4571747B2 (ja)
KR (1) KR100553285B1 (ja)
CN (1) CN1121907C (ja)
AT (1) ATE238838T1 (ja)
DE (2) DE19839001A1 (ja)
ES (1) ES2198952T3 (ja)
ID (1) ID27448A (ja)
TW (1) TWI239868B (ja)
WO (1) WO2000012214A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007500592A (ja) * 2003-08-01 2007-01-18 ビーエーエスエフ　アクチェンゲゼルシャフト 気相酸化用の触媒
JP2007533424A (ja) * 2003-09-26 2007-11-22 ビーエーエスエフ　アクチェンゲゼルシャフト 規定の酸化バナジウムの粒度分布を有する気相酸化触媒
JP2008520418A (ja) * 2004-11-18 2008-06-19 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 触媒を製造するための二酸化チタン混合物の使用

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7176159B1 (en) * 2001-08-15 2007-02-13 Iowa State University Research Foundation, Inc. Catalyst and sorbent material for the production of hydrogen
US20030166972A1 (en) * 2002-02-20 2003-09-04 Regents Of The University Of California Office Of Technology Licensing Process for production of formaldehyde from dimethyl ether
US7557062B2 (en) * 2003-02-24 2009-07-07 Shell Oil Company Catalyst composition, its preparation and use
JP3944094B2 (ja) * 2003-02-24 2007-07-11 株式会社サンデコール 光触媒の製造方法、光触媒および気体浄化装置
DE10323461A1 (de) * 2003-05-23 2004-12-09 Basf Ag Herstellung von Aldehyden, Carbonsäuren und/oder Carbonsäureanhydriden mittels Vanadiumoxid, Titandioxid und Antimonoxid enthaltender Katalysatoren
US7442816B2 (en) * 2004-05-13 2008-10-28 E.I. Du Pont De Nemours And Company Antimony vanadium phosphate
DE102004026472A1 (de) * 2004-05-29 2005-12-22 Süd-Chemie AG Mehrlagen-Katalysator zur Herstellung von Phthalsäureanhydrid
WO2005115615A1 (de) * 2004-05-29 2005-12-08 Süd-Chemie AG Katalysator sowie verfahren zur herstellung von phthalsäureanhydrid
BRPI0514960A (pt) * 2004-09-08 2008-07-01 Shell Int Research composição de catalisador, processos para a preparação da mesma e para converter uma carga de alimentação hidrocarbonácea em materiais com ponto de ebulição mais baixo, e, uso de uma composição de catalisador
DE102005009473A1 (de) * 2005-03-02 2006-09-07 Süd-Chemie AG Mehrlagen-Katalysator zur Herstellung von Phthalsäureanhydrid
US7592293B2 (en) * 2005-03-02 2009-09-22 Sud-Chemie Ag Method for producing a multi-layer catalyst for obtaining phthalic anhydride
BRPI0520292A2 (pt) * 2005-05-22 2009-04-28 Sued Chemie Ag catalisador de camadas méltiplas para produÇço de anidrido de Ácido ftÁlico
DE102005032723A1 (de) * 2005-07-13 2007-01-18 Süd-Chemie AG Mehrschichtkatalysator auf Niobbasis zur katalytischen Umsetzung von Kohlenwasserstoffen
KR100671978B1 (ko) 2005-07-19 2007-01-24 한국과학기술연구원 탈질환원촉매
CN101448571A (zh) 2006-05-19 2009-06-03 巴斯夫欧洲公司 用于制备羧酸和/或羧酸酐的催化剂体系
EP1860091A1 (de) * 2006-05-23 2007-11-28 Süd-Chemie Ag Katalysator enthaltend Titandioxid, insbesondere zur Herstellung von Phthalsäurenanhydrid
CN101472680A (zh) * 2006-06-20 2009-07-01 巴斯夫欧洲公司 制备羧酸和/或羧酸酐的催化剂体系和方法
