JPS629635A - 半導体ウエハの回転乾燥装置 - Google Patents
半導体ウエハの回転乾燥装置Info
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- JPS629635A JPS629635A JP60148331A JP14833185A JPS629635A JP S629635 A JPS629635 A JP S629635A JP 60148331 A JP60148331 A JP 60148331A JP 14833185 A JP14833185 A JP 14833185A JP S629635 A JPS629635 A JP S629635A
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- turntable
- gravity
- turn table
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
- H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H01L21/67034—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/08—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by centrifugal treatment
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、洗浄処理後の乾燥に好適な半導体ウェハの
回転乾燥装置に関する。
回転乾燥装置に関する。
（従来の技術）
半導体ウェハの洗浄・乾燥工程は、一連の自動化により
著しく処理能力が向上している。処理方法としては、半
導体ウェハを２０枚前後収納したキャリアｔ−２佃単位
で洗浄・乾燥処理するのが主流である。この工程で使用
される乾燥装置は、密閉容器内に半導体ウェハを収納し
たキャリアをセットし、回転によって水分を吹き飛ばす
回転乾燥型が一般的である。この種の例は特開昭５５−
１５４７３６号、同５６−８８２３号に記載されている
。
著しく処理能力が向上している。処理方法としては、半
導体ウェハを２０枚前後収納したキャリアｔ−２佃単位
で洗浄・乾燥処理するのが主流である。この工程で使用
される乾燥装置は、密閉容器内に半導体ウェハを収納し
たキャリアをセットし、回転によって水分を吹き飛ばす
回転乾燥型が一般的である。この種の例は特開昭５５−
１５４７３６号、同５６−８８２３号に記載されている
。
第３図は従来のスピン型乾燥装置を示す概略説明図であ
る。このスピン型乾燥装置は、容器１０、駆動モータ１
２、ターンテーブル１４、クレードル支持部材１６、ク
レードル１８、クレードル起こし２２からなる。容器１
０の底部には駆動モータ１２が取付られ、駆動モータ１
２の回転軸に円形のターンテーブル１４が固着されてい
る。ターンテーブル１４の上面には、１対の板状のクレ
ードル支持部材１６を介してクレードル１８が回転可能
に吊り下げられている。クレードル１８は駆動モータ１
２の軸対称位置に２基設けられている。
る。このスピン型乾燥装置は、容器１０、駆動モータ１
２、ターンテーブル１４、クレードル支持部材１６、ク
レードル１８、クレードル起こし２２からなる。容器１
０の底部には駆動モータ１２が取付られ、駆動モータ１
２の回転軸に円形のターンテーブル１４が固着されてい
る。ターンテーブル１４の上面には、１対の板状のクレ
ードル支持部材１６を介してクレードル１８が回転可能
に吊り下げられている。クレードル１８は駆動モータ１
２の軸対称位置に２基設けられている。
また、クレードル１８の姿勢転換装置として、容器１
４部から進退するクレードル起こし２２が設置ｉｌｌさ
れている。
４部から進退するクレードル起こし２２が設置ｉｌｌさ
れている。
第４図は、第３図に示すクレードル１８の斜視図である
。クレードル１８は１つの開口１９を持つ箱であシ、外
側に１対の回転軸２０が固着されている。クレードル１
８はこの回転軸２０をクレードル支持部材Ｉ６の穴１７
に通して吊り下けられる。回転軸２０の取付位置は、ク
レードル１８の底部近傍とするのが一般的である。これ
は、以下の記述で明らかなようにクレードル１８の垂直
姿勢を容易に得るためである。
。クレードル１８は１つの開口１９を持つ箱であシ、外
側に１対の回転軸２０が固着されている。クレードル１
８はこの回転軸２０をクレードル支持部材Ｉ６の穴１７
に通して吊り下けられる。回転軸２０の取付位置は、ク
レードル１８の底部近傍とするのが一般的である。これ
は、以下の記述で明らかなようにクレードル１８の垂直
姿勢を容易に得るためである。
このスピン型乾燥装置にキャリアをセットするには、次
のようにして行われる。
のようにして行われる。
まず、ターンテーブル１４を動かし、クレードル１８の
一方がクレードル起こし２２に対向する位置で停止する
。クレードル起こし２２をクレードル１８の底面に押し
当て、クレードル１８が水平になったところで止める。
一方がクレードル起こし２２に対向する位置で停止する
。クレードル起こし２２をクレードル１８の底面に押し
当て、クレードル１８が水平になったところで止める。
半導体ウェハを搭載したキャリア（図示せず）をクレー
ドル１８の開口１９から挿入する。クレードル起こし２
２を後退させるとクレードル１８が下方に回転し、ター
ンテーブル１４に設けられた突当部材１５に当たって停
止する。クレードル１８はほぼ垂直に吊り下げられる。
ドル１８の開口１９から挿入する。クレードル起こし２
