JPH0727885B2 - 半導体ウエハ遠心乾燥装置 - Google Patents
半導体ウエハ遠心乾燥装置Info
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- JPH0727885B2 JPH0727885B2 JP61136035A JP13603586A JPH0727885B2 JP H0727885 B2 JPH0727885 B2 JP H0727885B2 JP 61136035 A JP61136035 A JP 61136035A JP 13603586 A JP13603586 A JP 13603586A JP H0727885 B2 JPH0727885 B2 JP H0727885B2
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- Japan
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- rotor
- semiconductor wafer
- cradle
- carrier
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、半導体ウエハ遠心乾燥装置において、特にシ
リコンウエハの洗浄における乾燥工程において使用する
半導体ウエハ遠心乾燥装置に関するものである。
リコンウエハの洗浄における乾燥工程において使用する
半導体ウエハ遠心乾燥装置に関するものである。
（従来の技術） 従来、半導体ウエハの洗浄における乾燥工程においては
遠心乾燥装置が使用されている。
遠心乾燥装置が使用されている。
第２図は係る従来のウエハ遠心乾燥装置の構成図であ
り、第２図（ａ）はその半導体ウエハが収納されるキャ
リアの斜視図、第２図（ｂ）はそのウエハ遠心乾燥装置
の一部破断斜視図である。
り、第２図（ａ）はその半導体ウエハが収納されるキャ
リアの斜視図、第２図（ｂ）はそのウエハ遠心乾燥装置
の一部破断斜視図である。
これらの図に基づいて従来のウエハ遠心乾燥装置につい
て説明する。
て説明する。
これらの図において、１はシリコンウエハ（以下、単に
ウエハという）であり、このウエハ１はキャリア２に彫
設されるカギ状のキャリア溝（キャリアの溝）３に収納
される。なお、このキャリア溝３はウエハの厚さの２乃
至３倍の寸法を有しており、ウエハのキャリアへのロー
ド，アンロードを容易にするものである。４は円筒状の
容器、５はその容器４の中に設けられるステンレス製の
ケース（以下、クレードルという）であり、これはウエ
ハ１が装填されたキャリア２を固定するために設けられ
ている。６はクレードル５を回転できるように、ロータ
回転軸７と一体になっているロータであり、この回転軸
７の下にはモータ８があり、このモータ８の駆動によ
り、ロータ６が回転し、遠心力によってウエハ上の水分
が飛散するように構成されている。
ウエハという）であり、このウエハ１はキャリア２に彫
設されるカギ状のキャリア溝（キャリアの溝）３に収納
される。なお、このキャリア溝３はウエハの厚さの２乃
至３倍の寸法を有しており、ウエハのキャリアへのロー
ド，アンロードを容易にするものである。４は円筒状の
容器、５はその容器４の中に設けられるステンレス製の
ケース（以下、クレードルという）であり、これはウエ
ハ１が装填されたキャリア２を固定するために設けられ
ている。６はクレードル５を回転できるように、ロータ
回転軸７と一体になっているロータであり、この回転軸
７の下にはモータ８があり、このモータ８の駆動によ
り、ロータ６が回転し、遠心力によってウエハ上の水分
が飛散するように構成されている。
第３図は従来のウエハ遠心乾燥装置のロータの構成図で
あり、第３図（ａ）はその上面図、第３図（ｂ）はその
部分側面図である。第３図（ｂ）においては、クレード
ルの垂直回転移動をも示している。
あり、第３図（ａ）はその上面図、第３図（ｂ）はその
部分側面図である。第３図（ｂ）においては、クレード
ルの垂直回転移動をも示している。
これらの図において、ロータ６は容器内に収納され、ロ
ータ６の上部は開口しており、容器の蓋に設けられたフ
ィルタを通してクリーンエアーをロータ６内に取り込
み、遠心力と共に気流をガイドとなる壁６−１に向かわ
せ脱水する。５−１はクレードル５をロータに固定する
ためのクレードル枢支軸であり、この枢支軸５−１を回
転中心として、クレードル５は約90゜回転可能である。
即ち、第３図（ｂ）の点線の位置Ａがロータ静止時、つ
まり、キャリアをクレードル５に装填する際のクレード
ルの位置であり、第３図（ｂ）の実線の位置Ｂがロータ
回転時のクレードル位置である。このクレードル位置Ｂ
