JPS63186432A - 半導体ウエハ−の乾燥装置 - Google Patents
半導体ウエハ−の乾燥装置Info
- Publication number
- JPS63186432A JPS63186432A JP1889687A JP1889687A JPS63186432A JP S63186432 A JPS63186432 A JP S63186432A JP 1889687 A JP1889687 A JP 1889687A JP 1889687 A JP1889687 A JP 1889687A JP S63186432 A JPS63186432 A JP S63186432A
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- JP
- Japan
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- turntable
- dry air
- impeller
- drying
- sprayed
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 5
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Centrifugal Separators (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体デバイスの製造工程のウェット処理され
た後の乾燥に用いられる乾燥装置に関するものである。
た後の乾燥に用いられる乾燥装置に関するものである。
従来より半導体ウェハーの乾燥方法としては遠心脱水法
が最も一般的な方法であり、この遠心脱水法は例えば乾
燥窒素雰囲気中でウェハーを収納したバスケットを高速
で回転させ、その遠心力で乾燥する方法である（参考文
献：半導体工業における汚染防除技術Ｐ５７０）。
が最も一般的な方法であり、この遠心脱水法は例えば乾
燥窒素雰囲気中でウェハーを収納したバスケットを高速
で回転させ、その遠心力で乾燥する方法である（参考文
献：半導体工業における汚染防除技術Ｐ５７０）。
従来の遠心脱水法の乾燥装置の回転機構は第３図、第４
図に示すように半導体基板（以下、ウェハーという）１
を収納したバスケット２ｂを収納するクレードル２ａの
ターンテーブル６を乾燥室５内に軸受７に保持して回転
可能に設置し、該ターンテーブル６の回転軸６ａを乾燥
室５外に取付けられたモーターなどの駆動体８により直
接又はベルト９により回転させる機構が一般的であった
。
図に示すように半導体基板（以下、ウェハーという）１
を収納したバスケット２ｂを収納するクレードル２ａの
ターンテーブル６を乾燥室５内に軸受７に保持して回転
可能に設置し、該ターンテーブル６の回転軸６ａを乾燥
室５外に取付けられたモーターなどの駆動体８により直
接又はベルト９により回転させる機構が一般的であった
。
上述した従来の駆動体８による回転機構には回転軸６ａ
を直接駆動させる機構又はベルトを用いて駆動させる機
構を用いていたが、乾燥室外の下部に該機構部を設けて
いるため、機構部を小さくまとめる必要があり、また回
転速度の制御部等の電気部品をその機構部周辺に取付け
る必要があり、保守作業を複雑化するとともに故障発生
の度合も大きくなるという欠点を有していた。
を直接駆動させる機構又はベルトを用いて駆動させる機
構を用いていたが、乾燥室外の下部に該機構部を設けて
いるため、機構部を小さくまとめる必要があり、また回
転速度の制御部等の電気部品をその機構部周辺に取付け
る必要があり、保守作業を複雑化するとともに故障発生
の度合も大きくなるという欠点を有していた。
本発明の目的は回転機構部を簡素化しうる装置を提供す
ることにある。
ることにある。
上述した従来の乾燥装置に対し、本発明は乾燥空気を用
いてターンテーブルの回転を行うという独創的内容を有
する。
いてターンテーブルの回転を行うという独創的内容を有
する。
本発明は乾燥室内にて半導体基板に遠心力を作用させて
該基板を脱水乾燥させる乾燥装置において、該乾燥室内
に回転自在に設置したターンテーブルと、該ターンテー
ブルと一体に備えたインペラと、前記ターンテーブルの
インペラに乾燥空気を吹き付けてその空気圧によりター
ンテーブルを回転駆動する乾燥空気噴出用ノズルとを有
することを特徴とする半導体ウェハーの乾燥装置である
。
該基板を脱水乾燥させる乾燥装置において、該乾燥室内
に回転自在に設置したターンテーブルと、該ターンテー
ブルと一体に備えたインペラと、前記ターンテーブルの
インペラに乾燥空気を吹き付けてその空気圧によりター
ンテーブルを回転駆動する乾燥空気噴出用ノズルとを有
することを特徴とする半導体ウェハーの乾燥装置である
。
〔実施例〕
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
（実施例１）
第１図（ａ）、 （ｂ）は本発明の第１の実施例の平面
図と断面図である。図に示すように、ウェット処理され
た半導体基板１は被乾燥物としてバスケット２ｂに入れ
られ、乾燥室５内のターンテーブル６に取付けられたク
レードル２ａに入れられている。
図と断面図である。図に示すように、ウェット処理され
た半導体基板１は被乾燥物としてバスケット２ｂに入れ
られ、乾燥室５内のターンテーブル６に取付けられたク
レードル２ａに入れられている。
ターンテーブル６の周囲にはインペラ４が一体に取付け
られ、乾燥室５の蓋１０の中央部には乾燥空気を吹き出
すノズル３が取付けられている。
られ、乾燥室５の蓋１０の中央部には乾燥空気を吹き出
すノズル３が取付けられている。
ターンテーブル６の回転軸６ａは軸受７で支えられてい
る。ノズル３より吹き出された乾燥空気はターンテーブ
ル６上の半導体基板１に吹き付けられるとともにインペ
ラ４に吹き付けられ、その空気圧を受けてターンテーブ
ル６は矢印方向に回転し、半導体基板１に遠心力が作用
する。本実施例では、半導体基板１が遠心力と乾燥空気
とにより乾燥されることとなり、乾燥時間を短縮できる
。
る。ノズル３より吹き出された乾燥空気はターンテーブ
ル６上の半導体基板１に吹き付けられるとともにインペ
ラ４に吹き付けられ、その空気圧を受けてターンテーブ
ル６は矢印方向に回転し、半導体基板１に遠心力が作用
する。本実施例では、半導体基板１が遠心力と乾燥空気
とにより乾燥されることとなり、乾燥時間を短縮できる
。
（実施例２）
第２図は本発明の第２の実施例を示す縦断面図である。
インペラ４はターンテーブル６の上面に取付けられ、乾
燥空気を吹き出すノズル３は蓋１０の内面に取付けられ
ており、ノズル３から下方にそれぞれ吹き出された乾燥
空気はインペラ４に当たり回転する力が加えられ、ター
ンテーブル６は回転するこの実施例においても駆動体を
用いないため、簡単な構造となっている。
燥空気を吹き出すノズル３は蓋１０の内面に取付けられ
ており、ノズル３から下方にそれぞれ吹き出された乾燥
空気はインペラ４に当たり回転する力が加えられ、ター
ンテーブル６は回転するこの実施例においても駆動体を
用いないため、簡単な構造となっている。
尚、本実施例においても、第１の実施例と同様にインペ
ラ４に吹き付けた乾燥空気を利用してターンテーブル６
上の半導体基板１を乾燥させるようにしてもよい。
ラ４に吹き付けた乾燥空気を利用してターンテーブル６
上の半導体基板１を乾燥させるようにしてもよい。
本発明は以上説明したように、乾燥空気を吹き付はター
ンテーブルを回転させることにより、駆動体を用いるこ
となくターンテーブルを回転でき、装置の機構を簡素化
し、保全性を良好にでき、さらに故障発生の度合を小さ
くする効果を有する。
ンテーブルを回転させることにより、駆動体を用いるこ
となくターンテーブルを回転でき、装置の機構を簡素化
し、保全性を良好にでき、さらに故障発生の度合を小さ
くする効果を有する。
本発明によれば乾燥空気の吹き出す圧力、流量を制御す
ることにより、ターンテーブルの回転速度すなわち遠心
力を制御することが容易であり乾燥時間を任意に制御す
ることが可能となる。
ることにより、ターンテーブルの回転速度すなわち遠心
力を制御することが容易であり乾燥時間を任意に制御す
ることが可能となる。
第１図（ａ）は本発明の第１の実施例を示す平面図、第
１図（ｂ）は同縦断面図、第２図は本発明の第２の実施
例を示す縦断面図、第３図、第４図は従来例を示す断面
図である。 １・・・半導体基板 ２ａ・・・クレードル３
・・・ノズル ４・・・インペラ５・・・
乾燥室 ６・・・ターンテーブル７・・・
軸受
１図（ｂ）は同縦断面図、第２図は本発明の第２の実施
例を示す縦断面図、第３図、第４図は従来例を示す断面
図である。 １・・・半導体基板 ２ａ・・・クレードル３
・・・ノズル ４・・・インペラ５・・・
乾燥室 ６・・・ターンテーブル７・・・
軸受
Claims (1)
- （１）乾燥室内にて半導体基板に遠心力を作用させて該
基板を脱水乾燥させる乾燥装置において、該乾燥室内に
回転自在に設置したターンテーブルと、該ターンテーブ
ルと一体に備えたインペラと、前記ターンテーブルのイ
ンペラに乾燥空気を吹き付けてその空気圧によりターン
テーブルを回転駆動する乾燥空気噴出用ノズルとを有す
ることを特徴とする半導体ウェハーの乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1889687A JPS63186432A (ja) | 1987-01-29 | 1987-01-29 | 半導体ウエハ−の乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1889687A JPS63186432A (ja) | 1987-01-29 | 1987-01-29 | 半導体ウエハ−の乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63186432A true JPS63186432A (ja) | 1988-08-02 |
Family
ID=11984339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1889687A Pending JPS63186432A (ja) | 1987-01-29 | 1987-01-29 | 半導体ウエハ−の乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63186432A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100360402B1 (ko) * | 2000-03-22 | 2002-11-13 | 삼성전자 주식회사 | 회전성 분사노즐을 구비하는 웨이퍼 건조 장치 및 이를이용한 웨이퍼 건조 방법 |
| KR100863678B1 (ko) | 2007-10-29 | 2008-10-15 | 경상대학교산학협력단 | 회전축 내에 장착된 소형 초음속터빈에 의하여 작동하는원심분리기 |
| KR100974801B1 (ko) | 2008-10-21 | 2010-08-06 | 주식회사 실트론 | 박스클리닝 장치용 트레이 및 이를 이용한 웨이퍼 운반용 박스의 건조방법 |
-
1987
- 1987-01-29 JP JP1889687A patent/JPS63186432A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100360402B1 (ko) * | 2000-03-22 | 2002-11-13 | 삼성전자 주식회사 | 회전성 분사노즐을 구비하는 웨이퍼 건조 장치 및 이를이용한 웨이퍼 건조 방법 |
| KR100863678B1 (ko) | 2007-10-29 | 2008-10-15 | 경상대학교산학협력단 | 회전축 내에 장착된 소형 초음속터빈에 의하여 작동하는원심분리기 |
| KR100974801B1 (ko) | 2008-10-21 | 2010-08-06 | 주식회사 실트론 | 박스클리닝 장치용 트레이 및 이를 이용한 웨이퍼 운반용 박스의 건조방법 |
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