２を後退させるとクレードル１８が下方に回転し、ター
ンテーブル１４に設けられた突当部材１５に当たって停
止する。クレードル１８はほぼ垂直に吊り下げられる。
次に、ターンテーブル１４を半回転させ、もう一方のク
レー、ドル１８にも上記と同様にしてキャリアをセット
する。そして、ターンテーブル１４に連結した駆動モー
タ１２を高速回転させ半導体ウェハの水分を除去する。
レー、ドル１８にも上記と同様にしてキャリアをセット
する。そして、ターンテーブル１４に連結した駆動モー
タ１２を高速回転させ半導体ウェハの水分を除去する。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、上記の半導体ウェハの回転乾燥装置は、
クレードル起こしを持つことから次のような問題がある
。
クレードル起こしを持つことから次のような問題がある
。
（ａ） 容器とクレードル起こしとのシール部におい
て密閉状態を保つことができない。
て密閉状態を保つことができない。
（ｂ） 外部からクレードル起こしが容器内に進退す
るので、容器内のクリーン度を下げる。
るので、容器内のクリーン度を下げる。
（Ｃ）装置構成が複雑になシ、また装置全体が大聖にな
る。
る。
（問題点を解決するための手段）
上記の問題点を解決するため本発明の半導体ウェハの回
転乾燥装置は、 （ａ） ターンテーブルと、 （ｂ） ターンテーブルに固定されたクレードル支持
部材と、（ｃ） 重心より上方であって１重心よりタ
ーンテーブルの中心に近い位置に設けられた回転軸によ
りフレ−ドル支持部材に吊り下げられ、ターンテーブル
と直交する面に沿って回転可能なクレードルと、 （ｄ） ターンテーブル停止時にクレードルに当たシ
、クレードルを水平に保つ位置に設けられた突当部材と
を具備する。
転乾燥装置は、 （ａ） ターンテーブルと、 （ｂ） ターンテーブルに固定されたクレードル支持
部材と、（ｃ） 重心より上方であって１重心よりタ
ーンテーブルの中心に近い位置に設けられた回転軸によ
りフレ−ドル支持部材に吊り下げられ、ターンテーブル
と直交する面に沿って回転可能なクレードルと、 （ｄ） ターンテーブル停止時にクレードルに当たシ
、クレードルを水平に保つ位置に設けられた突当部材と
を具備する。
（作用）
本発明の半導体ウェハの回転乾燥装置は、ターンテーブ
ル停止時には重力の作用でクレードルが水平になル、タ
ーンテーブル回転時は遠心力にょシフレ−ドルがほぼ垂
直になる。
ル停止時には重力の作用でクレードルが水平になル、タ
ーンテーブル回転時は遠心力にょシフレ−ドルがほぼ垂
直になる。
（実施例）
第１図は本発明の実施例を示す半導体ウェハの回転乾燥
装置の概略説明図である。この半導体ウェハの回転乾燥
装置は、容器１０．駆動モータ１２、ターンテーブル１
４．クレードル指示部材１６、クレードル１８からなる
。容器１ｏの底部には駆動モータ１２が取シ付けられ、
駆動モータ１２の回転軸に円形のターンテーブル１４が
固着されている。ターンテーブル１４の上面には、１対
の板状のクレードル指示部材１６を介してクレードル１
８が回転可能に吊り下げられている。クレードル１８は
駆動子−夕１２の軸対称位置に２基設けられている。
装置の概略説明図である。この半導体ウェハの回転乾燥
装置は、容器１０．駆動モータ１２、ターンテーブル１
４．クレードル指示部材１６、クレードル１８からなる
。容器１ｏの底部には駆動モータ１２が取シ付けられ、
駆動モータ１２の回転軸に円形のターンテーブル１４が
固着されている。ターンテーブル１４の上面には、１対
の板状のクレードル指示部材１６を介してクレードル１
８が回転可能に吊り下げられている。クレードル１８は
駆動子−夕１２の軸対称位置に２基設けられている。
第１図はターンテーブル１４を停止させ、半導体ウェハ
（図示せず）を搭載したキャリア２４をクレードル１８
にセットした状態を示す。
（図示せず）を搭載したキャリア２４をクレードル１８
にセットした状態を示す。
クレードル１８は外側に１対の回転軸２０が固着されて
いる。クレードル１８はこの回転軸２０をクレードル指
示部材１６０穴１７に通して吊り下げられる。第１図の
如く回転軸２０は、キャリア２４をセットしたときのク
レードル１８の重心３０より上方であって、かつ重心３
０よりターンテーブルの中心に近い位置に取シ付けられ
ている。
いる。クレードル１８はこの回転軸２０をクレードル指
示部材１６０穴１７に通して吊り下げられる。第１図の
如く回転軸２０は、キャリア２４をセットしたときのク
レードル１８の重心３０より上方であって、かつ重心３
０よりターンテーブルの中心に近い位置に取シ付けられ
ている。
回転軸２０の取シ付は位置に起因して、ターンテーブル
１４停止時はクレードル１８が互いに近ずく方向に傾斜
しようとする。これを押さえるためクレードル１８間に
突当部材１５を取シ付けている。
１４停止時はクレードル１８が互いに近ずく方向に傾斜
しようとする。これを押さえるためクレードル１８間に
突当部材１５を取シ付けている。
このようにすると、キャリア２４をクレードル１８にセ
ットするとき、すなわちターンテーブル１４を停止させ
たときには、クレードル１８は重力の分力により突当部
材１５に当たって水平に支持される。また、回転乾燥を
行うとき、すなわちターンテーブル１４が回転している
ときは、第２図に示すようにクレードル１８は遠心力に
より外方に振シ回されほぼ垂直になる。そして、キャリ
ア２４内の半導体ウェハはほぼ水平に保たれる。
ットするとき、すなわちターンテーブル１４を停止させ
たときには、クレードル１８は重力の分力により突当部
材１５に当たって水平に支持される。また、回転乾燥を
行うとき、すなわちターンテーブル１４が回転している