DE102007017080A1 (de) 2007-04-10 2008-10-16 Basf Se Verfahren zur Beschickung eines Längsabschnitts eines Kontaktrohres
DE102007028332A1 (de) 2007-06-15 2008-12-18 Basf Se Verfahren zum Beschicken eines Reaktors mit einem Katalysatorfestbett, das wenigstens ringförmige Katalysatorformkörper K umfasst
DE102007028333A1 (de) 2007-06-15 2008-12-18 Basf Se Verfahren zum Einbringen einer wenigstens einer Produktionscharge von ringförmigen Schalenkatalysatoren K entnommenen Teilmenge in ein Reaktionsrohr eines Rohrbündelreaktors
DE102008011011A1 (de) 2008-02-01 2009-08-06 Breimair, Josef, Dr. Katalysator für die katalytische Gasphasenoxidation von aromatischen Kohlenwasserstoffen zu Aldehyden, Carbonsäuren und/oder Carbonsäureanhydriden, insbesondere zu Phthalsäureanhydrid
BR112012011701A2 (pt) * 2009-11-20 2016-03-01 Basf Se catalisador em multicamada, processo para a oxidação de o-xileno em anidrido ftálico, uso de um catalisador, e, processo para produzir um catalisador em multicamada
US20110230668A1 (en) * 2010-03-19 2011-09-22 Basf Se Catalyst for gas phase oxidations based on low-sulfur and low-calcium titanium dioxide
TW201206896A (en) 2010-04-13 2012-02-16 Basf Se Process for controlling a gas phase oxidation reactor for preparation of phthalic anhydride
US8859459B2 (en) 2010-06-30 2014-10-14 Basf Se Multilayer catalyst for preparing phthalic anhydride and process for preparing phthalic anhydride
WO2012014154A1 (en) 2010-07-30 2012-02-02 Basf Se Catalyst for oxidation of o-xylene and/or naphthalene to phthalic anhydride
US9212157B2 (en) 2010-07-30 2015-12-15 Basf Se Catalyst for the oxidation of o-xylene and/or naphthalene to phthalic anhydride
CN102992979B (zh) * 2011-09-08 2014-11-26 中国石油天然气股份有限公司 丙烯选择性氧化制备丙烯醛的方法
CN102992978B (zh) * 2011-09-08 2014-11-26 中国石油天然气股份有限公司 丙烯醛的制备方法
US9029289B2 (en) 2012-07-16 2015-05-12 Basf Se Catalyst for preparing carboxylic acids and/or carboxylic anhydrides
US9911566B2 (en) * 2013-10-18 2018-03-06 Littelfuse, Inc. Foam fuse filler and cartridge fuse
US9914716B2 (en) 2014-02-17 2018-03-13 Basf Se Catalyst system for oxidation of o-xylene and/or naphthalene to phthalic anhydride
EP2987552A1 (en) 2014-08-22 2016-02-24 Basf Se Catalyst system for oxidation of o-xylene and/or naphthalene to phthalic anhydride
EP3107654A1 (de) 2014-02-17 2016-12-28 Basf Se Katalysatorsystem zur oxidation von o-xylol und/oder naphthalin zu phthalsäureanhydrid
EP3047904A1 (en) 2015-01-22 2016-07-27 Basf Se Catalyst system for oxidation of o-xylene and/or naphthalene to phthalic anhydride
MX2019001131A (es) * 2016-07-26 2019-07-22 Basf Corp Catalizador soportado, catalizador monolitico de reduccion catalitica selectiva (scr), metodo de preparacion del mismo y metodo para la eliminacion de oxidos de nitrogeno.
CN107540847B (zh) * 2017-07-27 2020-10-30 济南大学 超支化阻燃剂的制备方法及在人造板中的应用

