JPS62182539U - - Google Patents

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JPS62182539U
JPS62182539U JP1986070586U JP7058686U JPS62182539U JP S62182539 U JPS62182539 U JP S62182539U JP 1986070586 U JP1986070586 U JP 1986070586U JP 7058686 U JP7058686 U JP 7058686U JP S62182539 U JPS62182539 U JP S62182539U
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chamber
exhaust
shaft
air
drying
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    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • H01L21/302—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
    • H01L21/304—Mechanical treatment, e.g. grinding, polishing, cutting
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B5/00—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat
    • F26B5/08—Drying solid materials or objects by processes not involving the application of heat by centrifugal treatment

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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Description

【図面の簡単な説明】
第１図〜第４は本考案による基板の回転塗布装
置の実施例を示し、第１図は第１の実施例による
同装置の縦断面図、第２図は第１図の―線要
部矢視平面図、第３図は第２の実施例による同装
置の縦断面図、第４図はさらに第３の実施例によ
る同装置の縦断面図、第５図は従来例による同装
置の縦断面図である。 １……ケーシング、２……乾燥室、４……空気
取入口、６……排気口、８……回転体、１０……
駆動軸、１１ａ……基板、１４……軸受部、１５
……軸部排気チヤンバ、２０……連通口、２１…
…チヤンバ排気ダクト、２２・２２ａ……送風羽
根。
補正 昭６１．６．１３ 実用新案登録請求の範囲を次のように補正する
。
【実用新案登録請求の範囲】 １ ケーシングの内部に乾燥室を形成し、この乾
燥室内に基板収納ケースを装着した回転体を設け
、ケーシングの上部に乾燥用空気を取入れる空気
取入口を開口し、ケーシングの下部に排気口を設
け、回転体を回転させて基板に付着した水滴を飛
散させるとともに、空気取入口から乾燥用空気を
吸入して基板を乾燥し、その空気を排気口より排
出するように構成した基板の回転乾燥装置におい
て、 回転体の駆動軸の軸受部を取囲むように軸部排
気チヤンバを設け、この軸部排気チヤンバは駆動
軸が遊嵌する連通口と軸受部の下方に位置するチ
ヤンバ排気ダクトとを備え、乾燥室内の空気の一
部を連通口より吸入してチヤンバ排気ダクトより
排出するように構成したことを特徴とする基板の
回転乾燥装置。 ２ 軸部排気チヤンバ内の駆動軸部分に送風羽根
を設け、送風羽根で軸部排気チヤンバ内の排気を
するように構成した、実用新案登録請求の範囲第
１項に記載の基板の回転乾燥装置。 ３ 回転体の回転基台の下面に送風羽根を付設す
るとともに、この送風羽根を連通口から軸部排気
チヤンバ内へ突入させて設け、この送風羽根で軸
部排気チヤンバ内の排気をするように構成した実
用新案登録請求の範囲第１項に記載の基板の回転
乾燥装置。 ４ チヤンバ排気ダクトを軸部排気チヤンバ外の
強制排気手段と連結した実用新案登録請求の範囲
第１項に記載の基板の回転乾燥装置。 図面の簡単な説明を次のように補正する。 明細書第１０頁１０行目〜１１行目に「回転塗
布装置」とあるのを、「回転乾燥装置」に訂正し
ます。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 １ ケーシングの内部に乾燥室を形成し、この乾
    燥室内に基板収納ケースを装着した回転体を設け
    、ケーシングの上部に乾燥用空気を取入れる空気
    取入口を開口し、ケーシングの下部に排気口を設
    け、回転体を回転させて基板に付着した水滴を飛
    散させるとともに、空気取入口から乾燥用空気を
    吸入して基板を乾燥し、その空気を排気口より排
    出するように構成した基板の回転乾燥装置におい
    て、 回転体の駆動軸の軸受部を取囲むように軸部排
    気チヤンバを設け、この軸部排気チヤンバは駆動
    軸が遊嵌する連通口と軸受部の下方に位置するチ
    ヤンバ排気ダクトとを備え、乾燥室内の空気の一
    部を連通口より吸入してチヤンバ排気ダクトより
    排出するように構成したことを特徴とする基板の
    回転塗布装置。 ２ 軸部排気チヤンバ内の駆動軸部分に送風羽根
    を設け、送風羽根で軸部排気チヤンバ内の排気を
    するように構成した、実用新案登録請求の範囲第
    １項に記載の基板の回転塗布装置。 ３ 回転体の回転基台の下面に送風羽根を付設す
    るとともに、この送風羽根を連通口から軸部排気
    チヤンバ内へ突入させて設け、この送風羽根で軸
    部排気チヤンバ内の排気をするように構成した実
    用新案登録請求の範囲第１項に記載の基板の回転
    塗布装置。 ４ チヤンバ排気ダクトを軸部排気チヤンバ外の
    強制排気手段と連結した実用新案登録請求の範囲
    第１項に記載の基板の回転塗布装置。
JP1986070586U 1986-05-09 1986-05-09 基板の回転乾燥装置 Expired - Lifetime JPH0729630Y2 (ja)

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JP1986070586U JPH0729630Y2 (ja) 1986-05-09 1986-05-09 基板の回転乾燥装置
KR1019870004472A KR920000678B1 (ko) 1986-05-09 1987-05-07 기판의 회전 건조 장치
US07/047,169 US4735000A (en) 1986-05-09 1987-05-07 Apparatus for drying substrates

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JP1986070586U JPH0729630Y2 (ja) 1986-05-09 1986-05-09 基板の回転乾燥装置

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JPS62182539U true JPS62182539U (ja) 1987-11-19
JPH0729630Y2 JPH0729630Y2 (ja) 1995-07-05

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ID=13435810

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JP1986070586U Expired - Lifetime JPH0729630Y2 (ja) 1986-05-09 1986-05-09 基板の回転乾燥装置

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US (1) US4735000A (ja)
JP (1) JPH0729630Y2 (ja)
KR (1) KR920000678B1 (ja)

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KR920000678B1 (ko) 1992-01-20
KR870011662A (ko) 1987-12-26
JPH0729630Y2 (ja) 1995-07-05
US4735000A (en) 1988-04-05

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