ときは、第２図に示すようにクレードル１８は遠心力に
より外方に振シ回されほぼ垂直になる。そして、キャリ
ア２４内の半導体ウェハはほぼ水平に保たれる。
以上、クレードル１８に回転軸２０を取シ付けた例に基
づいて説明したが１例えばクレードル支持部材１６に回
転軸２０を取り付け、クレードル１８にはその軸受けを
設けたものであっても構わない。
づいて説明したが１例えばクレードル支持部材１６に回
転軸２０を取り付け、クレードル１８にはその軸受けを
設けたものであっても構わない。
（発明の効果）
以上のように本発明の半導体ウェハの回転乾燥装置は、
ターンテーブル停止時には重力の作用によりフレ−ドル
が水平になり、ターンテーブル回転時は遠心力によりフ
レ−ドルがほぼ垂直になる。
ターンテーブル停止時には重力の作用によりフレ−ドル
が水平になり、ターンテーブル回転時は遠心力によりフ
レ−ドルがほぼ垂直になる。
従って、クレードルの姿勢転換を行うクレードル起こし
が不要であシ次のような効果がある。
が不要であシ次のような効果がある。
（ａ） 容器内をクリーンに保つことができる。
伽）従来に比べ装置構成が簡素になシ、装置全体が小型
になる。
になる。
（Ｃ）乾燥工程に要する時間を短縮できる。
第１図および第２図は、本発明の実施例を示す半導体つ
°エバの回転転、燥装置の概略説明図である。 第３図は従来の半導体ウエノ・の回転乾燥装置の概略説
明図、第４図は第゛３図に示すクレードルの斜視図であ
る。 １０・・・容器、１２・・・駆動モータ、１４・・・タ
ーンテーブル、１５・・・突当部材、１６・・・クレー
ドル支持部材、１７・・・穴、１８・・・クレードル、
１９・・・開口、２０・・・回転軸、２２・・・クレー
ドル起こし、２４・・・キャリア、３０・・・重心。 特許出願人 沖電気工業株式会社 第１図 Ｘ発明、キ暮体つ１７．１回転粍燻飲置第２図
°エバの回転転、燥装置の概略説明図である。 第３図は従来の半導体ウエノ・の回転乾燥装置の概略説
明図、第４図は第゛３図に示すクレードルの斜視図であ
る。 １０・・・容器、１２・・・駆動モータ、１４・・・タ
ーンテーブル、１５・・・突当部材、１６・・・クレー
ドル支持部材、１７・・・穴、１８・・・クレードル、
１９・・・開口、２０・・・回転軸、２２・・・クレー
ドル起こし、２４・・・キャリア、３０・・・重心。 特許出願人 沖電気工業株式会社 第１図 Ｘ発明、キ暮体つ１７．１回転粍燻飲置第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （ａ）ターンテーブルと、 （ｂ）該ターンテーブルに固定されたクレードル支持部
材と、 （ｃ）重心より上方であって、重心より該ターンテーブ
ルの中心に近い位置に設けられた回転軸により該クレー
ドル支持部材に吊り下げられ、該ターンテーブルと直交
する面にそって回転可能なクレードルと、 （ｄ）該ターンテーブル停止時に該クレードルに当たり
、クレードルを水平に保つ位置に設けられた突当部材と
、 を具備することを特徴とする半導体ウェハの回転乾燥装
置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148331A JPS629635A (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 半導体ウエハの回転乾燥装置 |
| US06/883,696 US4677759A (en) | 1985-07-08 | 1986-07-08 | Rotary drier apparatus for semiconductor wafers |
| FR8609889A FR2584483B1 (fr) | 1985-07-08 | 1986-07-08 | Appareil secheur tournant pour plaquettes de semi-conducteurs. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60148331A JPS629635A (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 半導体ウエハの回転乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS629635A true JPS629635A (ja) | 1987-01-17 |
Family
ID=15450384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60148331A Pending JPS629635A (ja) | 1985-07-08 | 1985-07-08 | 半導体ウエハの回転乾燥装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4677759A (ja) |
| JP (1) | JPS629635A (ja) |
| FR (1) | FR2584483B1 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01129826U (ja) * | 1988-02-27 | 1989-09-04 | ||
| USRE37627E1 (en) | 1986-06-12 | 2002-04-09 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Wafer centrifugal drying apparatus |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0729630Y2 (ja) * | 1986-05-09 | 1995-07-05 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板の回転乾燥装置 |
