JPH0729630Y2 - 基板の回転乾燥装置 - Google Patents
基板の回転乾燥装置Info
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- JPH0729630Y2 JPH0729630Y2 JP1986070586U JP7058686U JPH0729630Y2 JP H0729630 Y2 JPH0729630 Y2 JP H0729630Y2 JP 1986070586 U JP1986070586 U JP 1986070586U JP 7058686 U JP7058686 U JP 7058686U JP H0729630 Y2 JPH0729630 Y2 JP H0729630Y2
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- JP
- Japan
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- chamber
- air
- exhaust
- substrate
- shaft
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
- H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
- F26B5/08—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by centrifugal treatment
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この考案は半導体基板およびガラス等の板状体（以下、
基板と称する）を高速回転させて乾燥する基板の回転乾
燥装置に関し、さらに詳しくは乾燥室をその内部に形成
するケーシング内に回転体を設け、この回転体の回転に
よる遠心力で、回転体に装着した収納ケース内の基板に
付着した水滴を飛散させるとともに、このケーシングの
上部開口から空気等を吸入して、基板の乾燥に使用し、
その水滴を含んだ空気等をケーシング外に排出するよう
に構成した基板の回転乾燥装置に関する。
基板と称する）を高速回転させて乾燥する基板の回転乾
燥装置に関し、さらに詳しくは乾燥室をその内部に形成
するケーシング内に回転体を設け、この回転体の回転に
よる遠心力で、回転体に装着した収納ケース内の基板に
付着した水滴を飛散させるとともに、このケーシングの
上部開口から空気等を吸入して、基板の乾燥に使用し、
その水滴を含んだ空気等をケーシング外に排出するよう
に構成した基板の回転乾燥装置に関する。
このような基板の回転乾燥装置においては、基板の乾燥
に使用された空気等は、チャンバ内を円周方向に流れて
排気ダクトを通って排出されるが、チャンバの周壁には
水滴が付着し、それと共に微細な塵埃等も付着する。し
かるに、上記のチャンバ内を流れる空気は、全てが円周
方向に流れるとは限らず、その一部が、チャンバの下方
から、上方に巻き上がる乱流や周壁からのはね返りを生
じ、こうした気流が水分や塵埃を再び基板に持ち返り、
乾燥効率を下げ、かつ、基板の洗浄効果を阻害するとい
う欠点がある。
に使用された空気等は、チャンバ内を円周方向に流れて
排気ダクトを通って排出されるが、チャンバの周壁には
水滴が付着し、それと共に微細な塵埃等も付着する。し
かるに、上記のチャンバ内を流れる空気は、全てが円周
方向に流れるとは限らず、その一部が、チャンバの下方
から、上方に巻き上がる乱流や周壁からのはね返りを生
じ、こうした気流が水分や塵埃を再び基板に持ち返り、
乾燥効率を下げ、かつ、基板の洗浄効果を阻害するとい
う欠点がある。
このような欠点を解消するものとして従来より例えば、
第４図に示すものが提案されている（特開昭60−59740
号公報）。
第４図に示すものが提案されている（特開昭60−59740
号公報）。
それは、ケーシング101内に、乾燥室102を形成し、この
乾燥室102内に、複数の基板収納ケース111を装着した回
転体108を設け、ケーシング101の上部に蓋体103を設
け、その蓋体103には外気又はN2ガス等の不活性ガス
（以下単に空気という）を取入れる空気取入口104を開
口させ、ケーシング101の下部に排気口106を設け、空気
取入口104から流入した空気が、この排気口106を経て、
排気ダクト107から排出されるように構成するととも
に、回転体108のベース部材を羽根車113で構成し、それ
によって、上方から下方への空気の円滑な流れを促進す
るようにしたものである。なお符号115は下降気流の案
内羽根である。
乾燥室102内に、複数の基板収納ケース111を装着した回
転体108を設け、ケーシング101の上部に蓋体103を設
け、その蓋体103には外気又はN2ガス等の不活性ガス
