JP4141842B2 - 角度付きスピン・リンス・ドライモジュール、ならびに同モジュールを作成および実現するための方法 - Google Patents
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Description
102…筐体
102’…外部筐体
102a…筐体の内壁
102b…筐体の側壁
102c…窓
104…駆動モータ
106…回転方向
110…モータ駆動軸
112…駆動ベルト
114a…駆動プーリ
114b…駆動プーリ
116…ローラ駆動シャフト
116a…穴
116a−1…穴
116a−2…穴
118…シール対
120a…第1の駆動ローラ
120a’…第2の駆動ローラ
120a−1…下部車輪
120a−1’…下部車輪
120a−2…上部車輪
120a−2’…上部車輪
120a−3…グリップ止め輪対
120a−3’…グリップ止め輪対
120a−3a…下部グリップ止め輪
120a−3b…上部グリップ止め輪
120a−3c…V字形の溝
120b…拘束ローラ
122…ウエハ
122a…ウエハの上面
122b…ウエハの底面
124a−1,124a−1’,124b−1…穴
124a,124a’,124b…ノズル
126…洗浄剤ディスペンサ
126a…トップディスペンサ
126b…ボトムディスペンサ
126a−1…トップディスペンサの対応面
126b−1…ボトムディスペンサの対応面
128…オリフィス
130…ガス送り穴
132…ガス流入方向
134…流体ジェットストリーム
136…メガソニックスプレーアセンブリ
136a…トップメガソニックスプレー
136b…ボトムメガソニックスプレー
137a…トップメガソニックアーム
137b…ボトムメガソニックアーム
138a…トップメガソニックスプレーノズル
138b…ボトムメガソニックスプレーノズル
139’…運動方向
140…エアシリンダ
142…ピストン
142a…穴
142a−1…穴
144…運動方向
146…アーム
148…シール対
150…排気管
150a…排気孔
152…エンドエフェクタ
152a’…吸盤
153a…運動方向
153b…運動方向
154…ブレード
156…ロボット
158…出力カセット
158…出力カセット
159…SMIFポッド
160…ベース
160’…ベース
162…出力棚
162’…出力棚
164…ロードステーション
168…入力カセット
Claims (23)
- スピン・リンス・ドライ(SRD)モジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
水平面との間に0度から90度の間で前記SRDモジュールの性能を最適化するような処理角度をなすように構成された処理面において、単一のウエハを拘束する工程と、
前記処理面において前記単一のウエハを複数のローラで回転させる工程と、
前記処理面において前記単一のウエハを回転させつつ前記単一のウエハの上面および底面を洗浄する工程と、
を備え、
前記処理面において前記単一のウエハを拘束する工程は、
前記SRDモジュールを、単一のウエハ用の受け取り位置に位置決めする工程と、
処理すべき前記単一のウエハの方向を、挿入角度によって規定された挿入位置に合わせる工程と、
前記単一のウエハを、前記挿入角度で前記SRDモジュールに挿入し、前記単一のウエハが回転できるように前記複数のローラで拘束する工程と、
前記SRDモジュールを、処理位置に配置し、前記SRDモジュールの筐体を密閉する工程と、
を含む、処理方法。 - 請求項1に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
前記洗浄のステップは、スクラブ、すすぎ、およびメガソニック流体の供給のいずれか1つを含む、処理方法。 - 請求項1に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
前記SRDモジュールを単一のウエハ用の受け取り位置に配置する工程は、前記SRDモジュールの側壁に設けられた窓を開く工程を含む、処理方法。 - 請求項1に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
処理対象となる前記単一のウエハの方向を前記挿入位置に合わせる工程は、前記単一のウエハを移動させて、前記単一のウエハと前記水平面との間に前記挿入角度を形成させる工程を含む、処理方法。 - 請求項1に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
前記処理面において前記単一のウエハを拘束する工程は、
前記単一のウエハを挿入するためのクリアランスを確保しつつ、拘束ローラを第1の位置から第2の位置へと移動させる工程、
処理対象となる前記単一のウエハを、前記挿入角度で挿入する工程と、
駆動ローラ対を使用して、処理対象となる前記単一のウエハを拘束する工程と、
前記拘束ローラを解放して前記第1の位置に戻らせる工程と、
前記拘束ローラを使用して処理対象となる前記単一のウエハを拘束する工程と、
を含む、処理方法。 - 請求項5に記載のSRDモジュールにおいてウエハを処理するための方法であって、
前記挿入角度は、前記処理角度に実質的に等しくなるように構成されている、処理方法。 - 請求項1に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
前記処理面において前記単一のウエハを回転させる工程は、駆動ローラ対を使用して前記単一のウエハを回転させる工程を含む、処理方法。 - 請求項1に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
前記単一のウエハを前記処理面において回転させつつ前記単一のウエハの前記上面および前記底面を洗浄する工程は、
前記単一のウエハの前記上面に洗浄液を供給する工程であって、前記供給が前記単一のウエハの前記上面の一セクタ上において、前記洗浄液からなる実質的に均一な層を形成するように構成された工程と、
前記単一のウエハの前記底面に前記洗浄液を供給する工程であって、前記供給が前記単一のウエハの前記底面の一セクタ上において、前記洗浄液からなる実質的に均一な層を形成するように構成された工程と、
を含む、処理方法。 - 請求項2に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
前記メガソニック流体を供給する工程は、
前記単一のウエハの前記上面にメガソニック流体を供給する工程であって、前記供給が前記単一のウエハの前記上面の一セクタ上に、前記メガソニック流体からなる実質的に均一な層を形成するように構成された工程と、
前記単一のウエハの前記底面に前記メガソニック流体を供給する工程であって、前記供給が前記単一のウエハの前記底面の一セクタ上に、前記メガソニック流体からなる実質的に均一な層を形成するように構成された工程と、
を含む、処理方法。 - 請求項1に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、さらに、
前記処理中の単一のウエハの縁に、第1のガスを供給する工程と、
前記処理中の単一のウエハの前記上面および前記底面に第2のガスを供給する工程であって、前記第2のガスが前記SRDモジュールの内壁に分散配置された供給孔を通じて導入される工程と、
を備える、処理方法。 - スピン・リンス・ドライ(SRD)モジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、
単一のウエハを、前記SRDモジュールを有する密閉可能な筐体に挿入する工程と、
処理面において前記単一のウエハを拘束する工程あって、前記処理面が前記水平面との間に処理角度を成すように構成され、前記単一のウエハが前記水平面との間に挿入角度を成すように構成された挿入位置に方向付けられ、前記処理角度が前記ウエハの乾燥を最適化するように構成され、前記拘束が前記単一のウエハを回転できるように拘束する複数のローラで行われる工程と、
前記処理面において前記ウエハを回転させる工程と、
前記処理面において前記単一のウエハを回転させつつ前記ウエハの上面および底面を洗浄する工程と、
前記処理面において前記単一のウエハを回転させつつ前記単一のウエハの前記上面および前記底面を乾燥させる工程と、
を備え、
前記挿入角度は、前記処理角度に実質的に等しくなるように構成されている、処理方法。 - 請求項11に記載のSRDモジュールにおいて単一のウエハを処理するための方法であって、さらに、
前記処理面において前記単一のウエハを回転させつつ前記単一のウエハの前記上面および前記底面にメガソニックフローを供給する工程を備える、処理方法。 - ウエハ処理モジュールであって、
駆動ローラ対とウエハ拘束ローラとを収容する密閉可能な筐体を備え、
前記駆動ローラ対は、処理対象となる基板を拘束するように構成され、
前記ウエハ拘束ローラは、1つの角度に方向付けられるとともに、前記基板の上面および底面の処理中にウエハを一角度で前記駆動ローラ対によって回転させるように構成され、
前記筐体は、さらに、複数の穴を設けられた内壁を有し、
前記複数の穴は、前記筐体にガスを導入するように構成され、
前記ガスは、処理対象となる前記ウエハの上面および底面を実質的に均一に乾燥させるように構成されている、ウエハ処理モジュール。 - 請求項13に記載のウエハ処理モジュールであって、
前記処理は、すすぎ、洗浄、乾燥、スクラブ、およびメガソニック流体の供給のいずれか1つを含む、ウエハ処理モジュール。 - 請求項13に記載のウエハ処理モジュールであって、さらに、
前記処理の少なくとも一部の最中において、前記ウエハの表面に流体を供給するように構成された少なくとも1つの洗浄剤ディスペンサを備える、ウエハ処理モジュール。 - 請求項13に記載のウエハ処理モジュールであって、さらに、
ウエハ拘束ローラの少なくとも1つに向けてガスフローを供給するように構成されたノズルを備える、ウエハ処理モジュール。 - 請求項13に記載のウエハ処理モジュールであって、さらに、
前記ウエハの表面にメガソニックスプレーを供給するためのメガソニックスプレーアセンブリを備える、ウエハ処理モジュール。 - 請求項13に記載のウエハ処理モジュールであって、
前記ウエハ拘束ローラの少なくとも1つは駆動ローラである、ウエハ処理モジュール。 - スピン・リンス・ドライモジュールであって、
外壁を有する密閉可能な筐体であって、前記外壁が窓を含むように構成されており、前記窓が水平面との間に処理角度を成すように前記外壁に設けられている筐体と、
前記筐体の中に設けられたローラ対であって、処理対象となる基板を拘束するように構成された駆動ローラ対と、
前記筐体の中に設けられたローラであって、1つの角度に方向付けられるとともに、前記基板の上面および底面の処理中にウエハを一角度で前記駆動ローラ対によって回転させるように構成された拘束ローラと、
を備え、
前記拘束ローラおよび前記駆動ローラ対は、処理対象となる前記基板が前記水平面との間に前記処理角度に実質的に等しい角度を成すように、処理対象となる前記基板を拘束するように構成されている、スピン・リンス・ドライモジュール。 - 請求項19に記載のスピン・リンス・ドライモジュールであって、さらに、
前記筐体の中に設けられた洗浄剤ディスペンサであって、処理対象となる前記基板の上面および底面を洗浄するように構成された洗浄剤ディスペンサを備えるスピン・リンス・ドライモジュール。 - 請求項19に記載のスピン・リンス・ドライモジュールであって、さらに、
前記筐体の中に設けられたメガソニックアセンブリあって、処理対象となる前記基板の上面および底面に供給されるように構成されたメガソニックアセンブリを備える、スピン・リンス・ドライモジュール。 - 請求項19に記載のスピン・リンス・ドライモジュールであって、さらに、
前記筐体の内壁に設けられた複数のガスブローノズルを備え、
前記複数のガスブローノズルは、少なくとも1つのエアブローノズルが前記駆動ローラおよび前記拘束ローラのそれぞれに第1のガスを供給するように構成されている、スピン・リンス・ドライモジュール。 - 請求項19に記載のスピン・リンス・ドライモジュールであって、さらに、
前記筐体に第2のガスを導入できるように、前記筐体の内壁に設けられた複数の穴を備え、
前記複数の穴は、前記第2のガスが処理対象となる前記基板の上面および底面を実質的に均一に乾燥させるように構成されている、スピン・リンス・ドライモジュール。
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