はクレードルストッパ９によって決定され、この位置は
従来ではウエハ面とロータ回転面とが平行を成す位置に
設定されていた。
ータ６の上部は開口しており、容器の蓋に設けられたフ
ィルタを通してクリーンエアーをロータ６内に取り込
み、遠心力と共に気流をガイドとなる壁６−１に向かわ
せ脱水する。５−１はクレードル５をロータに固定する
ためのクレードル枢支軸であり、この枢支軸５−１を回
転中心として、クレードル５は約90゜回転可能である。
即ち、第３図（ｂ）の点線の位置Ａがロータ静止時、つ
まり、キャリアをクレードル５に装填する際のクレード
ルの位置であり、第３図（ｂ）の実線の位置Ｂがロータ
回転時のクレードル位置である。このクレードル位置Ｂ
はクレードルストッパ９によって決定され、この位置は
従来ではウエハ面とロータ回転面とが平行を成す位置に
設定されていた。
なお、この種の従来技術として、例えば、特開昭59−36
930号公報、特開昭57−160130号公報、昭56−8823号公
報などが挙げられる。
930号公報、特開昭57−160130号公報、昭56−8823号公
報などが挙げられる。
（発明が解決しようとする問題点） しかしながら、以上述べた従来のウエハ遠心乾燥装置の
回転時のクレードル位置では、第４図に示されるよう
に、ウエハ面10とほぼ平行に遠心力が加わるために、ウ
エハはキャリア溝３に安定的に固定されず、ロータの回
転によって発生する風、或いはクレードル振動によりウ
エハ１がキャリア溝３内で点線で示されるように振動す
る。このためにウエハ１とキャリア溝３との接触部から
塵埃が発生する。また、ウエハの振動によってウエハ周
辺の気流11が不安定となり、気流による水分除去効果が
小さくなり、ウエハ乾燥において満足できるものではな
かった。
回転時のクレードル位置では、第４図に示されるよう
に、ウエハ面10とほぼ平行に遠心力が加わるために、ウ
エハはキャリア溝３に安定的に固定されず、ロータの回
転によって発生する風、或いはクレードル振動によりウ
エハ１がキャリア溝３内で点線で示されるように振動す
る。このためにウエハ１とキャリア溝３との接触部から
塵埃が発生する。また、ウエハの振動によってウエハ周
辺の気流11が不安定となり、気流による水分除去効果が
小さくなり、ウエハ乾燥において満足できるものではな
かった。
本発明は、以上述べたウエハの振動を阻止して塵埃発生
を低下させ、また、水分除去効果を高め得る半導体ウエ
ハ遠心乾燥装置を提供することを目的とする。
を低下させ、また、水分除去効果を高め得る半導体ウエ
ハ遠心乾燥装置を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段） 本発明は、上記目的を達成するために、半導体ウエハ遠
心乾燥装置において、容器と、この容器内に回転可能に
設けられるロータと、このロータに設けられるクレード
ルと、このクレードルに装着される半導体ウエハが収納
される溝を有するキャリアを具備する半導体ウエハ遠心
乾燥装置において、半導体ウエハの回転時に半導体ウエ
ハがキャリアの溝内で振動を生じるのを阻止すべき角度
にロータの半径方向に対する半導体ウエハ面の傾斜手段
を設けるようにしたものである。
心乾燥装置において、容器と、この容器内に回転可能に
設けられるロータと、このロータに設けられるクレード
ルと、このクレードルに装着される半導体ウエハが収納
される溝を有するキャリアを具備する半導体ウエハ遠心
乾燥装置において、半導体ウエハの回転時に半導体ウエ
ハがキャリアの溝内で振動を生じるのを阻止すべき角度
にロータの半径方向に対する半導体ウエハ面の傾斜手段
を設けるようにしたものである。
（作用） 本発明によれば、半導体ウエハ遠心乾燥装置において、
ロータ回転面と半導体ウエハ面とが2.5゜〜30゜未満の
角度を成すように、例えば、クレードルストッパとクレ
ードル底との間にスペーサを設けるようにしたので、ロ
ータ回転時の遠心力によって、半導体ウエハが、キャリ
ア溝に安定的に固定され、半導体ウエハの振動が阻止
（防止）される。
ロータ回転面と半導体ウエハ面とが2.5゜〜30゜未満の
角度を成すように、例えば、クレードルストッパとクレ
ードル底との間にスペーサを設けるようにしたので、ロ
ータ回転時の遠心力によって、半導体ウエハが、キャリ
ア溝に安定的に固定され、半導体ウエハの振動が阻止
（防止）される。
従って、ウエハ周辺の気流は安定し、ウエハの水分除去
効果を高めることができる。
効果を高めることができる。
（実施例） 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示す半導体ウエハ遠心乾燥
装置の構成図である。
