JPS62293617A - 半導体ウエハ遠心乾燥装置 - Google Patents
半導体ウエハ遠心乾燥装置Info
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- JPS62293617A JPS62293617A JP61136035A JP13603586A JPS62293617A JP S62293617 A JPS62293617 A JP S62293617A JP 61136035 A JP61136035 A JP 61136035A JP 13603586 A JP13603586 A JP 13603586A JP S62293617 A JPS62293617 A JP S62293617A
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 abstract description 87
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
３、発明の詳細な説明
（産業上の利用分野）
本発明は、シリコンウェハの洗浄における乾燥工程にお
いて使用する遠心乾燥装置に関するものである。
いて使用する遠心乾燥装置に関するものである。
（従来の技術）
従来、ウェハの洗浄における乾燥工程においては遠心乾
燥装置が使用されている。
燥装置が使用されている。
第２図は係る遠心乾燥装置の構成図であり、この図に基
づいて従来のウェハ遠心乾燥装置について説明する。
づいて従来のウェハ遠心乾燥装置について説明する。
この図において、１はシリコンウェハであり、このウェ
ハ１はキャリア２に彫設されるカギ状のキャリア溝３に
収納される。なお、このキャリアａ３はウェハの厚さ２
乃至３倍の寸法を有しており、ウェハのキャリアへのロ
ード、アンロードを容易にするものである。４は円筒状
の容器、５はその容器４の中に設けられるステンレス類
のケース（以下、クレードルという）であり、これはウ
ェハ１が装填されたキャリア２を固定するために設けら
れている。６はクレードル５を回転できるようにローフ
回転軸７と一体になっているロータであり、この回転軸
７の下にはモータ８があり、このモータ８の駆動により
、ロータ６が回転し、遠心力によってウェハ上の水分が
飛散するように構成されている。
ハ１はキャリア２に彫設されるカギ状のキャリア溝３に
収納される。なお、このキャリアａ３はウェハの厚さ２
乃至３倍の寸法を有しており、ウェハのキャリアへのロ
ード、アンロードを容易にするものである。４は円筒状
の容器、５はその容器４の中に設けられるステンレス類
のケース（以下、クレードルという）であり、これはウ
ェハ１が装填されたキャリア２を固定するために設けら
れている。６はクレードル５を回転できるようにローフ
回転軸７と一体になっているロータであり、この回転軸
７の下にはモータ８があり、このモータ８の駆動により
、ロータ６が回転し、遠心力によってウェハ上の水分が
飛散するように構成されている。
第３図は従来のウェハ遠心乾燥装置のロータの構成図で
あり、第３図（ａ）はその上面図、第３図（ｂ）はその
部分側面図である。第３図（ｂ）においては、クレード
ルの垂直回転移動をも示している。
あり、第３図（ａ）はその上面図、第３図（ｂ）はその
部分側面図である。第３図（ｂ）においては、クレード
ルの垂直回転移動をも示している。
これらの図において、ロータ６は容器内に収納され、ロ
ータ６の上部は開口しており、容器の蓋に設けられたフ
ィルタを通してクリーンエアーをロータ６内に取り込み
、遠心力と共に気流をガイドとなる壁６−１に向かわせ
脱水する。５−１はクレードル５をロータに固定するた
めのクレードル枢支軸であり、この枢支軸５−１を回転
中心として、クレードル５は約９０＠回転可能である。
ータ６の上部は開口しており、容器の蓋に設けられたフ
ィルタを通してクリーンエアーをロータ６内に取り込み
、遠心力と共に気流をガイドとなる壁６−１に向かわせ
脱水する。５−１はクレードル５をロータに固定するた
めのクレードル枢支軸であり、この枢支軸５−１を回転
中心として、クレードル５は約９０＠回転可能である。
即ち、第３図（ｂ）の点線の位置Ａがロータ静止時、つ
まり、キャリアをクレードル５に装填する際のクレード
ルの位置であり、第３１ｍ（ｂ）の実線の位置Ｂがロー
タ回転時のクレードル位置である。このクレードル位置
Ｂはクレードルストッパ９によって決定され、この位置
は従来ではウェハ面とロータ回転面とが平行を成す位置
