JPH0674158B2 - ガラス表面上に下層を形成する方法 - Google Patents
ガラス表面上に下層を形成する方法Info
- Publication number
- JPH0674158B2 JPH0674158B2 JP62328170A JP32817087A JPH0674158B2 JP H0674158 B2 JPH0674158 B2 JP H0674158B2 JP 62328170 A JP62328170 A JP 62328170A JP 32817087 A JP32817087 A JP 32817087A JP H0674158 B2 JPH0674158 B2 JP H0674158B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- lower layer
- underlayer
- silane
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/401—Oxides containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明はコーティング、特にイリデセンスの抑制ならび
にアルカリ金属イオンに敏感な上層を下側に位置するガ
ラス表面からのアルカリ金属イオンの移動から保護する
のに有用な下層の形成方法に関するものである。
にアルカリ金属イオンに敏感な上層を下側に位置するガ
ラス表面からのアルカリ金属イオンの移動から保護する
のに有用な下層の形成方法に関するものである。
英国特許第2,031,756号明細書は薄い透明な赤外線反射
性半導体コーティングに関するものであり、このコーテ
ィングは窓の絶縁性を改善するのに有用でかつ導電性で
あるこのコーティングは、例えば窓から氷または凝縮液
を除去するための、抵抗加熱器として有用である。英国
特許第2,031,756号明細書によると、このようなコーテ
ィングの使用はコーティングがイリデセンス色を、特に
反射光において、示すために限定されてきた。このよう
なイリデセンス作用は広く審美的に不満足なものとみな
されており、コーティングの厚さの僅かな変動によって
起こるイリデセンス色の変化が問題を一層悪くしてい
る。英国特許第2,031,756号明細書は、イリデセンスを
減小する適当な下層を半導体コーティングの下に堆積さ
せることによりイリデセンスの問題を解決することを提
案しており、好ましい形の下層として屈折率1.7〜1.8、
厚さ64〜80nmの層を堆奨している。英国特許第2,031,75
6号明細書によれば、下層は所要の屈折率を与えるよう
に計算した成分混合物、例えばシリコン・オキシナイト
ライドと呼ばれる窒化ケイ素84±３％とシリカ残部との
混合物を同時堆積（codepositing）させることにより生
成することができる。
性半導体コーティングに関するものであり、このコーテ
ィングは窓の絶縁性を改善するのに有用でかつ導電性で
あるこのコーティングは、例えば窓から氷または凝縮液
を除去するための、抵抗加熱器として有用である。英国
特許第2,031,756号明細書によると、このようなコーテ
ィングの使用はコーティングがイリデセンス色を、特に
反射光において、示すために限定されてきた。このよう
なイリデセンス作用は広く審美的に不満足なものとみな
されており、コーティングの厚さの僅かな変動によって
起こるイリデセンス色の変化が問題を一層悪くしてい
る。英国特許第2,031,756号明細書は、イリデセンスを
減小する適当な下層を半導体コーティングの下に堆積さ
せることによりイリデセンスの問題を解決することを提
案しており、好ましい形の下層として屈折率1.7〜1.8、
厚さ64〜80nmの層を堆奨している。英国特許第2,031,75
6号明細書によれば、下層は所要の屈折率を与えるよう
に計算した成分混合物、例えばシリコン・オキシナイト
ライドと呼ばれる窒化ケイ素84±３％とシリカ残部との
混合物を同時堆積（codepositing）させることにより生
成することができる。
このようなシリコン・オキシナトライド膜は、温度500
〜600℃の熱ガラス上に、ケイ素供給源（例えばSiH4,
（CH3）2SiH2,（C2H5）2,（CH3）4Si,SiCl4,SiBr4），
酸素供給源（例えば、O2,H2O,N2O,）および窒素供給源
（例えばN2H4,NH3,HN3,CH3NHNH2,（CH3）2NNH2,または
酸素および窒素の両方の供給源（例えばNO,NH2OH,N2H4H
2O）から化学的蒸着法によって形成することができる。
〜600℃の熱ガラス上に、ケイ素供給源（例えばSiH4,
（CH3）2SiH2,（C2H5）2,（CH3）4Si,SiCl4,SiBr4），
酸素供給源（例えば、O2,H2O,N2O,）および窒素供給源
（例えばN2H4,NH3,HN3,CH3NHNH2,（CH3）2NNH2,または
酸素および窒素の両方の供給源（例えばNO,NH2OH,N2H4H
2O）から化学的蒸着法によって形成することができる。
イリデセンスを減小する適当な下層が要求されている
が、英国特許第2,031,756号明細書に提案されている下
層は商業的に広範囲には使用されていない。これは、十
分な品質および厚さを有する下層を既知方法により製造
するのには種々の困難があるからであり、特に長い蒸着
時間が必要であるからである。
が、英国特許第2,031,756号明細書に提案されている下
層は商業的に広範囲には使用されていない。これは、十
分な品質および厚さを有する下層を既知方法により製造
するのには種々の困難があるからであり、特に長い蒸着
時間が必要であるからである。
英国特許公開公報第2,163,146号はガラス表面上に障壁
コーティングを生成して、ガラスからアルカリ金属イオ
ンに敏感な上層例えばインジウム・チンオキシド中への
アルカリ金属イオンの移動を防止することに関するもの
である。この英国特許公開公報には、電子供与体である
ガス状化合物の存在下に約600℃以上のガラス表面上で
シランを熱分解させることにより、良好な光透過性およ
び優れた障壁性を有する障壁コーティングを製造するこ
とが記載されている。電子供与体化合物を存在させるこ
とにより、酸素がガラスからコーティング中に混入され
るので、ガラス表面上に厚さ50nm以下の透明な障壁コー
ティングが形成することが分かった。
コーティングを生成して、ガラスからアルカリ金属イオ
ンに敏感な上層例えばインジウム・チンオキシド中への
アルカリ金属イオンの移動を防止することに関するもの
である。この英国特許公開公報には、電子供与体である
ガス状化合物の存在下に約600℃以上のガラス表面上で
シランを熱分解させることにより、良好な光透過性およ
び優れた障壁性を有する障壁コーティングを製造するこ
とが記載されている。電子供与体化合物を存在させるこ
とにより、酸素がガラスからコーティング中に混入され
るので、ガラス表面上に厚さ50nm以下の透明な障壁コー
ティングが形成することが分かった。
英国特許公開公報第2,163,146号記載の方法に使用され
ている電子供与体化合物は、適当な受容体分子の電子構
造中に供与することができる電子を結合した状態または
孤立電子対として含有する化合物である。電子供与体化
合物を使用すると、ガラスからの酸素がシランからのケ
イ素と結合してガラス上に透明な障壁コーティングを生
成することが分かった。この機構は解明されていない
が、電子供与体化合物はガラス表面に吸着されることが
考えられる。電子供与体化合物としては、酸素原子を含
有していない化合物例えばエチレン、あるいは若干の酸
素原子を含有しているが一般に還元性とみなされている
化合物例えば一酸化炭素およびアルコール類を使用す
る。
ている電子供与体化合物は、適当な受容体分子の電子構
造中に供与することができる電子を結合した状態または
孤立電子対として含有する化合物である。電子供与体化
合物を使用すると、ガラスからの酸素がシランからのケ
イ素と結合してガラス上に透明な障壁コーティングを生
成することが分かった。この機構は解明されていない
が、電子供与体化合物はガラス表面に吸着されることが
考えられる。電子供与体化合物としては、酸素原子を含
有していない化合物例えばエチレン、あるいは若干の酸
素原子を含有しているが一般に還元性とみなされている
化合物例えば一酸化炭素およびアルコール類を使用す
る。
透明な障壁コーティングは、遊離酸素および一般に酸化
剤とみなされている化合物の不存在下に形成することが
できるから、障壁コーティングはフロートガラスのリボ
ンに、これが形成される溶融金属上をこのガラスリボン
が前進する際に被着させることができ、この際溶融金属
が酸化される大きな危険はない。
剤とみなされている化合物の不存在下に形成することが
できるから、障壁コーティングはフロートガラスのリボ
ンに、これが形成される溶融金属上をこのガラスリボン
が前進する際に被着させることができ、この際溶融金属
が酸化される大きな危険はない。
酸素原子を含有していない電子供与体化合物の使用によ
り、シランがガラス表面に達する前に酸化されたり、反
応体ガスがガラスリボンを支持している溶融金属を酸化
する危険は軽減されるが、不幸なことに、英国特許第2,
031,756号明細書において推奨されているイリデセンス
を減小する比較的厚い下層を形成するのには不十分な酸
素がガラスから利用できるにすぎない。比較的厚い層は
酸素原子を含有する電子供与体化合物例えば二酸化炭素
を使用することにより製造することができるが、シラン
と二酸化炭素とを併用すると、耐久性の乏しい薄いコー
ティングが生成するか、あるいはコーティングの厚さを
増そうと試みた場合には白くかすんだ堆積物が生成する
ことが分かった。
り、シランがガラス表面に達する前に酸化されたり、反
応体ガスがガラスリボンを支持している溶融金属を酸化
する危険は軽減されるが、不幸なことに、英国特許第2,
031,756号明細書において推奨されているイリデセンス
を減小する比較的厚い下層を形成するのには不十分な酸
素がガラスから利用できるにすぎない。比較的厚い層は
酸素原子を含有する電子供与体化合物例えば二酸化炭素
を使用することにより製造することができるが、シラン
と二酸化炭素とを併用すると、耐久性の乏しい薄いコー
ティングが生成するか、あるいはコーティングの厚さを
増そうと試みた場合には白くかすんだ堆積物が生成する
ことが分かった。
その上、英国特許公開公報第2,163,146号に従ってシラ
ンとエチレンとを併用して透明度の極めて高い（例え
ば、光透過率がベースガラスより２％以上小さくない）
障壁コーティングの製造を試みた場合には、コーティン
グの障壁性はいくつかの適用分野において不十分なもの
であることが分かった。
ンとエチレンとを併用して透明度の極めて高い（例え
ば、光透過率がベースガラスより２％以上小さくない）
障壁コーティングの製造を試みた場合には、コーティン
グの障壁性はいくつかの適用分野において不十分なもの
であることが分かった。
英国特許第2,031,756号明細書において推奨されている
ようなイリデセンスを減小する下層を製造することがで
き、フロートガラス製造ラインにおける商業的操作に適
した方法に対する需要がある。また、ガラスからのアル
カリ金属イオンの移動に対して障壁として有効なコーテ
ィングを製造することができ、フロートガラス製造ライ
ンにおける商業的操作に適した方法に対する需要があ
る。
ようなイリデセンスを減小する下層を製造することがで
き、フロートガラス製造ラインにおける商業的操作に適
した方法に対する需要がある。また、ガラスからのアル
カリ金属イオンの移動に対して障壁として有効なコーテ
ィングを製造することができ、フロートガラス製造ライ
ンにおける商業的操作に適した方法に対する需要があ
る。
本発明においては、これらの需要はシランとエチレン系
不飽和炭化水素と二酸化炭素との混合ガスを熱ガラス表
面に当てて、ガラス表面上にケイ素および酸素を含有す
るコーティングを堆積させる方法によって満たすことが
できることを見出した。
不飽和炭化水素と二酸化炭素との混合ガスを熱ガラス表
面に当てて、ガラス表面上にケイ素および酸素を含有す
るコーティングを堆積させる方法によって満たすことが
できることを見出した。
本発明は、温度600〜750℃の熱ガラス表面上にシランと
不飽和炭化水素化合物と二酸化炭素との混合ガスを当て
て、前記ガラス表面上にケイ素および酸素を含有する透
明層を堆積させることを特徴とするガラス表面上に有用
な下層を形成する方法を提供する。
不飽和炭化水素化合物と二酸化炭素との混合ガスを当て
て、前記ガラス表面上にケイ素および酸素を含有する透
明層を堆積させることを特徴とするガラス表面上に有用
な下層を形成する方法を提供する。
本発明方法によって製造される下層はガラスからのアル
カリ金属イオンの移動に対する障壁として作用し、かつ
ガラスからのアルカリ金属イオンの移動に対して敏感な
上層を下層の上に直接または間接に被着させるのに有用
である。本発明の他の面によれは、本発明方法はさらに
ガラスからのアルカリ金属イオンの移動に敏感な層を下
層の上に被着させる工程を含む。
カリ金属イオンの移動に対する障壁として作用し、かつ
ガラスからのアルカリ金属イオンの移動に対して敏感な
上層を下層の上に直接または間接に被着させるのに有用
である。本発明の他の面によれは、本発明方法はさらに
ガラスからのアルカリ金属イオンの移動に敏感な層を下
層の上に被着させる工程を含む。
赤外線反射性および導電性の少なくとも一方を有するイ
リデセンスの小さいコーティングを製造するには、赤外
線反射性および導電性の少なくとも一方を有する層を下
層の上に堆積させる。従って、本発明のさらに他の面に
おいては、本発明方法はさらに赤外線反射性および導電
性の少なくとも一方を有する層を下層の上に被着させる
工程を含む。この上層は半導体金属酸化物、例えば錫ド
ープ酸化イジウムまたは特にフッ素をドープした酸化錫
のような酸化錫から作ることができる。
リデセンスの小さいコーティングを製造するには、赤外
線反射性および導電性の少なくとも一方を有する層を下
層の上に堆積させる。従って、本発明のさらに他の面に
おいては、本発明方法はさらに赤外線反射性および導電
性の少なくとも一方を有する層を下層の上に被着させる
工程を含む。この上層は半導体金属酸化物、例えば錫ド
ープ酸化イジウムまたは特にフッ素をドープした酸化錫
のような酸化錫から作ることができる。
下層および上層はいずれもフロートガラス製造ラインに
おいてフロートガラスに被着させることができる。この
場合には、下層は、固体から（例えば、英国特許第2,15
6,386号明細書に記載されているように）、液体から
（例えば、英国特許第1,523,991号明細書に記載されて
いるように）、あるいは蒸気供給源（例えば、水蒸気お
よびフッ化水素の存在下におけるガス状塩化第二錫）か
ら熱分解により堆積させたフッ素ドープ酸化錫とするこ
とができる。この分解は徐冷がまへの入口部で行うこと
ができる。
おいてフロートガラスに被着させることができる。この
場合には、下層は、固体から（例えば、英国特許第2,15
6,386号明細書に記載されているように）、液体から
（例えば、英国特許第1,523,991号明細書に記載されて
いるように）、あるいは蒸気供給源（例えば、水蒸気お
よびフッ化水素の存在下におけるガス状塩化第二錫）か
ら熱分解により堆積させたフッ素ドープ酸化錫とするこ
とができる。この分解は徐冷がまへの入口部で行うこと
ができる。
コーティングを赤外線反射性コーティングとして使用す
る必要がある場合には、赤外線反射性層の厚さを200〜5
00nmとするのが普通である。所望に応じて一層厚い厚
さ、例えば1000nm以下の厚さを使用することができる
が、これは下層のイリデセンス減小性の点からは普通不
必要である。コーティングが例えば抵抗加熱器または液
晶ディスクプレーにおけるように電流を通す必要がある
場合には、コーティングの厚さは所要の導電性によって
左右されるが、代表的な例では100〜1000nmである。
る必要がある場合には、赤外線反射性層の厚さを200〜5
00nmとするのが普通である。所望に応じて一層厚い厚
さ、例えば1000nm以下の厚さを使用することができる
が、これは下層のイリデセンス減小性の点からは普通不
必要である。コーティングが例えば抵抗加熱器または液
晶ディスクプレーにおけるように電流を通す必要がある
場合には、コーティングの厚さは所要の導電性によって
左右されるが、代表的な例では100〜1000nmである。
シランとしてはモノシラン（SiH4）が好ましいが、所望
に応じてガス状の他の置換または未置換のシラン例えば
（CH3）2SiH2およびジシランSi2H6を使用することがで
きる。
に応じてガス状の他の置換または未置換のシラン例えば
（CH3）2SiH2およびジシランSi2H6を使用することがで
きる。
不飽和炭化水素としてはエチレン系不飽和炭化水素化合
物、アセチレン系不飽和化合物（例えば、アセチレン）
または芳香族化合物（例えば、トルエン）を使用するこ
とができるが、普通周囲条件下にガス状である不飽和炭
化水素を使用するのが最も好都合である。不飽和炭化水
素としてはオレフィンが好ましく、２〜４個の炭素原子
を有するオレフィンが好都合である。特にエチレンが好
ましい。
物、アセチレン系不飽和化合物（例えば、アセチレン）
または芳香族化合物（例えば、トルエン）を使用するこ
とができるが、普通周囲条件下にガス状である不飽和炭
化水素を使用するのが最も好都合である。不飽和炭化水
素としてはオレフィンが好ましく、２〜４個の炭素原子
を有するオレフィンが好都合である。特にエチレンが好
ましい。
混合ガス中に存在する成分ガスの割合およびガラス上の
混合ガス流量を調節して所望の厚さおよび屈折率を有す
る下層を提供するとができる。
混合ガス流量を調節して所望の厚さおよび屈折率を有す
る下層を提供するとができる。
二酸化炭素は酸素供給源として働くので、ガラス表面か
らの酸素の利用は限定されるが、英国特許第2,031,756
号明細書によって教示されているような厚さ80nm以下の
透明層を容易に達成することができる。しかも、存在す
る成分ガスの相対的割合を適当に調節することにより、
英国特許第2,031,756号明細書によって教示される屈折
率1.7〜1.8の下層を達成することができる。本発明の好
適な面においては、厚さ60〜80nm、屈折率1.6〜1.8の下
層を堆積させる。
らの酸素の利用は限定されるが、英国特許第2,031,756
号明細書によって教示されているような厚さ80nm以下の
透明層を容易に達成することができる。しかも、存在す
る成分ガスの相対的割合を適当に調節することにより、
英国特許第2,031,756号明細書によって教示される屈折
率1.7〜1.8の下層を達成することができる。本発明の好
適な面においては、厚さ60〜80nm、屈折率1.6〜1.8の下
層を堆積させる。
本発明の他の例では、下層を堆積させるのに使用する混
合ガス中に存在する成分ガスの割合および熱ガラス上の
混合ガス流量を調節して、下層で被覆されたガラスの光
透過率が未被覆ガラスの光透過率の２％以内におさまる
ような厚さおよび屈折率を有し、かつガラスからのアル
カリ金属イオンの移動に対する有効な障壁となる下層を
堆積させる。コーティングしたガラスの光透過率はベー
スガラスの光透過率の１％以内におさまるのが好まし
い。ここに「有効な障壁」とは、ここに記載する方法に
よって試験した際に、下層がガスラ1dm2当り100mg以下
好ましくは60mg以下のNa2Oとして表したNaの通過を許容
することを意味する。
合ガス中に存在する成分ガスの割合および熱ガラス上の
混合ガス流量を調節して、下層で被覆されたガラスの光
透過率が未被覆ガラスの光透過率の２％以内におさまる
ような厚さおよび屈折率を有し、かつガラスからのアル
カリ金属イオンの移動に対する有効な障壁となる下層を
堆積させる。コーティングしたガラスの光透過率はベー
スガラスの光透過率の１％以内におさまるのが好まし
い。ここに「有効な障壁」とは、ここに記載する方法に
よって試験した際に、下層がガスラ1dm2当り100mg以下
好ましくは60mg以下のNa2Oとして表したNaの通過を許容
することを意味する。
普通、不飽和炭化水素対シランの比が大きい程、コーテ
ィングが薄くなり、屈折率が小さくなる。普通、容積比
で2:1〜5:1の不飽和炭化水素：シランの比で操作を行う
が、この範囲外の比例えば1:1〜8:1（またはこれより大
きい比）も使用することができる。不飽和炭化水素はガ
ラス表面に吸着されることによって作用すると考えられ
るので、不飽和炭化水素がガラスに強く吸着される程、
所定の効果を達成するのに必要な不飽和炭化水素対シラ
ンの比が小さくなるのが普通である。二酸化炭素対シラ
ンの比は容積比で2:1〜8:1であるのが好ましいが、この
範囲外の比例えば1:1〜20:1（またはこれより大きい
比）も使用することができる。高い比は極めて高いシラ
ン濃度で操作を行う場合にのみ使用する。
ィングが薄くなり、屈折率が小さくなる。普通、容積比
で2:1〜5:1の不飽和炭化水素：シランの比で操作を行う
が、この範囲外の比例えば1:1〜8:1（またはこれより大
きい比）も使用することができる。不飽和炭化水素はガ
ラス表面に吸着されることによって作用すると考えられ
るので、不飽和炭化水素がガラスに強く吸着される程、
所定の効果を達成するのに必要な不飽和炭化水素対シラ
ンの比が小さくなるのが普通である。二酸化炭素対シラ
ンの比は容積比で2:1〜8:1であるのが好ましいが、この
範囲外の比例えば1:1〜20:1（またはこれより大きい
比）も使用することができる。高い比は極めて高いシラ
ン濃度で操作を行う場合にのみ使用する。
普通、混合ガスはある分量例えば混合ガスの10〜90容量
％の不活性キャリヤガス例えば窒素ガスを含有する。
％の不活性キャリヤガス例えば窒素ガスを含有する。
所定組成の混合ガスの全流量が大きくなると、その結果
予想されるように下層の厚さが厚くなる。また、下層の
屈折率が大きくなることが分かった。ガラスは630〜720
℃の温度にするのが好ましい。
予想されるように下層の厚さが厚くなる。また、下層の
屈折率が大きくなることが分かった。ガラスは630〜720
℃の温度にするのが好ましい。
本発明方法はアルカリ金属イオンの移動に対する障壁と
して作用し、かつ可視光に対する透明度が極めて大きい
イリデセンス減小下層のオンライン製造を容易にできる
ようにする。しかも、使用する反応体は酸化作用が強く
ないので、本発明方法はフロートガラスのリボンが形成
される溶融金属上をこのガラスリボンが前進する際にフ
ロートガラスリボンに適用することができ、この際溶融
金属が酸化される大きな危険はない。
して作用し、かつ可視光に対する透明度が極めて大きい
イリデセンス減小下層のオンライン製造を容易にできる
ようにする。しかも、使用する反応体は酸化作用が強く
ないので、本発明方法はフロートガラスのリボンが形成
される溶融金属上をこのガラスリボンが前進する際にフ
ロートガラスリボンに適用することができ、この際溶融
金属が酸化される大きな危険はない。
次に本発明を実施例について説明する。実施例ではパー
セントは特記しない限りすべて容量％であり、ガス流量
は約20℃、60kPa（10psi）において測定した値である。
下層に用いた屈折率および厚さの値は薄膜理論を適用し
て下層の最大反射率の大きさおよび波長から計算した。
コーティングしたガラスの光透明度はdTで表した。これ
は下層をコーティングしたガラスの光透過率とコーティ
ングしていないガラスの光透過率との差である。アルカ
リ金属イオンの移動に対する障壁層としての下層の効果
は次の方法により求めた。コーティングしたガラスから
それぞれ10cm2の２個の試料を切取り、これらの試料を
これらの試料の間に挟んだ内径8.5cmの環状シリコーン
ゴムリングと一緒に締付けてガラスのコーティング表面
とシリコーンゴムリングの内側表面とによって形成され
る壁を有する円筒形セルを形成する。このセルにシリコ
ーンゴムリングの孔を通して脱イオン水を満たし、孔を
封鎖し、封鎖したセルを96℃の湯浴に48時間浸漬する。
溶液を取出し、炎光発光分光法により、ナトリウムにつ
いて分析を行う。ナトリウム抽出量を求め、セル中の水
に曝されたガラス1dm2当りのNa2Oμｇとして表わす。
セントは特記しない限りすべて容量％であり、ガス流量
は約20℃、60kPa（10psi）において測定した値である。
下層に用いた屈折率および厚さの値は薄膜理論を適用し
て下層の最大反射率の大きさおよび波長から計算した。
コーティングしたガラスの光透明度はdTで表した。これ
は下層をコーティングしたガラスの光透過率とコーティ
ングしていないガラスの光透過率との差である。アルカ
リ金属イオンの移動に対する障壁層としての下層の効果
は次の方法により求めた。コーティングしたガラスから
それぞれ10cm2の２個の試料を切取り、これらの試料を
これらの試料の間に挟んだ内径8.5cmの環状シリコーン
ゴムリングと一緒に締付けてガラスのコーティング表面
とシリコーンゴムリングの内側表面とによって形成され
る壁を有する円筒形セルを形成する。このセルにシリコ
ーンゴムリングの孔を通して脱イオン水を満たし、孔を
封鎖し、封鎖したセルを96℃の湯浴に48時間浸漬する。
溶液を取出し、炎光発光分光法により、ナトリウムにつ
いて分析を行う。ナトリウム抽出量を求め、セル中の水
に曝されたガラス1dm2当りのNa2Oμｇとして表わす。
実施例１ 322m/時間の徐冷速度で前進する6mmフロートガラスのリ
ボンに、このガラスリボンがフロート浴上を前進してい
る際に、ガラス温度約645℃の位置でガラスの上側表面
に混合ガスを供給することにより、下層をコーティング
した。混合ガスはモノシラン11％とエチレン23％と二酸
化炭素23％とキャリヤガスとしての窒素44％とから構成
した。混合ガスは層流条件下にガラス表面と平行にガラ
スの進行方向に流した。この際、装置としては英国特許
第1,507,966号明細書に記載の装置を改造してガラス表
面上の混合ガスの移動路を約0.2mまで延長したものを使
用した。混合ガス流量はコーティングしたガラスの幅1m
当り22／分とした。
ボンに、このガラスリボンがフロート浴上を前進してい
る際に、ガラス温度約645℃の位置でガラスの上側表面
に混合ガスを供給することにより、下層をコーティング
した。混合ガスはモノシラン11％とエチレン23％と二酸
化炭素23％とキャリヤガスとしての窒素44％とから構成
した。混合ガスは層流条件下にガラス表面と平行にガラ
スの進行方向に流した。この際、装置としては英国特許
第1,507,966号明細書に記載の装置を改造してガラス表
面上の混合ガスの移動路を約0.2mまで延長したものを使
用した。混合ガス流量はコーティングしたガラスの幅1m
当り22／分とした。
ガラス表面上には、透明で実質的にくもりのない下層が
形成し、その厚さは76.1nm、屈折率は1.77であった。
形成し、その厚さは76.1nm、屈折率は1.77であった。
実施例２および３ エチレンおよび二酸化炭素の流量比を実施例１より大き
くして実施例１の操作を繰返した。この結果、形成した
層の厚さおよび屈折率はともに若干減小した。用いた条
件および得られた結果を、比較のために実施例１の対応
する結果と一緒に第１表に示した。
くして実施例１の操作を繰返した。この結果、形成した
層の厚さおよび屈折率はともに若干減小した。用いた条
件および得られた結果を、比較のために実施例１の対応
する結果と一緒に第１表に示した。
実施例４〜８ 実施例１とは異なる混合ガスを用い、モノシラン：エチ
レン＋二酸化炭素の割合および全ガス流量の両方を一定
に維持しながら、エチレン対二酸化炭素の割合を変化さ
せて、実施例１の操作を繰返した。用いた条件および得
られた結果を第２表に示した。
レン＋二酸化炭素の割合および全ガス流量の両方を一定
に維持しながら、エチレン対二酸化炭素の割合を変化さ
せて、実施例１の操作を繰返した。用いた条件および得
られた結果を第２表に示した。
実施例４および５のように大きいエチレン：シランの比
を使用した結果、極めて薄い下層（55nm未満）が形成し
た。エチレン：シランの比を小さくし、二酸化炭素：シ
ランの比を大きくすると、下層の厚さは厚くなった（実
施例６および７）。しかし、二酸化炭素：シランの比が
8:1まで大きくなると下層の厚さは薄くなった。
を使用した結果、極めて薄い下層（55nm未満）が形成し
た。エチレン：シランの比を小さくし、二酸化炭素：シ
ランの比を大きくすると、下層の厚さは厚くなった（実
施例６および７）。しかし、二酸化炭素：シランの比が
8:1まで大きくなると下層の厚さは薄くなった。
実施例９〜13 モノシラン10％とエチレン25％と二酸化炭素25％と窒素
40％とから成る混合ガスおよび実施例１とは異なる全流
量を用いて、実施例１の操作を繰返した。結果を第３表
に示した（実施例９〜11）。下層の厚さおよび屈折率は
ともに全流量の増加とともに増大した。
40％とから成る混合ガスおよび実施例１とは異なる全流
量を用いて、実施例１の操作を繰返した。結果を第３表
に示した（実施例９〜11）。下層の厚さおよび屈折率は
ともに全流量の増加とともに増大した。
実施例９と同じ流量のシラン、エチレンおよび二酸化炭
素を用い、窒素流量を増大して、実施例９の操作を繰返
した。用いた流量および生成した下層の特性を第３表に
示した（実施例9,12および13）。窒素流量の増加ととも
に、下層の厚さは薄くなるが、屈折率は大きくなること
が分かった。
素を用い、窒素流量を増大して、実施例９の操作を繰返
した。用いた流量および生成した下層の特性を第３表に
示した（実施例9,12および13）。窒素流量の増加ととも
に、下層の厚さは薄くなるが、屈折率は大きくなること
が分かった。
実施例14〜19 実施例14〜19は実施例１と同様な方法で行い、第４表に
示す条件下に6mmフロートガラス上に下層を生成した。
生成した下層は第４表に示す屈折率および厚さを有する
ことが分かった。次いで、このフロートガラスが徐冷が
まに入った際に、塩化第二錫と水とフッ化水素との混合
ガスから化学的蒸着法によりフロートガラスリボン上の
下層の上にフッ素ドープ酸化錫層を堆積させた。酸化錫
の厚さを測定し、さらにガラスのコーティング側から反
射した光の色座標（シー．アイ．イー．イルミナント
（C.I.E.Illuminant）Ｃ）を測定し、実施例14〜17の場
合には下層のない場合の同様なフッ素ドープ酸化錫コー
ティングから反射した光の色座標と比較した。（色を明
らかにするために色座標を使用することはアール．エ
ス．ハンター著「ザ．メジヤメント．オブ．アペアラン
シス（The Measusment of Appearances）」（1975）
（ジョン・ウィリィ・アンド・ソンス社発行）に記載さ
れている。得られた結果を第５表に示した。第５表から
下層の作用は酸化錫層の反射色を抑制することであるこ
とが分かる。
示す条件下に6mmフロートガラス上に下層を生成した。
生成した下層は第４表に示す屈折率および厚さを有する
ことが分かった。次いで、このフロートガラスが徐冷が
まに入った際に、塩化第二錫と水とフッ化水素との混合
ガスから化学的蒸着法によりフロートガラスリボン上の
下層の上にフッ素ドープ酸化錫層を堆積させた。酸化錫
の厚さを測定し、さらにガラスのコーティング側から反
射した光の色座標（シー．アイ．イー．イルミナント
（C.I.E.Illuminant）Ｃ）を測定し、実施例14〜17の場
合には下層のない場合の同様なフッ素ドープ酸化錫コー
ティングから反射した光の色座標と比較した。（色を明
らかにするために色座標を使用することはアール．エ
ス．ハンター著「ザ．メジヤメント．オブ．アペアラン
シス（The Measusment of Appearances）」（1975）
（ジョン・ウィリィ・アンド・ソンス社発行）に記載さ
れている。得られた結果を第５表に示した。第５表から
下層の作用は酸化錫層の反射色を抑制することであるこ
とが分かる。
実施例20〜23 シラン10％とエチレン20％と二酸化炭素30％と窒素40％
とから成る混合ガスを使用し、この混合ガスを、徐冷速
度1130m/時間で前進する2.1mmガラスのリボン上におい
て、コーティングしたガラスの1mm当り50／分の流量
で流して、実施例１の操作を繰返した。混合ガスはガラ
ス温度が約645℃になる位置でガラス上を通過させた。
とから成る混合ガスを使用し、この混合ガスを、徐冷速
度1130m/時間で前進する2.1mmガラスのリボン上におい
て、コーティングしたガラスの1mm当り50／分の流量
で流して、実施例１の操作を繰返した。混合ガスはガラ
ス温度が約645℃になる位置でガラス上を通過させた。
ガラスは高い透明度を有する層でコーティングされ、こ
のコーティングされたガラスの光透過率はコーティング
されていないガラスより1.1％小さいに過ぎなかった。
アルカリの移動に対する障壁としての層の効果は、ガラ
ス1dm2当り90μｇのNa2Oとして測定された。
のコーティングされたガラスの光透過率はコーティング
されていないガラスより1.1％小さいに過ぎなかった。
アルカリの移動に対する障壁としての層の効果は、ガラ
ス1dm2当り90μｇのNa2Oとして測定された。
6mmおよび4mmのガラス上に異なるガス組成を用いて操作
を繰返した。コーティング・ステーションにおけるガラ
ス温度、ガラスリボン徐冷速度、用いたガラス組成およ
び流量を、コーティングした生成物の特性とともに第６
表に示す。実施例21および22を比較すると、ガラス温度
を上昇し、シラン濃度を増大し、エチレンおよび二酸化
炭素のシランに対する比を小さくすると、ガス流量の減
少（55／分/mから22／分/mに）を補って余りがあ
り、そこで実施例22で形成するコーティングの厚さは実
施例21のコーティングの約２倍になることが分かる。こ
れらの実施例はすべて良好な障壁性能を示したが、実施
例22の下層は（コーティングしていないガラスの光透過
率に比べて）最高の光透過率を示した。
を繰返した。コーティング・ステーションにおけるガラ
ス温度、ガラスリボン徐冷速度、用いたガラス組成およ
び流量を、コーティングした生成物の特性とともに第６
表に示す。実施例21および22を比較すると、ガラス温度
を上昇し、シラン濃度を増大し、エチレンおよび二酸化
炭素のシランに対する比を小さくすると、ガス流量の減
少（55／分/mから22／分/mに）を補って余りがあ
り、そこで実施例22で形成するコーティングの厚さは実
施例21のコーティングの約２倍になることが分かる。こ
れらの実施例はすべて良好な障壁性能を示したが、実施
例22の下層は（コーティングしていないガラスの光透過
率に比べて）最高の光透過率を示した。
実施例24〜30 実施例24〜30ではシランおよび二酸化炭素とともに不飽
和炭化水素としてブテンを用いて、色を抑制する下層お
よび障壁層を本発明方法により製造した。これらの実施
例は実施例１に記載の方法で行ったが、リボンの端縁に
おいて幅狭のガラス細条のみをコーティングした。ガラ
スは厚さが6mmで、これを360m/時間の徐冷速度で移動さ
せ、温度685℃の位置でコーティングを行った。用いた
条件、ガス組成およびガス流量、並びに生成した下層の
特性は第７表に示した。
和炭化水素としてブテンを用いて、色を抑制する下層お
よび障壁層を本発明方法により製造した。これらの実施
例は実施例１に記載の方法で行ったが、リボンの端縁に
おいて幅狭のガラス細条のみをコーティングした。ガラ
スは厚さが6mmで、これを360m/時間の徐冷速度で移動さ
せ、温度685℃の位置でコーティングを行った。用いた
条件、ガス組成およびガス流量、並びに生成した下層の
特性は第７表に示した。
十分に色を抑制する層が生成した。実施例25〜27では層
の厚さは60nm〜80nmで、層の屈折率は1.6〜1.8であった
（実施例24ではこれらの範囲から極めて僅か外れてい
た）。実施例28〜30は比較的低いガス流量で行った。こ
の結果、優れた障壁性能を有する比較的薄いコーティン
グが生成し、コーティングされたガラスの光透過率はコ
ーティングされてないガラスに近い値を示した。実施例
24〜30をこれより前の実施例と比較すると、同様な厚さ
のコーティングを生成するのに一層大きい全ガス流量が
必要であることが分かる。これは、少なくとも部分的に
は、実施例24〜30の方法が一層幅狭のガラス細条につい
て行われ、コーティングされるガラス細条の側方からガ
スが多量に逃散したことによると思われる。
の厚さは60nm〜80nmで、層の屈折率は1.6〜1.8であった
（実施例24ではこれらの範囲から極めて僅か外れてい
た）。実施例28〜30は比較的低いガス流量で行った。こ
の結果、優れた障壁性能を有する比較的薄いコーティン
グが生成し、コーティングされたガラスの光透過率はコ
ーティングされてないガラスに近い値を示した。実施例
24〜30をこれより前の実施例と比較すると、同様な厚さ
のコーティングを生成するのに一層大きい全ガス流量が
必要であることが分かる。これは、少なくとも部分的に
は、実施例24〜30の方法が一層幅狭のガラス細条につい
て行われ、コーティングされるガラス細条の側方からガ
スが多量に逃散したことによると思われる。
実施例31〜36 10×10cmの3mmフロートガラス試料を静止させたまま、
このガラスを石英管内で約650℃で加熱し、シランと二
酸化炭素と不飽和炭化水素と窒素とから成る混合ガスを
熱ガラス表面上に通すことにより、実験室内でコーティ
ングした。使用したガス組成および処理時間を第８表に
示した。第８表には、コーティングされた生成物の光透
過率および障壁性の測定結果を一緒に示した。各不飽和
炭化水素を用いることにより、良好な障壁性並びに高い
透明度（コーティングされていないガラスの透明度の１
％以内の透明度）が達成された。
このガラスを石英管内で約650℃で加熱し、シランと二
酸化炭素と不飽和炭化水素と窒素とから成る混合ガスを
熱ガラス表面上に通すことにより、実験室内でコーティ
ングした。使用したガス組成および処理時間を第８表に
示した。第８表には、コーティングされた生成物の光透
過率および障壁性の測定結果を一緒に示した。各不飽和
炭化水素を用いることにより、良好な障壁性並びに高い
透明度（コーティングされていないガラスの透明度の１
％以内の透明度）が達成された。
実施例37〜40 窒素中のシラン、エチレンおよび二酸化炭素から成る混
合ガスを用いた実施例１の操作を繰返し、徐冷速度1100
m/時間で前進する2mmフロートガラスにコーティングを
行った。
合ガスを用いた実施例１の操作を繰返し、徐冷速度1100
m/時間で前進する2mmフロートガラスにコーティングを
行った。
ガラスの光透過率を測定し、コーティングされていない
ガラスの光透過率と比較して差dTを求め、また上述のよ
うにしてガラスの障壁性能を測定した。コーティングの
厚さは非常に薄いため、上述の光学的手法では測定でき
なかったのでアルゴンイオンエッチング技術によって測
定した。
ガラスの光透過率と比較して差dTを求め、また上述のよ
うにしてガラスの障壁性能を測定した。コーティングの
厚さは非常に薄いため、上述の光学的手法では測定でき
なかったのでアルゴンイオンエッチング技術によって測
定した。
コーティングの条件および得られた結果を第９表に示し
た。
た。
実施例37〜40はいずれも障壁層の生成を示しており、コ
ーティングされたガラスの光透過率はコーティングされ
ていないガラスから1.5％の範囲内（dT）であった。最
後の比較例は、二酸化炭素を用いない場合には光透過率
は著しく小さくなる（dT＝2.3％）が、下層は実際に実
施例38および40で生成した下層より厚くなることを示
す。実施例37と38とを比較すると、シランに対するドー
パント（エチレンおよび二酸化炭素）の比を大きくした
場合には下層の厚さは減小し、この結果光透過率は改善
されるが、障壁性能は低下することが分かる。実施例37
と39とを比較すると、シランに対するドーパントの比を
僅か小さくした場合には、光透過率は減小したが、厚さ
および障壁性能は変わらないことが分かる。大幅にエチ
レンを減小しかつ二酸化炭素を増大した実施例40の場合
には、厚さは減小し、光透過率は増大したが、障壁性能
は著しく低下した。
ーティングされたガラスの光透過率はコーティングされ
ていないガラスから1.5％の範囲内（dT）であった。最
後の比較例は、二酸化炭素を用いない場合には光透過率
は著しく小さくなる（dT＝2.3％）が、下層は実際に実
施例38および40で生成した下層より厚くなることを示
す。実施例37と38とを比較すると、シランに対するドー
パント（エチレンおよび二酸化炭素）の比を大きくした
場合には下層の厚さは減小し、この結果光透過率は改善
されるが、障壁性能は低下することが分かる。実施例37
と39とを比較すると、シランに対するドーパントの比を
僅か小さくした場合には、光透過率は減小したが、厚さ
および障壁性能は変わらないことが分かる。大幅にエチ
レンを減小しかつ二酸化炭素を増大した実施例40の場合
には、厚さは減小し、光透過率は増大したが、障壁性能
は著しく低下した。
上述の実施例は、本発明方法で用いる混合ガス中に存在
する成分ガスの割合を調節し、熱ガラス表面上の混合ガ
ス流量を調節することにより、所望の厚さおよび屈折率
を有する下層を生成することができることを示す。従っ
て、本発明方法は、英国特許第2,031,756号明細書に記
載されている種類の色を抑制する下層の製造に有用であ
るだけでなく、当業界において知られている他の色を抑
制する下層の製造ならびに障壁性に有用な高い透明度を
有する下層の製造にも有用である。
する成分ガスの割合を調節し、熱ガラス表面上の混合ガ
ス流量を調節することにより、所望の厚さおよび屈折率
を有する下層を生成することができることを示す。従っ
て、本発明方法は、英国特許第2,031,756号明細書に記
載されている種類の色を抑制する下層の製造に有用であ
るだけでなく、当業界において知られている他の色を抑
制する下層の製造ならびに障壁性に有用な高い透明度を
有する下層の製造にも有用である。
フロントページの続き (72)発明者 ディビッド・アントニイ・ポータ イギリス国マーシィサイド ピーアール８ ３ディーイー サウスポート バークデ ィル リバプール ロード295
Claims (9)
- 【請求項１】ガラス表面上に下層を形成するに当り、 温度600〜750℃の熱ガラス表面上にシランと不飽和炭化
水素化合物と二酸化炭素との混合ガスを当てて、前記ガ
ラス表面上にケイ素及び酸素を含有する透明層を堆積さ
せることを特徴とするガラス表面上に下層を形成する方
法。 - 【請求項２】さらに、前記ガラスからのアルカリ金属イ
オンの移動に敏感な層を前記下層の上に被着させる工程
を含む特許請求の範囲第１項記載の方法。 - 【請求項３】さらに、赤外線反射性及び導電性の少なく
とも一方を有する層を前記下層の上に被着させる工程を
含む特許請求の範囲第１項記載の方法。 - 【請求項４】前記下層を堆積させる際に使用する前記不
飽和炭化水素化合物が２〜４個の炭素原子を有するオレ
フィンである特許請求の範囲第１〜３項のいずれか一つ
の項に記載の方法。 - 【請求項５】前記不飽和炭化水素化合物がエチレンであ
る特許請求の範囲第４項記載の方法。 - 【請求項６】前記下層を堆積させるのに使用した前記混
合ガス中に存在する成分ガスの割合及び前記熱ガラス表
面上の前記混合ガスの流量を調節して、厚さ60〜80nmお
よび屈折率1.6〜1.8の下層を堆積させる特許請求の範囲
第１〜５項のいずれか一つの項に記載の方法。 - 【請求項７】前記下層を堆積させるのに使用した前記混
合ガス中に存在する成分ガスの割合及び前記熱ガラス表
面上の前記混合ガスの流量を調節して、前記下層でコー
ティングした前記ガラスの光透過率が前記コーティング
していないガラスの光透過率の２％以内におさまるよう
な厚さおよび屈折率を有し、かつ前記ガラスからのアル
カリ金属イオンの移動に対する有効な障壁となる下層を
堆積させる特許請求の範囲第１〜６項のいずれか一つの
項に記載の方法。 - 【請求項８】前記下層を堆積させるのに使用する前記混
合ガス中の不飽和炭化水素対シランの比が容積比で2:1
〜5:1である特許請求の範囲第１〜７項のいずれか一つ
の項に記載の方法。 - 【請求項９】前記下層を堆積させるのに使用する前記混
合ガス中の二酸化炭素対シランの比が容積比で2:1〜8:1
である前記第１〜８項のいずれか一つの項に記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB868630918A GB8630918D0 (en) | 1986-12-24 | 1986-12-24 | Coatings on glass |
| GB8630918 | 1986-12-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01201046A JPH01201046A (ja) | 1989-08-14 |
| JPH0674158B2 true JPH0674158B2 (ja) | 1994-09-21 |
Family
ID=10609602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62328170A Expired - Fee Related JPH0674158B2 (ja) | 1986-12-24 | 1987-12-24 | ガラス表面上に下層を形成する方法 |
Country Status (26)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4828880A (ja) |
| EP (1) | EP0275662B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0674158B2 (ja) |
| KR (1) | KR950002332B1 (ja) |
| CN (1) | CN1018636B (ja) |
| AT (1) | ATE58114T1 (ja) |
| AU (1) | AU593966B2 (ja) |
| BR (1) | BR8707035A (ja) |
| CA (1) | CA1327143C (ja) |
| CS (1) | CS274417B2 (ja) |
| DD (1) | DD264911A5 (ja) |
| DE (2) | DE3766095D1 (ja) |
| DK (1) | DK170066B1 (ja) |
| ES (1) | ES2003853B3 (ja) |
| FI (1) | FI85460C (ja) |
| GB (2) | GB8630918D0 (ja) |
| GR (1) | GR3002521T3 (ja) |
| IE (1) | IE60946B1 (ja) |
| IN (1) | IN170516B (ja) |
| MX (1) | MX170772B (ja) |
| NO (1) | NO171970C (ja) |
| PT (1) | PT86460B (ja) |
| RU (1) | RU1830053C (ja) |
| TR (1) | TR23524A (ja) |
| UA (1) | UA11076A (ja) |
| ZA (1) | ZA879553B (ja) |
Families Citing this family (73)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8814922D0 (en) * | 1988-06-23 | 1988-07-27 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| FR2638893B1 (fr) * | 1988-11-10 | 1990-12-14 | Thomson Tubes Electroniques | Substrat electriquement isolant |
| ATE136253T1 (de) * | 1989-02-21 | 1996-04-15 | Libbey Owens Ford Co | Gegenstände aus beschichtetem glas |
| US5221352A (en) * | 1989-06-19 | 1993-06-22 | Glaverbel | Apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate |
| GB8914047D0 (en) * | 1989-06-19 | 1989-08-09 | Glaverbel | Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate |
| FR2657866A1 (fr) * | 1990-02-07 | 1991-08-09 | Saint Gobain Vitrage Int | Procede de formation d'une couche d'oxycarbure de silicium sur du verre, verre obtenu et son utilisation dans des vitrages a couche semi-conductrice. |
| GB2247691B (en) * | 1990-08-31 | 1994-11-23 | Glaverbel | Method of coating glass |
| GB2248243B (en) * | 1990-09-01 | 1994-06-22 | Glaverbel | Coated glass and method of manufacturing same |
| GB9019117D0 (en) * | 1990-09-01 | 1990-10-17 | Glaverbel | Coated glass and method of manufacturing same |
| KR920020223A (ko) * | 1991-04-04 | 1992-11-20 | 세야 히로미찌 | 무진주광택 투명체 |
| FR2675139B1 (fr) * | 1991-04-09 | 1993-11-26 | Saint Gobain Vitrage Internal | Depot de couches pyrolysees a performances ameliorees et vitrage revetu d'une telle couche. |
| CA2084247A1 (en) * | 1992-03-18 | 1993-09-19 | Francis Paul Fehlner | Lcd panel production |
| ES2096864T3 (es) * | 1992-07-11 | 1997-03-16 | Pilkington Uk Ltd | Procedimiento para la preparacion de revestimientos reflectantes sobre vidrio y espejos preparados a partir del mismo. |
| FR2695118B1 (fr) * | 1992-09-02 | 1994-10-07 | Air Liquide | Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre. |
| US5665424A (en) * | 1994-03-11 | 1997-09-09 | Sherman; Dan | Method for making glass articles having a permanent protective coating |
| US5723172A (en) * | 1994-03-11 | 1998-03-03 | Dan Sherman | Method for forming a protective coating on glass |
| US5578103A (en) * | 1994-08-17 | 1996-11-26 | Corning Incorporated | Alkali metal ion migration control |
| DE4432235A1 (de) * | 1994-09-10 | 1996-03-14 | Bayerische Motoren Werke Ag | Kratzfeste Beschichtung auf einem thermisch beständigen Substrat und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| CA2159296C (en) * | 1994-10-14 | 2007-01-30 | Michel J. Soubeyrand | Glass coating method and glass coated thereby |
| CN1051534C (zh) * | 1994-11-22 | 2000-04-19 | 秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司 | 浮法在线生产镀膜玻璃的方法 |
| GB9500330D0 (en) * | 1995-01-09 | 1995-03-01 | Pilkington Plc | Coatings on glass |
| US5773086A (en) * | 1996-08-13 | 1998-06-30 | Libbey-Owens-Ford Co. | Method of coating flat glass with indium oxide |
| GB9619134D0 (en) * | 1996-09-13 | 1996-10-23 | Pilkington Plc | Improvements in or related to coated glass |
| JP3700358B2 (ja) | 1996-12-18 | 2005-09-28 | 日本板硝子株式会社 | 防曇防汚ガラス物品 |
| US6055828A (en) * | 1997-12-30 | 2000-05-02 | Closure Medical Corporation | Treatment methods for glass medical adhesive applicators |
| US6287990B1 (en) | 1998-02-11 | 2001-09-11 | Applied Materials, Inc. | CVD plasma assisted low dielectric constant films |
| US6303523B2 (en) | 1998-02-11 | 2001-10-16 | Applied Materials, Inc. | Plasma processes for depositing low dielectric constant films |
| US6627532B1 (en) * | 1998-02-11 | 2003-09-30 | Applied Materials, Inc. | Method of decreasing the K value in SiOC layer deposited by chemical vapor deposition |
| US6054379A (en) * | 1998-02-11 | 2000-04-25 | Applied Materials, Inc. | Method of depositing a low k dielectric with organo silane |
| US6593247B1 (en) | 1998-02-11 | 2003-07-15 | Applied Materials, Inc. | Method of depositing low k films using an oxidizing plasma |
| US6660656B2 (en) | 1998-02-11 | 2003-12-09 | Applied Materials Inc. | Plasma processes for depositing low dielectric constant films |
| GB9806027D0 (en) | 1998-03-20 | 1998-05-20 | Glaverbel | Coated substrate with high reflectance |
| US6881505B2 (en) | 1998-03-20 | 2005-04-19 | Glaverbel | Coated substrate with high reflectance |
| US7776460B2 (en) * | 1998-03-20 | 2010-08-17 | Agc Glass Europe | Coated substrate with high reflectance |
| US6667553B2 (en) | 1998-05-29 | 2003-12-23 | Dow Corning Corporation | H:SiOC coated substrates |
| US6159871A (en) | 1998-05-29 | 2000-12-12 | Dow Corning Corporation | Method for producing hydrogenated silicon oxycarbide films having low dielectric constant |
| US6218018B1 (en) | 1998-08-21 | 2001-04-17 | Atofina Chemicals, Inc. | Solar control coated glass |
| US6596398B1 (en) | 1998-08-21 | 2003-07-22 | Atofina Chemicals, Inc. | Solar control coated glass |
| GB9826293D0 (en) | 1998-12-01 | 1999-01-20 | Pilkington Plc | Inprovements in coating glass |
| GB9913315D0 (en) | 1999-06-08 | 1999-08-11 | Pilkington Plc | Improved process for coating glass |
| GB2355273A (en) * | 1999-10-12 | 2001-04-18 | Pilkington Plc | Coating glass |
| US6399489B1 (en) | 1999-11-01 | 2002-06-04 | Applied Materials, Inc. | Barrier layer deposition using HDP-CVD |
| US6709721B2 (en) | 2001-03-28 | 2004-03-23 | Applied Materials Inc. | Purge heater design and process development for the improvement of low k film properties |
| US6521295B1 (en) * | 2001-04-17 | 2003-02-18 | Pilkington North America, Inc. | Chemical vapor deposition of antimony-doped metal oxide and the coated article made thereby |
| US6926926B2 (en) * | 2001-09-10 | 2005-08-09 | Applied Materials, Inc. | Silicon carbide deposited by high density plasma chemical-vapor deposition with bias |
| WO2003031362A1 (en) | 2001-10-05 | 2003-04-17 | Dow Global Technologies Inc. | Coated glass for use in displays and other electronic devices |
| DE10158925A1 (de) * | 2001-11-23 | 2003-06-26 | Fraunhofer Ges Forschung | Oxidkeramische Faserverbundwerkstoffe und ihre Verwendung |
| CN100373559C (zh) * | 2002-01-15 | 2008-03-05 | 东京毅力科创株式会社 | 形成含硅绝缘膜的cvd方法和装置 |
| US6919133B2 (en) | 2002-03-01 | 2005-07-19 | Cardinal Cg Company | Thin film coating having transparent base layer |
| DE10344442B3 (de) * | 2003-09-25 | 2004-10-28 | Schott Glas | Gargerätetür mit einer Innenscheibe aus Borosilikat-Glas und Gargerät mit einer derartigen Tür |
| US7482060B2 (en) * | 2004-07-14 | 2009-01-27 | Agc Flat Glass North America, Inc. | Silicon oxycarbide coatings having durable hydrophilic properties |
| US7372610B2 (en) | 2005-02-23 | 2008-05-13 | Sage Electrochromics, Inc. | Electrochromic devices and methods |
| GB0505074D0 (en) * | 2005-03-14 | 2005-04-20 | Pilkington Plc | Coatings |
| CN1321926C (zh) * | 2005-11-08 | 2007-06-20 | 浙江大学蓝星新材料技术有限公司 | 浮法在线生产涂层玻璃的方法 |
| WO2007081045A1 (ja) * | 2006-01-16 | 2007-07-19 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | 薄膜形成ガラス板 |
| DE102006062092B4 (de) * | 2006-12-29 | 2014-02-13 | Anton Näbauer | In Bezug auf Wirkungsgrad und Zuverlässigkeit optimierte Solarmodule |
| KR100910764B1 (ko) * | 2008-10-28 | 2009-08-04 | 박향률 | 차량 표면의 유리피막 코팅제 |
| CN101618952B (zh) * | 2009-07-30 | 2011-08-17 | 杭州蓝星新材料技术有限公司 | 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法 |
| FR2956659B1 (fr) | 2010-02-22 | 2014-10-10 | Saint Gobain | Substrat verrier revetu de couches a tenue mecanique amelioree |
| FR2962852A1 (fr) | 2010-07-19 | 2012-01-20 | Saint Gobain | Electrode transparente pour cellule photovoltaique a haut rendement |
| CN103649002A (zh) | 2011-07-12 | 2014-03-19 | 旭硝子株式会社 | 带层叠膜的玻璃基板的制造方法 |
| JP5967088B2 (ja) | 2011-07-12 | 2016-08-10 | 旭硝子株式会社 | 積層膜付きガラス基板の製造方法 |
| GB201114242D0 (en) | 2011-08-18 | 2011-10-05 | Pilkington Group Ltd | Tantalum oxide coatings |
| FR2982606A1 (fr) * | 2011-11-16 | 2013-05-17 | Saint Gobain | Vitrage hydrophobe |
| FR2982607A1 (fr) * | 2011-11-16 | 2013-05-17 | Saint Gobain | Materiau fonctionnel a haute durabilite |
| FR2982608B1 (fr) | 2011-11-16 | 2013-11-22 | Saint Gobain | Couche barriere aux metaux alcalins a base de sioc |
| CN102584023A (zh) * | 2012-02-22 | 2012-07-18 | 株洲旗滨集团股份有限公司 | 一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法及其玻璃 |
| CN102922824A (zh) * | 2012-11-08 | 2013-02-13 | 浙江大学 | 一种具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃及其制备方法 |
| DE102013111680A1 (de) * | 2013-10-23 | 2015-04-23 | Solarworld Innovations Gmbh | Solarzelle und Verfahren zum Herstellen einer Solarzelle |
| CN106277818A (zh) * | 2015-05-11 | 2017-01-04 | 杭州合新科技有限公司 | 一种新型阳光控制镀膜玻璃及其制备工艺 |
| EP3319915B2 (en) | 2015-07-07 | 2023-05-17 | AGC Glass Europe | Glass substrate with increased weathering and chemcial resistance |
| WO2021171309A1 (en) * | 2020-02-26 | 2021-09-02 | Saint-Gobain Glass France | A heat treatable reflective coating and a coated article thereof |
| GB2600168A (en) | 2020-10-26 | 2022-04-27 | Pilkington Group Ltd | Use of coated substrates |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3306768A (en) * | 1964-01-08 | 1967-02-28 | Motorola Inc | Method of forming thin oxide films |
| GB1136218A (en) * | 1965-12-14 | 1968-12-11 | Standard Telephones Cables Ltd | Improvements in or relating to the manufacture of semiconductor optical devices |
| GB1450123A (en) * | 1973-11-27 | 1976-09-22 | Post Office | Doped vitreous silica |
| GB2031756B (en) * | 1978-10-20 | 1983-03-09 | Gordon Roy Gerald | Non-iridescent glass structures and processes for their production |
| US4328646A (en) * | 1978-11-27 | 1982-05-11 | Rca Corporation | Method for preparing an abrasive coating |
| GB2078699B (en) * | 1980-06-20 | 1984-06-27 | Atomic Energy Authority Uk | Coating of metallic substrates |
| JPS5826052A (ja) * | 1981-08-06 | 1983-02-16 | Asahi Glass Co Ltd | アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体 |
| GB8420534D0 (en) * | 1984-08-13 | 1984-09-19 | Pilkington Brothers Plc | Coated products |
| JP2596452B2 (ja) * | 1988-07-08 | 1997-04-02 | 三菱電機株式会社 | エレベ−タの地震管制運転からの復旧方法 |
-
1986
- 1986-12-24 GB GB868630918A patent/GB8630918D0/en active Pending
-
1987
- 1987-12-14 EP EP87310976A patent/EP0275662B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-14 DE DE8787310976T patent/DE3766095D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-14 DE DE198787310976T patent/DE275662T1/de active Pending
- 1987-12-14 GB GB8729171A patent/GB2199848B/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-14 ES ES87310976T patent/ES2003853B3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-14 AT AT87310976T patent/ATE58114T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-12-21 US US07/135,263 patent/US4828880A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-12-21 ZA ZA879553A patent/ZA879553B/xx unknown
- 1987-12-21 DD DD87310857A patent/DD264911A5/de not_active IP Right Cessation
- 1987-12-21 AU AU82885/87A patent/AU593966B2/en not_active Ceased
- 1987-12-21 IE IE348287A patent/IE60946B1/en not_active IP Right Cessation
- 1987-12-21 NO NO875344A patent/NO171970C/no unknown
- 1987-12-22 FI FI875657A patent/FI85460C/fi not_active IP Right Cessation
- 1987-12-22 IN IN918/MAS/87A patent/IN170516B/en unknown
- 1987-12-22 CA CA000555118A patent/CA1327143C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-12-23 DK DK685687A patent/DK170066B1/da not_active IP Right Cessation
- 1987-12-23 CS CS978987A patent/CS274417B2/cs not_active IP Right Cessation
- 1987-12-23 PT PT86460A patent/PT86460B/pt not_active IP Right Cessation
- 1987-12-23 UA UA4203918A patent/UA11076A/uk unknown
- 1987-12-23 BR BR8707035A patent/BR8707035A/pt not_active IP Right Cessation
- 1987-12-23 RU SU874203918A patent/RU1830053C/ru active
- 1987-12-23 KR KR1019870014786A patent/KR950002332B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1987-12-24 MX MX009923A patent/MX170772B/es unknown
- 1987-12-24 TR TR26/88A patent/TR23524A/xx unknown
- 1987-12-24 CN CN87101283A patent/CN1018636B/zh not_active Expired
- 1987-12-24 JP JP62328170A patent/JPH0674158B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-11-08 GR GR90400894T patent/GR3002521T3/el unknown
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0674158B2 (ja) | ガラス表面上に下層を形成する方法 | |
| EP0348185B1 (en) | Coatings on glass | |
| JP3476724B2 (ja) | 被覆されたガラス基体 | |
| US5165972A (en) | Coated glass | |
| EP0174727B1 (en) | Coated products | |
| US5395698A (en) | Neutral, low emissivity coated glass articles and method for making | |
| JP4468909B2 (ja) | 透明基材上に金属窒化物系の層を堆積させる方法 | |
| NO319459B1 (no) | Glassplate med minst ±n tynn film samt fremstilling og anvendelse derav | |
| JP2000109342A (ja) | ガラス基材上に金属酸化物を主成分とする層を堆積させる方法及びそれによってコ―ティングされたガラス基材 | |
| WO2005087678A1 (en) | Process for the deposition of aluminium oxide coatings | |
| KR920010068B1 (ko) | 규소 및 산소 함유 투명 장벽 피막을 갖는 유리 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |