KR900005651Y1 - 스핀 건조기 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

스핀 건조기
제1도는 종래 스핀 건조기의 단면도.
제2도는 본 고안에 따른 스핀 건조기의 일예의 단면도.
제3(a)도는 본 고안에 따른 스핀 건조기의 다른 실시예의 단면도.
제3(b)도는 제3(a)도에 표시된 건조기의 회전 스테이지의 평면도.
제4(a)도는 본 고안에 따른 스핀 건조기의 또다른 실시예의 단면도.
제4(b)도는 제4(a)도에 표시된 건조기의 회전 스테이지의 저면도.
제5(a)도는 본 고안에 따른 스핀 건조기의 또다른 실시예의 단면도.
제5(b)도는 제3(a)도에 표시된 건조기의 회전 스테이지의 평면도.
제5(c)도는 기판이 물분사에 의해 제5(a)도에 표시된 건조기로 운반되는 인라인 시스템의 구성도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 기판 2 : 회전 스테이지
11 : 고정덮개
본 고안은 스핀 건조기, 특히 반도체 장치 제조에 채용된 기판을 건조하는 스핀 건조기에 관한 것이다.
반도체 장치 제조공정, 특히 웨이퍼 공정 및 포토마스크 공정에 있어서 기판은 일련의 시약용액들로 처리된다.
각각의 처리후에 기판은 순수한 물이나 알코올로 세척된 후 건조되어야 한다.
건조시키기 위하여 기판은 스핀 건조기위에 설치되며 전기 모우터에 의해 3000내지 5000rpm의 고속회전을 하게 된다.
그 결과 원심력에 의해 세척액이 기판으로부터 빨리 제거된다.
기판의 산화 또는 먼지오염을 피하기 위해서는 이와같은 빠른 건조가 필요하다.
그러나, 종래의 스핀 건조기에 있어서는 기판의 상부 표면이 대기중에 계속 노출된 채로 있다.
따라서, 회전하는 동안 비록 짧은 기간일지라도 기판은 대기와 접촉하게 되며 소량의 먼지가 그 위에 쌓이게 되어 기판을 오염시키며 그 결과 반도체 장치의 질을 떨어뜨린다.
본 고안은 우선적인 목적은 산화되지 않고 기판을 건조시키는 스핀 건조기를 제공하는 것이다.
본 고안의 다른 목적은 먼지 오염이 없는 기판을 건조시키는 스핀 건조기를 제공하는 것이다.
본 고안의 다른 목적 및 이점들은 다음의 설명으로 명확하여질 것이다.
본 고안에 따르면 건조될 기판을 지지하는 회전 스테이지를 포함하며 적어도 기판의 면적과 동일한 면적을 갖는 고정덮개가 기판으로 부터 간격을 두고 배치된 스핀 건조기가 제공된다.
고정덮개는 건조개스를 기판에 가하기 위하여 건조될 기판과 마주하는 내부표면에 다수의 개구를 갖는다.
본 고안은 첨부된 도면을 참고로 한 바람직한 실시예의 다음 설명으로 더 명확해질 것이다.
제1도는 종래 스핀 건조기의 단면도이다.
도면으로부터 명백한 와 같이 반도체 웨이퍼(1)가 스토퍼(3)에 의해 회전 스테이지(2)의 표면에 고정된다.
그러나 웨이퍼의 상부 표면은 대기중에 노출된 채로 놓여 있다.
제2도는 본 고안에 따른 스핀 건조기의 일예의 단면도이다.
웨이퍼(1)은 회전 스테이지(12)위에 1내지 2㎜의 공간에 4개의 스토퍼(13)위에 지지되어 있다.
도면으로부터 알 수 있는 바와 같이 각 스토퍼(13)는 웨이퍼(1)가 놓여지는 돌출부를 가지고 있다.
고정덮개(11)는 웨이퍼(1)의 5 내지 100㎜위에 간격을 가지고 갖추어져 있으며 최소한 웨이퍼(1)와 동일한 면적을 가지고 있다.
건조개스, 예를 들어 건조하며 먼지가 없는 질소가 고정덮개(11)로부터 내부표면내에 갖추어진 다수의 개구 및 회전 스테이지(12)의 축내에 있는 개구를 통하여 웨이퍼(1)의 표면에 가해진다.
고정덮개(11)는 중심축을 통하여 건조개스를 공급받는다.
회전 스테이지는 전기 모우터에 의해 5,000rpm의 속도로 구동된다.
제3(a)도는 본 고안에 따른 스핀 건조기의 다른 일실시예의 단면도이다.
제3(b)도는 건조기의 회전 스테이지의 평면도이다.
이 실시예는 웨이퍼(1)가 4개의 스토퍼(3)에 의해 그것의 주변에 측방향으로 고정되어 있으며 스테이지(12) 위에 갖추어진 3개의 수직돌출부(4)위에 놓여 있는 것, 즉 스토퍼(3)가 측방향 돌출분를 갖추고 있지 않다는 것을 제외하면 제2도의 예와 동일하다.
제4(a)도는 본 고안에 따른 스핀 건조기의 또다른 일실시예의 단면도이다.
제4(b)도는 건조기의 회전 스테이지의 저면도이다.
이 실시예에서 회전 스테이지는 전기 모우터보다는 건조개스에 의해 구동된다.
제4(a) 및 4(b)도를 참고로 하면 회전 스테이지(22)가 하부 표면, 즉 웨이퍼(1)를 대하지 않는 표면에 4개의 날개(5)를 가지고 있다.
이 날개는 회전 스테이지(2)의 방사방향으로 부터 편의되어 있다.
회전 스테이지(22)내의 각 날개(5) 근처에는 개구(6)가 갖추어져 있다.
앞의 실시예에서와 같이 건조 개스가 고정덮개(11)의 내부 표면에 갖추어진 다수의 개구를 통하여 웨이퍼(1)로 공급된다.
그러나 상기한 실시예와 다르게 건조 개스는 회전 스테이지(22)의 축내의 개구로 통하여 공급되지 않는다.
건조개스의 대응부는 날개(5)를 가격하여 회전 스테이지(22)를 회전 시키도록 회전 스테이지(22)의 저부면을 향하여 공급된다.
그것은 개구(6)를 통하여 웨이퍼(1)의 배면에 도달한다.
그러므로 이 실시예의 경우에는 전기 모우터의 회전이 없어도 가능하다.
그러나 이 경우에 건조개스는 최소한 회전 스테이지를 둘러싸고 있는 건조하고 먼지가 없는 케이스내로 공급되어야 한다.
제5(a)도는 본 고안에 따른 스핀 건조기의 또다른 일실시예의 단면도이다.
제5(b)도는 건조기의 회전 스테이지의 평면도이다.
상기한 실시예에서는 건조 개스가 고정덮개의 내부표면에 갖추어진 다수의 개구를 통하여 웨이퍼(1)로 공급된다.
그러나 상기한 실시예와 달리 건조개스는 회전 스테이지(2)의 하부에 공급되지 않는다.
웨이퍼가 회전 스테이지와 동축으로 위치하여 있는 상기한 실시예와는 반대로 이 실시예의 특징은 웨이퍼(1)가 회전 스테이지(2)에 편심되어 있으며 5개의 스토퍼(3)에 의해 회전 스테이지(2)의 가장자리에 근접하여 원주의 반보다 더 적게 측방향으로 고정되어 있으며 회전 스테이지(2) 위에 3개의 수직돌출부(4) 위에 놓여 있다.
이와 같은 스핀 건조기는 제5(c)도에 개략적으로 표시되어 있는 바와 같이 인라인 웨이퍼 처리시스템에 사용하는데 특히 적합하다.
제5(c)도는 인라인 시스템도이며 여기에서 웨이퍼(1)는 물 분사에 의해 처리 스테이지(Ⅰ)로부터 세척 시테이지(Ⅱ) 그리고 그 후 건조 세척 스테이지(Ⅱ)로 이송된다.
이와 같은 시스템에 있어서 웨이퍼(1)는 대기중에 노출됨이 없어 한단계씩 자동적으로 이동된다.
이 실시예의 특징에 따른 이점은 웨이퍼(1)가 물 분사에 의해 스토퍼(3)와 대항하며 수직돌출부(4) 위에 쉽게 고정될 수 있다는 것이다.
웨이퍼(1)가 적당히 고정된 후 물이 건조실로부터 배수되며 회전 스테이지(2)는 고정덮개(11)와 웨이퍼(1) 사이에 적당한 공간으로 상향 이동된다.
비록 본 고안이 바람직한 실시예를 참고로 하여 설명되어 왔으나 바로 그것에 제한되는 것은 아니다.
예를 들면 웨이퍼는 직접 회전 스테이지의 표면에 놓일 수도 있다.

Claims (9)

  1. 건조될 기판(1)을 지지하는 회전 스테이지(12)를 포함하는 스핀 건조기에 있어서, 고정덮개(11)는 상기기판(1)으로부터 간격을 가지고 갖추어져 있으며 최소한 상기 기판(1)의 면적과 동일한 면적을 가지며 그것의 내부표면에는 상기 기판(1)으로 건조개스를 가하기 위한 다수의 개구가 갖추어져 있으며 그것의 내부표면은 건조될 상기 기판(1)과 마주 대하는 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판(1)은 상기 기판(1)의 주변에 갖추어진 스토퍼(13)에 의해 상기 회전 스테이지(12)의 표면으로 부터 간격을 갖고 있는 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
  3. 제1항에 있어서, 상기 기판(1)은 상기 스테이지(12) 위에 갖추어진 돌출부(4)에 의해 지지되며 상기 기판(1)은 주변에 있는 스토퍼(13)에 의해 고정되는 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
  4. 제1항에 있어서, 상기 회전 스테이지(12)의 중심에 개구가 갖추어져 있으며 상기 회전 스테이지(12)의 축의 중심에 있는 관통구멍과 통하여 있는 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
  5. 제1항에 있어서, 다수의 날개(5)가 상기 회전 스테이지(22)의 하부 측면에 구비되어 있고 상기 날개(5)의 방향은 상기 회전 스테이지(22)의 방사방향과 편의되어 있으며 상기 회전 스테이지(22)를 통하여 건조개스를 상기 회전 스테이지(22)의 상단 측면으로 가하기 위하여 관통호울(6)이 각 날개(5)마다 갖추어져 있으며 회전 스테이지(22)는 상기 건조개스에 의해 회전되는 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
  6. 제1항에 있어서, 상기 회전 스테이지(2)의 축과 상기 기판(1)의 중심은 서로 편심 위치되어 있으며 다수의 스토퍼(3)가 상기 회전 스테이지(2)의 주변에만 갖추어져 있으며 상기 주변은 상기 기판(1)의 중심에서 멀리 편심되어 있어서 이에 의해 상기 기판(1)은 상기 회전 스테이지(2)가 회전할 때 상기 스토퍼(3)에 의해 고정되는 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
  7. 제1항에 있어서, 상기 기판(1)은 반도체 장치를 제조하는데 사용하기 적합한 기판인 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
  8. 제1항에 있어서, 상기 기판(1)은 반도체 장치를 제조하는데 사용하기 적합한 포토마스크인 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
  9. 제1항에 있어서, 상기 건조개스는 실질적으로 어떤 먼지 및 습기도 포함하지 않은 질소개스인 것을 특징으로 하는 스핀 건조기.
KR2019900005859U 1983-09-19 1990-05-04 스핀 건조기 KR900005651Y1 (ko)

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