JPH046206Y2 - - Google Patents
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- JPH046206Y2 JPH046206Y2 JP1985130351U JP13035185U JPH046206Y2 JP H046206 Y2 JPH046206 Y2 JP H046206Y2 JP 1985130351 U JP1985130351 U JP 1985130351U JP 13035185 U JP13035185 U JP 13035185U JP H046206 Y2 JPH046206 Y2 JP H046206Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- drying
- rotating body
- drying chamber
- support shaft
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Links
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- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
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- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案はウエーハ乾燥装置に関するものであ
り、更に詳しくは純水による洗浄処理を施された
ウエーハ表面への塵埃の付着ならびに振動による
ウエーハ破損の防止機能を向上せしめたウエーハ
乾燥装置に関するものである。
り、更に詳しくは純水による洗浄処理を施された
ウエーハ表面への塵埃の付着ならびに振動による
ウエーハ破損の防止機能を向上せしめたウエーハ
乾燥装置に関するものである。
従来の技術
純水で洗浄された半導体ウエーハを乾燥するた
めに、第2図および第3図に示すようなウエーハ
乾燥装置が使用されている。図示する乾燥装置に
於いて、積層されたウエーハ1,1…間に乾燥用
空気を流通させるため、ウエーハキヤリヤ2には
所定の間隔を置いて整列した複数段のウエーハ支
持溝3が設けられている。
めに、第2図および第3図に示すようなウエーハ
乾燥装置が使用されている。図示する乾燥装置に
於いて、積層されたウエーハ1,1…間に乾燥用
空気を流通させるため、ウエーハキヤリヤ2には
所定の間隔を置いて整列した複数段のウエーハ支
持溝3が設けられている。
ウエーハキヤリヤ2は、回転枢軸4に固着され
たターンテーブル5上に載置された状態で周囲に
多数のフイン6,6…を偏心配置してなる乾燥室
7内に回転自在に支持されている。乾燥室の上面
中央部に開口している乾燥用空気の取入口8から
導入された乾燥用の空気が、前記ウエーハ支持溝
3内に周縁が挿入支持されているウエーハ1に高
速で接触することによつて、ウエーハ1の表面に
付着している水滴を遠心力の作用下に飛散させる
と共に、ウエーハ1は所望の乾燥状態を与えられ
る。乾燥室7の内部にはターンテーブル5の外縁
を囲繞するように乾燥用空気を排出するためのフ
イン6,6…が垂設されており、ウエーハ1に付
着していた水滴は、遠心力および乾燥用空気の吹
き付け圧によつてウエーハ1の表面から引き離さ
れた後、該乾燥用空気流に担持された状態で前記
フイン6,6…の間を通過して系外に排出され
る。
たターンテーブル5上に載置された状態で周囲に
多数のフイン6,6…を偏心配置してなる乾燥室
7内に回転自在に支持されている。乾燥室の上面
中央部に開口している乾燥用空気の取入口8から
導入された乾燥用の空気が、前記ウエーハ支持溝
3内に周縁が挿入支持されているウエーハ1に高
速で接触することによつて、ウエーハ1の表面に
付着している水滴を遠心力の作用下に飛散させる
と共に、ウエーハ1は所望の乾燥状態を与えられ
る。乾燥室7の内部にはターンテーブル5の外縁
を囲繞するように乾燥用空気を排出するためのフ
イン6,6…が垂設されており、ウエーハ1に付
着していた水滴は、遠心力および乾燥用空気の吹
き付け圧によつてウエーハ1の表面から引き離さ
れた後、該乾燥用空気流に担持された状態で前記
フイン6,6…の間を通過して系外に排出され
る。
考案が解決しようとする問題点
以上の説明から理解し得るように、在来のウエ
ーハ乾燥装置にもターンテーブル5の回転駆動機
構ならびに乾燥用空気の流路が設けられている
が、このような装置を使用すると乾燥対象たるウ
エーハ1の品質に悪影響を及ぼす場合が少なくな
い。より詳しく説明すると、先ず乾燥室7の上面
中央部に開口している乾燥用空気の取入口8に取
付けるフイルタ9の寸法が制約されるため、系外
から乾燥室7内に微細な塵埃を含んだ乾燥用空気
が導入される場合があり、また該乾燥室7内に乾
燥用空気の対流が発生することにより、ウエーハ
1の表面から引き離された塵埃や回転時の振動に
よりウエーハ1が破損することによつて発生した
ウエーハ1の屑が、乾燥用の空気流と共に乾燥室
7内を循環してウエーハ1の表面に再付着して、
汚染を引き起こす場合が少なくない。第2の問題
点としてターンテーブル5が単一のベアリング1
0を介して回転枢軸4の上端部に一点支持式で固
着されているため、ターンテーブル5上にウエー
ハキヤリヤ2を載置する際に回転枢軸4を中心と
して4個のウエーハキヤリヤ2a,2b…を対称
状に配置しないと、振動のない安定した回転条件
をウエーハおよびウエーハキヤリヤに付与するこ
とが困難となる。従つて、乾燥時の振動を防止す
るためには、対称状に配置された4個のウエーハ
キヤリヤ2a,2b…の重量、ならびにウエーハ
支持溝3内に挿入支持されたウエーハ1,1…の
重量が、回転枢軸4の前後左右で同一となるよう
に、重量バランスを調節する必要があり、この重
量的なバランスが失われた場合には、回転時の振
動によつてウエーハ1が破損してシリコン屑が発
生し、その付着に起因する不良品の多発や製造原
価の高騰と云つた問題が引き起こされる。このよ
うな不都合を回避するためにはウエーハキヤリヤ
2の載置位置やウエーハキヤリヤ1個当りのウエ
ーハ1の収納個数を前記重量バランスを考慮して
厳密に管理する必要があり、これに伴つてウエー
ハ乾燥工程の稼動効率が大幅に低下する。
ーハ乾燥装置にもターンテーブル5の回転駆動機
構ならびに乾燥用空気の流路が設けられている
が、このような装置を使用すると乾燥対象たるウ
エーハ1の品質に悪影響を及ぼす場合が少なくな
い。より詳しく説明すると、先ず乾燥室7の上面
中央部に開口している乾燥用空気の取入口8に取
付けるフイルタ9の寸法が制約されるため、系外
から乾燥室7内に微細な塵埃を含んだ乾燥用空気
が導入される場合があり、また該乾燥室7内に乾
燥用空気の対流が発生することにより、ウエーハ
1の表面から引き離された塵埃や回転時の振動に
よりウエーハ1が破損することによつて発生した
ウエーハ1の屑が、乾燥用の空気流と共に乾燥室
7内を循環してウエーハ1の表面に再付着して、
汚染を引き起こす場合が少なくない。第2の問題
点としてターンテーブル5が単一のベアリング1
0を介して回転枢軸4の上端部に一点支持式で固
着されているため、ターンテーブル5上にウエー
ハキヤリヤ2を載置する際に回転枢軸4を中心と
して4個のウエーハキヤリヤ2a,2b…を対称
状に配置しないと、振動のない安定した回転条件
をウエーハおよびウエーハキヤリヤに付与するこ
とが困難となる。従つて、乾燥時の振動を防止す
るためには、対称状に配置された4個のウエーハ
キヤリヤ2a,2b…の重量、ならびにウエーハ
支持溝3内に挿入支持されたウエーハ1,1…の
重量が、回転枢軸4の前後左右で同一となるよう
に、重量バランスを調節する必要があり、この重
量的なバランスが失われた場合には、回転時の振
動によつてウエーハ1が破損してシリコン屑が発
生し、その付着に起因する不良品の多発や製造原
価の高騰と云つた問題が引き起こされる。このよ
うな不都合を回避するためにはウエーハキヤリヤ
2の載置位置やウエーハキヤリヤ1個当りのウエ
ーハ1の収納個数を前記重量バランスを考慮して
厳密に管理する必要があり、これに伴つてウエー
ハ乾燥工程の稼動効率が大幅に低下する。
本考案の主要な目的は、在来のウエーハ乾燥装
置に認められた上記の如き問題点を解消し、乾燥
用空気の流動条件の安定化ならびに回転時の振動
によるウエーハ破損の防止に好適なウエーハ乾燥
装置を提供することにある。
置に認められた上記の如き問題点を解消し、乾燥
用空気の流動条件の安定化ならびに回転時の振動
によるウエーハ破損の防止に好適なウエーハ乾燥
装置を提供することにある。
問題点を解決するための手段
斯かる目的に鑑みて本考案は、複数個のウエー
ハキヤリヤを周縁等間隔状に配置せしめた回転体
と、該回転体の周面に固設された中空器体からな
るウエーハ乾燥室と、前記回転体の駆動装置とか
らなるウエーハ乾燥装置に於いて、前記ウエーハ
乾燥室の内壁と対向する回転体の支持軸を円周面
に乾燥用空気の導入孔を開口せしめた中空円筒体
から構成すると共に、該空気導入孔穿設域に隣接
して円筒状のフイルタ部材を配置し、且つ、前記
支持軸の上部に所定の間隔を置いて対向配置され
た2個のベアリングによつて、前記回転体を回転
自在に支持してなるウエーハ乾燥装置を要旨とす
るものである。
ハキヤリヤを周縁等間隔状に配置せしめた回転体
と、該回転体の周面に固設された中空器体からな
るウエーハ乾燥室と、前記回転体の駆動装置とか
らなるウエーハ乾燥装置に於いて、前記ウエーハ
乾燥室の内壁と対向する回転体の支持軸を円周面
に乾燥用空気の導入孔を開口せしめた中空円筒体
から構成すると共に、該空気導入孔穿設域に隣接
して円筒状のフイルタ部材を配置し、且つ、前記
支持軸の上部に所定の間隔を置いて対向配置され
た2個のベアリングによつて、前記回転体を回転
自在に支持してなるウエーハ乾燥装置を要旨とす
るものである。
作 用
乾燥用空気の流入孔の周囲にフイルタ部材を配
置した密閉型のウエーハ乾燥室を形成すると共
に、支持軸の上部に所定の間隔を置いて対向配置
された2個のベアリングによつて、回転体を二点
支持方式で支承することによつて、塵埃付着の防
止機能と振動防止機能とを大幅に向上せしめたウ
エーハ乾燥装置が構成される。
置した密閉型のウエーハ乾燥室を形成すると共
に、支持軸の上部に所定の間隔を置いて対向配置
された2個のベアリングによつて、回転体を二点
支持方式で支承することによつて、塵埃付着の防
止機能と振動防止機能とを大幅に向上せしめたウ
エーハ乾燥装置が構成される。
実施例
第1図は本考案装置を例示する一部破断正面図
である。ウエーハ乾燥装置20は、回転体の一例
としての、略同一の配設ピツチで半径方向に延び
る複数個のキヤリヤ支持台21からなる回転アー
ム22と、該回転アームを囲繞するように固定さ
れた中空円環状の器体23からなるウエーハ乾燥
室24と、前記回転アーム22に回転駆動力を伝
達するための駆動装置25とによつて構成されて
いる。斯かるウエーハ乾燥装置20に於いて、ウ
エーハ乾燥室24の内壁24aと対向する回転ア
ーム22の支持軸26は、円周面に乾燥用空気の
導入孔26aを開口せしめた中空円筒体から構成
されており、該乾燥用空気の導入孔26aの穿設
域の外側には、支持軸26の側壁面全周に亘つて
円筒状のフイルタ部材27が配置されている。一
方、支持軸26の上部には、前記フイルタ部材2
7の幅寸法に対応する一定の間隔を置いて2個の
ベアリング28a,28bが回転アーム22に対
して二点支持機構を形成するように対向配置され
ている。また回転アーム22の上面および下面
は、導入孔26aからウエーハ乾燥室24内に流
入した乾燥用空気に対流が発生しないように全周
に亘つてシールプレート29,29によつて遮蔽
されている。
である。ウエーハ乾燥装置20は、回転体の一例
としての、略同一の配設ピツチで半径方向に延び
る複数個のキヤリヤ支持台21からなる回転アー
ム22と、該回転アームを囲繞するように固定さ
れた中空円環状の器体23からなるウエーハ乾燥
室24と、前記回転アーム22に回転駆動力を伝
達するための駆動装置25とによつて構成されて
いる。斯かるウエーハ乾燥装置20に於いて、ウ
エーハ乾燥室24の内壁24aと対向する回転ア
ーム22の支持軸26は、円周面に乾燥用空気の
導入孔26aを開口せしめた中空円筒体から構成
