JPH0212819A - 半導体ウェハーの遠心脱水方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体ウェハーの洗浄後の脱水乾燥。

特に、遠心脱水乾燥方法に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種の遠心脱水乾燥方法は、半導体ウェハーを
回転用テーブルに水平に固定し、高速で回転させること
により、脱水乾燥させていた。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した従来の遠心脱水乾燥方法は、半導体ウェハーを
水平に固定し、半導体ウェハーの中心を回転中心とした
高速回転により、脱水乾燥させていたため、遠心力が零
もしくは極めて小さくなる回転中心近傍すなわちウェハ
ーの中央部に洗浄液またはその水滴が葬ることがあり、
未乾燥となる。その結果、未乾燥ウェハーを用いた、半
導体装置の信頼性を著しく低下させるという欠点があっ
た。

〔課題を解決するための手段〕

本発明の半導体ウェハーの遠心脱水乾燥は、鉛直方向よ
り、ある一定の角度に傾斜させた遠心脱水の回転中心軸
を有する。

〔実施例〕

次に、本発明について図面を参照して説明する。

第１図は、本発明の一実施例の縦断面図である。

ダイシング後の半導体ウェハー１は、半導体ウェハー固
定用粘着テープ３と粘着テープ固定用治具２により、遠
心脱水装置８の半導体ウェハー固定テーブル４により、
支持される。そこで回転用モータ５により、図中の回転
中心６を中心として、高速で回転させる。ここで、回転
中心軸６は、鉛直方向より、ある一定の角度の傾斜をも
どせる。

それにより、遠心脱水乾燥の際、遠心力の発生しない、
回転中心に、洗浄液または水滴がとどまることなく、下
方、すなわち、大きな遠心力の発生する外周部へ流れ、
それらは飛ばされることになる。さらに、回転中心部に
向けられた高圧乾燥空気（またはＮ２ガス）を併用する
ことにより、完全な脱水乾燥が可能となる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明は回転中心軸を鉛直方向よ
りある一定の角度に傾斜させる、すなわちウェハーに水
平面からある一定の傾斜を与える。

そうすることによって、半導体ウェハーを遠心脱水乾燥
する際の、遠心力の発生しない回転中心に、洗浄液また
は水滴がとどまることがなく、下方へ流れそののち、半
導体ウェハー外周の大きな遠心力により飛ばされる。す
なわち、半導体ウェハー表面に付着した洗浄液または水
滴を完全に除去することかでき、乾燥能力の向上が確立
する。よって、それを用いた半導体装置の信頼性も向上
させることが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の遠心脱水乾燥を行なう遠心脱水乾燥装
置の縦断面図である。 １・・・・・・半導体ウェハー　２・・・・・・粘着テ
ープ固定用治具、３・・・・・・半導体ウェハー固定用
粘着テープ、４・・・・・・半導体ウェハー固定用テー
ブル、５・・・・・・回転用モータ、６・・・・・・回
転中心、７・・・・・・シールド、８・・・・・・遠心
脱水乾燥装置、９・・・・・・乾燥用ドライＡｉｒ又は
ドライＮ２噴射ノズル。 代理人　弁理士　　内　原　　　晋

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 半導体ウェハーの乾燥に使用する遠心脱水乾燥に於いて
   、遠心脱水の回転中心軸を鉛直方向よりある一定の角度
   をもって傾斜させた状態で遠心脱水乾燥を行うことを特
   徴とする遠心脱水方法。