JPH0664758B2 - 光ビデオデイスク用ガラス原盤 - Google Patents
光ビデオデイスク用ガラス原盤Info
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- JPH0664758B2 JPH0664758B2 JP10664484A JP10664484A JPH0664758B2 JP H0664758 B2 JPH0664758 B2 JP H0664758B2 JP 10664484 A JP10664484 A JP 10664484A JP 10664484 A JP10664484 A JP 10664484A JP H0664758 B2 JPH0664758 B2 JP H0664758B2
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 36
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/30—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture with provision for auxiliary signals
- G11B23/36—Signals on record carriers or on containers and recorded by the same method as the main recording
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、スタンパのマスタとなる光ビデオデイスク用
ガラス原盤に係り、特に、光ビデオデイスクの高画質化
を志向した光ビデオデイスク用ガラス原盤に関するもの
である。
ガラス原盤に係り、特に、光ビデオデイスクの高画質化
を志向した光ビデオデイスク用ガラス原盤に関するもの
である。
まず、従来の光ビデオデイスクの加工工程（日経メカニ
カル,1983年５月23日）を、図面を用いて説明する。
カル,1983年５月23日）を、図面を用いて説明する。
第１図は、従来の光ビデオデイスクの加工工程を説明す
るための工程図、第２図は、ニツケル導電膜およびニツ
ケルめつき膜を形成したのちの、従来の光ビデオデイス
ク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図である。
るための工程図、第２図は、ニツケル導電膜およびニツ
ケルめつき膜を形成したのちの、従来の光ビデオデイス
ク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図である。
光学研磨したガラス盤１を洗浄し（第１図（ａ））、こ
のガラス盤１にフオトレジスト膜２を厚さ1500Åに形成
する（第１図（ｂ））。このフオトレジスト膜２上の信
号形成範囲14a（第２図参照）に、記録しようとする信
号に応じたレーザを照射し露光する。この露光によつて
生じた潜像を現像によつて除去することにより微小凹凸
（以下ピツト８という）に変え（第１図（ｃ））、この
表面に電気めつきに必要なニツケル導電膜３を厚さ約70
0Åに形成する（第１図（ｄ））。これが、後述するス
タンパ９のマスタとなる光ビデオデイスク用ガラス原盤
14である。次に、このガラス原盤14の中心に導通ワツシ
ヤ５（第２図参照）を載置して、電気めつきにより、ニ
ツケル導電膜３上にニツケルめつき膜４を形成し（第１
図（ｅ））、ニツケル膜の厚さを300μｍまで増大させ
る。この状態の光ビデオデイスク用ガラス原盤14の中心
近傍は、第２図のようになつている。この第２図におい
て第１図と同一番号を付したものは同一部分である。次
に、ニツケルめつき膜４の表面に水を吐出して冷却しな
がら、表面に砥粒を貼付けた研磨テープでなぞり、表面
粗さを１μｍ以下にまで仕上げた（第１図（ｆ））の
ち、ガラス盤１から剥離し（第１図（ｇ））、酸素プラ
ズマにてフオトレジスト膜２を除去し（第１図
（ｈ））、内周，外周を規定寸法に加工することにより
スタンパ９が完成する（第１図（ｉ））、このスタンパ
９を用いて射出成形によりプラスチツクデイスク10を成
形し、上記ピツト８を転写する（第１図（ｊ））。この
ピツト８上にアルミニウムの反射膜11を蒸着し（第１図
（ｋ））、保護膜12を形成したのち（第１図（ｌ））、
２枚を貼合せることにより光ビデオデイスク13が完成す
る（第１図（ｍ））。
のガラス盤１にフオトレジスト膜２を厚さ1500Åに形成
する（第１図（ｂ））。このフオトレジスト膜２上の信
号形成範囲14a（第２図参照）に、記録しようとする信
号に応じたレーザを照射し露光する。この露光によつて
生じた潜像を現像によつて除去することにより微小凹凸
（以下ピツト８という）に変え（第１図（ｃ））、この
表面に電気めつきに必要なニツケル導電膜３を厚さ約70
0Åに形成する（第１図（ｄ））。これが、後述するス
タンパ９のマスタとなる光ビデオデイスク用ガラス原盤
14である。次に、このガラス原盤14の中心に導通ワツシ
ヤ５（第２図参照）を載置して、電気めつきにより、ニ
ツケル導電膜３上にニツケルめつき膜４を形成し（第１
図（ｅ））、ニツケル膜の厚さを300μｍまで増大させ
る。この状態の光ビデオデイスク用ガラス原盤14の中心
近傍は、第２図のようになつている。この第２図におい
て第１図と同一番号を付したものは同一部分である。次
に、ニツケルめつき膜４の表面に水を吐出して冷却しな
がら、表面に砥粒を貼付けた研磨テープでなぞり、表面
粗さを１μｍ以下にまで仕上げた（第１図（ｆ））の
ち、ガラス盤１から剥離し（第１図（ｇ））、酸素プラ
ズマにてフオトレジスト膜２を除去し（第１図
（ｈ））、内周，外周を規定寸法に加工することにより
スタンパ９が完成する（第１図（ｉ））、このスタンパ
９を用いて射出成形によりプラスチツクデイスク10を成
形し、上記ピツト８を転写する（第１図（ｊ））。この
ピツト８上にアルミニウムの反射膜11を蒸着し（第１図
（ｋ））、保護膜12を形成したのち（第１図（ｌ））、
２枚を貼合せることにより光ビデオデイスク13が完成す
る（第１図（ｍ））。
このようにして製造された光ビデオデイスク13の欠点
を、図面を用いて説明する。
を、図面を用いて説明する。
第３図は、第２図に係る光ビデオデイスク用ガラス原盤
の変形状態を示す模式図である。この第３図において、
第２図と同一番号を付したものは同一部分である。
の変形状態を示す模式図である。この第３図において、
第２図と同一番号を付したものは同一部分である。
前記めつき工程（第１図（ｅ））において、めつき浴温
度は50〜60℃であり、室温は約20℃であるため、めつき
後にニツケル膜3,4とガラス盤１との熱膨張係数の差に
より両者の収縮量に差を生じ、面界で相対的にずれる方
向に力が働き、その結果、光ビデオデイスク用ガラス原
盤14がニツケルめつき膜４側が凹となるような形状に反
つてしまう。ところが、光ビデオデイスク用ガラス原盤
14の内周部14b（第２図参照）はピツト８のない鏡面で
あるため、フオトレジスト膜２とニツケル導電膜３との
間、ガラス原盤１とフオトレジスト膜２との間などの付
着力が小さく、それらの界面に剥離部15（第２図）が発
生してしまう。したがつて、次工程（第１図（ｆ））の
研磨の際に冷却水が剥離部15から浸入し、水あるいは異
物がピツト８上に付着する。このため、第１図（ｈ）の
工程で、酸素プラズマによりフオトレジスト膜２を除去
しても、ニツケル導電膜３に異物６が付着していたりあ
るいはフオトレジスト膜２が残る。このようにして製造
されたスタンパ９を用いて成形したプラスチツクデイス
ク10には正常なピツト８が転写されず、光ビデオデイス
ク13をプレヤで再生しても信号欠落を有する画面とな
り、高画質が得られないという欠点があつた。
度は50〜60℃であり、室温は約20℃であるため、めつき
後にニツケル膜3,4とガラス盤１との熱膨張係数の差に
より両者の収縮量に差を生じ、面界で相対的にずれる方
向に力が働き、その結果、光ビデオデイスク用ガラス原
盤14がニツケルめつき膜４側が凹となるような形状に反
つてしまう。ところが、光ビデオデイスク用ガラス原盤
14の内周部14b（第２図参照）はピツト８のない鏡面で
あるため、フオトレジスト膜２とニツケル導電膜３との
間、ガラス原盤１とフオトレジスト膜２との間などの付
着力が小さく、それらの界面に剥離部15（第２図）が発
生してしまう。したがつて、次工程（第１図（ｆ））の
研磨の際に冷却水が剥離部15から浸入し、水あるいは異
物がピツト８上に付着する。このため、第１図（ｈ）の
工程で、酸素プラズマによりフオトレジスト膜２を除去
しても、ニツケル導電膜３に異物６が付着していたりあ
るいはフオトレジスト膜２が残る。このようにして製造
されたスタンパ９を用いて成形したプラスチツクデイス
ク10には正常なピツト８が転写されず、光ビデオデイス
ク13をプレヤで再生しても信号欠落を有する画面とな
り、高画質が得られないという欠点があつた。
本発明は、上記した従来技術の欠点を除去して、信号欠
落がきわめて少ない高画質な光ビデオデイスクを製作す
ることができる。スタンパのマスタとなる光ビデオデイ
スク用ガラス原盤の提供を、その目的とするものであ
る。
落がきわめて少ない高画質な光ビデオデイスクを製作す
ることができる。スタンパのマスタとなる光ビデオデイ
スク用ガラス原盤の提供を、その目的とするものであ
る。
本発明に係る光ビデオデイスク用ガラス原盤の構成は、
ガラス盤上に形成したフオトレジスト膜の信号形成範囲
をレーザで露光し、その潜像を現像してピツトを形成
し、その表面にニツケル導電膜を形成してなる光ビデオ
デイスク用ガラス原盤において、前記信号形成範囲より