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4924894A (ja) * 1972-03-17 1974-03-05
JPS567646A (en) * 1979-06-26 1981-01-26 Basf Ag Carrying catalyst containing vanadium pentaoxide* titanium dioxide* phosphor* rubidium and*or cesium
JPS63253080A (ja) * 1987-04-10 1988-10-20 Nippon Steel Chem Co Ltd 無水フタル酸の製造方法
JPH0857320A (ja) * 1994-08-18 1996-03-05 Kawasaki Steel Corp 芳香族炭化水素の接触気相酸化用流動触媒および芳香族カルボン酸無水物の製造方法
JPH09192492A (ja) * 1991-07-10 1997-07-29 Nippon Shokubai Co Ltd 無水フタル酸製造用触媒およびそれを用いてなる無水フタル酸の製造方法
JP2001513016A (ja) * 1997-02-27 2001-08-28 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト 芳香族炭化水素の接触気相酸化用シェル触媒の製造方法
JP2002516320A (ja) * 1998-05-26 2002-06-04 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト ｏ−キシレン／ナフタレン混合物の接触気相酸化による無水フタル酸の製法
JP2002516751A (ja) * 1998-06-03 2002-06-11 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト 芳香族炭化水素の接触気相酸化用シェル型触媒の製造方法およびこうして得られる触媒

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH444046A (de) 1965-06-14 1967-09-15 Glatt Werner Zur Aufnahme eines pulvrigen oder körnigen Behandlungsgutes in einem Warmlufttrockner dienender Behälter
DE1280756B (de) 1965-06-14 1968-10-17 Glatt Werner Wirbelbettwanne zur Behandlung, z. B. Trocknen, koernigen Gutes
US3565829A (en) 1967-10-04 1971-02-23 Basf Ag Supported catalysts containing vanadium pentoxide and titanium dioxide
DE1769998B2 (de) 1968-08-20 1977-01-27 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur herstellung von phthalsaeureanhydrid
DE2106796C3 (de) 1971-02-12 1981-09-24 Wacker-Chemie GmbH, 8000 München Verfahren zur Herstellung Festbettkatalysatoren mit einem Überzug aus Vanadiumpentoxid und Titandioxid
US3799866A (en) 1972-10-18 1974-03-26 Universal Oil Prod Co Hydrocarbon conversion process utilizing a moving bed reactor
DE4013051A1 (de) 1990-04-24 1991-11-07 Basf Ag Verfahren zur herstellung von phthalsaeureanhydrid aus o-xylol
DE4442346A1 (de) 1994-11-29 1996-05-30 Basf Ag Verfahren zur Herstellung eines Katalysators, bestehend aus einem Trägerkörper und einer auf der Oberfläche des Trägerkörpers aufgebrachten katalytisch aktiven Oxidmasse
DE19519172A1 (de) 1995-05-24 1996-11-28 Consortium Elektrochem Ind Trägerkatalysator für Gasphasenoxidationsreaktoren
DE19707943C2 (de) 1997-02-27 1999-07-08 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Phthalsäureanhydrid und Katalysator hierfür
DE19823262A1 (de) 1998-05-26 1999-12-02 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Phthalsäureanhydrid

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4924894A (ja) * 1972-03-17 1974-03-05
JPS567646A (en) * 1979-06-26 1981-01-26 Basf Ag Carrying catalyst containing vanadium pentaoxide* titanium dioxide* phosphor* rubidium and*or cesium
JPS63253080A (ja) * 1987-04-10 1988-10-20 Nippon Steel Chem Co Ltd 無水フタル酸の製造方法
JPH09192492A (ja) * 1991-07-10 1997-07-29 Nippon Shokubai Co Ltd 無水フタル酸製造用触媒およびそれを用いてなる無水フタル酸の製造方法
JPH0857320A (ja) * 1994-08-18 1996-03-05 Kawasaki Steel Corp 芳香族炭化水素の接触気相酸化用流動触媒および芳香族カルボン酸無水物の製造方法
JP2001513016A (ja) * 1997-02-27 2001-08-28 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト 芳香族炭化水素の接触気相酸化用シェル触媒の製造方法
JP2002516320A (ja) * 1998-05-26 2002-06-04 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト ｏ−キシレン／ナフタレン混合物の接触気相酸化による無水フタル酸の製法
JP2002516751A (ja) * 1998-06-03 2002-06-11 ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト 芳香族炭化水素の接触気相酸化用シェル型触媒の製造方法およびこうして得られる触媒