（以下単に空気という）を取入れる空気取入口104を開
口させ、ケーシング101の下部に排気口106を設け、空気
取入口104から流入した空気が、この排気口106を経て、
排気ダクト107から排出されるように構成するととも
に、回転体108のベース部材を羽根車113で構成し、それ
によって、上方から下方への空気の円滑な流れを促進す
るようにしたものである。なお符号115は下降気流の案
内羽根である。
上記従来例のものは、以前のものに比較してすぐれたも
のであるが、近時の半導体技術においては基板の品質に
ついてさらに高いレベルが要請されるようになり、上記
従来例のものでも、なおその要請に応えるのに十分とは
言えない。
のであるが、近時の半導体技術においては基板の品質に
ついてさらに高いレベルが要請されるようになり、上記
従来例のものでも、なおその要請に応えるのに十分とは
言えない。
その理由は、回転体108の駆動軸110とその軸受部114と
の間で摩耗による塵埃が発生すること、軸受部114をシ
ール部材でシールしても微細な塵埃の発生を防止できな
いこと、また、この軸受部114は空気の流れが十分では
ないため、淀みとなって、発生した塵埃が排除されにく
いこと、さらに前記した乱流を皆無にすることだできな
いために、このような塵埃が、乱流に乗って再び基板に
付着するものと考えられる。
の間で摩耗による塵埃が発生すること、軸受部114をシ
ール部材でシールしても微細な塵埃の発生を防止できな
いこと、また、この軸受部114は空気の流れが十分では
ないため、淀みとなって、発生した塵埃が排除されにく
いこと、さらに前記した乱流を皆無にすることだできな
いために、このような塵埃が、乱流に乗って再び基板に
付着するものと考えられる。
本考案は、このような事情に鑑みてなされたもので、そ
の目的は軸受部に発生した塵埃が再び乱流に乗って基板
に付着しないようにし、完全にケーシングの外に排出す
るように構成した基板の回転乾燥装置を提供することで
ある。
の目的は軸受部に発生した塵埃が再び乱流に乗って基板
に付着しないようにし、完全にケーシングの外に排出す
るように構成した基板の回転乾燥装置を提供することで
ある。
本考案は、上記目的を達成するために冒述した基板の回
転乾燥装置において、 回転体の駆動軸の軸受部を取り囲むように軸部排気チャ
ンバを設け、この軸部排気チャンバは駆動軸が遊嵌する
連通口とチャンバ排気ダクトとを備え、前記駆動軸又は
回転体に送風羽根を付設するとともに、当該送風羽根を
前記軸部排気チャンバ内に配置し、乾燥室内の空気の一
部を連通口より吸入してチャンバ排気ダクトより排出す
ることにより軸受部に発生した塵埃を完全にケーシング
の外へ排出するようにしたことを特徴とするものであ
る。
転乾燥装置において、 回転体の駆動軸の軸受部を取り囲むように軸部排気チャ
ンバを設け、この軸部排気チャンバは駆動軸が遊嵌する
連通口とチャンバ排気ダクトとを備え、前記駆動軸又は
回転体に送風羽根を付設するとともに、当該送風羽根を
前記軸部排気チャンバ内に配置し、乾燥室内の空気の一
部を連通口より吸入してチャンバ排気ダクトより排出す
ることにより軸受部に発生した塵埃を完全にケーシング
の外へ排出するようにしたことを特徴とするものであ
る。
回転体の駆動軸の軸受部は軸部排気チャンバによって囲
われており、しかも軸部排気チャンバには、上記駆動軸
のまわりの連通口から、絶えず乾燥室内の空気の一部が
流入しており、軸受部に発生した塵埃はこの気流に乗っ
て、チャンバ排気ダクトより排出される。
われており、しかも軸部排気チャンバには、上記駆動軸
のまわりの連通口から、絶えず乾燥室内の空気の一部が
流入しており、軸受部に発生した塵埃はこの気流に乗っ
て、チャンバ排気ダクトより排出される。
特に本考案では送風羽根が軸部排気チャンバ内に配置さ
れているので、この送風羽根が回転体と同期して回転
し、軸部付近の空気を強力にチャンバ排気ダクトへ導
く。
れているので、この送風羽根が回転体と同期して回転
し、軸部付近の空気を強力にチャンバ排気ダクトへ導
く。
これにより、乾燥室内の気圧と軸部排気チャンバ内の気
圧とが同圧となるような場合でも、軸受部より発生する
塵埃が乾燥室内へ流入して基板に付着することがなくな
る。
圧とが同圧となるような場合でも、軸受部より発生する
塵埃が乾燥室内へ流入して基板に付着することがなくな
る。
以下本考案の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は第１の実施例による基板の回転乾燥装置の縦断
面図であり、第２図は、第１図のII−II線要部矢視平面
図である。
面図であり、第２図は、第１図のII−II線要部矢視平面
図である。
これらの図において、符号１は乾燥室２を形成するケー
シング、３はケーシング１の蓋体、４は蓋体３に開口さ
れた空気取入口であり、この空気取入口４には、除塵フ
ィルタ５が装着されている。符号６はケーシング１の下
部周壁に開口された排気口で、この排気口６は、排気ダ
クト７を介して、図外の強制排気手段と連結されてい
る。符号８は、乾燥室２内に設けられ、駆動軸10によっ
て回転される回転体であり、この回転体８には基板収納
ケース11を保持するケースホルダー12が揺動自在にか
つ、回転基台13上に着座するように設けされており、蓋
体３を開いた状態で、基板収納ケース11をケースホルダ
ー12に着脱することができるようになっている。
シング、３はケーシング１の蓋体、４は蓋体３に開口さ
れた空気取入口であり、この空気取入口４には、除塵フ
ィルタ５が装着されている。符号６はケーシング１の下
部周壁に開口された排気口で、この排気口６は、排気ダ
クト７を介して、図外の強制排気手段と連結されてい
る。符号８は、乾燥室２内に設けられ、駆動軸10によっ
て回転される回転体であり、この回転体８には基板収納
ケース11を保持するケースホルダー12が揺動自在にか
つ、回転基台13上に着座するように設けされており、蓋
体３を開いた状態で、基板収納ケース11をケースホルダ
ー12に着脱することができるようになっている。
次に、本考案の特徴的構造について説明する。
回転体８の駆動軸10の軸受部14を取囲むように軸部排気
チャンバ15を設ける。この軸部排気チャンバ15は、軸受
部14を上側から覆う上側ケース16と、軸受部14を下側か
ら覆う下側ケース17とをそれぞれケーシング底板1aに固
設して形成され、この両ケース16・17で囲まれた底板1a
の部分には、多数の通気孔18をあけてチャンバ内を連通
させてある。
チャンバ15を設ける。この軸部排気チャンバ15は、軸受
部14を上側から覆う上側ケース16と、軸受部14を下側か
ら覆う下側ケース17とをそれぞれケーシング底板1aに固
設して形成され、この両ケース16・17で囲まれた底板1a
の部分には、多数の通気孔18をあけてチャンバ内を連通
させてある。
また、上側ケース16には、駆動軸10が遊嵌するととも
に、駆動軸10のまわりから、乾燥室２の空気の一部を吸
入する連通口20をあけ、下側ケース17には、チャンバ排
気ダクト21を設ける。
に、駆動軸10のまわりから、乾燥室２の空気の一部を吸
入する連通口20をあけ、下側ケース17には、チャンバ排
気ダクト21を設ける。
軸部排気チャンバ15内の駆動軸部分には送風羽根22が設
けてあり、この送風羽根22が駆動軸10と同期して回転
し、軸部付近の空気を強力にチャンバ排気ダクト21へ導
くようにしてある。
けてあり、この送風羽根22が駆動軸10と同期して回転
し、軸部付近の空気を強力にチャンバ排気ダクト21へ導
くようにしてある。
なお、チャンバ排気ダクト21は、前記ケーシング１の排
気ダクト７と共通の図外の強制排気手段に連通可能であ
り、かかる場合において、乾燥室２内の気圧と軸部排気
チャンバ15内の気圧とが同圧になるような場合でも、上
記のように軸部排気チャンバ15内に送風羽根22を設ける
ことにより、軸受部14より発生する塵埃が乾燥室内へ流
入して基板に付着することは完全になくなる。
気ダクト７と共通の図外の強制排気手段に連通可能であ
り、かかる場合において、乾燥室２内の気圧と軸部排気
チャンバ15内の気圧とが同圧になるような場合でも、上
記のように軸部排気チャンバ15内に送風羽根22を設ける
ことにより、軸受部14より発生する塵埃が乾燥室内へ流
入して基板に付着することは完全になくなる。
第３図は本考案の第２の実施例を示し、第１図と同一の
符号は同一部材を表わす。この図において送風羽根22a
は回転基台13の下面に付設されるとともに、この送風羽
根22aを、連通口20から軸部排気チャンバ15内へ突入さ
せて設けてある。なお、この図において軸受部14の上端
にはラビリンス・シールが嵌着してある。
符号は同一部材を表わす。この図において送風羽根22a
は回転基台13の下面に付設されるとともに、この送風羽
根22aを、連通口20から軸部排気チャンバ15内へ突入さ
せて設けてある。なお、この図において軸受部14の上端
にはラビリンス・シールが嵌着してある。
ちなみに、上記第１〜第２の実施例による塵埃の測定結
果を例示すると、次の如くである。
果を例示すると、次の如くである。
設定条件を以下のように定める。
（イ）回転体６の回転数1000r.p.m （ロ）排気ダクト７の排気量９m3/min （ハ）チャンバ排気ダクト21の排気量５m3/min （ニ）排気口近傍のＰ点にダストカウンタのピックアッ
プチューブを設定し、8.3l中の0.3μｍ以上の塵埃を計
測する。
プチューブを設定し、8.3l中の0.3μｍ以上の塵埃を計
測する。
ダストカウンタによる測定結果は次の通りである。
（イ）軸部排気チャンバを設けない場合272個 （ロ）上記実施例のものではいずれも０〜４個 なお、軸部排気チャンバ15内の空気が乾燥室２内へ逆流