も内側にダミーのピツトを形成するようにしたものであ
る。
ガラス盤上に形成したフオトレジスト膜の信号形成範囲
をレーザで露光し、その潜像を現像してピツトを形成
し、その表面にニツケル導電膜を形成してなる光ビデオ
デイスク用ガラス原盤において、前記信号形成範囲より
も内側にダミーのピツトを形成するようにしたものであ
る。
さらに詳しくは、次の通りである。
ガラス盤上に形成したフオトレジスト膜をレーザで露光
する際に、映像信号にて露光する信号形成範囲よりも内
側に、映像信号の一部あるいはサブキヤリヤなどを用い
て露光し、その潜像を現像してダミーのピツトを形成す
ることにより、次工程でニツケル導電膜が前記ダミーの
ピツトの凹部にも入り込むので、前記フオトレジスト膜
とニツケル導電膜およびこの上に形成されるニツケルめ
つき膜との付着力が増大し、剥離部の発生を防止するこ
とができるものである。
する際に、映像信号にて露光する信号形成範囲よりも内
側に、映像信号の一部あるいはサブキヤリヤなどを用い
て露光し、その潜像を現像してダミーのピツトを形成す
ることにより、次工程でニツケル導電膜が前記ダミーの
ピツトの凹部にも入り込むので、前記フオトレジスト膜
とニツケル導電膜およびこの上に形成されるニツケルめ
つき膜との付着力が増大し、剥離部の発生を防止するこ
とができるものである。
以下、実施例によつて説明する。
第４図は、本発明の一実施例に係る光ビデオデイスク用
ガラス原盤の平面図、第５図は、ニツケル導電膜および
ニツケルめつき膜を形成したのちの、第４図に係る光ビ
デオデイスク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図であ
る。
ガラス原盤の平面図、第５図は、ニツケル導電膜および
ニツケルめつき膜を形成したのちの、第４図に係る光ビ
デオデイスク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図であ
る。
図において、第２図と同一番号を付したものは同一部分
である。そして７は、光ビデオデイスク用ガラス原盤14
Aの信号形成範囲14aの内径側の内周部14bにあるレーベ
ル貼付範囲14cに形成したダミーのピツトである。この
ダミーのピツト７は、ガラス盤１上に形成されたフオト
レジスト膜２の信号形成範囲14aにレーザ露光装置（図
示せず）によつて露光する際、リング状のレーベル貼付
範囲14cに正規の映像信号の一部もしくはサブキヤリヤ
を用いて露光し、次に正規の映像信号を用いて信号形成
範囲14aに露光を行ない、その後に現像することによ
り、ピツト８とともに形成される。
である。そして７は、光ビデオデイスク用ガラス原盤14
Aの信号形成範囲14aの内径側の内周部14bにあるレーベ
ル貼付範囲14cに形成したダミーのピツトである。この
ダミーのピツト７は、ガラス盤１上に形成されたフオト
レジスト膜２の信号形成範囲14aにレーザ露光装置（図
示せず）によつて露光する際、リング状のレーベル貼付
範囲14cに正規の映像信号の一部もしくはサブキヤリヤ
を用いて露光し、次に正規の映像信号を用いて信号形成
範囲14aに露光を行ない、その後に現像することによ
り、ピツト８とともに形成される。
このようにして、光ビデオデイスク用ガラス原盤14Aの
内周部14bにもピツト７が形成されるため、フオトレジ
スト膜２とニツケル導電膜３との間，ガラス原盤１とフ
オトレジスト膜２との間などの付着力が大きくなり、め
つき工程後に剥離部を生ずることはない。
内周部14bにもピツト７が形成されるため、フオトレジ
スト膜２とニツケル導電膜３との間，ガラス原盤１とフ
オトレジスト膜２との間などの付着力が大きくなり、め
つき工程後に剥離部を生ずることはない。
以上説明した実施例によれば、めつき工程中、あるいは
めつき工程後の剥離を防止し、スタンパに異物が付着し
たり、フオトレジスト膜２が残留するようなことはな
く、信号欠落がきわめて少ない光ビデオデイスクが得ら
れるという効果がある。
めつき工程後の剥離を防止し、スタンパに異物が付着し
たり、フオトレジスト膜２が残留するようなことはな
く、信号欠落がきわめて少ない光ビデオデイスクが得ら
れるという効果がある。
なお、本実施例においては、ダミーのピツト７の形成範
囲をレーベル貼付範囲14cにすることにより、ダミーの
ピツト７がレーベルによつて隠れるようにしたが、ダミ
ーピツト７の形成範囲は内周部14b内であれば、どの領
域であつてもよい。
囲をレーベル貼付範囲14cにすることにより、ダミーの
ピツト７がレーベルによつて隠れるようにしたが、ダミ
ーピツト７の形成範囲は内周部14b内であれば、どの領
域であつてもよい。
さらに、本発明は、光ビデオデイスク用のガラス原盤に
限らず、光デイスク，コンパクトデイスクなどのガラス
原盤にも適用できるものである。
限らず、光デイスク，コンパクトデイスクなどのガラス
原盤にも適用できるものである。
以上詳細に説明したように本発明によれば、信号欠落が
きわめて少ない高画質な光ビデオデイスクを製作するこ
とができる、スタンパのマスタとなる光ビデオデイスク
用ガラス原盤を提供することができる。
きわめて少ない高画質な光ビデオデイスクを製作するこ
とができる、スタンパのマスタとなる光ビデオデイスク
用ガラス原盤を提供することができる。
第１図は、従来の光ビデオデイスクの加工工程を説明す
るための工程図、第２図は、ニツケル導電膜およびニツ
ケルめつき膜を形成したのちの、従来の光ビデオデイス
ク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図、第３図は、第
２図に係る光ビデオデイスク用ガラス原盤の変形状態を
示す模式図、第４図は、本発明の一実施例に係る光ビデ
オデイスク用ガラス原盤の平面図、第５図は、ニツケル
導電膜およびニツケルめつき膜を形成したのちの、第４
図に係る光ビデオデイスク用ガラス原盤の中心近傍の要
部断面図である。 １……ガラス盤、２……フオトレジスト膜、３……ニツ
ケル導電膜、７……ダミーのピツト、８……ピツト、14
A……光ビデオデイスク用ガラス原盤、14c……レーベル
貼付範囲。
るための工程図、第２図は、ニツケル導電膜およびニツ
ケルめつき膜を形成したのちの、従来の光ビデオデイス
ク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図、第３図は、第
２図に係る光ビデオデイスク用ガラス原盤の変形状態を
示す模式図、第４図は、本発明の一実施例に係る光ビデ
オデイスク用ガラス原盤の平面図、第５図は、ニツケル
導電膜およびニツケルめつき膜を形成したのちの、第４
図に係る光ビデオデイスク用ガラス原盤の中心近傍の要
部断面図である。 １……ガラス盤、２……フオトレジスト膜、３……ニツ
ケル導電膜、７……ダミーのピツト、８……ピツト、14
A……光ビデオデイスク用ガラス原盤、14c……レーベル
貼付範囲。
Claims (1)
- 【請求項１】ガラス盤上に形成したフオトレジスト膜の
信号形成範囲をレーザで露光し、その潜像を現像してピ
ツトを形成し、その表面にニツケル導電膜を形成してな
る光ビデオデイスク用ガラス原盤において、前記信号形
成範囲よりも内側にダミーのピツトを形成したことを特
徴とする光ビデオデイスク用ガラス原盤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10664484A JPH0664758B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 光ビデオデイスク用ガラス原盤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10664484A JPH0664758B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 光ビデオデイスク用ガラス原盤 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60251536A JPS60251536A (ja) | 1985-12-12 |
| JPH0664758B2 true JPH0664758B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=14438829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10664484A Expired - Lifetime JPH0664758B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 光ビデオデイスク用ガラス原盤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0664758B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61172233A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-02 | Nec Corp | 光デイスク用基板 |
| JPH0731813B2 (ja) * | 1987-02-27 | 1995-04-10 | 株式会社日立製作所 | 光デイスク |
-
1984
- 1984-05-28 JP JP10664484A patent/JPH0664758B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60251536A (ja) | 1985-12-12 |
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