| JPH069499Y2 (ja) * | 1987-06-23 | 1994-03-09 | 黒谷 信子 | 半導体材料の水切乾燥装置 |
| JPH069501Y2 (ja) * | 1988-09-27 | 1994-03-09 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 基板の回転乾燥装置 |
| US4989345A (en) * | 1989-12-18 | 1991-02-05 | Gill Jr Gerald L | Centrifugal spin dryer for semiconductor wafer |
| JP3190929B2 (ja) * | 1992-10-26 | 2001-07-23 | 保 目崎 | 半導体材料の水切乾燥装置 |
| US6742279B2 (en) * | 2002-01-16 | 2004-06-01 | Applied Materials Inc. | Apparatus and method for rinsing substrates |
| WO2004011863A1 (de) * | 2002-07-23 | 2004-02-05 | Austria Wirtschaftsservice Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Verfahren und vorrichtung zur beschleunigten entfeuchtung von porösen feststoffen, insbesondere papier |
| WO2007084952A2 (en) | 2006-01-18 | 2007-07-26 | Akrion Technologies, Inc. | Systems and methods for drying a rotating substrate |
| US11840715B2 (en) | 2020-06-30 | 2023-12-12 | Microsoft Technology Licensing, Llc | Microelectrode array with a switchable hydrophilic surface |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB527712A (ja) * | 1900-01-01 | |||
| FR2421568A1 (fr) * | 1978-04-06 | 1979-11-02 | Bonnet Rene | Essoreuse centrifuge a paniers perfores pivotants pour produits alimentaires d'origine vegetale |
| JPS55154736A (en) * | 1979-05-23 | 1980-12-02 | Sigma Gijutsu Kogyo Kk | Centrifugal drier |
| JPS568823A (en) * | 1979-07-04 | 1981-01-29 | Nec Corp | Automatic continuous centrifugal drying apparatus for wafer |
| US4310119A (en) * | 1979-08-16 | 1982-01-12 | Culhane Vernon C | Honey extractor |
| US4313266A (en) * | 1980-05-01 | 1982-02-02 | The Silicon Valley Group, Inc. | Method and apparatus for drying wafers |
| US4525938A (en) * | 1984-01-09 | 1985-07-02 | Seiichiro Aigo | Spin drier for semiconductor material |
-
1985
- 1985-07-08 JP JP60148331A patent/JPS629635A/ja active Pending
-
1986
- 1986-07-08 FR FR8609889A patent/FR2584483B1/fr not_active Expired
- 1986-07-08 US US06/883,696 patent/US4677759A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE37627E1 (en) | 1986-06-12 | 2002-04-09 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Wafer centrifugal drying apparatus |
| JPH01129826U (ja) * | 1988-02-27 | 1989-09-04 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4677759A (en) | 1987-07-07 |
| FR2584483A1 (fr) | 1987-01-09 |
| FR2584483B1 (fr) | 1989-11-24 |
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