しないように、排気ダクト７とチャンバ排気ダクト21と
の排気量を上記のように適宜調整する。
しないように、排気ダクト７とチャンバ排気ダクト21と
の排気量を上記のように適宜調整する。
本考案によれば、前記のように回転体の駆動軸の軸受部
を取囲むように軸部排気チャンバを設け、この軸部排気
チャンバ内に前記回転体と同期して回転する送風羽根を
付設し、乾燥室内の空気の一部を連通口より吸入してチ
ャンバ排気ダクトより排出するように構成したから、乾
燥室２内の気圧と軸部排気チャンバ15内の気圧とが同圧
になる場合でも、軸受部14より発生する塵埃が乾燥室内
へ流入して基板に付着することが完全になくなる。これ
により基板の乾燥処理における品質を極めて向上させる
ことができる。
を取囲むように軸部排気チャンバを設け、この軸部排気
チャンバ内に前記回転体と同期して回転する送風羽根を
付設し、乾燥室内の空気の一部を連通口より吸入してチ
ャンバ排気ダクトより排出するように構成したから、乾
燥室２内の気圧と軸部排気チャンバ15内の気圧とが同圧
になる場合でも、軸受部14より発生する塵埃が乾燥室内
へ流入して基板に付着することが完全になくなる。これ
により基板の乾燥処理における品質を極めて向上させる
ことができる。
第１図〜第４図は本考案による基板の回転乾燥装置の実
施例を示し、第１図は第１の実施例による同装置の縦断
面図、第２図は第１図のII−II線要部矢視平面図、第３
図は第２の実施例による同装置の縦断面図、第４図は従
来例による基板の回転乾燥装置の縦断面図である。 １…ケーシング、２…乾燥室、４…空気取入口、６…排
気口、８…回転体、10…駆動軸、11…基板収納ケース、
11a…基板、14…軸受部、15…軸部排気チャンバ、20…
連通口、21…チャンバ排気ダクト、22・22a…送風羽
根。
施例を示し、第１図は第１の実施例による同装置の縦断
面図、第２図は第１図のII−II線要部矢視平面図、第３
図は第２の実施例による同装置の縦断面図、第４図は従
来例による基板の回転乾燥装置の縦断面図である。 １…ケーシング、２…乾燥室、４…空気取入口、６…排
気口、８…回転体、10…駆動軸、11…基板収納ケース、
11a…基板、14…軸受部、15…軸部排気チャンバ、20…
連通口、21…チャンバ排気ダクト、22・22a…送風羽
根。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−115967（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−103832（ＪＰ，Ａ) 実開 昭62−10439（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭62−63930（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭59−185829（ＪＰ，Ｕ)
Claims (1)
- 【請求項１】ケーシングの内部に乾燥室を形成し、この
乾燥室内に基板収納ケースを装着した回転体を設け、ケ
ーシングの上部に乾燥用空気を取り入れる空気取入口を
開口し、ケーシングの下部に排気口を設け、回転体を回
転させて基板に付着した水滴を飛散させるとともに、空
気取入口から乾燥用空気を吸入して基板を乾燥し、その
空気を排気口より排出するように構成した基板の回転乾
燥装置において、 回転体の駆動軸の軸受部を取囲むように軸部排気チャン
バを設け、この軸部排気チャンバは駆動軸が遊嵌する連
通口とチャンバ排気ダクトとを備え、前記駆動軸又は回
転体に送風羽根を付設するとともに、当該送風羽根を前
記軸部排気チャンバ内に配置し、乾燥室内の空気の一部
を連通口より吸入してチャンバ排気ダクトより排出する
ように構成したことを特徴とする基板の回転乾燥装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986070586U JPH0729630Y2 (ja) | 1986-05-09 | 1986-05-09 | 基板の回転乾燥装置 |
| KR1019870004472A KR920000678B1 (ko) | 1986-05-09 | 1987-05-07 | 기판의 회전 건조 장치 |
| US07/047,169 US4735000A (en) | 1986-05-09 | 1987-05-07 | Apparatus for drying substrates |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986070586U JPH0729630Y2 (ja) | 1986-05-09 | 1986-05-09 | 基板の回転乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62182539U JPS62182539U (ja) | 1987-11-19 |