装置の構成図である。
この図において、21はロータ回転時のクレードル位置決
めスペーサであり、このスペーサ21はキャリア２の底面
に固定し、ロータ回転軸７に垂直な面と半導体ウエハ面
10とがロータの半径方向に対して角度θ、例えば、11゜
の傾きを保ち、半導体ウエハ（以下、単にウエハ）１が
装填されたキャリア２が保持される。これによってロー
タ回転時にこの角度θを保ちつつ、ウエハ１が回転し乾
燥する。なお、この図において、点線の位置Ａはロータ
静止時、つまり、キャリアをクレードル５に装填する際
のクレードルの位置を、実線の位置Ｂはロータ回転時の
クレードル位置をそれぞれ示している。
めスペーサであり、このスペーサ21はキャリア２の底面
に固定し、ロータ回転軸７に垂直な面と半導体ウエハ面
10とがロータの半径方向に対して角度θ、例えば、11゜
の傾きを保ち、半導体ウエハ（以下、単にウエハ）１が
装填されたキャリア２が保持される。これによってロー
タ回転時にこの角度θを保ちつつ、ウエハ１が回転し乾
燥する。なお、この図において、点線の位置Ａはロータ
静止時、つまり、キャリアをクレードル５に装填する際
のクレードルの位置を、実線の位置Ｂはロータ回転時の
クレードル位置をそれぞれ示している。
この実施例においては、このスペーサ21はキャリア２の
底面に固定しておき、クレードルストッパ９に当接する
ようにしているが、スペーサ21はロータ６側に固定する
ようにしてもよい。また、クレードルストッパの位置を
調整できるようにして角度θをバリアブルにしたり、ク
レードル５の懸垂の仕方を変えたりすることにより、種
々の変形が可能である。
底面に固定しておき、クレードルストッパ９に当接する
ようにしているが、スペーサ21はロータ６側に固定する
ようにしてもよい。また、クレードルストッパの位置を
調整できるようにして角度θをバリアブルにしたり、ク
レードル５の懸垂の仕方を変えたりすることにより、種
々の変形が可能である。
この角度θを設けたことで、第５図に示されるように、
半導体ウエハ面10に対して傾いた状態で遠心力がウエハ
に加えられ、ウエハ１がキャリア溝３に安定に固定され
ることになり、ウエハ１の振動が阻止される。その結
果、ウエハ１とキャリア溝３との接触部からの塵埃発生
が低下することになる。また、ウエハの振動が阻止され
ることにより、ウエハ１の周辺部の気流11が安定し、そ
の気流11によるウエハ１の水分除去効果が高まる。
半導体ウエハ面10に対して傾いた状態で遠心力がウエハ
に加えられ、ウエハ１がキャリア溝３に安定に固定され
ることになり、ウエハ１の振動が阻止される。その結
果、ウエハ１とキャリア溝３との接触部からの塵埃発生
が低下することになる。また、ウエハの振動が阻止され
ることにより、ウエハ１の周辺部の気流11が安定し、そ
の気流11によるウエハ１の水分除去効果が高まる。
この角度θはロータ回転速度が1000回転／分で回転軸と
ウエハ重心との距離が10mmの場合は、ウエハに加わる遠
心力でウエハの振動を阻止するためには2.5゜以上が必
要である。又、30゜以上の傾きになると気流がブロック
され、ウエハの背面の乾燥状態も悪くなる（従来のウエ
ハ乾燥装置の寸法では30゜以上の傾きになると、クレー
ドル５が一部装置内壁に接触する）。従って、角度θは
2.5゜から30゜未満が適当である。なお、実験によれ
ば、ウエハの振動を阻止するために必要な最小角度θmi
nとロータの回転数は次の通りである。
ウエハ重心との距離が10mmの場合は、ウエハに加わる遠
心力でウエハの振動を阻止するためには2.5゜以上が必
要である。又、30゜以上の傾きになると気流がブロック
され、ウエハの背面の乾燥状態も悪くなる（従来のウエ
ハ乾燥装置の寸法では30゜以上の傾きになると、クレー
ドル５が一部装置内壁に接触する）。従って、角度θは
2.5゜から30゜未満が適当である。なお、実験によれ
ば、ウエハの振動を阻止するために必要な最小角度θmi
nとロータの回転数は次の通りである。
このように、ウエハの遠心乾燥装置を構成した場合、例
えば第１図に示すロータに、125mmφのウエハを装填
し、1000回転／分にて70秒間回転する際に、クレードル
位置決めスペーサ21によって、ロータ回転面とウエハ面
10とが11゜を成すようにした本発明の実施例の場合と従
来方法の場合とを比較すると以下のようになる。
えば第１図に示すロータに、125mmφのウエハを装填
し、1000回転／分にて70秒間回転する際に、クレードル
位置決めスペーサ21によって、ロータ回転面とウエハ面
10とが11゜を成すようにした本発明の実施例の場合と従
来方法の場合とを比較すると以下のようになる。
（ａ）塵埃効果 ここでは、ウエハ上欠陥検査機によって0.3μｍφ以上