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007500592A (ja) * 2003-08-01 2007-01-18 ビーエーエスエフ　アクチェンゲゼルシャフト 気相酸化用の触媒
JP2007533424A (ja) * 2003-09-26 2007-11-22 ビーエーエスエフ　アクチェンゲゼルシャフト 規定の酸化バナジウムの粒度分布を有する気相酸化触媒
JP2008520418A (ja) * 2004-11-18 2008-06-19 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 触媒を製造するための二酸化チタン混合物の使用

Also Published As

Publication number Publication date
KR100553285B1 (ko) 2006-02-22
ATE238838T1 (de) 2003-05-15
US6586361B1 (en) 2003-07-01
TWI239868B (en) 2005-09-21
WO2000012214A1 (de) 2000-03-09
EP1117484B1 (de) 2003-05-02
ID27448A (id) 2001-04-12
DE59905354D1 (de) 2003-06-05
DE19839001A1 (de) 2000-03-02
EP1117484A1 (de) 2001-07-25
CN1314827A (zh) 2001-09-26
ES2198952T3 (es) 2004-02-01
CN1121907C (zh) 2003-09-24
JP4571747B2 (ja) 2010-10-27
KR20010079692A (ko) 2001-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2002523232A (ja) 芳香族炭化水素の気相酸化のための多層シェル型触媒
JP5479377B2 (ja) 無水フタル酸の製造方法
US6362345B1 (en) Method for producing phthalic anhydride by means of catalytic vapor-phase oxidation of o-xylol/naphthalene mixtures
US5792719A (en) Supported catalyst for gas-phase oxidation reactions
US7371893B2 (en) Production of aldehydes, carboxylic acids and/or carboxylic acid anhydrides by means of catalysts containing vanadium oxide, titanium dioxide, and antimony oxide
US8097558B2 (en) Catalyst and method for producing phthalic anhydride
JP5174462B2 (ja) 触媒を製造するための二酸化チタン混合物の使用
JP5264035B2 (ja) 無水フタル酸を製造する方法
JPS63253080A (ja) 無水フタル酸の製造方法
EP0180335B1 (en) Improved carboxylic anhydride catalysts
AU650796B2 (en) Method for production of phthalic anhydride by vapor-phase oxidation of mixture of ortho-xylene with naphthalene
JP2009541245A (ja) 触媒系及びカルボン酸及び／又は無水カルボン酸の製造法
JP2009533211A (ja) カルボン酸及び／又はカルボン酸無水物を製造するための触媒系
CA1250278A (en) Aromatic carboxylic anhydride catalysts
US20060235232A1 (en) Catalysts for gas phase oxidations
US4728744A (en) Catalysts for preparation of aromatic carboxylic anhydrides
US4791092A (en) Aromatic carboxylic anhydride catalyst
US4814317A (en) Process for preparing catalysts for preparation of aromatic carboxylic anhydrides
US4931572A (en) Aromatic carboxylic anhydride catalyst
MX2007016471A (es) Metodo para poner en funcionamiento catalizadores de oxidacion.
US4831164A (en) Process of preparing carboxylic anhydride
CN102811808A (zh) 基于贫硫和钙的二氧化钛的气相氧化用催化剂
US4864036A (en) Process for preparing aromatic carboxylic anhydride
JPS6121729A (ja) 芳香族化合物酸化用触媒
JP2004506707A (ja) 芳香族炭化水素の気相部分酸化方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060406

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090402

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20090626

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20090703

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090803

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100714

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100813

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130820

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees