JPS63104426A - 半導体ウエハ乾燥装置 - Google Patents
半導体ウエハ乾燥装置Info
- Publication number
- JPS63104426A JPS63104426A JP25230786A JP25230786A JPS63104426A JP S63104426 A JPS63104426 A JP S63104426A JP 25230786 A JP25230786 A JP 25230786A JP 25230786 A JP25230786 A JP 25230786A JP S63104426 A JPS63104426 A JP S63104426A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- drying
- air
- drier
- semiconductor wafer
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 16
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 3
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 abstract description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 18
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 241000257465 Echinoidea Species 0.000 description 5
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- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体ウェハな遠心力で乾燥させる半導体ウ
ェハ乾燥装置の改良に関する。
ェハ乾燥装置の改良に関する。
半導体製造装置の一つに、半導体チップ形成用母材とな
る半導体ウェハを乾燥させるための半導体ウェハ乾燥装
置が知られている。これを第２図に示す従来例を用いて
簡単に説明すると、符号１は装置本体、２はその内部で
回転軸２ａにより回転駆動されるロータ部、３はこのロ
ータ部２内の偏心位置に固定されたバスケットで、この
バスケット３内に複数枚のウェハを入れたカセット（図
示せず）が収納し得るように構成されている。また、前
記装置本体ｌの上部開口を閉塞する蓋体１ａには空気取
入れ口４が形成され、かつその排気口５が装置本体ｌ側
部に設けられている。
る半導体ウェハを乾燥させるための半導体ウェハ乾燥装
置が知られている。これを第２図に示す従来例を用いて
簡単に説明すると、符号１は装置本体、２はその内部で
回転軸２ａにより回転駆動されるロータ部、３はこのロ
ータ部２内の偏心位置に固定されたバスケットで、この
バスケット３内に複数枚のウェハを入れたカセット（図
示せず）が収納し得るように構成されている。また、前
記装置本体ｌの上部開口を閉塞する蓋体１ａには空気取
入れ口４が形成され、かつその排気口５が装置本体ｌ側
部に設けられている。
そして、このような構成による半導体ウニ／＼乾燥装置
によれば、前記バスケット３内にウニ／＼を入れたカセ
ットを収納した後、ロータ部２を回転駆動することによ
り、それぞれのウェハに作用する遠心力でその乾燥を行
なうものであった。
によれば、前記バスケット３内にウニ／＼を入れたカセ
ットを収納した後、ロータ部２を回転駆動することによ
り、それぞれのウェハに作用する遠心力でその乾燥を行
なうものであった。
また、上述した空気取入れ口４から装置本体ｌ内に送り
込まれた空気は、この装置本体１内部に浮遊している塵
埃等を除去することが主な目的であり、単に本体１内を
通って排気口５から強制的に排気されているだけであり
、ウェアを乾燥させるという機能にはあまり関与してい
ないものであった。
込まれた空気は、この装置本体１内部に浮遊している塵
埃等を除去することが主な目的であり、単に本体１内を
通って排気口５から強制的に排気されているだけであり
、ウェアを乾燥させるという機能にはあまり関与してい
ないものであった。
ところで、上述した構成による従来装置において、近年
、ウェハの乾燥処理時間の短縮化が要望されている。そ
して、その−・方において、ウェハウェハに作用する遠
心力を大きくするために、ウェハの回転数を高速化した
り、装置全体を大型化したりすることについては限界が
あるもので、これらの点を考慮し何らかの対策を講じる
ことが必要とされている。
、ウェハの乾燥処理時間の短縮化が要望されている。そ
して、その−・方において、ウェハウェハに作用する遠
心力を大きくするために、ウェハの回転数を高速化した
り、装置全体を大型化したりすることについては限界が
あるもので、これらの点を考慮し何らかの対策を講じる
ことが必要とされている。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたもので、簡単な
構成により、ウェハの乾燥処理時間を大幅に短縮化し得
る半導体ウェハ乾燥装置を得ることを目的としている。
構成により、ウェハの乾燥処理時間を大幅に短縮化し得
る半導体ウェハ乾燥装置を得ることを目的としている。
本発明に係る半導体ウェハ乾燥装置は、装置本体内に加
熱された清浄な空気等の気体を送り込むための導入路を
、装置本体に設けられている塵埃除去用気体の取入れ口
等を利用して接続するようにしたものである。
熱された清浄な空気等の気体を送り込むための導入路を
、装置本体に設けられている塵埃除去用気体の取入れ口
等を利用して接続するようにしたものである。
本発明によれば、装置内部に送り込まれる加熱された清
浄な空気等の気体で、ウニ／＼の乾燥処理を促進させる
ことができ、これによりウエノ＼の乾燥処理時間の短縮
化が可能となるものである。
浄な空気等の気体で、ウニ／＼の乾燥処理を促進させる
ことができ、これによりウエノ＼の乾燥処理時間の短縮
化が可能となるものである。
以下、本発明を図面に示した実施例を用いて詳細に説明
する。
する。
第１図は本発明に係る半導体ウニ／＼乾燥装置の一実施
例を示すものであり、図において前述した第２図と同一
または相当する部分には同一番号を付してその説明は省
略する。
例を示すものであり、図において前述した第２図と同一
または相当する部分には同一番号を付してその説明は省
略する。
さて、本発明によれば、半導体ウェハ乾燥装置において
、装置本体ｌ側（蓋体１ａ）の空気取入れ口４に、加熱
された清浄な空気を供給し得る導入路としてフレキシブ
ルな空気導入用パイプ１０を接続し、かつこのパイプ１
０の上流側に加熱手段１１、フィルタ１２等を付設する
ようにしたところに特徴を有している。なお、図中１３
は強制的に空気を送り込むためのファンである。
、装置本体ｌ側（蓋体１ａ）の空気取入れ口４に、加熱
された清浄な空気を供給し得る導入路としてフレキシブ
ルな空気導入用パイプ１０を接続し、かつこのパイプ１
０の上流側に加熱手段１１、フィルタ１２等を付設する
ようにしたところに特徴を有している。なお、図中１３
は強制的に空気を送り込むためのファンである。
そして、このような構成によれば、装置本体ｌ内部に、
加熱された清浄な空気を送り込むことが可能で、これに
よりウェハの乾燥処理を促進させることができ、従来装
置に比べてウェハの乾燥処理時間の短縮化かり能となる
ものである。勿論、この装置本体１内に送り込まれる空
気によって、その本来の目的である本体１内部で浮遊し
ている塵埃等を除去し得ることは容易に理解されよう。
加熱された清浄な空気を送り込むことが可能で、これに
よりウェハの乾燥処理を促進させることができ、従来装
置に比べてウェハの乾燥処理時間の短縮化かり能となる
ものである。勿論、この装置本体１内に送り込まれる空
気によって、その本来の目的である本体１内部で浮遊し
ている塵埃等を除去し得ることは容易に理解されよう。
なお、本発明は上述した実施例構造に限定されず、各部
の形状、構造等を、適宜変形、変更することは自由であ
る。たとえば上述した実施例では、装置内部に送り込む
気体として空気を例示したが、窒素ガスなどであっても
よいことは勿論である。
の形状、構造等を、適宜変形、変更することは自由であ
る。たとえば上述した実施例では、装置内部に送り込む
気体として空気を例示したが、窒素ガスなどであっても
よいことは勿論である。
以−Ｌ説明したように、本発明に係る半導体ウェハ乾燥
装置によれば、装置本体内に加熱された清浄な空気等の
気体を送り込むための導入路を付設するようにしたので
、簡単かつ安価な構成にもかかわらず、この導入気体に
よる乾燥効果によって、従来装置に比べてウェハの乾燥
処理時間の短縮化が可能となるという優れた効果がある
。
装置によれば、装置本体内に加熱された清浄な空気等の
気体を送り込むための導入路を付設するようにしたので
、簡単かつ安価な構成にもかかわらず、この導入気体に
よる乾燥効果によって、従来装置に比べてウェハの乾燥
処理時間の短縮化が可能となるという優れた効果がある
。
第１図は本発明に係る半導体ウェハ乾燥装置の一実施例
を示す概略断面図、第２図は従来例を示す概略断面図で
ある。 １・・・・装置本体、１ａ・・・・蓋体、２・・・・ロ
ータ部、３・・・・バスケット、４・・・・空気取入れ
口、５・・・・排気口、１０・・・・空気導入用パイプ
、１工・・・・加熱手段、１２・・・・フィルタ、１３
・・・・ファン。
を示す概略断面図、第２図は従来例を示す概略断面図で
ある。 １・・・・装置本体、１ａ・・・・蓋体、２・・・・ロ
ータ部、３・・・・バスケット、４・・・・空気取入れ
口、５・・・・排気口、１０・・・・空気導入用パイプ
、１工・・・・加熱手段、１２・・・・フィルタ、１３
・・・・ファン。
Claims (1)
- ウェハを装置本体内で回転駆動させ、遠心力によって
乾燥させる半導体ウェハ乾燥装置において、前記装置本
体内に加熱された清浄な気体を供給するための気体導入
路を付設したことを特徴とする半導体ウェハ乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25230786A JPS63104426A (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 | 半導体ウエハ乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25230786A JPS63104426A (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 | 半導体ウエハ乾燥装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63104426A true JPS63104426A (ja) | 1988-05-09 |
Family
ID=17235430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25230786A Pending JPS63104426A (ja) | 1986-10-22 | 1986-10-22 | 半導体ウエハ乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63104426A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6013316A (en) * | 1998-02-07 | 2000-01-11 | Odme | Disc master drying cover assembly |
| CN103822458A (zh) * | 2014-03-12 | 2014-05-28 | 合肥彩虹蓝光科技有限公司 | 一种新型甩干机过滤器加热系统 |
-
1986
- 1986-10-22 JP JP25230786A patent/JPS63104426A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6013316A (en) * | 1998-02-07 | 2000-01-11 | Odme | Disc master drying cover assembly |
| CN103822458A (zh) * | 2014-03-12 | 2014-05-28 | 合肥彩虹蓝光科技有限公司 | 一种新型甩干机过滤器加热系统 |
| CN103822458B (zh) * | 2014-03-12 | 2016-02-10 | 合肥彩虹蓝光科技有限公司 | 一种新型甩干机过滤器加热系统 |
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