| JPH0729630Y2 true JPH0729630Y2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=13435810
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986070586U Expired - Lifetime JPH0729630Y2 (ja) | 1986-05-09 | 1986-05-09 | 基板の回転乾燥装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4735000A (ja) |
| JP (1) | JPH0729630Y2 (ja) |
| KR (1) | KR920000678B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03238819A (ja) * | 1990-02-15 | 1991-10-24 | Seiichiro Sogo | 半導体材料の乾燥方法および装置 |
| US5435075A (en) * | 1992-04-07 | 1995-07-25 | Tokyo Electron Limited | Spindrier |
| TW472296B (en) * | 1999-05-25 | 2002-01-11 | Ebara Corp | Substrate treating apparatus and method of operating the same |
| US6457478B1 (en) | 1999-11-12 | 2002-10-01 | Michael J. Danese | Method for treating an object using ultra-violet light |
| US6272768B1 (en) | 1999-11-12 | 2001-08-14 | Michael J. Danese | Apparatus for treating an object using ultra-violet light |
| CN110762974B (zh) * | 2019-11-07 | 2021-02-09 | 杭州晨昊纺织整理有限公司 | 一种用于纺织加工的布料烘干装置 |
| CN112460949A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-03-09 | 江门市美亚纺织材料有限公司 | 一种用于纺织助剂加工的烘干设备 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1143151B (de) * | 1954-02-10 | 1963-01-31 | Licentia Gmbh | Haushaltwaescheschleuder |
| JPS59115967A (ja) * | 1982-12-20 | 1984-07-04 | 三菱電機株式会社 | 回転形乾燥機 |
| JPS6210439U (ja) * | 1985-07-03 | 1987-01-22 | ||
| JPS629635A (ja) * | 1985-07-08 | 1987-01-17 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体ウエハの回転乾燥装置 |
| JPS6263930U (ja) * | 1985-10-14 | 1987-04-21 |
-
1986
- 1986-05-09 JP JP1986070586U patent/JPH0729630Y2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-05-07 KR KR1019870004472A patent/KR920000678B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-05-07 US US07/047,169 patent/US4735000A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62182539U (ja) | 1987-11-19 |
| US4735000A (en) | 1988-04-05 |
| KR920000678B1 (ko) | 1992-01-20 |
| KR870011662A (ko) | 1987-12-26 |
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