されており、該乾燥用空気の導入孔26aの穿設
域の外側には、支持軸26の側壁面全周に亘つて
円筒状のフイルタ部材27が配置されている。一
方、支持軸26の上部には、前記フイルタ部材2
7の幅寸法に対応する一定の間隔を置いて2個の
ベアリング28a,28bが回転アーム22に対
して二点支持機構を形成するように対向配置され
ている。また回転アーム22の上面および下面
は、導入孔26aからウエーハ乾燥室24内に流
入した乾燥用空気に対流が発生しないように全周
に亘つてシールプレート29,29によつて遮蔽
されている。
本考案装置は上記の如く構成されているから、
ベアリング28aを嵌装支持する支持軸26の上
端開口部から導入された乾燥用空気は、導入孔2
6aおよびフイルタ部材27を通過してウエーハ
乾燥室24内に流入する。この状態に於いて、回
転アーム22ならびに該回転アームのキヤリヤ支
持台21上に載置されたウエーハキヤリヤ30,
30…は、支持軸26ならびにベアリング28
a,28bを介してモータ31から伝達される動
力によつて所定の回転速度、例えば1000r.p.m.で
高速駆動され、前記ウエーハキヤリヤ30のウエ
ーハ支持溝内に挿入支持されたウエーハ32は、
遠心力の作用下に乾燥用空気を吹き付けられる。
斯くしてウエーハ32に付着していた水滴はウエ
ーハの表面から吹き払われ、フイン33の間を通
つて系外に排出され、ウエーハ32の乾燥処理が
終了する。
ベアリング28aを嵌装支持する支持軸26の上
端開口部から導入された乾燥用空気は、導入孔2
6aおよびフイルタ部材27を通過してウエーハ
乾燥室24内に流入する。この状態に於いて、回
転アーム22ならびに該回転アームのキヤリヤ支
持台21上に載置されたウエーハキヤリヤ30,
30…は、支持軸26ならびにベアリング28
a,28bを介してモータ31から伝達される動
力によつて所定の回転速度、例えば1000r.p.m.で
高速駆動され、前記ウエーハキヤリヤ30のウエ
ーハ支持溝内に挿入支持されたウエーハ32は、
遠心力の作用下に乾燥用空気を吹き付けられる。
斯くしてウエーハ32に付着していた水滴はウエ
ーハの表面から吹き払われ、フイン33の間を通
つて系外に排出され、ウエーハ32の乾燥処理が
終了する。
考案の効果
以上の説明から理解されるように、本考案装置
に於いては、回転アーム22の周囲に固設された
中空円環状の器体23が、シールプレート29,
29ならびに空気導入口26aを開口せしめた支
持軸26の側壁面によつて乾燥用空気の導入側と
遮断されているから、ウエーハ乾燥室24の内部
には対流が発生せず、ウエーハ32は乾燥用空気
の対流に起因する塵埃の再付着から略完全に防護
される。
に於いては、回転アーム22の周囲に固設された
中空円環状の器体23が、シールプレート29,
29ならびに空気導入口26aを開口せしめた支
持軸26の側壁面によつて乾燥用空気の導入側と
遮断されているから、ウエーハ乾燥室24の内部
には対流が発生せず、ウエーハ32は乾燥用空気
の対流に起因する塵埃の再付着から略完全に防護
される。
また空気導入口26aから流入する乾燥用空気
は、ウエーハ乾燥室24内への導入に先立つて実
用上充分満足し得る塵埃濾過面積を有するフイル
タ部材27によつて充分に塵埃を除去されるか
ら、ウエーハ32の乾燥条件が在来装置を使用し
た場合に比較して大幅に改善される。更に回転ア
ーム22が支持軸26の上端部に二点支持方式で
固着されているから、該回転アーム22の支持強
度が向上し、ウエーハキヤリヤ30の載置条件を
細かく調整しなくても振動の発生に起因するウエ
ーハ32の破損を殆ど皆無にすることができる。
は、ウエーハ乾燥室24内への導入に先立つて実
用上充分満足し得る塵埃濾過面積を有するフイル
タ部材27によつて充分に塵埃を除去されるか
ら、ウエーハ32の乾燥条件が在来装置を使用し
た場合に比較して大幅に改善される。更に回転ア
ーム22が支持軸26の上端部に二点支持方式で
固着されているから、該回転アーム22の支持強
度が向上し、ウエーハキヤリヤ30の載置条件を
細かく調整しなくても振動の発生に起因するウエ
ーハ32の破損を殆ど皆無にすることができる。
斯くして本考案は、ウエーハ乾燥工程に於ける
塵埃付着の防止ならびに振動に起因するウエーハ
の破損防止に好適な乾燥装置を提供するものとし
て、製品歩留まりの向上ならびに乾燥工程の稼動
率の向上に対して注目すべき効果を発揮し得るも
のである。
塵埃付着の防止ならびに振動に起因するウエーハ
の破損防止に好適な乾燥装置を提供するものとし
て、製品歩留まりの向上ならびに乾燥工程の稼動
率の向上に対して注目すべき効果を発揮し得るも
のである。
第1図は本考案装置を例示する一部破断正面図
である。また第2図および第3図は従来のウエー
ハ乾燥装置の一部破断正面図および線−に沿
う横断面図である。 30……ウエーハキヤリヤ、20……ウエーハ
乾燥装置、22……回転体(回転アーム)、23
……中空器体、24……ウエーハ乾燥室、26…
…回転体の支持軸、26a……乾燥用空気の導入
口、28a,28b……ベアリング。
である。また第2図および第3図は従来のウエー
ハ乾燥装置の一部破断正面図および線−に沿
う横断面図である。 30……ウエーハキヤリヤ、20……ウエーハ
乾燥装置、22……回転体(回転アーム)、23
……中空器体、24……ウエーハ乾燥室、26…
…回転体の支持軸、26a……乾燥用空気の導入
口、28a,28b……ベアリング。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 複数個のウエーハキヤリヤを周縁等配置状に配
置せしめた回転体と、該回転体の周囲に固設され
た中空器体からなるウエーハ乾燥室と、前記回転
体の駆動装置とからなるウエーハ乾燥装置に於い
て、 前記ウエーハ乾燥室の内壁と対向する回転体の
支持軸を円周面に乾燥用空気の導入孔を開口せし
めた中空円筒体から構成すると共に、該空気導入
孔穿設域に隣接して円筒状のフイルタ部材を配置
し、且つ、前記支持軸の上部に所定の間隔を置い
て対向配置された2個のベアリングによつて前記
回転体を回転自在に支持したことを特徴とするウ
エーハ乾燥装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985130351U JPH046206Y2 (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985130351U JPH046206Y2 (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6237926U JPS6237926U (ja) | 1987-03-06 |
JPH046206Y2 true JPH046206Y2 (ja) | 1992-02-20 |
Family
ID=31027765
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985130351U Expired JPH046206Y2 (ja) | 1985-08-27 | 1985-08-27 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH046206Y2 (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57196532A (en) * | 1981-05-27 | 1982-12-02 | Toshiba Corp | Drying device for wafer |
-
1985
- 1985-08-27 JP JP1985130351U patent/JPH046206Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57196532A (en) * | 1981-05-27 | 1982-12-02 | Toshiba Corp | Drying device for wafer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6237926U (ja) | 1987-03-06 |
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