に設定されていた。
まり、キャリアをクレードル５に装填する際のクレード
ルの位置であり、第３１ｍ（ｂ）の実線の位置Ｂがロー
タ回転時のクレードル位置である。このクレードル位置
Ｂはクレードルストッパ９によって決定され、この位置
は従来ではウェハ面とロータ回転面とが平行を成す位置
に設定されていた。
なお、この種の従来技術として、例えば、特開昭５９−
３６９３０号公報、特開昭５７−１６０１３０号公報、
昭５６−８８２３号公報などが挙げられる。
３６９３０号公報、特開昭５７−１６０１３０号公報、
昭５６−８８２３号公報などが挙げられる。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、以上述べたウェハ遠心乾燥装置の回転時
のクレードル位置では、第４図に示されるように、ウェ
ハ面１０とほぼ平行に遠心力が加わるために、ウェハは
キャリア溝３に安定的に固定されず、ロータの回転によ
って発生する風、或いはクレードル振動によりウェハ１
がキャリア溝３内で点線で示されるように振動する。こ
のためにウェハ１とキャリア溝３との接触部から塵埃が
発生する。また、ウェハの振動によってウェハ周辺の気
流１１が不安定となり、気流による水分除去効果が小さ
くなり、ウェハ乾燥において満足できるものではなかっ
た。
のクレードル位置では、第４図に示されるように、ウェ
ハ面１０とほぼ平行に遠心力が加わるために、ウェハは
キャリア溝３に安定的に固定されず、ロータの回転によ
って発生する風、或いはクレードル振動によりウェハ１
がキャリア溝３内で点線で示されるように振動する。こ
のためにウェハ１とキャリア溝３との接触部から塵埃が
発生する。また、ウェハの振動によってウェハ周辺の気
流１１が不安定となり、気流による水分除去効果が小さ
くなり、ウェハ乾燥において満足できるものではなかっ
た。
本発明は、以上述べたウェハの振動を防止して塵埃発生
を低下させ、また、水分除去効果を高め得るウェハ遠心
乾燥装置を提供することを目的とする。
を低下させ、また、水分除去効果を高め得るウェハ遠心
乾燥装置を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、ウェハの遠心乾燥装置において、ロータ回転
面とウェハ面とが２．５°〜３０″の角度を成すように
、ロータ回転面に対するウェハの傾斜手段を設けるよう
にしたものである。
面とウェハ面とが２．５°〜３０″の角度を成すように
、ロータ回転面に対するウェハの傾斜手段を設けるよう
にしたものである。
（作用）
本発明によれば、ウェハ遠心乾燥装置において、ロータ
回転面とウェハ面とが２．５６〜３０″の角度を成すよ
うに、例えば、クレードルストッパとクレードル底との
間にスペーサを設けるようにしたので、ロータ回転時の
遠心力によってウェハがキャリア溝に安定的に固定され
、ウェハの振動が防止される。従って、ウェハ周辺の気
流は安定し、ウェハの水分除去効果を高めることができ
る。
回転面とウェハ面とが２．５６〜３０″の角度を成すよ
うに、例えば、クレードルストッパとクレードル底との
間にスペーサを設けるようにしたので、ロータ回転時の
遠心力によってウェハがキャリア溝に安定的に固定され
、ウェハの振動が防止される。従って、ウェハ周辺の気
流は安定し、ウェハの水分除去効果を高めることができ
る。
（実施例）
以下、本発明の実施例について図面を参照しながら詳細
に説明する。
に説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すウェハ遠心乾燥装置の
構成図である。
構成図である。
この図において、２１はロータ回転時のクレードル位置
決めスペーサであり、このスペーサ２１はキャリア２の
底面に固定し、ロータ回転軸７に垂直な面とウェハ面と
が角度θ、例えば、１１″の傾きを保ち、ウェハが装填
されたキャリア２が保持される。これによってロータ回
転時にこの角度θを保ちつつ、ウェハが回転し乾燥する
。この実施例においては、このスペーサ２１はキャリア
２の底面に固定しておき、クレードルストッパ９に当接
するようにしているが、スペーサはロータ側に固定する
ようにしてもよい。また、クレードルストッパの位置を
調整できるようにして角度θをバリアプルにしたり、ク
レードルの懸垂の仕方を変えたりすることにより、種々
の変形が可能である。
決めスペーサであり、このスペーサ２１はキャリア２の
底面に固定し、ロータ回転軸７に垂直な面とウェハ面と
が角度θ、例えば、１１″の傾きを保ち、ウェハが装填
されたキャリア２が保持される。これによってロータ回
転時にこの角度θを保ちつつ、ウェハが回転し乾燥する
。この実施例においては、このスペーサ２１はキャリア
２の底面に固定しておき、クレードルストッパ９に当接
するようにしているが、スペーサはロータ側に固定する
ようにしてもよい。また、クレードルストッパの位置を
調整できるようにして角度θをバリアプルにしたり、ク
レードルの懸垂の仕方を変えたりすることにより、種々
の変形が可能である。
この角度θを設けたことで第５図に示されるように、ウ
ェハ面に対して傾いた状態で遠心力がウェハに加えられ
、ウェハがキャリア溝３に安定に固定されることになり
、ウェハ１の振動が防止される。その結果、ウェハ１と
キャリアａ３との接触部からの塵埃発生が低下すること
になる。また、ウェハの振動が防止されることにより、
ウェハ１の周辺部の気流が安定し、その気流によるウェ
ハ１の水分除去効果が高まる。
ェハ面に対して傾いた状態で遠心力がウェハに加えられ
、ウェハがキャリア溝３に安定に固定されることになり
、ウェハ１の振動が防止される。その結果、ウェハ１と
キャリアａ３との接触部からの塵埃発生が低下すること
になる。また、ウェハの振動が防止されることにより、
ウェハ１の周辺部の気流が安定し、その気流によるウェ
ハ１の水分除去効果が高まる。
この角度θはロータ回転速度が１０００回転／回転圏転
軸とウェハ重心との距離が１９０１の場合は、ウェハに
加わる遠心力でウェハの振動を防止するためには２．５
°以上が必要である。又、３０”以上の傾きになると気
流がブロックされ、ウェハの背面の乾燥状態も悪くなる
（従来のウェハ乾燥装置の寸法では３０″以上の傾きに
なると、クレードル５が一部装置内壁に接触する）。従
うて、角度θは２，５°から３０″迄が適当である。な
お、実験によれば、ウェハの振動を防止するために必要
な最小角度θｍｉｎとロータの回転数は次の通りである
。
軸とウェハ重心との距離が１９０１の場合は、ウェハに
加わる遠心力でウェハの振動を防止するためには２．５
°以上が必要である。又、３０”以上の傾きになると気
流がブロックされ、ウェハの背面の乾燥状態も悪くなる
（従来のウェハ乾燥装置の寸法では３０″以上の傾きに
なると、クレードル５が一部装置内壁に接触する）。従
うて、角度θは２，５°から３０″迄が適当である。な
お、実験によれば、ウェハの振動を防止するために必要
な最小角度θｍｉｎとロータの回転数は次の通りである
。
このように、ウェハの遠心乾燥装置を構成した場合、例
えば、第１図に示すロータに１２５ｍｍφのウェハを装
填し、１０００回転／回転圏７０秒間回転する際に、ク
レードル位置決めスペーサ２１によってロータ回転面と
ウェハ面とが１１″を成すようにした本発明の実施例の
場合と従来方法の場合とを比較すると以下のようになる
。
えば、第１図に示すロータに１２５ｍｍφのウェハを装
填し、１０００回転／回転圏７０秒間回転する際に、ク
レードル位置決めスペーサ２１によってロータ回転面と
ウェハ面とが１１″を成すようにした本発明の実施例の
場合と従来方法の場合とを比較すると以下のようになる
。
（ａ）塵埃効果
ここでは、ウェハ上欠陥検査機によって、０．３μｍφ
以上の粒子数を評価した。その結果、（１）従来の方法
においては、 ロータの回転にてウェハ上に付着する粒子平均数＝３１
．５個／ウェハ（ｎ＝１２）であり、（２）本発明の方
法においては、 ロータの回転にてウェハ上に付着する粒子平均数−２４
，３個／ウェハ（ｎ＝１２）であった。
以上の粒子数を評価した。その結果、（１）従来の方法
においては、 ロータの回転にてウェハ上に付着する粒子平均数＝３１
．５個／ウェハ（ｎ＝１２）であり、（２）本発明の方
法においては、 ロータの回転にてウェハ上に付着する粒子平均数−２４
，３個／ウェハ（ｎ＝１２）であった。
（ｂ）水分除去効果
第６図及び第７図はロータを５回連続して回転し、その
内の水滴発生残り発生度数をヒストグラム表示したもの
である。その結果、従来方法においては、第６図に示さ
れるように、乾燥に１５０秒要するのに対し、本発明の
方法によれば、第７図に示されるように、５０秒で乾燥
可能である。
内の水滴発生残り発生度数をヒストグラム表示したもの
である。その結果、従来方法においては、第６図に示さ
れるように、乾燥に１５０秒要するのに対し、本発明の
方法によれば、第７図に示されるように、５０秒で乾燥
可能である。
従って、上記（ａ） 、 （ｂ）の理由により半導体装
置の歩留まりの向上、生産性の向上を図ることができる
ものである。
置の歩留まりの向上、生産性の向上を図ることができる
ものである。
なお、上記実施例によれば、代表な例として、ロータ回
転面とウェハ面との傾斜手段としてキャリアの底面とク
レードルストッパ間にスペーサを設けるようにしている
が、ウェハの出入口を上方にして斜めに切られた収納棚
を有するキャリアをクレードルに装着するようにしても
よい。
転面とウェハ面との傾斜手段としてキャリアの底面とク
レードルストッパ間にスペーサを設けるようにしている
が、ウェハの出入口を上方にして斜めに切られた収納棚
を有するキャリアをクレードルに装着するようにしても
よい。
また、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これ
らを本発明の範囲から排除するものではない。
（発明の効果）
以上、詳細に示されるように、本発明によれば、円筒状
の容器と、該容器内に回転可能に設けられるロータと、
８亥ロータに設けられるクレードルと、該クレードルに
装着されるウェハが収納されるキャリアとを有するウェ
ハ遠心乾燥装置において、ウェハの回転時に、前記ウェ
ハがキャリアの溝内で振動を生じるのを阻止すべき角度
にロータ回転面に対するウェハ面の傾斜手段を設けるよ
うにしたので、ロータ回転時の遠心力によってウェハが
キャリア溝に安定的に固定され、ウェハの振動が防止さ
れると共に、ウェハ周辺の気流は安定し、ウェハの水分
除去効果を高めることができる。従って、半導体装置の
歩留まり向上、生産性の向上に貢献できるものである。
の容器と、該容器内に回転可能に設けられるロータと、
８亥ロータに設けられるクレードルと、該クレードルに
装着されるウェハが収納されるキャリアとを有するウェ
ハ遠心乾燥装置において、ウェハの回転時に、前記ウェ
ハがキャリアの溝内で振動を生じるのを阻止すべき角度
にロータ回転面に対するウェハ面の傾斜手段を設けるよ
うにしたので、ロータ回転時の遠心力によってウェハが
キャリア溝に安定的に固定され、ウェハの振動が防止さ
れると共に、ウェハ周辺の気流は安定し、ウェハの水分
除去効果を高めることができる。従って、半導体装置の
歩留まり向上、生産性の向上に貢献できるものである。
第１図は本発明の一実施例を示すウェハ遠心乾燥装置の
要部構成図、第２図は従来のウェハ遠心乾燥装置の構成
図、第３図は従来のウェハ遠心乾燥装置のロータの構成
図、第４図は従来のウェハ乾燥状態の説明図、第５図は
本発明のウェハ乾燥状態の説明図、第６図は従来のウェ
ハ乾燥方法による乾燥能力の説明図、第７図は本発明の
ウェハ乾燥方法による乾燥能力の説明図である。 １・・・ウェハ、２・・・キャリア、３・・・キャリア
溝、４・・・容器、５・・・クレードル、５−１・・・
クレードル枢支軸、６・・・ロータ、６−１・・・壁、
７・・・ロータ回転軸、θ・・・ロータ回転面とウェハ
面とのなす角度、８・・・モータ、９・・・クレードル
ストッパ、１０・・・ウェハ面、１１・・・気流、２１
・・・クレードル位置決めスペーサ。 特許出願人 沖電気工業株式会社 （外１名）
要部構成図、第２図は従来のウェハ遠心乾燥装置の構成
図、第３図は従来のウェハ遠心乾燥装置のロータの構成
図、第４図は従来のウェハ乾燥状態の説明図、第５図は
本発明のウェハ乾燥状態の説明図、第６図は従来のウェ
ハ乾燥方法による乾燥能力の説明図、第７図は本発明の
ウェハ乾燥方法による乾燥能力の説明図である。 １・・・ウェハ、２・・・キャリア、３・・・キャリア
溝、４・・・容器、５・・・クレードル、５−１・・・
クレードル枢支軸、６・・・ロータ、６−１・・・壁、
７・・・ロータ回転軸、θ・・・ロータ回転面とウェハ
面とのなす角度、８・・・モータ、９・・・クレードル
ストッパ、１０・・・ウェハ面、１１・・・気流、２１
・・・クレードル位置決めスペーサ。 特許出願人 沖電気工業株式会社 （外１名）
Claims (2)
- （１）容器と、該容器内に回転可能に設けられるロータ
と、該ロータに設けられるクレードルと、該クレードル
に装着されるウェハが収納されるキャリアとを有するウ
ェハ遠心乾燥装置において、ウェハの回転時に前記ウェ
ハがキャリアの溝内で振動を生じるのを阻止すべき角度
にロータ回転面に対するウェハ面の傾斜手段を設けるよ
うにしたことを特徴とするウェハ遠心乾燥装置。 - （２）前記角度が２．５°乃至３０°の範囲にあるよう
に設定したことを特徴とするウェハ遠心乾燥装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61136035A JPH0727885B2 (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 半導体ウエハ遠心乾燥装置 |
| US07/058,934 US4777732A (en) | 1986-06-12 | 1987-06-05 | Wafer centrifugal drying apparatus |
| FR878707983A FR2606498B1 (fr) | 1986-06-12 | 1987-06-09 | Procede et appareil de sechage de plaquettes par centrifugation |
| KR1019870005934A KR960000951B1 (ko) | 1986-06-12 | 1987-06-11 | 웨이퍼의 원심건조방법 및 장치 |
| US09/451,128 USRE37627E1 (en) | 1986-06-12 | 1999-11-30 | Wafer centrifugal drying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61136035A JPH0727885B2 (ja) | 1986-06-13 | 1986-06-13 | 半導体ウエハ遠心乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62293617A true JPS62293617A (ja) | 1987-12-21 |
| JPH0727885B2 JPH0727885B2 (ja) | 1995-03-29 |
Family
ID=15165655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61136035A Expired - Lifetime JPH0727885B2 (ja) | 1986-06-12 | 1986-06-13 | 半導体ウエハ遠心乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0727885B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107185732A (zh) * | 2017-07-07 | 2017-09-22 | 合肥佳粮机械科技有限公司 | 一种固定旋转式瓶子水分脱离结构装置 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5756930A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-05 | Mitsubishi Electric Corp | Wafer washing and drying device |
| JPS6117732U (ja) * | 1984-07-07 | 1986-02-01 | 関西日本電気株式会社 | 遠心乾燥機 |
-
1986
- 1986-06-13 JP JP61136035A patent/JPH0727885B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5756930A (en) * | 1980-09-22 | 1982-04-05 | Mitsubishi Electric Corp | Wafer washing and drying device |
| JPS6117732U (ja) * | 1984-07-07 | 1986-02-01 | 関西日本電気株式会社 | 遠心乾燥機 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107185732A (zh) * | 2017-07-07 | 2017-09-22 | 合肥佳粮机械科技有限公司 | 一种固定旋转式瓶子水分脱离结构装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0727885B2 (ja) | 1995-03-29 |
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Legal Events
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |