JPS6156292A - 電鋳装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は微細凹凸パターンの転写性に優れた光ディスク
用スタンパ−を作製するに有用な電鋳装置に関する。

〔発明の技術的背景とその問題点〕

近時、光学的に情報の記録再生可能な円盤状記録媒体で
ある光ディスクが、ディジタル・オーディオ・ディスク
、光学式ビデオ・ディスク、光学式ドキュメント・ファ
イル・ディスク等として幅広く用いられている。一般に
この種の光ディスクは、情報信号に応じた微細凹凸パタ
ーンを、スパイラル状または同心円状に記録形成した光
ディスク原盤を用いて形成されるスタンパ−を利用し、
このスタンパ−にディスク素材を射出成形する等して上
記微細凹凸パターンを転写して製造される。

従って品質の高い光ディスクを得る為には、前記光ディ
スク原盤から良好なスタンパ−を製作することが重要な
課題となる。

しかして上記スタンパ−は、例えば次のようにして製作
される。第２図（ａ）〜（ｅ）はその例を示すものであ
る。即ち先ず、第２図（ａ）に示す如くガラス原盤１に
塗布された感光性樹脂膜２を、スパイラル状または同心
円状のトラックを形成しながら記録情報信号に応じてレ
ーザ光にて露光し、これを現像処理して上記感光性樹脂
膜２の表面に同図＜ｂ）に示すような微細凹凸パターン
を前記情報信号に応じて形成する。次いで、第２図（Ｃ
）に示すように上記微細凹凸パターンの形成面に、無電
解めっき、真空蒸着等によって導電層３を被着形成し、
この導電層３を形成した光ディスク原盤を電鋳装置に装
着する。そして、上記導電層３を陰極として作用させて
電気めっき処理し、第２図（ｄ）に示すように前記導電
層３上にめっき層４を形成する。尚、図中５は前記電鋳
装置において前記光ディスク原盤を保持する陰極支持体
であり、６はこの陰極支持体５に光ディスク原盤を固定
すると共に、前記導電層３を陰極として作用させる為の
導電性のポル１〜である。このようにして形成された前
記導電層３およびめっき層４を前記ガラス原盤１から剥
離し、導電層３に付着する感光性樹脂２を洗い流すこと
によって、第２図（ｅ）に示すようなスタンパ−が製作
される。

ところで、このようにしてスタンパ−を製作する際、前
記めっき層４を形成する為の陽極として従来一般的なＮ
ｉ等の所謂溶解性陽極を用いると、その陽極近傍でＮｉ
が酸化し、めっき液中に不溶解性の沈澱物のスライムを
生成したり、或いは陽極表面に酸化物のスマッ１〜を生
成したりする。このようなスライムやスマットは、前記
導電層３の表面にめっき形成される電鋳Ｎｉ膜（めっき
層４）内に取込まれ易く、これに起因して前記微細凹凸
パターンを損うと云う不具合を招来する。

そこで、例えば特開昭５８−１５７９８４号に開示され
るように、前記陽極として専ら不溶解性陽極を用いて前
記スライムやスマットの発生を防止し、上述した不具合
を解消することが行われている。

然し乍ら、このような対策を講じても、めっき液中のご
みや、陰極として作用する前記導電層３から発生する水
素気泡等の影響によって、前記めっき層４の表面、つま
りスタンパ−の裏面に突起が生じ易く、この突起に起因
してスタンパ−に対するディスク素材の射出成形による
光ディスク製作時に、その微細凹凸パターンの転写が損
われると云う問題が依然として残った。

〔発明の目的〕

本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、そ
の目的とするところは、微細凹凸パターンの転写の妨げ
となる突起の発生を抑制しためっき層の形成を可能とし
た光ディスク用スタンパ−の製作に好適な電鋳装置を提
供することにある。

〔発明の概要〕

本発明は電析槽内にめっき液に浸漬されて設けられた不
溶解陽極と、スパイラル状または同心円状に微細凹凸パ
ターンを形成し、この微細凹凸パターンの形成面に金属
薄膜を形成してなる光ディスフ原盤を前記不溶解陽極に
対向させて保持し、この光ディスク原盤を前記めっき液
中で回転させる陰極支持板と、この陰極支持板に保持さ
れた光ディスク原盤の上記金属薄膜を前記不溶解陽極に
対する陰極として作用さｔて前記金属薄膜表面に電着層
を積層形成させる電源とを備えた電鋳装置において、前
記不溶解陽極の前記光ディスク原盤の回転中心に対向す
る位置にめっき液吹出し口を設け、例えばフィルタを介
して不純物除去しためっき液を上記めっき液吹出し口か
ら前記光ディスク原盤に向けて吹付けるようにしたもの
である。

〔発明の効果〕 かくして本発明によれば、不溶解陽極を用いることによ
ってスライムやスマット等のごみの発生を防止した上で
、その中心位＠（光ディスク原盤の回転中心に対向する
位置）に設けためっき液吹出し口から、例えばフィルタ
を介して不純物除去しためっき液を前記光ディスク原盤
に向けて吹付けるので、前記光ディスク原盤の表面に付
着したごみや、電解に、１：って陰極（金属薄膜）から
発生＝６− した水素気泡等が、光ディスク原盤の回転と相俟ってそ
の内周部から外周部へと速やかに除去される。この結果
、上記めっき層形成面（スタンパ−の裏面）での突起形
成が大幅に抑制されることになる。また光ディスク原盤
の回転中心部に吹付けられるめっき液によって、その陰
極近傍のめつき液の流れを速くすることができ、上記陰
極界面でのＮｉ１度の減少を抑えて電鋳速度の高速化を
図り得る等の効果が奏せられる。

〔発明の実施例〕

以下、図面を参照して本発明の一実施例につき説明する
。

第１図は実施例に係る電鋳装置の概略構成を示すもので
ある。この電鋳装置は光学ディスク用スタンパ−の製作
に用いられるものである。

図中１１は、例えばスルファミン酸Ｎｉからなるめっき
液を収納した電析槽で、この電析槽１１には、チタン板
に白金を被膜してなる不溶解陽極１２が上記めっき液に
浸漬されて設けられている。また図中１３は、ガラス原
盤の表面に微細凹凸パターンを形成し、且つその表面に
金属薄膜からなる電着層を形成した光ディスク原盤１４
を保持し、モータ１５により回転駆動されて、例えば１
１００ｒｐの回転速度で上記光ディスク原盤１４を上記
不溶解陽極１２に対向させて前記めっき液中で回転させ
る陰極支持板である。尚、上記光ディスク原盤１４は、
例えば厚さ１０間、外径３５０＃φ、中心穴径２０８φ
のガラス基板表面にフォトレジスト層を厚さ１０００人
にスピンコードし、このフォトレジスト層にＡｒレーザ
光を用いて情報信号をスパイラル状または同心円状に露
光し、これを現像処理して微細凹凸パターンを形成した
後、そのパターン形成面に厚さ０．３譚のＡＬＩを導電
層としてスパッタリング形成したものからなる。また上
記めっき液は、例えばスルファミン酸Ｎ　ｉ　ヲ６００
Ｍ　Ｑ　、ホウ酸を４ｏＱ／　Ｒ、ビット防止剤として
ナイスター８０６（上材工業■製；商品名）を１＃１１
！／βを混合したものからなる。

しかして前記不溶ＷＩ陽極１２の前記光ディスク原盤１
４の回転中心に対向する位置にはめっき液吹出し口１６
が設けられている。溶解槽１７に蓄えられためっき液は
ポンプ１８の作用を受けて上記めっき液吹出し口１６に
供給され、その供給路の途中に設けられたフィルタ１９
を介して不純物が除去された後、上記めっき液吹出し口
１６から光ディスク原盤１４に向けて高速に吹付けられ
るようになっている。このようにして電析槽１１内に吹
出し供給されためつき液のオーバーフロー分は、電析槽
１１に連設して設けられたオーバーフロ一槽２０に一旦
蓄えられたのち、オーバーフロ一槽２０に設けられたド
レイン管２１から前記溶解槽１７に戻される。このよう
な経路を経て、めっき液が循環される。

電源２２は、前記不溶解陽極１２と光ディスク原盤１４
の上記導電層との間に、例えば１２Ａ　／　６ｍ２なる
密度の電流を供給し、上記導電層を陰極とした電鋳作用
を生起するものである。この電鋳作用の生起によって前
記導電層表面にＮｉ膜がめつき形成される。つまり、陰
極支持板１３に保持されて回転駆動されている光ディス
ク原盤１４に、前記フィルタ１９を介して不純物が除去
されためつき液を前記めっき液吹出し口１６から高速に
吹付けた状態で、上記光ディスク原盤１４の電着層表面
にＮｉ層がめつき形成されるようになっている。このめ
っき層は、例えば約３００Ｉａの厚さに形成される。

かくしてこのように構成された電鋳装置によれば、不溶
解陽極１２の中心部に設けられためつき液吹出し口１６
から、フィルタ１９を介して不純物除去しためつき液を
吹付けながら陰極（電着層）の電鋳を行うので、上記陰
極（電着層）の表面に付着したごみや、電解によって陰
極から発生した水素気泡等が１．光ディスク原盤の回転
と相俟ってその内周部から外周部へと速やかに除去され
る。この結果、上記めっき層形成面（スタンパ−の裏面
）での突起形成が大幅に抑制されることになる。また光
ディスク原盤の回転中心部に吹付けられるめっき液によ
って、その陰極近傍のめつき液の流れを速くし、上記陰
極界面でのＮ１濃度の減少を抑えることができるので、
電鋳速度の高速化を図り得る等の効果が奏せられる。

次表は上Ｊした構成の装置にて、めっき液の液温を４５
±１℃、Ｉｌ＋−１４，２±０．２なる条件で前記光デ
ィスク原５Ｊ１４を電鋳したときの突起の数と、不溶解
陽極１２にめっき液吹出し口１６を設けることに代えて
電析槽１１の下部にめっき液吹出しノズルを設けた装置
にて同様な条件で光ディスク原盤１４を電鋳したときの
突起の数とを対比して示したものである。

この表に示されるように、本装置によればめっき層の突
起の数を大幅に減少させることができる。

従って、この装置を用いて光ディスク用スタンパ−を製
作すれば、微細パターンの転写の妨げとなる突起の少な
い、パターン転写性に優れたスタンパ−を得ることがで
きる。しかも、めっき層の形成を短時間に効率良く行な
い得る等の実用上多大なる効果が奏せられる。

尚、本発明は上述した実施例に限定されるものではない
。例えば電析槽１１の容量やその形状、不溶解陽極１２
の設置位置と光ディスク原盤１４との対向関係、電鋳電
流密度等は装置の仕様に応じて設定すれば良い。また光
ディスク用スタンパ−の製作以外にも応用可能である。

要するに本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で種々変
形して実施することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例装置の概略構成図、第２図は
光ディスク用スタンパ−の製作構成を模式的に示す図で
ある。 １１・・・電析槽、１２・・・不溶解陽極、１３・・・
陰極支持板、１４・・・光ディスク原盤、１５・・・モ
ータ、１６・・・めっき液吹出し口、１７・・・溶解槽
、１８・・・ポンプ、１９・・・フィルタ、２０・・・
オーバーフロ一槽、２１・・・ドレイン管、２２・・・
電源。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）めっき液を収納した電析槽と、この電析槽内に上
   記めっき液に浸漬されて設けられた不溶解陽極と、スパ
   イラル状または同心円状に微細凹凸パターンを形成し、
   この微細凹凸パターンの形成面に金属薄膜を形成してな
   る光ディスク原盤を前記不溶解陽極に対向させて保持し
   、この光ディスク原盤を前記めっき液中で回転させる陰
   極支持板と、この陰極支持板に保持された光ディスク原
   盤の上記金属薄膜を前記不溶解陽極に対する陰極として
   作用させて前記金属薄膜表面に電着層を積層形成する電
   源と、前記不溶解陽極の前記光ディスク原盤の回転中心
   に対向する位置に設けられためっき液吹出し口と、この
   めっき液吹出し口から前記光ディスク原盤に向けて前記
   めっき液を吹付ける手段とを具備したことを特徴とする
   電鋳装置。
2. （２）めっき液吹出し口から光ディスク原盤に向けてめ
   っき液を吹付ける手段は、フィルタを介して不純物除去
   しためっき液を上記めっき液吹出し口から吹出すもので
   ある特許請求の範囲第１項記載の電鋳装置。