の粒子数を評価した。
の粒子数を評価した。
その結果、 （１）従来の方法においては、 ロータの回転にてウエハ上に付着する粒子平均数＝31.5
個／ウエハ（ｎ＝12）であり、 （２）本発明の方法においては、 ロータの回転にてウエハ上に付着する粒子平均数＝24.3
個／ウエハ（ｎ＝12）であった。
個／ウエハ（ｎ＝12）であり、 （２）本発明の方法においては、 ロータの回転にてウエハ上に付着する粒子平均数＝24.3
個／ウエハ（ｎ＝12）であった。
（ｂ）水分除去効果 第６図及び第７図はロータを５回連続して回転し、その
内の水滴発生残り発生度数をヒストグラム表示したもの
である。
内の水滴発生残り発生度数をヒストグラム表示したもの
である。
その結果、従来方法においては、第６図に示されるよう
に、乾燥に150秒要するのに対し、本発明の方法によれ
ば、第７図に示されるように、50秒で乾燥可能である。
に、乾燥に150秒要するのに対し、本発明の方法によれ
ば、第７図に示されるように、50秒で乾燥可能である。
従って、上記（ａ），（ｂ）の理由により、半導体装置
の歩留まりの向上、生産性の向上を図ることができるも
のである。
の歩留まりの向上、生産性の向上を図ることができるも
のである。
なお、上記実施例によれば、代表な例として、ロータ回
転面とウエハ面との傾斜手段として、キャリアの底面と
クレードルストッパ間にスペーサを設けるようにしてい
るが、ウエハの出入口を上方にして斜めに切られた収納
棚を有するキャリアをクレードルに装着するようにして
もよい。
転面とウエハ面との傾斜手段として、キャリアの底面と
クレードルストッパ間にスペーサを設けるようにしてい
るが、ウエハの出入口を上方にして斜めに切られた収納
棚を有するキャリアをクレードルに装着するようにして
もよい。
また、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
（発明の効果） 以上、詳細に示されるように、本発明によれば、円筒状
の容器と、該容器内に回転可能に設けられるロータと、
このロータに設けられるクレードルと、このクレードル
に装着されるウエハが収納されるキャリアとを有するウ
エハ遠心乾燥装置において、ウエハの回転時に、前記ウ
エハがキャリアの溝内で振動を生じるのを阻止すべき角
度に、ロータの半径方向に対するウエハ面の傾斜手段を
設けるようにしたので、ロータ回転時の遠心力によって
ウエハがキャリア溝に安定的に固定され、ウエハの振動
が阻止されると共に、ウエハ周辺の気流は安定し、ウエ
ハの水分除去効果を高めることができる。
の容器と、該容器内に回転可能に設けられるロータと、
このロータに設けられるクレードルと、このクレードル
に装着されるウエハが収納されるキャリアとを有するウ
エハ遠心乾燥装置において、ウエハの回転時に、前記ウ
エハがキャリアの溝内で振動を生じるのを阻止すべき角
度に、ロータの半径方向に対するウエハ面の傾斜手段を
設けるようにしたので、ロータ回転時の遠心力によって
ウエハがキャリア溝に安定的に固定され、ウエハの振動
が阻止されると共に、ウエハ周辺の気流は安定し、ウエ
ハの水分除去効果を高めることができる。
従って、半導体装置の歩留まり向上、生産性の向上に貢
献できるものである。
献できるものである。
第１図は本発明の一実施例を示す半導体ウエハ遠心乾燥
装置の要部構成図、第２図は従来の半導体ウエハ遠心乾
燥装置の構成図、第３図は従来の半導体ウエハ遠心乾燥
装置のロータの構成図、第４図は従来の半導体ウエハ乾
燥状態の説明図、第５図は本発明の半導体ウエハ乾燥状
態の説明図、第６図は従来の半導体ウエハ乾燥方法によ
る乾燥能力の説明図、第７図は本発明の半導体ウエハ乾
燥方法による乾燥能力の説明図である。 １……ウエハ、２……キャリア、３……キャリア溝、４
……容器、５……クレードル、５−１……クレードル枢
支軸、６……ロータ、６−１……壁、７……ロータ回転
軸、θ……ロータ回転面と遠心乾燥装置面とのなす角
度、８……モータ、９……クレードルストッパ、10……
半導体ウエハ面、11……気流、21……クレードル位置決
めスペーサ。
装置の要部構成図、第２図は従来の半導体ウエハ遠心乾
燥装置の構成図、第３図は従来の半導体ウエハ遠心乾燥
装置のロータの構成図、第４図は従来の半導体ウエハ乾
燥状態の説明図、第５図は本発明の半導体ウエハ乾燥状
態の説明図、第６図は従来の半導体ウエハ乾燥方法によ
る乾燥能力の説明図、第７図は本発明の半導体ウエハ乾
燥方法による乾燥能力の説明図である。 １……ウエハ、２……キャリア、３……キャリア溝、４
……容器、５……クレードル、５−１……クレードル枢
支軸、６……ロータ、６−１……壁、７……ロータ回転
