JPH0377585B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、磁気デイスクやコンパクトデイスク
（CD）の原盤のような被処理物を高速回転させ、
その中心寄りに滴下する洗浄液を遠心力によつて
拡散させることにより、被処置物の表面を洗浄し
た上で乾燥させるスピン洗浄乾燥機の改良に関す
る。

（従来の技術） この種の装置では、洗浄に際して、被処理物を
高速回転する回転台に固定する必要があり、例え
ば被処理物がCDの原盤のように中央に孔がある
ものでは、その孔を利用しておねじ回転台に固定
するようにしている。

（発明が解決しようとする問題点） そのため、おねじの頭と接触する原盤の孔の周
囲は、洗浄できないという問題がある。また、原
盤を回転台に固定するには、いつたん原盤を回転
台に置いたのちにいちいちおねじで固定しなけれ
ばならず、その固定動作は２段階となつて能率が
悪いという問題がある。さらに、固定作業に際し
て原盤上に固定用のおねじを落下させて原盤を不
良品にしてしまうという事故がしばしば発生し、
それが問題となつていた。

そこで、本発明は、上記の各問題点を解消する
ことを目的とする。

（問題点を解決するための手段） かかる目的を達成するために、本発明は、以下
のような構成とした。

すなわち、本発明は、高速回転可能な回転台を
有するスピン洗浄乾燥機において、 前記回転台の同心円上に、複数個の支持棒を等
間隔かつ前記回転台の回転中心に向けて回動自在
に取付け、前記支持棒はその支点の上側に被処理
物を支持する支持部を設けるとともに、その支点
の下側に重心が位置するようにしてなる。

（作用） 本発明の作用について、第１図および第２図を
参照して説明する。

いま、被処理物ａを各支持棒５の支持部５Ａに
のせ、回転台３が回転しはじめると、この回転に
伴つて各支持棒５に遠心力が作用し、回動自在な
各支持棒５はその支持部５Ａが回転中心に向けて
傾斜する状態となる。

従つて、被処理物ａは、各支持棒５の各支持部
５Ａによつて支持され、その支持力は回転台３の
回転数の増加に伴つて徐々に増加していき、回転
台３が一定の高速回転になると、被処理物ａは一
定の力で強固に支持される。

そして、この高速状態で被処理物ａに洗浄液が
滴下されると、遠心力によつてその表面を拡散さ
れて、洗浄・乾燥される。

（実施例） 以下、図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。

第３図は本発明を実施したスピン洗浄乾燥機の
断面図である。

図において、１は磁気デイスクやコンパクトデ
イスクの原盤のような円盤状の被処理物ａを後述
のように高速回転させて洗浄・乾燥する洗浄室で
あり、その中央には、高速回転可能なモータ２の
回転軸に直結した回転台３を配置する。

回転台３には、本発明にかかる被処理物支持具
Ｂを第１図および第２図に示すように設ける。

すなわち、図に示すように回転台３の同心円上
に等間隔で３個というように複数個の孔４を設
け、この各孔４に被処理物ａを支持する各支持棒
５を貫通するとともに、その各支持棒５を、回転
台３の中心の向けて回動自在となるように支軸６
でその孔４内に取付ける。

そして、その各支持棒５は、その支軸６よりも
上側に被処理物ａを支持するつば状の支持部５Ａ
を設けるとともに、その支軸６よりも下側に重心
が位置するように構成する。また、重心の位置を
調節するために、各支持棒５の下端部にバランス
ウエイト７を取付ける。

洗浄室１は、密閉状態とするための蓋８を有す
るとともに排気のための排気口９を有し、被処理
物ａを洗浄中は、排気口９から排気させて室内を
負圧とし、飛散する水滴がその内周全域に設けた
水滴飛散防止部１０に完全に吸収されて排水口１
１から排水されるように構成する。

蓋８は、その開閉が蓋検出スイツチ１２によつ
て検出され、蓋８が開状態にあるときには、蓋検
出スイツチ１２がその旨を検出してモータ２が停
止状態となるように構成する。また、モータ２
は、その回転数がインバータ１３によつて制御さ
れるように構成する。

次に、以下のように構成する本発明実施例の動
作例について説明する。

いま、蓋８を開けて被処理物ａを各支持棒５の
支持部５Ａにのせたのち、蓋８を閉めてモータ２
を起動すると、モータ２は回転数を徐々に増加し
ていく。回転台３もこれに伴つて回転し、各支持
棒５の重心は支軸６よりも下方にあるので、回動
自在な各支持棒５は、遠心力により支持部５Ａが
回転中心に向けて傾斜するようになる。

従つて、被処理物９は、各支持棒５の各支持部
５Ａによつて支持され、その支持力はモータ２の
回転数の増加に伴つて徐々に増加していく。

そして、モータ２が一定の高速回転になると、
被処理物ａは各支持棒５の各支持部５Ａによつて
一定の力で強固に支持される。

次に、この高速回転中の被処理物ａの中心近く
に洗浄液などを滴下すると、遠心力によつてその
表面上を拡散され、その拡散された洗浄液は水滴
飛散防止部１０によつて完全に吸収されて排水口
１１から排水される。

（発明の効果） 以下のように本発明では、被処理物を支持棒の
支持部にのせ、回転台を高速回転させるとその支
持棒に遠心力が作用し、その支持棒によつて被処
理物を点接触状態で強固に支持できるようにした
ので、洗浄前後における被処理物の回転台に対す
る着脱作業が容易かつ能率的になるとともに、被
処理物の表面全域をあますところなく洗浄でき、
しかも従来のように固定ねじを被処理物上に落下
させるような弊害を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明実施例の平面図、第２図はその
Ａ−Ａ線断面図、第３図はスピン洗浄乾燥機の断
面図である。 Ｂは被処理物支持具、ａは被処理物、３は回転
台、５は支持棒、５Ａは支持部、６は支軸、７は
バランスウエイト。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 高速回転可能な回転台を有するスピン洗浄乾
   燥機において、 前記回転台の同心円上に、複数個の支持棒を等
   間隔かつ前記回転台の回転中心に向けて回動自在
   に取付け、前記支持棒はその支点の上側に被処理
   物を支持する支持部を設けるとともに、その支点
   の下側に重心が位置するようにしてなる被処理物
   支持具。