JPS6390135A - 半導体用遠心乾燥機 - Google Patents
半導体用遠心乾燥機Info
- Publication number
- JPS6390135A JPS6390135A JP23643386A JP23643386A JPS6390135A JP S6390135 A JPS6390135 A JP S6390135A JP 23643386 A JP23643386 A JP 23643386A JP 23643386 A JP23643386 A JP 23643386A JP S6390135 A JPS6390135 A JP S6390135A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- water
- centrifugal
- cassette
- stored
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 26
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 47
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、半導体装置の製造過程で用いられる遠心乾
燥機、特に半導体ウェハを均一に乾燥するための遠心乾
燥機に関するものである。
燥機、特に半導体ウェハを均一に乾燥するための遠心乾
燥機に関するものである。
（従来の技術〕
第３図は、従来の゛ｒ、導体川遠用乾燥機を示す概略断
面図である。図において、１は乾燥機本体であって、こ
の乾燥機本体１の内部に高速度で回転するターンテーブ
ル２が設けられている。３はターンテーブル２に装着さ
れたカセット収納篭であって、そのカセット収納篭３の
中に半導体ウェハを入れた！ｊ数のウェハカセット４が
納められている。５はストッパーであって、カセット収
納篭３が白石により一ト降し過ぎないように設けたもの
である。６は回転シャフトであって、電動機（図示せず
）の回転力をターンテーブル２に伝える構成となってい
る。
面図である。図において、１は乾燥機本体であって、こ
の乾燥機本体１の内部に高速度で回転するターンテーブ
ル２が設けられている。３はターンテーブル２に装着さ
れたカセット収納篭であって、そのカセット収納篭３の
中に半導体ウェハを入れた！ｊ数のウェハカセット４が
納められている。５はストッパーであって、カセット収
納篭３が白石により一ト降し過ぎないように設けたもの
である。６は回転シャフトであって、電動機（図示せず
）の回転力をターンテーブル２に伝える構成となってい
る。
上記の構成において、次に遠心乾燥機の動作について説
明する。湿式処理が完了した゛ｒ°導体ウェハは、ウェ
ハカセット４に収納され、このウェハカセット４は１個
ごとカセット収納篭３に収められる。次に遠心乾燥機の
起動スイッチを動作させ、ターンテーブル２を高速度で
回転する。その高速回転するターンテーブル２の遠心力
によって、ウェハカセット４内に収納された゛ｉ導体ウ
ニ ハの水分が分離されて、半導体ウェハは乾燥
する。
明する。湿式処理が完了した゛ｒ°導体ウェハは、ウェ
ハカセット４に収納され、このウェハカセット４は１個
ごとカセット収納篭３に収められる。次に遠心乾燥機の
起動スイッチを動作させ、ターンテーブル２を高速度で
回転する。その高速回転するターンテーブル２の遠心力
によって、ウェハカセット４内に収納された゛ｉ導体ウ
ニ ハの水分が分離されて、半導体ウェハは乾燥
する。
」二足のように、従来の゛Ｌ導体用遠心乾燥機にあって
は、ウェハカセット４を１個ごと乾燥機本体１のカセッ
ト収納篭３に納めるため、その作業に長時間を要し、遠
心乾燥機を起動し、遠心乾燥を開始するまでに、半導体
ウェハの自然乾燥が発生し、最初に収納したウェハカセ
ット４と最後に収納したウェハカセット４内の半導体ク
エへでは自然乾燥の差異が著しく、半導体ウェハの内部
で、局部的に過度の乾燥が発生したり、或は、局部的に
水分が残留している部分が発生し、遠心乾燥した後の半
導体ウェハの表面の乾燥状態が異なってしまい、均一に
乾燥されない問題があった。
は、ウェハカセット４を１個ごと乾燥機本体１のカセッ
ト収納篭３に納めるため、その作業に長時間を要し、遠
心乾燥機を起動し、遠心乾燥を開始するまでに、半導体
ウェハの自然乾燥が発生し、最初に収納したウェハカセ
ット４と最後に収納したウェハカセット４内の半導体ク
エへでは自然乾燥の差異が著しく、半導体ウェハの内部
で、局部的に過度の乾燥が発生したり、或は、局部的に
水分が残留している部分が発生し、遠心乾燥した後の半
導体ウェハの表面の乾燥状態が異なってしまい、均一に
乾燥されない問題があった。
この発明は、上記のような問題点を解消するためになさ
れたもので、半導体ウェハを遠心乾燥するまでの自然乾
燥の発生を防止し、半導体ウェハの表面全体を均一に乾
燥することができる遠心乾燥機を得ることを目的として
いる。
れたもので、半導体ウェハを遠心乾燥するまでの自然乾
燥の発生を防止し、半導体ウェハの表面全体を均一に乾
燥することができる遠心乾燥機を得ることを目的として
いる。
この発明に係る半導体用遠心乾燥機は、乾燥機本体の側
壁部に半導体ウェハへ給水する給水手段を備えた構成と
したものである。
壁部に半導体ウェハへ給水する給水手段を備えた構成と
したものである。
この発明における給水手段は、半導体ウェハを遠心乾燥
機で乾燥する面に、半導体ウェハの表面に純水を給水し
、自然乾燥を抑制するから、半導体ウェハは均一な状態
に保持される。
機で乾燥する面に、半導体ウェハの表面に純水を給水し
、自然乾燥を抑制するから、半導体ウェハは均一な状態
に保持される。
（実施例）
次に、この発明の一実施例を図について説明する。
第１図はこの発明の半導体用遠心乾燥機を示す概略断面
図、第２図は第１図の部分詳細説明図である。第１図に
おいて、符号ｌ白土６は従来例と同一または相当の構成
を示すもので、ＪＴ細な説明は省略する。７は給水手段
としてのスプレーノズルであって、乾燥機本体１の側壁
部８に設けられている。９はバルブでスプレーノズル７
へ純水を供給する送水管に設けて、その送水路を開閉す
る構成となっている。
図、第２図は第１図の部分詳細説明図である。第１図に
おいて、符号ｌ白土６は従来例と同一または相当の構成
を示すもので、ＪＴ細な説明は省略する。７は給水手段
としてのスプレーノズルであって、乾燥機本体１の側壁
部８に設けられている。９はバルブでスプレーノズル７
へ純水を供給する送水管に設けて、その送水路を開閉す
る構成となっている。
第２図において、１０は半導体ウェハであって、ウェハ
カセット４に収納されている。１１はスプレーノズル７
から半導体ウェハ１０表面に散水された表面の純水であ
って、この表面の純水！１は半導体ウェハ１０の上面に
保持されている。１２はスプレーノズル７から噴出する
純水であって、ウェハカセット４に収納された半導体ウ
ェハ１０の表面に散水されるものである。
カセット４に収納されている。１１はスプレーノズル７
から半導体ウェハ１０表面に散水された表面の純水であ
って、この表面の純水！１は半導体ウェハ１０の上面に
保持されている。１２はスプレーノズル７から噴出する
純水であって、ウェハカセット４に収納された半導体ウ
ェハ１０の表面に散水されるものである。
上記の構成において、次に遠心乾燥機の動作について説
明する。半導体ウェハ１０を湿式処理した後、そのｆ−
導体ウェハ１０をウェハカセット４に収納し、次にその
ウェハカセット４をカセット収納篭３に収納する。そし
て、そのカセット収納篭３にウェハカセット４が収納さ
れると、そのウェハカセット４に対応した位置に設けら
れたスプレーノズル７から純水が噴出し、半導体ウェハ
１０の表面に散水される。散水された表面の純水１１は
゛１体ウェハ１０の表面張力によって保持される。同様
に、他のウェハカセット４が乾燥機本体ｌ内に収納され
ると、そのウェハカセット４に対応したイ１装置のスプ
レーノズル７から散水が行われる。そして全てのウェハ
カセット４が収納されると、遠心９′７．Ｐ：機は起動
を開始し、それと同時にスプレーノズル７からの散水は
停止して、半導体ウェハ１０はターンテーブル２の高速
度回転によって遠心乾燥が行われる。
明する。半導体ウェハ１０を湿式処理した後、そのｆ−
導体ウェハ１０をウェハカセット４に収納し、次にその
ウェハカセット４をカセット収納篭３に収納する。そし
て、そのカセット収納篭３にウェハカセット４が収納さ
れると、そのウェハカセット４に対応した位置に設けら
れたスプレーノズル７から純水が噴出し、半導体ウェハ
１０の表面に散水される。散水された表面の純水１１は
゛１体ウェハ１０の表面張力によって保持される。同様
に、他のウェハカセット４が乾燥機本体ｌ内に収納され
ると、そのウェハカセット４に対応したイ１装置のスプ
レーノズル７から散水が行われる。そして全てのウェハ
カセット４が収納されると、遠心９′７．Ｐ：機は起動
を開始し、それと同時にスプレーノズル７からの散水は
停止して、半導体ウェハ１０はターンテーブル２の高速
度回転によって遠心乾燥が行われる。
上記のように、この発明によれば、遠心乾燥機本体の側
壁部に設けた給水り段により、゛ト導体ウェハの表面に
純水を散水し、自然乾燥が発生しないようにしたので、
遠心乾燥機により半導体ウェハを均一に乾燥することが
でき、良質の安定した子導体装置を製造することができ
る。
壁部に設けた給水り段により、゛ト導体ウェハの表面に
純水を散水し、自然乾燥が発生しないようにしたので、
遠心乾燥機により半導体ウェハを均一に乾燥することが
でき、良質の安定した子導体装置を製造することができ
る。
第１図はこの発明の一実施例を示す遠心乾燥機の概略断
面図、第２図は第１図の部分詳細説明図、第３図は従来
例の遠心乾燥機を示す概略断面図である。 １−−−−−−乾燥機本体 ２−−−−−−ターンテーブル ３・・・・・・カセット収納篭 ４−−−−−−ウェハカセット ６・・・・・・回転シャフト ７−−−−−−スプレーノズル ８・・・・・・本体側壁部 ９−−−−−バルブ １０−−−−−半導体ウェハ
面図、第２図は第１図の部分詳細説明図、第３図は従来
例の遠心乾燥機を示す概略断面図である。 １−−−−−−乾燥機本体 ２−−−−−−ターンテーブル ３・・・・・・カセット収納篭 ４−−−−−−ウェハカセット ６・・・・・・回転シャフト ７−−−−−−スプレーノズル ８・・・・・・本体側壁部 ９−−−−−バルブ １０−−−−−半導体ウェハ
Claims (1)
- 半導体ウェハを収納し、該半導体ウェハを乾燥する遠心
乾燥機本体の側壁部に前記半導体ウェハへ給水する給水
手段を備えたことを特徴とする半導体用遠心乾燥機。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23643386A JPS6390135A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | 半導体用遠心乾燥機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23643386A JPS6390135A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | 半導体用遠心乾燥機 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6390135A true JPS6390135A (ja) | 1988-04-21 |
Family
ID=17000680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23643386A Pending JPS6390135A (ja) | 1986-10-02 | 1986-10-02 | 半導体用遠心乾燥機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6390135A (ja) |
-
1986
- 1986-10-02 JP JP23643386A patent/JPS6390135A/ja active Pending
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