軸、θ……ロータ回転面と遠心乾燥装置面とのなす角
度、８……モータ、９……クレードルストッパ、10……
半導体ウエハ面、11……気流、21……クレードル位置決
めスペーサ。
Claims (2)
- 【請求項１】容器と、該容器内に回転可能に設けられる
ロータと、該ロータに設けられるクレードルと、該クレ
ードルに装着される半導体ウエハが収納される溝を有す
るキャリアを具備する半導体ウエハ遠心乾燥装置におい
て、半導体ウエハの回転時に半導体ウエハがキャリアの
溝内で振動を生じるのを阻止すべき角度にロータの半径
方向に対する半導体ウエハ面の傾斜手段を設けるように
したことを特徴とする半導体ウエハ遠心乾燥装置。 - 【請求項２】前記角度が2.5゜乃至30゜未満の範囲にあ
るように設定したことを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の半導体ウエハ遠心乾燥装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61136035A JPH0727885B2 (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 半導体ウエハ遠心乾燥装置 |
| US07/058,934 US4777732A (en) | 1986-06-12 | 1987-06-05 | Wafer centrifugal drying apparatus |
| FR878707983A FR2606498B1 (fr) | 1986-06-12 | 1987-06-09 | Procede et appareil de sechage de plaquettes par centrifugation |
| KR1019870005934A KR960000951B1 (ko) | 1986-06-12 | 1987-06-11 | 웨이퍼의 원심건조방법 및 장치 |
| US09/451,128 USRE37627E1 (en) | 1986-06-12 | 1999-11-30 | Wafer centrifugal drying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61136035A JPH0727885B2 (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 半導体ウエハ遠心乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62293617A JPS62293617A (ja) | 1987-12-21 |
| JPH0727885B2 true JPH0727885B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=15165655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61136035A Expired - Lifetime JPH0727885B2 (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-13 | 半導体ウエハ遠心乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0727885B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107185732A (zh) * | 2017-07-07 | 2017-09-22 | 合肥佳粮机械科技有限公司 | 一种固定旋转式瓶子水分脱离结构装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5756930A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-05 | Mitsubishi Electric Corp | Wafer washing and drying device |
| JPS6117732U (ja) * | 1984-07-07 | 1986-02-01 | 関西日本電気株式会社 | 遠心乾燥機 |
-
1986
- 1986-06-13 JP JP61136035A patent/JPH0727885B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62293617A (ja) | 1987-12-21 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |