CS274417B2 - Method of making coating's lover layer on glass - Google Patents

Method of making coating's lover layer on glass Download PDF

Info

Publication number
CS274417B2
CS274417B2 CS978987A CS978987A CS274417B2 CS 274417 B2 CS274417 B2 CS 274417B2 CS 978987 A CS978987 A CS 978987A CS 978987 A CS978987 A CS 978987A CS 274417 B2 CS274417 B2 CS 274417B2
Authority
CS
Czechoslovakia
Prior art keywords
glass
thickness
silane
examples
layer
Prior art date
Application number
CS978987A
Other languages
English (en)
Other versions
CS978987A2 (en
Inventor
Michael S Jenkins
Andrew F Simpson
David A Porter
Original Assignee
Pilkington Plc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pilkington Plc filed Critical Pilkington Plc
Publication of CS978987A2 publication Critical patent/CS978987A2/cs
Publication of CS274417B2 publication Critical patent/CS274417B2/cs

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/22Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
    • C23C16/30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
    • C23C16/40Oxides
    • C23C16/401Oxides containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

Vynález se týká způsobu výroby spodní vrstvy povlaku na skle. Účelem této vrstvy je potlačení irisování a ochrana horních vrstev, citlivých na ionty alkalických kovů před prodnikéním těchto iontů z povrchu skla.
V britském patentovém spisu č. 2 031 765B se popisují tenké transparentní polovodivé povlaky, odrážející ultračervené světlo, které jsou určeny ke zlepšení izolačních vlastností oken a které vzhledem ke své elektrické vodivosti mohou sloužit také jako odporová topná tělesa, například k odstranění ledu nebo kondenzované vody z povrchu oken. Podle britského patentového spisu č. 2 031 756B je použití těchto povlaků prozatím omezeno skutečností, že jsou příčinou irisování, a to zvláště v odraženém světle. Toto irisování se považuje za neuspokojivé z estetického hlediska, přičemž problém se dále zhoršuje tim, že se barva při irisování mění již při malých změnách tloušťky povlaku. V britském patentovém spisu č. 2 031 756B se navrhuje překonat tento problém tak, že se na sklo uloží spodní vrstva, snižující irisování, a to pod polovodivou vrstvu, přičemž uvedený spis doporučuje jako výhodný typ této spodní vrstvy vrstvu s indexem lomu v rozmezí 1,7 až 1,8 a tlouštku v rozmezí 64 až 80 nm. Podle uvedeného spisu je možno tuto vrstvu vytvořit současným ukládáním směsi složek, jejichž uložení by mělo vést k získáni požadovaného indexu lomu. Může jít například o směs 84 + 3 % nitridu křemíku a zbytek oxidu křemičitého, tato směs se někdy uvádí jako oxinitrid křemíku.
Filmy tohoto typu je možno vytvořit tak, že se ukládají ve formě par křemíku, například SiH^, (CH3)2SiH, (C2H,.) 2SíH2 , (CH^J^Si, SiCl4 nebo SiBr^, dále zdroje kyslíku, například molekulární kyslík, voda nebo N2O, a zdroje dusíku, například N2H4, NH^, HN^, CH3NHNH2 nebo (CH.j)2NNH2, nebo je možno použít současného zdroje kyslíku a dusíku, například NO, NH2OH, N2H4H2O, na horkém skle při teplotě 500 až 600 'c.
Přestože by bylo zapotřebí používat vhodnou vrstvu, snižující irisování, nebyly spodní vrstvy, navrhované v britském patentovém spisu č. 2 031 756B použity ve většim měřítku. Příčinou této skutečnosti mohou být různé obtíže, spojené s ukládáním těchto vrstev, zejména dlouhá doba ukládání a také obtížnost získání vrstev v dostatečné kvalitě a dostatečné tlouštce.
V britském patentovém spisu č. 2 163 146A se popisují způsoby výroby bariérových povlaků na povrchu skla k zábraně průniku iontů alkalických kovů ze skla do horních vrstev, které jsou citlivé na působení těchto iontů, například jde o oxidy india a cínu.
V uvedeném patentovém spise se popisuje způsob výroby průhledných bariérových povlaků, které dobře propouštějí světlo a dobře brání průniku iontů alkalických kovů, přičemž tento způsob spočivá v pyrolýze silanu na horkém skleněném povrchu při teplotě vyšší než 600 C za přítomnosti plynného donoru elektronů. Přítomnost donoru elektronů způsobuje včleňování kyslíku ze skla do povlaku za vzniku průhledné vrstvy o tlouštce až 50 nm na povrchu skla.
Donorem elektronů pro použití při provádění způsobu podle britského patentového spisu č. 2 163 146A mohou být sloučeniny, které obsahují páry elektronů, a to bu3 ve formě vazeb nebo jako volné páry, přičemž tyto elektrony mohou být předány do elektronové struktury vhodného příjemce. Použití donoru elektronů má za následek vazbu kyslíku ze skla a křemíku ze silanu za vzniku průhledného bariérového povlaku na skle. Přestože mechanismus této reakce není zcela jasný, pravděpodobně zahrnuje adsorpci donoru elektronů bez obsahu kyslíku, napííklad ethylenu, který se považuje za redukční přesto, že obvykle obsahuje malé množství kyslíku, dále mohou být použity například alkoholy nebo oxid uhelnatý .
Protože průhledné bariérové povlaky je možno získat v nepřítomnosti volného kyslíku a sloučenin, obvykle považovaných za oxidační činidla, je možno bariérové povlaky nanášet na pás skla, pohybující se na lázni roztaveného kovu, aniž by přitom došlo k riziku oxidace roztaveného kovu.
Použití donoru elektronů, prostého kyslíku, omezuje riziko oxidace silanu před jeho
Z uložením na skleněný povrch a riziko oxidace roztaveného kovu, na němž je uložen pohybující se pás skla, avšak naneštěstí není k dispozici dostatečné množství kyslíku ze skla pro tvorbu tak silných spodních vrstev, potlačujících irisování, jaké jsou doporučovány v britském patentovém spisu č. 2 031 756B. Silnější vrstvy je možno získat při použití donorů elektronů s obsahem kyslíku, například oxidu uhličitého, avšak použití kombinace silanu a oxidu uhličitého vede buS ke vzniku tenkých vrstev nebo k jejich špatné trvanlivosti nebo při pokusech o zesílení povlaku může dojít ke vzniku matného bílého povlaku.
Mimo to při pokusech o výrobu bariérových povlaků s vysokou průhledností, například s průhledností nejvýše o 2 % nižší, než je průhlednost· původního skla, při použití kombinace silanu a ethylenu podle britského patentového spisu č. 2 163 146A jsou bariérové vlastnosti povlaků nedostatečné pro některá použití.
Bylo by tedy žádoucí navrhnout způsob, který by byl běžně použitelný při výrobě plaveného skla a přitom vedl k získání spodních vrstev, které by snižovaly irisování tak, jak se doporučuje v britském patentovém spisu č. 2 031 756B. Způsob by měl být použitelný na běžných linkách pro výrobu skla za vzniku povlaků, které by účinně bránily migraci iontů alkalického kovu ze skla při vysoké průhlednosti.
Podstata vynálezu spočívá v tom, že se na horký povrch skla přivádí při teplotě 600 až 750 C plynná směs silanu, nenasyceného uhlovodíku a oxidu uhličitého za vzniku průhledné vrstvy s obsahem křemíku a kyslíku na povrchu skla.
Způsobem podle vynálezu je možno ve srovnání se známými postupy uložit za kratší dobu kvalitní spodní vrstvu povlaku na skle. Tato vrstva snižuje irisování a je bariérou pro migraci iontů alkalických kovů. Navic nejsou použité složky silně oxidační povahy, takže nevzniká nebezpečí oxidace roztaveného kovu, na němž je uloženo sklo.
Spodní i horní vrstva mohou být naneseny na sklo v lázni, na níž se toto sklo vyrábí. V tomto případě může horní vrstvou být vrstva oxidu cínu, dopovaná fluorem, uložená pyrolytickým rozkladem pevné látky, jak bylo popsáno například v britském patentovém spisu č. 2 156 386B, kapaliny, jak bylo popsáno například v britském patentovém spisu číslo 1 523 991, nebo zdroje ve formě páry, například plynného chloridu cíničitého za přítomnosti vodní páry a fluorovodíku. Rozklad může být prováděn při vstupu pásu na roztavený kov.
V případě, že použitým horním povlakem má být povlak, odrážející infračervené záření, bude mít vrstva, odrážející toto záření, obvykle tloušíku 200 až 500 nm. Je možno užít i silnějších vrstev, například s tloušíkou až 1 000 nm, použití takových vrstev však obvykle není nutné vzhledem ke snížení irisování spodní vrstvou. V případě, že povlak má vést elektrický proud, například v odporovém topném tělese nebo v tekutém krystalu, bude záviset tlousíka tohoto povlaku na požadované elektrické vodivosti, obvykle se však tato tloušíka bude pohybovat v rozmezí 100 až 1 000 nm.
Ze silanů se s výhodou užije monosilan vzorce SiH^, je však možno užit i jiné silany, popřípadě substituované, v plynné formě, například dimethylsilan (CH3)2SiH2 a disilan sí2h6.
Z nenasycených uhlovodíků je možno použit ethylenicky nenasycené uhlovodíky, acetylenicky nenasycené sloučeniny, například acetylen, nebo aromatické sloučeniny, například toluen, avšak obvykle je nejvhodnější použít nenasycený uhlovodík, který je plynný za běžných podmínek. Tímto nenasyceným uhlovodíkem je s výhodou olefin, zvláště olefin s obsahem dvou až čtyř atomů uhliku. Zvláště výhodnou látkou je ethylen.
Podíl jednotlivých složek v přiváděné plynné směsi a rychlost průtoku uvedené plynné směsi nad povrchem skla může být řízena, aby bylo možno získat spodní vrstvu s požadovaným indexem lomu a s požadovanou tloušíkou.
Oxid uhličitý je zdrojem kyslíku, takže přestože je k dispozici pouze malé množství kyslíku z povrchu skla, je možno připravit průhledné vrstvy o tloušíce až 80 nm, jak je žádoucí podle britského patentového spisu č. 2 031 756B. Mimoto při příslušném řízení relativních podílů plynných složek je možno získat spodní vrstvy s indexem lomu v rozmezí 1,7 až 1,8, jak je žádoucí podle britského patentového spisu č. 2 031 756B. Ve výhodném provedení způsobu podle vynálezu se řídí podíly plynných složek plynné směsi pro ukládání spodní vrstvy a rychlost průtoku této plynné směsi nad povrchem horkého skla tak, že docházi ke vzniku spodní vrstvy s tlouštkou v rozmezí 60 až 80 nm a s indexem lomu v rozmezí 1,6 až 1,8.
Při dalším provedeni způsobu podle vynálezu se řídí poměry složek plynné směsi, užité k ukládání spodní vrstvy, a rychlost průtoku této plynné směsi nad horkým povrchem skla tak, že docházi k ukládání spodní vrstvy s tlouštkou a indexem lomu v takovém rozmezí, že sklo, povlečené touto spodní vrstvou je průhledné nejvýše o 2 % méně než nepovlečené sklo, přičemž vzniká účinná bariéra proti průniku iontů alkalického kovu ze skla. Průhlednost povlečeného skla se s výhodou pohybuje do hodnoty, která je pouze o 1 % nižší, než průhlednost původního skla. Pod pojmem účinná bariéra se rozumí skutečnost, že spodní vrstva dovoluje průchod nejvýš 100, s výhodou nejvýš 60 mikrogramů sodíku, vyjádřeno jako NagO, na dm2 skla.
Obvykle v případě, že se zvyšuje podíl nenasyceného uhlovodíku vzhledem k silanu, dosahuje se povlaků s nižší tlouštkou a nižším indexem lomu. Poměr nenasyceného uhlovodíku k silanu je výhodný v objemovém poměru 2 : 1 až 5 : 1, je však možno užít i jiných poměrů, například 1 : 1 až 8 : 1 nebo ještě vyšších. Nenasycený uhlovodík pravděpodobně působí svou adsorpci na povrch skla, avšak pravděpodobně čím silněji je nenasycený uhlovodík absorbován na sklo, tím nižšího podílu nenasyceného uhlovodíku je zapotřebí k dosažení požadovaného účinku. Poměr oxidu uhličitího k silanu se s výhodou pohybuje v rozmezí 2 ·. 1 až 8 : 1, přestože je možno užít i jiných objemových poměrů, například 1 : 1 až 20 : 1 nebo ještě vyšších. Vyšší poměry se obvykle užijí pouze při velmi nízkých koncentracích silanu.
Plynná směs bude obvykle obsahovat inertní nosný plyn, například dusík v množství například 10 až 90 %, vztaženo na celkový objem plynné směsi.
Při zvýšení rychlosti průtoku plynné směsi daného složení se získá spodní vrstva se zvýšenou tlouštkou. Bylo také pozorováno, že se v tomto případě získá spodní vrstva s vyšším indexem lomu.
Zpracovávané sklo se s výhodou udržuje na teplotě 630 až 720 c.
Způsob podle vynálezu usnadňuje výrobu spodních vrstev, snižujících irisování a sloužících jako bariéra pro migraci iontů alkalických kovů při vysoké průhlednosti pro viditelné světlo přímo na lince pro výrobu skla. Mimoto použité reakčni složky nejsou silně oxidační povahy, takže způsob podle vynálezu je možno užít přímo na pásu plaveného skla na lázni roztaveného kovu, aniž by přitom docházelo k nežádoucímu riziku oxidace roztaveného kovu.
Praktické provedení způsobu podle vynálezu bude osvětleno následujícími příklady, které však nemají sloužit k omezení vynálezu. V těchto příkladech, není-li uvedeno jinak, představují uvedená procenta koncentraci objemovou a průtok plynu se měří při tlaku 69 kPa a teplotě přibližně 20 c. Index lomu a tlouštka spodní vrstvy se vypočítává podle vlnové délky a velikosti odrazu ze spodní vrstvy. Průhlednost povlečeného skla se vyjadřuje jako dT, což je rozdíl mezi průhledností skla povlečeného spodní vrstvou s průhledností nepovlečeného skla v procentech. Účinnost spodní vrstvy jako bariéry pro průnik iontů alkalického kovu se stanoví následujícím způsobem. Vyříznou se dva vzorky skla vždy o ploše 10 cm2 a tyto vzorky se spoji při použití mezi ně vloženého prstence ze silikonové pryže s vnitřním průměrem 8,5 cm za vzniku válcovité komůrky, jejíž stěny jsou definovány povlečeným povrchem skla a vnitřním povrchem prstence ze silikonové pryže. Otvorem v pryžovém prstenci se komůrka naplní deionizovanou vodou, otvor se uzavře a komůrka se ponoří na 48 hodin do vodní lázně s teplotou 96 c. Pak se roztok vyjme a analyzuje se plamenovým spektroCS 274417 B2 metrem na přítomnost sodíku. Množství sodíku se stanoví a vyjádří se v mikrogramech Na2O na dm2 skla, vystaveného v komůrce působení vody.
Příklad 1
Pás plaveného skla o tlouštce 6 mm při rychlosti pásu 322 m/h se povléká spodní vrstvou tak, že se na povrch skla přivádí plynná směs na lázni roztaveného kovu v místě, kde teplota skla je vyšší než 645 c. Plynná směs sestává z 11 % monosilanu, 23 % ethylenu, % oxidu uhličitého a 44 % dusíku jako nosného plynu. Plynná směs se nechá proudit paralelně s povrchem skla ve směru pohybu skla laminárním prouděním při použiti zařízení, popsaného v britském patentovém spisu č. 1 507 966, modifikovaného tak, aby dráha působení plynné směsi na povrch skla byla prodloužena na přibližně 0,2 m. Průtok plynné směsi byl 22 litrů plynu za minutu na 1 metr šířky povlékaného skla.
Tímto způsobem došlo na povrchu skla k uložení čiré spodní vrstvy bez neprůhledných míst při tlouštce vrstvy 76,1 nm a indexu lomu 1,77.
Příklady 2 a 3
Opakuje se postup podle příkladu 1, přičemž se použije zvýšený průtok ethylenu a oxi du uhličitého. Tímto způsobem bylo dosaženo povlaku s malým snížením tlouštky a indexu lomu. Použité podmínky a výsledky jsou uvedeny v tabulce 1 současně s odpovídajícími parametry příkladu 1 pro srovnání.
Příklady 4 až 8
Opakuje se způsob podle příkladu 1, přičemž se použijí různé plynné směsi a mění se podíl ethylenu k oxidu uhličitému, přičemž podíl monosilanu k ethylenu a oxidu uhličitému zůstává stálý stejně jako průtok plynu. Použité podmínky a získané výsledky jsou uvedeny v tabulce 2.
Použití vyššího podílu ethylenu k silanu, například v příkladech 4 a 5, vede k získání velmi tenké spodní vrstvy, obvykle s tloušťkou nižší než 55 nm. Při snížení poměru ethylenu k silanu a zvýšení poměru oxidu uhličitého k silanu se obvykle získá spodní vrst va s vyšší tloušťkou, jako je tomu v příkladech 6 a 7, avšak tlouštka spodní vrstvy se sníží v případě, že se poměr oxidu uhličitého k silanu zvýší nad poměr 8:1.
Příklady 9 až 13
Byl opakován způsob podle příkladu 1 při použití plynné směsi, obsahující 10 % monosilanu, 25 % ethylenu, 25 % oxidu uhličitého a 40 % dusíku při různém průtoku. Výsledky jsou uvedeny v tabulce 3 (příklady 9 až 11). Bylo zjištěno, že jak tlouštka, tak index lomu spodní vrstvy se zvětšuje se zvyšováním průtoku.
Byl opakován způsob podle příkladu 9 při použití stejného průtoku silanu, ethylenu a oxidu uhličitého, avšak při zvýšeném průtoku dusíku. Užité průtoky a vlastnosti spodní vrstvy jsou uvedeny v tabulce 3 (příklady 9, 12 a 13). Bylo prokázáno, že tlouštka spodní vrstvy se snižuje se zvýšeným indexem lomu při zvýšení průtoku dusíku.
Příklady 14 až 19
V těchto příkladech, které byly prováděny podobně jako způsob podle přikladu 1, byly vyrobeny spodní vrstvy na plaveném skle o tlouštce 6 mm za podmínek, uvedených v tabulce 4, přičemž index lomu a tlouštky vrstev jsou uvedeny rovněž v tabulce 4. Pak byly na plavené sklo uloženy vrstvy oxidu cínu, dopovaného fluorem ukládáním z plynné směsi chloridu cíničitého, vody a fluorovodíku. Pak byla měřena vrstva oxidu cínu a barva ve světle, odraženém od povlečené strany skla (C.I.E. Illuminant C) a stejně jako v příkladech 14 a 17 byly tyto barvy srovnávány s podobnými barvami povlaků oxidu cínu, dopovaného fluorem, avšak bez spodní vrstvy.
Použitá barevná škála a způsoby vyhodnocení jsou uvedeny v publikaci The Measurement of Appearances, R. S. Hunter, vydavatelství John Wiley and Sons, 1975. Získané výsledky jsou uvedeny v tabulce 5.
Je zřejmé, že spodní vrstvy účinně brání irisování při použití vrstev oxidu cínu se spodní vrstvou, uloženou způsobem podle vynálezu.
Příklady 20 až 23
Byl opakován způsob podle příkladu 1 při použití plynné směsi s obsahem 10 % silanu, 20 % ethylenu, 30 % oxidu uhličitého a 40 % dusíku při průtoku 50 1/min na metr skla, při tlouštee skla 2,1 mm, pohybujícího se rychlostí 1 130 m/h. Plynná směs procházela nad povrchem skla v místě, kde teplota skla byla přibližně 645 c.
Na skle se vytvořila vrstva s vysokou průhledností, takže průhlednost povlečeného skla byla pouze o 1,1 % nižší než průhlednost nepovlečeného skla. Účinnost spodní vrstvy jako bariéry proti migraci iontů alkalických kovů bylá naměřena jako 90 mikrogramů Na20 na dm2 povrchu skla svrchu uvedeným způsobem.
Tento postup byl opakován ještě při použití různých složeni plynu a skla o tlouštee 6 mm a 4 mm. Teplota skla v místě tvorby povlaku, rychlost pásu skla, složení plynu a jeho průtok spolu s vlastnostmi povlečeného skla jsou uvedeny v tabulce 6. Při srovnání výsledků z příkladů 21 a 22 je zřejmé, že při zvýšení teploty skla a koncentrace silanu a při snížení poměru ethylenu a oxidu uhličitého k silanu na větší stupeň než je nutné pro kompenzaci snížení průtoků plynu (55 až 24 1/min) je povlak, získaný podle příkladu 22, přibližně dvakrát silnější než povlak, získaný podle příkladu 21, Ve všech příkladech bylo dosaženo dobrého bariérového účinku, avšak povlak podle příkladu 22 byl nejprúhlednějši vzhledem k průhlednosti nepovlečeného skla.
Příklady 24 až 30
Tyto příklady ilustrují použití butenu jako nenasyceného uhlovodíku spolu se sílaném a oxidem uhličitým za vzniku spodních vrstev, které potlačují vznik nežádoucího zbarvení a jsou rovněž účinnou bariérou proti průniku iontů alkalických kovů. Postup v těchto příkladech byl stejný jako v příkladu 1, avšak povlak byl nanášen pouze na úzký proužek skla na okraji pohybujícího se pásu skla. Sklo mělo tlouštku 6 mm, pohybovalo se rychlostí 360 m/h a bylo povlékáno v místě, kde jeho teplota dosahovala 685 ‘c. Podmínky tvorby povlaku, složení plynu, jeho průtok a vlastnosti vrstvy jsou shrnuty v tabulce 7.
Uspokojivé vrstvy, potlačující vznik různých zbarvení, bylo možno získat v příkladech 25 až 27 a také v přikladu 24. Tyto vrstvy měly tlouštku 60 až 80 nm a index lomu v rozmezi 1,6 až 1,8. V příkladech 28 až 30, v nichž bylo užito pomalejšího průtoku plynu, byly získány povlaky s nižší tlouštkou, které vytvářely velmi dobrou bariéru proti průniku iontů alkalických kovů a současně zajištovaly dobrou průhlednost ve srovnání s nepovlečeným sklem. Při srovnání příkladů 24 až 30 s předchozími příklady je zřejmé, že je zapotřebí vyššího průtoku plynu ke vzniku povlaků podobné tlouštky. V příkladech 24 až 30 je příčinou tohoto jevu patrně alespoň zčásti skutečnost, že způsob podle uvedených příkladů byl prováděn na užším proužku skla, takže velká část plynu se dostávala mimo okraje povlékaného skla.
Příklady 31 až 36
Vzorky plaveného skla o tlouštee 3 mm a velikosti 10 x 10 cm byly povlékány v laboratoři tak, že sklo bylo zahřáto v trubici z oxidu křemičitého na teplotu 650 ‘c, načež byl trubicí proháněn plyn, sestávající ze silanu, oxidu uhličitého, nenasyceného uhlovodíku a dusíku. Složení plynné směsi a další podmínky jsou uvedeny v tabulce 8 spolu s výsledky měření propustnosti pro světlo a bariérových vlastností povlečeného produktu. Při plynu s obsahem nenasyceného uhlovodíku bylo vždy dosaženo vysoké průhlednosti současně s dobrými bariérovými vlastnostmi povlaku, průhlednost byla nejvýše o 1 % nižší ve srovnání s průhledností nepovlečeného skla.
Příklady 37 až 40
Byl opakován způsob podle příkladu 1 při použití plynné směsi silanu, ethylenu a oxidu uhličitého v dusíku, povlak byl ukládán na plaveném skle o tlouštce 2 mm při rychlosti pohybu pásu 1 100 m/h.
Pak byla měřena průhlednost povlečeného skla a srovnávána s průhledností nepovlečeného skla za získání rozdílu dT, účinnost povlaku jako bariéry proti průniku iontů byla měřena svrchu uvedeným způsobem. Tlouštka povlaku byla příliš malá pro měření svrchu uvedeným optickým způsobem a byla tedy měřena pomocí argonových iontů.
Podmínky při výrobě povlaků a získané výsledky jsou uvedeny v tabulce 9.
V příkladech 37 až 40 se popisuje výroba bariérových vrstev, po jejichž uložení má povlečené sklo propustnost pro světlo nejvýše o 1,5 % nižší než nepovlečené sklo (dT). Srovnávací příklady ukazují, že v nepřítomnosti oxidu uhličitého je propustnost pro světlo podstatně nižší (dT = 2,3 %) , přesto, že spodní vrstva je silnější než spodní vrstvy v příkladech 38 a 40. Srovnáni příkladů 37 a 38 ukazuje, že při zvýšení poměru dopujících složek (ethylenu a oxidu uhličitého) k silanu se snižuje tlouštka spodní vrstvy a v důsledku toho se zlepšuje propustnost pro světlo, avšak bariérová účinnost je nižší. Malé snížení poměru dopujících látek k silanu (příklady 37 a 39) snižuje propustnost pro světlo, avšak tlouštka povlaku a bariérová účinnost zůstávají nezměněny. Při podstatném sníženi obsahu ethylenu a zvýšení oxidu uhličitého (přiklad 40) se snižuje tlouštka a zvyšuje se propustnost pro světlo, avšak současně se podstatně snižuje bariérová účinnost povlaku.
Předchozí příklady ukazují, že řízením podílů jednotlivých složek plynné směsi, použité při provádění způsobu podle vynálezu, a průtoku této směsi na horkém povrchu skla je možno získat spodní vrstvy s požadovanou tlouštkou a indexem lomu. Způsob podle vynálezu je tedy možno užít nejen pro tvorbu spodních vrstev, potlačujících irisování, jak to bylo uvedeno v britském patentovém spisu č. 2 031 756B, avšak také k produkci spodních vrstev s velmi dobrou propustností pro světlo a současně s velmi dobrou bariérovou účinností .
TABULKA 1
Pří- klad Rychlost pásu skla m/h Teplota skla C Složení plynu v % průtok plynu 1/(min.m) šířky Spodní vrstva
Hr c2h4 co2 n2 index lomu tlouštka
1 322 645 11 23 23 44 22 1,77 76,1
2 322 645 9 28 28 37 26,25 1,70 73,7
3 322 645 8 29 29 33 29 1,63 73,6
příklad Rychlost pásu Teplota Složení plynu v % Průtok plynu Spodní vrstva skla m/h skla C SiH. C?H. C0_ N_ 1/(min.m)šířky index lomu tlouštka nm vd
X
C
Φ >w •H rH »4 (X rt >
4-»
W
H >
M
C >Φ ε
N k
ÍX tn m rf <f
Γ*- Γ-.
CM CM
CO (N cH CN ro rf tn rf r- ro o ro ro vo vo vo vo cn cn
CN CN rf tn 'ί σι co cn co in > Γ- LO
O 0\ Lfl
Ό ι-l CN > CO CO
CO r-C VO r» Ό
5j· oo ro vo vo co «—t i—I r-l tn tn m rf rf rf r- r- rCN CM CN ro rf ro ro rf in ro cm ro ro <N «-i > Γ· Γ* o o o ro ro ro vo vo vo
VO VO VO cn cn cn
CM CM CN vo > co ro cn VO VO
O rf (N CM rf cn «r ρ- vo rO ro VO CO CM CM ro ►q
O
CQ tf
E-<
O o rf rf tn tn CN CN
O CO rf rf rf Ul tn cn CM CM cn oo ‘ o o rf rf VO VO i—I <—t ro ro ro ro cn
O O O rf rf
VO VO VO t—t i-H ro ro co co ro co příklad Rychlost pásu Teplota Složení plynu v % Průtok plynu Spodní vrstva skla m/h skla C SiH. C-H. CO- N- 1/(min.m) šířky index lomu tlouštka nm o
tn rD
CQ
CM CM CM CM dn co co cn o o o o k0 kO co cq o
kO cq >
+>
ω >
M
C τι o
CL ω
C
Φ u
o c
Ό
Λ
M)
C >
Φ
Cl fO «
c
Φ υ
o c
XJ o
£ 'φ c
>
Φ u
(TJ
CQ +J •H
X xo □
O
CL
O I—I CJ>
rH (Ml ko o σ\ in pH «—t + 1 + k0 CQ kO
O CM + + +
O O in o cq cq o
CN
CQ
CN CN «-t CN + +
CN +
příklad rychlost pásu teplota tlouštka složení plynu v % průtok plynu spodní vrstva dT % Mg skla m/h skla 'c skla mm SiH. C?H. CO N_ 1/(min.m) šířky index tlouštka Na?0/dm2 kD O ro cn co rH ro o
kD
CN
CN
Ch
LO
LT) ’Φ kO •3* co r-l r-l o
kD
in r*~
ID CN CN
CN O CO cn tn ro kD rH 00 CO CN CN kD r-l CO
CO CN CN kD CO r-l o o o tn > σ\ kD kD kD o o o © co m ro ro tn w cn ro CN CN CN
CN
CO kD
ΓΓΟ *P r- r-ι—I rH tn r-~ m
CN o
CN
Γo
O a
<
ÉH co in ro m n· ro in ro ro cn σι kD in tn ro ro r- m m ro ro ro tn ro ro r- tn tn ro ro ro tn r-* ro tn
Γ ro tn co kD o
ko ro
CN o
in o
tn tn co kO o
kD ro o
ro
CN příklad monosilan nenasycený oxid dusík doba povlé- dT % Mg % uhlovodík uhličitý % kání (s) NaoO/dm
LO
Tí*
LO
LO
Tí*
LO
LO r-d
ΓΊ c
Φ r—1
P
Φ a
fí fí
Φ (—I >1 p Φ O fí
ΓΌ
ΓCN
C
Φ fí r—I
P fí
Φ
P a
φ x:
LO
LD
0 o <N
XJ ID « ε
XL) 40 TJ
c Vd
ε c O o
0 Φ ιΛ tn CN
P N S
Vd vd 2
>P )p
N C
Φ
0 U
44 XJ >1
Vd M W
Ό U
0 C
> >
0 xfí 40
r—1 r-1 44
XJ 42 Vd H
Ό
42 0
0 0 >
XJ P 0
Ό CU rd
c XJ
Φ •H
ϋ P >
>1 ω 0 P ε
ω 0 P w c
0 P
XJ >
Φ •H 0 44
c XJ P Vd uP
'fí c xn
vd •rd TJ
> ε 0 0
P cu ·—1
w P cn P
>N TJ
0 'fí cu
c r-1
ε 44 f—1 >3
0 >1 44
·. cu 42 >P
e TJ c Vd
φ Φ ·» >1 xn
44 >P ε rd
Vd cu φ CU ε
TJ 44
0 •H Vd 44 G
> >P 03 0 •rd
O cu O P 5
r-1 > •fí
XJ >1 0 P >.
c rd CU r—1
•rd x; O
£ r-d
'>1
CU ε E-*
Φ '>í
u 44 c CN
>3 r-d 2
« P 40
CU
CU > CN
Φ 44 O
C O
44 ε
ε >1
'S rd c rd *4*
P Φ CU ffi
>—1 υ ΓΝ
0 >1 vd O
Ql xj cn C
XU Φ
44 ε c >N •«4*
*fí Φ 0
c i—1 •H
44 N cn ω
Vd Vd
W Φ 0
N vd
TJ •m
0 Φ
ε c N o
Ή χΰ xU P
P Xj 0
Vd υ «—1
> XJ 0 CU ι—I
χΰ 0 P Φ 44
rd cu cu P cn
42 >1
> ·»
42 44
0 0 Vd
P 1—1 cn
a >1 w
X2 xtf
cu
'fí •rd Φ
44 cn >N -P XJ
ω XD cn
Vd ε * 0 ε
N w xlj <—1
42
r-d XD Φ Φ rd
>1 ε >1 44
42 C P cn
c
c rd N
>1 CU
r-d O
CU > P i—1
44
vd
>P
CU
O
CN
V
ΓΟΟ
CN rn in ic lo m in
LO LD LO
O
CN srovnávací 1100 655 11,8 42,0 0 46,0 52 14 2,3 ^20

Claims (6)

1. Způsob výroby spodní vrstvy povlaku na skle, vyznačující se tím, že se na horký povrch skla přivádí při teplotě 600 až 750 *C plynná směs silanu, nenasyceného uhlovodíku a oxidu uhličitého za vzniku průhledné vrstvy s obsahem křemíku a kyslíku na povrchu skla.
2. Způsob podle bodu 1, vyznačující se tím, že nenasyceným uhlovodíkem je olefin s obsahem 2 až 4 atomů uhlíku.
3. Způsob podle bodu 2, vyznačující se tím, že nenasyceným uhlovodíkem je ethylen.
4. Způsob podle bodů 1 až 3, vyznačující se tím, že se řídí poměry složek plynné směsi, a rychlost přivádění této plynné směsi k horkému povrchu skla k vytvoření vrstvy o tlouštce 60 až 80 nm a indexu lomu v rozmezí 1,6 až 1,8.
5. Způsob podle bodů 1 až 4, vyznačující se tím, že poměr nenasyceného uhlovodíku k silanu v plynné směsi se pohybuje v objemovém rozmezí 2 : 1 až 5 : 1.
6. Způsob podle bodů 1 až 5, vyznačující se tím, že se poměr oxidu uhličitého k silanu v plynné směsi pohybuje v objemovém rozmezí 2 : 1 až 8 : 1.
CS978987A 1986-12-24 1987-12-23 Method of making coating's lover layer on glass CS274417B2 (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB868630918A GB8630918D0 (en) 1986-12-24 1986-12-24 Coatings on glass

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CS978987A2 CS978987A2 (en) 1990-09-12
CS274417B2 true CS274417B2 (en) 1991-04-11

Family

ID=10609602

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS978987A CS274417B2 (en) 1986-12-24 1987-12-23 Method of making coating's lover layer on glass

Country Status (26)

Country Link
US (1) US4828880A (cs)
EP (1) EP0275662B1 (cs)
JP (1) JPH0674158B2 (cs)
KR (1) KR950002332B1 (cs)
CN (1) CN1018636B (cs)
AT (1) ATE58114T1 (cs)
AU (1) AU593966B2 (cs)
BR (1) BR8707035A (cs)
CA (1) CA1327143C (cs)
CS (1) CS274417B2 (cs)
DD (1) DD264911A5 (cs)
DE (2) DE275662T1 (cs)
DK (1) DK170066B1 (cs)
ES (1) ES2003853B3 (cs)
FI (1) FI85460C (cs)
GB (2) GB8630918D0 (cs)
GR (1) GR3002521T3 (cs)
IE (1) IE60946B1 (cs)
IN (1) IN170516B (cs)
MX (1) MX170772B (cs)
NO (1) NO171970C (cs)
PT (1) PT86460B (cs)
RU (1) RU1830053C (cs)
TR (1) TR23524A (cs)
UA (1) UA11076A (cs)
ZA (1) ZA879553B (cs)

Families Citing this family (73)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB8814922D0 (en) * 1988-06-23 1988-07-27 Pilkington Plc Coatings on glass
FR2638893B1 (fr) * 1988-11-10 1990-12-14 Thomson Tubes Electroniques Substrat electriquement isolant
WO1990009883A1 (en) * 1989-02-21 1990-09-07 Libbey-Owens-Ford Co. Coated glass articles
GB8914047D0 (en) * 1989-06-19 1989-08-09 Glaverbel Method of and apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate
US5221352A (en) * 1989-06-19 1993-06-22 Glaverbel Apparatus for pyrolytically forming an oxide coating on a hot glass substrate
FR2657866A1 (fr) * 1990-02-07 1991-08-09 Saint Gobain Vitrage Int Procede de formation d'une couche d'oxycarbure de silicium sur du verre, verre obtenu et son utilisation dans des vitrages a couche semi-conductrice.
GB2247691B (en) * 1990-08-31 1994-11-23 Glaverbel Method of coating glass
GB2248243B (en) * 1990-09-01 1994-06-22 Glaverbel Coated glass and method of manufacturing same
GB9019117D0 (en) * 1990-09-01 1990-10-17 Glaverbel Coated glass and method of manufacturing same
EP0507236A3 (en) * 1991-04-04 1992-10-21 Asahi Glass Company Ltd. Non-iridescent transparent product
FR2675139B1 (fr) * 1991-04-09 1993-11-26 Saint Gobain Vitrage Internal Depot de couches pyrolysees a performances ameliorees et vitrage revetu d'une telle couche.
CA2084247A1 (en) * 1992-03-18 1993-09-19 Francis Paul Fehlner Lcd panel production
GB2268509B (en) * 1992-07-11 1996-01-31 Pilkington Uk Ltd Coatings on glass
FR2695118B1 (fr) * 1992-09-02 1994-10-07 Air Liquide Procédé de formation d'une couche barrière sur une surface d'un objet en verre.
US5665424A (en) * 1994-03-11 1997-09-09 Sherman; Dan Method for making glass articles having a permanent protective coating
US5723172A (en) * 1994-03-11 1998-03-03 Dan Sherman Method for forming a protective coating on glass
US5578103A (en) * 1994-08-17 1996-11-26 Corning Incorporated Alkali metal ion migration control
DE4432235A1 (de) * 1994-09-10 1996-03-14 Bayerische Motoren Werke Ag Kratzfeste Beschichtung auf einem thermisch beständigen Substrat und Verfahren zu ihrer Herstellung
CA2159296C (en) * 1994-10-14 2007-01-30 Michel J. Soubeyrand Glass coating method and glass coated thereby
CN1051534C (zh) * 1994-11-22 2000-04-19 秦皇岛开发区蓝光玻璃新技术公司 浮法在线生产镀膜玻璃的方法
GB9500330D0 (en) * 1995-01-09 1995-03-01 Pilkington Plc Coatings on glass
US5773086A (en) * 1996-08-13 1998-06-30 Libbey-Owens-Ford Co. Method of coating flat glass with indium oxide
GB9619134D0 (en) * 1996-09-13 1996-10-23 Pilkington Plc Improvements in or related to coated glass
JP3700358B2 (ja) 1996-12-18 2005-09-28 日本板硝子株式会社 防曇防汚ガラス物品
US6055828A (en) * 1997-12-30 2000-05-02 Closure Medical Corporation Treatment methods for glass medical adhesive applicators
US6303523B2 (en) 1998-02-11 2001-10-16 Applied Materials, Inc. Plasma processes for depositing low dielectric constant films
US6287990B1 (en) 1998-02-11 2001-09-11 Applied Materials, Inc. CVD plasma assisted low dielectric constant films
US6593247B1 (en) 1998-02-11 2003-07-15 Applied Materials, Inc. Method of depositing low k films using an oxidizing plasma
US6660656B2 (en) 1998-02-11 2003-12-09 Applied Materials Inc. Plasma processes for depositing low dielectric constant films
US6054379A (en) * 1998-02-11 2000-04-25 Applied Materials, Inc. Method of depositing a low k dielectric with organo silane
US6627532B1 (en) 1998-02-11 2003-09-30 Applied Materials, Inc. Method of decreasing the K value in SiOC layer deposited by chemical vapor deposition
GB9806027D0 (en) 1998-03-20 1998-05-20 Glaverbel Coated substrate with high reflectance
US6881505B2 (en) * 1998-03-20 2005-04-19 Glaverbel Coated substrate with high reflectance
US7776460B2 (en) * 1998-03-20 2010-08-17 Agc Glass Europe Coated substrate with high reflectance
US6667553B2 (en) 1998-05-29 2003-12-23 Dow Corning Corporation H:SiOC coated substrates
US6159871A (en) 1998-05-29 2000-12-12 Dow Corning Corporation Method for producing hydrogenated silicon oxycarbide films having low dielectric constant
US6218018B1 (en) 1998-08-21 2001-04-17 Atofina Chemicals, Inc. Solar control coated glass
US6596398B1 (en) 1998-08-21 2003-07-22 Atofina Chemicals, Inc. Solar control coated glass
GB9826293D0 (en) * 1998-12-01 1999-01-20 Pilkington Plc Inprovements in coating glass
GB9913315D0 (en) 1999-06-08 1999-08-11 Pilkington Plc Improved process for coating glass
GB2355273A (en) * 1999-10-12 2001-04-18 Pilkington Plc Coating glass
US6399489B1 (en) 1999-11-01 2002-06-04 Applied Materials, Inc. Barrier layer deposition using HDP-CVD
US6709721B2 (en) 2001-03-28 2004-03-23 Applied Materials Inc. Purge heater design and process development for the improvement of low k film properties
US6521295B1 (en) * 2001-04-17 2003-02-18 Pilkington North America, Inc. Chemical vapor deposition of antimony-doped metal oxide and the coated article made thereby
US6926926B2 (en) * 2001-09-10 2005-08-09 Applied Materials, Inc. Silicon carbide deposited by high density plasma chemical-vapor deposition with bias
WO2003031362A1 (en) 2001-10-05 2003-04-17 Dow Global Technologies Inc. Coated glass for use in displays and other electronic devices
DE10158925A1 (de) * 2001-11-23 2003-06-26 Fraunhofer Ges Forschung Oxidkeramische Faserverbundwerkstoffe und ihre Verwendung
WO2003060978A1 (en) * 2002-01-15 2003-07-24 Tokyo Electron Limited Cvd method and device for forming silicon-containing insulation film
US6919133B2 (en) 2002-03-01 2005-07-19 Cardinal Cg Company Thin film coating having transparent base layer
DE10344442B3 (de) * 2003-09-25 2004-10-28 Schott Glas Gargerätetür mit einer Innenscheibe aus Borosilikat-Glas und Gargerät mit einer derartigen Tür
US7482060B2 (en) * 2004-07-14 2009-01-27 Agc Flat Glass North America, Inc. Silicon oxycarbide coatings having durable hydrophilic properties
US7372610B2 (en) 2005-02-23 2008-05-13 Sage Electrochromics, Inc. Electrochromic devices and methods
GB0505074D0 (en) * 2005-03-14 2005-04-20 Pilkington Plc Coatings
CN1321926C (zh) * 2005-11-08 2007-06-20 浙江大学蓝星新材料技术有限公司 浮法在线生产涂层玻璃的方法
WO2007081045A1 (ja) * 2006-01-16 2007-07-19 Nippon Sheet Glass Company, Limited 薄膜形成ガラス板
DE102006062092B4 (de) * 2006-12-29 2014-02-13 Anton Näbauer In Bezug auf Wirkungsgrad und Zuverlässigkeit optimierte Solarmodule
KR100910764B1 (ko) * 2008-10-28 2009-08-04 박향률 차량 표면의 유리피막 코팅제
CN101618952B (zh) * 2009-07-30 2011-08-17 杭州蓝星新材料技术有限公司 浮法在线生产透明导电膜玻璃的方法
FR2956659B1 (fr) 2010-02-22 2014-10-10 Saint Gobain Substrat verrier revetu de couches a tenue mecanique amelioree
FR2962852A1 (fr) 2010-07-19 2012-01-20 Saint Gobain Electrode transparente pour cellule photovoltaique a haut rendement
TW201309838A (zh) 2011-07-12 2013-03-01 Asahi Glass Co Ltd 附積層膜之玻璃基板之製造方法
CN103649002A (zh) 2011-07-12 2014-03-19 旭硝子株式会社 带层叠膜的玻璃基板的制造方法
GB201114242D0 (en) 2011-08-18 2011-10-05 Pilkington Group Ltd Tantalum oxide coatings
FR2982607A1 (fr) * 2011-11-16 2013-05-17 Saint Gobain Materiau fonctionnel a haute durabilite
FR2982606A1 (fr) * 2011-11-16 2013-05-17 Saint Gobain Vitrage hydrophobe
FR2982608B1 (fr) 2011-11-16 2013-11-22 Saint Gobain Couche barriere aux metaux alcalins a base de sioc
CN102584023A (zh) * 2012-02-22 2012-07-18 株洲旗滨集团股份有限公司 一种阳光控制镀膜玻璃的制备方法及其玻璃
CN102922824A (zh) * 2012-11-08 2013-02-13 浙江大学 一种具有硅碳氧阻挡层薄膜的低辐射玻璃及其制备方法
DE102013111680A1 (de) * 2013-10-23 2015-04-23 Solarworld Innovations Gmbh Solarzelle und Verfahren zum Herstellen einer Solarzelle
CN106277818A (zh) * 2015-05-11 2017-01-04 杭州合新科技有限公司 一种新型阳光控制镀膜玻璃及其制备工艺
US10717671B2 (en) 2015-07-07 2020-07-21 Agc Glass Europe Glass substrate with increased weathering and chemical resistance
WO2021171309A1 (en) * 2020-02-26 2021-09-02 Saint-Gobain Glass France A heat treatable reflective coating and a coated article thereof
GB2600168A (en) 2020-10-26 2022-04-27 Pilkington Group Ltd Use of coated substrates

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3306768A (en) * 1964-01-08 1967-02-28 Motorola Inc Method of forming thin oxide films
GB1136218A (en) * 1965-12-14 1968-12-11 Standard Telephones Cables Ltd Improvements in or relating to the manufacture of semiconductor optical devices
GB1450123A (en) * 1973-11-27 1976-09-22 Post Office Doped vitreous silica
GB2031756B (en) * 1978-10-20 1983-03-09 Gordon Roy Gerald Non-iridescent glass structures and processes for their production
US4328646A (en) * 1978-11-27 1982-05-11 Rca Corporation Method for preparing an abrasive coating
GB2078699B (en) * 1980-06-20 1984-06-27 Atomic Energy Authority Uk Coating of metallic substrates
JPS5826052A (ja) * 1981-08-06 1983-02-16 Asahi Glass Co Ltd アルカリ拡散防止酸化ケイ素膜付ガラス体
GB8420534D0 (en) * 1984-08-13 1984-09-19 Pilkington Brothers Plc Coated products
JP2596452B2 (ja) * 1988-07-08 1997-04-02 三菱電機株式会社 エレベ−タの地震管制運転からの復旧方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE3766095D1 (de) 1990-12-13
ES2003853B3 (es) 1991-06-01
EP0275662A1 (en) 1988-07-27
FI875657L (fi) 1988-06-25
FI875657A0 (fi) 1987-12-22
NO875344D0 (no) 1987-12-21
DK170066B1 (da) 1995-05-15
GB8630918D0 (en) 1987-02-04
IN170516B (cs) 1992-04-04
PT86460A (en) 1988-01-01
AU593966B2 (en) 1990-02-22
CS978987A2 (en) 1990-09-12
AU8288587A (en) 1988-06-30
TR23524A (tr) 1990-03-01
NO875344L (no) 1988-06-27
MX170772B (es) 1993-09-14
GB8729171D0 (en) 1988-01-27
IE60946B1 (en) 1994-09-07
ES2003853A4 (es) 1988-12-01
PT86460B (pt) 1990-11-20
FI85460C (fi) 1992-04-27
CA1327143C (en) 1994-02-22
GB2199848A (en) 1988-07-20
DK685687D0 (da) 1987-12-23
GB2199848B (en) 1991-05-15
CN87101283A (zh) 1988-09-28
GR3002521T3 (en) 1993-01-25
IE873482L (en) 1988-06-24
KR950002332B1 (ko) 1995-03-16
DE275662T1 (de) 1988-11-24
UA11076A (uk) 1996-12-25
NO171970B (no) 1993-02-15
KR880007390A (ko) 1988-08-27
ZA879553B (cs) 1988-06-16
BR8707035A (pt) 1988-08-02
FI85460B (fi) 1992-01-15
DK685687A (da) 1988-06-25
RU1830053C (ru) 1993-07-23
DD264911A5 (de) 1989-02-15
JPH01201046A (ja) 1989-08-14
EP0275662B1 (en) 1990-11-07
US4828880A (en) 1989-05-09
NO171970C (no) 1993-05-26
ATE58114T1 (de) 1990-11-15
CN1018636B (zh) 1992-10-14
JPH0674158B2 (ja) 1994-09-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CS274417B2 (en) Method of making coating&#39;s lover layer on glass
EP0348185B1 (en) Coatings on glass
EP0611733B1 (en) Coating apparatus, method of coating glass, compounds and compositions for coating glass and coated glass substrates
US5776236A (en) Mixed metal oxide film having an accelerant
US5863337A (en) Apparatus for coating a moving glass substrate
EP0174727B1 (en) Coated products
US5618579A (en) Process for the vapor deposition of a metal nitride-based layer on a transparent substrate
EP1105356A1 (en) Process for coating glass
KR920010068B1 (ko) 규소 및 산소 함유 투명 장벽 피막을 갖는 유리
KR810000743B1 (ko) 유리의 코팅 방법

Legal Events

Date Code Title Description
IF00 In force as of 2000-06-30 in czech republic
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 20001223