JPH0532471A - 施釉装置 - Google Patents
施釉装置Info
- Publication number
- JPH0532471A JPH0532471A JP20987191A JP20987191A JPH0532471A JP H0532471 A JPH0532471 A JP H0532471A JP 20987191 A JP20987191 A JP 20987191A JP 20987191 A JP20987191 A JP 20987191A JP H0532471 A JPH0532471 A JP H0532471A
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- JP
- Japan
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- glaze
- discharge head
- pump
- tank
- tile
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/044—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers with glaze or engobe or enamel or varnish
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/047—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers by pooring, e.g. curtain coating
-
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- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
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- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/049—Recycling of the coating material
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 タイル等に釉薬を施すに際して高粘度の釉薬
でも施釉できるようにするとともに、釉薬の比重値，粘
度値に応じて適正な量で釉薬を施し得るようにする。 【構成】 吐出ヘッド２４より釉薬を幕状に吐出してこ
れをコンベヤ１０にて連続的に搬送されるタイル１６等
施釉対象物の表面に施す施釉装置において、吐出ヘッド
２４を密閉容器状に構成した上該吐出ヘッド２４にスリ
ット状開口４０を形成して該開口４０より釉薬を幕状に
吐出させるようにする一方、該吐出ヘッド２４に配管２
２を介して送液用のポンプ２６を接続し、該ポンプ２６
によりタンク１８内部の釉薬を該吐出ヘッド２４内部に
流入させるとともに、該ポンプ２６の加圧力により前記
スリット状開口４０より強制吐出させ、以て釉薬を施釉
対象物１６に施すようにする。
でも施釉できるようにするとともに、釉薬の比重値，粘
度値に応じて適正な量で釉薬を施し得るようにする。 【構成】 吐出ヘッド２４より釉薬を幕状に吐出してこ
れをコンベヤ１０にて連続的に搬送されるタイル１６等
施釉対象物の表面に施す施釉装置において、吐出ヘッド
２４を密閉容器状に構成した上該吐出ヘッド２４にスリ
ット状開口４０を形成して該開口４０より釉薬を幕状に
吐出させるようにする一方、該吐出ヘッド２４に配管２
２を介して送液用のポンプ２６を接続し、該ポンプ２６
によりタンク１８内部の釉薬を該吐出ヘッド２４内部に
流入させるとともに、該ポンプ２６の加圧力により前記
スリット状開口４０より強制吐出させ、以て釉薬を施釉
対象物１６に施すようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はタイル等の対象物の表
面に釉薬を施すための施釉装置に関する。
面に釉薬を施すための施釉装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、施釉タイルはタイル成形体の表
面に液状の釉薬を施した後これを乾燥，焼成することに
よって製造する。
面に液状の釉薬を施した後これを乾燥，焼成することに
よって製造する。
【０００３】タイルに釉薬を施すための装置には種々形
式のものがあるが、その一つとしてコンベヤにより連続
的に搬送されてくるタイルに対して、吐出ヘッドより釉
薬を幕状に吐出してその表面に塗布する形式のものが知
られている。
式のものがあるが、その一つとしてコンベヤにより連続
的に搬送されてくるタイルに対して、吐出ヘッドより釉
薬を幕状に吐出してその表面に塗布する形式のものが知
られている。
【０００４】図５はその一例を示している。図において
１００は横断面形状が略三角形状の容器状を成す吐出ヘ
ッドで、上端１０２が開放形状とされ、また下端に比較
的幅の広いスリット状の開口１０４が形成されている。
１００は横断面形状が略三角形状の容器状を成す吐出ヘ
ッドで、上端１０２が開放形状とされ、また下端に比較
的幅の広いスリット状の開口１０４が形成されている。
【０００５】この吐出ヘッド１００には、ポンプ１０８
にてタンク１０６から汲み上げられた釉薬が配管１１０
を通じて導入されるようになっている。
にてタンク１０６から汲み上げられた釉薬が配管１１０
を通じて導入されるようになっている。
【０００６】吐出ヘッド１００の内部に導入された釉薬
は、ここに一時貯えられるとともに下側から自重によっ
て吐出ヘッド下端のスリット状開口１０４より幕状に吐
出・落下させられ、下方をコンベヤベルト１１１により
連続的に搬送されて来るタイル１１２の表面に施され
る。
は、ここに一時貯えられるとともに下側から自重によっ
て吐出ヘッド下端のスリット状開口１０４より幕状に吐
出・落下させられ、下方をコンベヤベルト１１１により
連続的に搬送されて来るタイル１１２の表面に施され
る。
【０００７】ここでタイル１１２に付着することなくこ
れを通過した余剰の釉薬は、受缶１１４に受けられた後
再びタンク１０６に戻される。
れを通過した余剰の釉薬は、受缶１１４に受けられた後
再びタンク１０６に戻される。
【０００８】吐出ヘッド１００にはオーバーフロー用の
配管１１６が接続され、吐出ヘッド１００に導かれた釉
薬が一部オーバーフローさせられるようになっている。
配管１１６が接続され、吐出ヘッド１００に導かれた釉
薬が一部オーバーフローさせられるようになっている。
【０００９】このオーバーフロー用の配管１１６は吐出
ヘッド１００内の釉薬の液面を所定高さに保つためのも
ので、この配管１１６内にオーバーフローした釉薬は、
容器１１８を経由して配管１２０により受缶１１４に流
入させられる。
ヘッド１００内の釉薬の液面を所定高さに保つためのも
ので、この配管１１６内にオーバーフローした釉薬は、
容器１１８を経由して配管１２０により受缶１１４に流
入させられる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところでこの施釉装置
は、釉薬を吐出ヘッド１００より自重で落下させてタイ
ル１１２に施すものであることから、施釉可能な釉薬の
粘度範囲が狭く限定されてしまう不具合がある。
は、釉薬を吐出ヘッド１００より自重で落下させてタイ
ル１１２に施すものであることから、施釉可能な釉薬の
粘度範囲が狭く限定されてしまう不具合がある。
【００１１】即ち粘度の高い釉薬についてはこれを円滑
に自重落下させることが難しく、従って高粘度の釉薬を
タイル１１２に施すことができないといった問題があ
る。
に自重落下させることが難しく、従って高粘度の釉薬を
タイル１１２に施すことができないといった問題があ
る。
【００１２】またこの施釉装置の場合、装置構成要素と
して受缶１１４とオーバーフロー装置とが必要であると
ともに、釉薬の種類を切り替えるに際してそれらの洗浄
が必要であり、しかもその際にこれらに付着していた釉
薬が洗い流されて釉薬ロスとなる問題があった。
して受缶１１４とオーバーフロー装置とが必要であると
ともに、釉薬の種類を切り替えるに際してそれらの洗浄
が必要であり、しかもその際にこれらに付着していた釉
薬が洗い流されて釉薬ロスとなる問題があった。
【００１３】更にこの施釉装置では品種切替えの際に行
う洗浄を自動化することが難しく、加えて釉薬の粘度が
時間的に変化した場合に吐出ヘッド１００からの吐出流
量の調整が面倒である上に難しく、釉薬の粘度に応じて
その吐出量を適正量とすることが困難である問題があっ
た。
う洗浄を自動化することが難しく、加えて釉薬の粘度が
時間的に変化した場合に吐出ヘッド１００からの吐出流
量の調整が面倒である上に難しく、釉薬の粘度に応じて
その吐出量を適正量とすることが困難である問題があっ
た。
【００１４】釉薬の粘度が経時的に変化した場合、この
施釉装置においてはオーバーフロー面の高さを変える等
して調整を行うこととなるが、これを適正に行うのが難
しいのである。
施釉装置においてはオーバーフロー面の高さを変える等
して調整を行うこととなるが、これを適正に行うのが難
しいのである。
【００１５】更にこの装置においては、釉薬の比重が変
わったときにおいても吐出量を適正量とするのが困難で
ある問題があった。
わったときにおいても吐出量を適正量とするのが困難で
ある問題があった。
【００１６】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解決するためになされたものであり、その要旨は、吐
出ヘッドより釉薬を幕状に吐出し、これをコンベヤにて
連続的に搬送されるタイル等施釉対象物の表面に施す施
釉装置において、前記吐出ヘッドを密閉容器状に構成し
た上該吐出ヘッドにスリット状開口を形成して該開口よ
り釉薬を幕状に吐出させるようにする一方、該吐出ヘッ
ドに配管を介して送液用のポンプを接続し、該ポンプに
よりタンク内部の釉薬を該吐出ヘッド内部に流入させる
とともに該ポンプの加圧力により前記スリット状開口よ
り強制吐出させ、以て釉薬を前記施釉対象物に施すよう
に成したことにある。
を解決するためになされたものであり、その要旨は、吐
出ヘッドより釉薬を幕状に吐出し、これをコンベヤにて
連続的に搬送されるタイル等施釉対象物の表面に施す施
釉装置において、前記吐出ヘッドを密閉容器状に構成し
た上該吐出ヘッドにスリット状開口を形成して該開口よ
り釉薬を幕状に吐出させるようにする一方、該吐出ヘッ
ドに配管を介して送液用のポンプを接続し、該ポンプに
よりタンク内部の釉薬を該吐出ヘッド内部に流入させる
とともに該ポンプの加圧力により前記スリット状開口よ
り強制吐出させ、以て釉薬を前記施釉対象物に施すよう
に成したことにある。
【００１７】
【作用及び発明の効果】以上のように、本発明の装置は
従来の装置のように釉薬を吐出ヘッドから自重落下させ
るといったものでなく、ポンプの加圧力によって密閉容
器状の吐出ヘッドより、そのスリット状開口を通じて幕
状に且つ強制的に流出させて対象物に施すものである。
従来の装置のように釉薬を吐出ヘッドから自重落下させ
るといったものでなく、ポンプの加圧力によって密閉容
器状の吐出ヘッドより、そのスリット状開口を通じて幕
状に且つ強制的に流出させて対象物に施すものである。
【００１８】従って高粘度の釉薬であっても加圧力を高
くすることによって容易に吐出ヘッドより吐出させるこ
とができ、対象物表面に厚みの厚い釉薬の膜を形成する
ことができる。
くすることによって容易に吐出ヘッドより吐出させるこ
とができ、対象物表面に厚みの厚い釉薬の膜を形成する
ことができる。
【００１９】また加圧力を適宜変化させることにより吐
出ヘッドからの釉薬の吐出量を容易にコントロールする
ことができ、釉薬の粘度・比重に応じて、またそれらの
経時的な変化に応じて常に適正な量で釉薬を吐出ヘッド
から吐出し得、施釉品質を高めることができる。
出ヘッドからの釉薬の吐出量を容易にコントロールする
ことができ、釉薬の粘度・比重に応じて、またそれらの
経時的な変化に応じて常に適正な量で釉薬を吐出ヘッド
から吐出し得、施釉品質を高めることができる。
【００２０】また本装置によればオーバーフロー装置が
不要であり従ってかかるオーバーフロー装置への釉薬の
付着の問題及びその洗浄による釉薬ロスの問題も解消す
ることができる。
不要であり従ってかかるオーバーフロー装置への釉薬の
付着の問題及びその洗浄による釉薬ロスの問題も解消す
ることができる。
【００２１】更に本装置によれば、洗浄液をポンプの加
圧力で吐出ヘッドその他釉薬の流通通路を速いスピード
で強制流通させることで、装置の自動洗浄を行うことも
可能となる。
圧力で吐出ヘッドその他釉薬の流通通路を速いスピード
で強制流通させることで、装置の自動洗浄を行うことも
可能となる。
【００２２】これにより洗浄時間を短縮化し得て品種切
替えの際のロス時間を軽減でき、生産性を高めることが
できる。
替えの際のロス時間を軽減でき、生産性を高めることが
できる。
【００２３】本発明においては、釉薬タンクを以て、吐
出ヘッドから吐出された後施釉対象物に付着することな
くこれを通過した釉薬を受けるための受器を兼用させる
ことができる。
出ヘッドから吐出された後施釉対象物に付着することな
くこれを通過した釉薬を受けるための受器を兼用させる
ことができる。
【００２４】このようにすれば専用の受器を不要化で
き、これにより装置構成要素を少なくできるとともに、
装置洗浄による釉薬のロスを更に少なくできる利点が得
られる。
き、これにより装置構成要素を少なくできるとともに、
装置洗浄による釉薬のロスを更に少なくできる利点が得
られる。
【００２５】
【実施例】次に本発明の実施例を図面に基づいて詳しく
説明する。図１及び図２において、１０は架台１２上に
設置されたコンベヤ装置でベルト１４を有し、これらベ
ルト１４上にタイル１６を載せて連続的に搬送するよう
になっている。
説明する。図１及び図２において、１０は架台１２上に
設置されたコンベヤ装置でベルト１４を有し、これらベ
ルト１４上にタイル１６を載せて連続的に搬送するよう
になっている。
【００２６】コンベヤ装置１０の下側にはタンク１８が
配設されていてその内部に釉薬が収容され、その釉薬が
タンク１８の排出口に接続された管体２０及び配管２２
を通じて吐出ヘッド２４に導かれるようになっている。
配設されていてその内部に釉薬が収容され、その釉薬が
タンク１８の排出口に接続された管体２０及び配管２２
を通じて吐出ヘッド２４に導かれるようになっている。
【００２７】２６はタンク１８内部の釉薬を送出するた
めのポンプであって、モータ２８と、回転軸３０と、回
転軸３０に設けられた螺旋状の羽根３２とを有してい
る。
めのポンプであって、モータ２８と、回転軸３０と、回
転軸３０に設けられた螺旋状の羽根３２とを有してい
る。
【００２８】回転軸３０の先端側には図示を省略する雄
ねじロータが連結されており、この雄ねじロータが管体
２０内部に入り込んでいる。
ねじロータが連結されており、この雄ねじロータが管体
２０内部に入り込んでいる。
【００２９】このポンプ２６は、回転軸３０の回転によ
りタンク１８内部において螺旋状の羽根３２により液
（釉薬）の撹拌を行うとともに、管体２０内部において
雄ねじロータを回転させることで釉薬の送出を行う。即
ちここでは管体２０がポンプ２６の一部を構成してい
る。
りタンク１８内部において螺旋状の羽根３２により液
（釉薬）の撹拌を行うとともに、管体２０内部において
雄ねじロータを回転させることで釉薬の送出を行う。即
ちここでは管体２０がポンプ２６の一部を構成してい
る。
【００３０】上記配管２２の途中には質量流量計３４及
び連続粘度計３６が設けられており、これらによって配
管２２内を流通する釉薬の比重及び粘度が検出されるよ
うになっている。
び連続粘度計３６が設けられており、これらによって配
管２２内を流通する釉薬の比重及び粘度が検出されるよ
うになっている。
【００３１】その検出結果は制御部３８へと送られ（図
２）、そして制御部３８はそれらの検出結果に基づいて
ポンプ２６におけるモータ２８の回転数制御を行う。
２）、そして制御部３８はそれらの検出結果に基づいて
ポンプ２６におけるモータ２８の回転数制御を行う。
【００３２】前記吐出ヘッド２４の具体的構成が図３に
示してある。この図に示しているように検出ヘッド２４
は、横断面形状が略三角形状の密閉容器状を成していて
内部に釉薬を収容し得るようになっており、また下端に
は幅１ｍｍ程度の細いスリット状の開口４０が形成され
ていて、ここより釉薬を薄い幕状に吐出するようになっ
ている。
示してある。この図に示しているように検出ヘッド２４
は、横断面形状が略三角形状の密閉容器状を成していて
内部に釉薬を収容し得るようになっており、また下端に
は幅１ｍｍ程度の細いスリット状の開口４０が形成され
ていて、ここより釉薬を薄い幕状に吐出するようになっ
ている。
【００３３】次に本例の装置の作用を説明する。コンベ
ヤ１０によりタイル１６を搬送しつつポンプ２６を作動
させると、タンク１８内部の釉薬が配管２２を通じて吐
出ヘッド２４に送れられ、その内部に導かれる。
ヤ１０によりタイル１６を搬送しつつポンプ２６を作動
させると、タンク１８内部の釉薬が配管２２を通じて吐
出ヘッド２４に送れられ、その内部に導かれる。
【００３４】吐出ヘッド２４の内部に導かれた釉薬は図
４に示しているようにその下端のスリット状開口４０よ
り下方に吐出され、タイル１６の表面に施される。
４に示しているようにその下端のスリット状開口４０よ
り下方に吐出され、タイル１６の表面に施される。
【００３５】このときタイル１６に付着しないでこれを
通過した釉薬は、そのままタンク１８によって受けられ
る。即ちタンク１８はタイル１６を通過した釉薬を受け
るための受缶も兼用している。
通過した釉薬は、そのままタンク１８によって受けられ
る。即ちタンク１８はタイル１６を通過した釉薬を受け
るための受缶も兼用している。
【００３６】本例の装置においては、ポンプ２６のモー
タ２８の回転数を所定回転数に設定しておくことによ
り、釉薬を吐出ヘッド２４より加圧状態で強制的に吐出
させることができる。
タ２８の回転数を所定回転数に設定しておくことによ
り、釉薬を吐出ヘッド２４より加圧状態で強制的に吐出
させることができる。
【００３７】従って高粘度の釉薬であっても、その加圧
力を適当にコントロールすることにより支障なく吐出ヘ
ッド２４より吐出させることができ、タイル１６表面に
厚い釉薬の膜を形成することができる。
力を適当にコントロールすることにより支障なく吐出ヘ
ッド２４より吐出させることができ、タイル１６表面に
厚い釉薬の膜を形成することができる。
【００３８】また質量流量計３４及び連続粘度計３６に
よる比重，粘度の検出結果に基づいてモータ２８の回転
数を制御することにより、それら比重・粘度に応じた適
正流量で吐出ヘッド２４から釉薬を吐出させることがで
き、また粘度等の経時的な変化があってもこれによく対
応することができ、常に適正な量でタイル１６表面に釉
薬を施すことができる。
よる比重，粘度の検出結果に基づいてモータ２８の回転
数を制御することにより、それら比重・粘度に応じた適
正流量で吐出ヘッド２４から釉薬を吐出させることがで
き、また粘度等の経時的な変化があってもこれによく対
応することができ、常に適正な量でタイル１６表面に釉
薬を施すことができる。
【００３９】因みに様々な粘度の釉薬を用いて施釉実験
を行ったところ、粘度の異なる釉薬であっても本例の装
置を用いることによりほぼ同一量で釉薬をタイル１６表
面に施し得ることを確認できた。表１はこの結果を示し
ている。
を行ったところ、粘度の異なる釉薬であっても本例の装
置を用いることによりほぼ同一量で釉薬をタイル１６表
面に施し得ることを確認できた。表１はこの結果を示し
ている。
【００４０】
【表１】
【００４１】本例の装置は、この外、品種切替えに際し
て装置洗浄を作業者の人手によらず自動的に行い得る利
点を有する。
て装置洗浄を作業者の人手によらず自動的に行い得る利
点を有する。
【００４２】この装置の場合洗浄液をポンプ２６で圧送
し且つ吐出ヘッド２４のスリット状開口より勢い良く噴
出させることによって液の通路内面を自動的に且つ良好
に洗浄することができるのである。
し且つ吐出ヘッド２４のスリット状開口より勢い良く噴
出させることによって液の通路内面を自動的に且つ良好
に洗浄することができるのである。
【００４３】以上本発明の実施例を詳述したがこれはあ
くまで一例示であり、本発明はタイル以外の対象物に釉
薬を施すに際しても適用可能である等、その主旨を逸脱
しない範囲において、当業者の知識に基づき様々な変更
を加えた形態で構成可能である。
くまで一例示であり、本発明はタイル以外の対象物に釉
薬を施すに際しても適用可能である等、その主旨を逸脱
しない範囲において、当業者の知識に基づき様々な変更
を加えた形態で構成可能である。
【図１】本発明の一実施例である施釉装置の一部切欠正
面図である。
面図である。
【図２】同じ施釉装置の側面図である。
【図３】同じ施釉装置の吐出ヘッドの構成図である。
【図４】同じ施釉装置の作用説明図である。
【図５】本発明の背景説明図である。
１０ コンベヤ １６ タイル
１８ タンク ２４ 吐出ヘッド
２６ ポンプ ４０ 開口
Claims (2)
- 【請求項１】 吐出ヘッドより釉薬を幕状に吐出し、こ
れをコンベヤにて連続的に搬送されるタイル等施釉対象
物の表面に施す施釉装置において前記吐出ヘッドを密閉
容器状に構成した上該吐出ヘッドにスリット状開口を形
成して該開口より釉薬を幕状に吐出させるようにする一
方、該吐出ヘッドに配管を介して送液用のポンプを接続
し、該ポンプによりタンク内部の釉薬を該吐出ヘッド内
部に流入させるとともに該ポンプの加圧力により前記ス
リット状開口より強制吐出させ、以て釉薬を前記施釉対
象物に施すように成したことを特徴とする施釉装置。 - 【請求項２】 前記タンクが、前記吐出ヘッドから吐出
された後前記施釉対象物に付着することなくこれを通過
した釉薬を受けるための受器を兼ねていることを特徴と
する請求項１に記載の施釉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20987191A JPH0532471A (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 施釉装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20987191A JPH0532471A (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 施釉装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0532471A true JPH0532471A (ja) | 1993-02-09 |
Family
ID=16580023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20987191A Pending JPH0532471A (ja) | 1991-07-26 | 1991-07-26 | 施釉装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0532471A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1281495A1 (en) * | 2001-07-31 | 2003-02-05 | AIR POWER DIVISION GROUP S.r.l. | Method for decorating tiles and the like, and device for carrying out said method |
| US6748961B2 (en) * | 2001-03-30 | 2004-06-15 | Lam Research Corporation | Angular spin, rinse, and dry module and methods for making and implementing the same |
| US7452422B2 (en) * | 2004-03-30 | 2008-11-18 | Lg Display Co., Ltd. | Apparatus for coating photoresist having slit nozzle |
| CN110238948A (zh) * | 2019-06-12 | 2019-09-17 | 邵东智能制造技术研究院有限公司 | 釉液自动循环供给控制装置 |
| CN112265124A (zh) * | 2020-10-24 | 2021-01-26 | 李璐萍 | 一种琉璃瓦沟头自动上釉装置 |
| IT202000018292A1 (it) * | 2020-07-28 | 2022-01-28 | Alfa Impianti Srl | Dispositivo per la smaltatura di manufatti e relativo impianto |
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-
1991
- 1991-07-26 JP JP20987191A patent/JPH0532471A/ja active Pending
Patent Citations (1)
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