JP2767638B2 - 光ディスク用スタンパの製造方法 - Google Patents

光ディスク用スタンパの製造方法

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JP2767638B2
JP2767638B2 JP1314362A JP31436289A JP2767638B2 JP 2767638 B2 JP2767638 B2 JP 2767638B2 JP 1314362 A JP1314362 A JP 1314362A JP 31436289 A JP31436289 A JP 31436289A JP 2767638 B2 JP2767638 B2 JP 2767638B2
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知義 三宅
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、光ディスクの成形に使用する光ディスク用
スタンパの製造方法に関するものである。
(従来の技術) 従来の光ディスク用スタンパの製造方法について、第
2図ないし第4図により説明する。
第2図(a)ないし(f)は、従来の光ディスク用ス
タンパの製造方法を工程順に示した要部拡大断面図であ
る。まず、ガラス原盤を光学研磨した後、洗浄したガラ
ス基板1(第2図(a))の上に、感光性レジストを塗
布し、低温熱処理を施して感光性レジスト膜2を形成す
る(第2図(b))。次に、レジスト感光波長を有する
レーザ光3で、螺旋状又は同心円状に露光(第2図
(c))した後、現像して露光部を除去し、ガラス基板
1が露呈した溝4を形成する。続いて、上記のレジスト
膜2が溶融しない程度の高温で熱処理を施した後、放冷
すると、レジスト原盤が得られる(第2図(d))。次
に、レジスト原盤にニッケルスパッタ等を施して、表面
にニッケル層5を形成し(第2図(e))、続いて電気
鋳造法を用いてニッケルスタンパ6を形成する(第2図
(f))。
このようにして製造されたニッケルスタンパ6は、レ
ジスト原盤の凹凸を忠実に反転した凹凸を有すものとな
る。
(発明が解決しようとする課題) しかしながら、第2図(d)に示した現像工程で、第
3図に示すように、ガラス基板1上に形成された感光性
レジスト膜2の溝4の両側壁面4aおよび未露光である感
光性レジスト膜2の表面2aは、共に現像液によりエッチ
ングされて荒れた状態となる。しかも露光された両側壁
面4aの面荒れは、未露光の表面2aの溝状の面荒れに比べ
大きい傾向がある。この面荒れは、そのままニッケルス
タンパに転写される。従って、その後ディスク化工程に
よって製造される光ディスクにそのまま転写され、光デ
ィスク信号面の面荒れの一要因になり、光ディスクを光
学的に再生したとき、ノイズ成分として現れ情報用信号
の読取りに悪影響をもたらすという問題があった。
次に、光ディスク成形工程の問題について説明する。
第4図(a)および(b)は、上記のニッケルスタン
パ6を用いて光ディスク7を樹脂成形する工程を示す要
部拡大断面図である。第4図(a)に示すように、ニッ
ケルスタンパ6を堤6aの間に充填された樹脂は、その両
側壁面6bの微小な凹凸の中にも充填されるため、第4図
(b)に示すように、成形された光ディスク7からニッ
ケルスタンパ6を引き離す際に、溝7aの両端にばり8が
発生し、光ディスク7の信号面の面荒れを一層増大させ
るという問題があった。
本発明は上記の問題を解決するもので、信号面の面荒
れが小さい、安定した信号読出しを可能とする光ディス
ク用スタンパを提供するものである。
(課題を解決するための手段) 上記の課題を解決するため、本発明は、現像後の熱処
理条件をレジスト材料の溶融点温度130℃以上,硬化変
質温度150℃以下の温度と時間で行うものである。
(作用) 上記の高温熱処理によって、感光性レジスト膜の表面
を溶融させることにより、現像処理で生じた感光性レジ
スト膜2の表面2aや溝4の両側壁面4aの微小な凹凸がな
だらかになると共に側壁面4aの傾斜もなだらかになる。
(実施例) 本発明の一実施例を第1図により説明する。
なお、本実施例が、第2図に示した従来例と異なる点
は、感光性レジストとして、シプレイ社製のMP−1350を
使用し、第2図(d)の熱処理は、対流型加熱炉を用
い、溶融点温度で硬化変質しない温度範囲は、130℃な
いし150℃で、また、加熱時間は30分の条件で行った点
である。なお、この処理条件は、レジスト材料、ガラス
基板1の熱容量および加熱炉によって異なることは言う
までもない。
その他は従来の製造方法と変りがないので、同じ構成
部品には同一符号を付して、その説明を省略する。
第1図(a)および(b)は、本発明による熱処理の
前後の状態を示す要部拡大斜視図で、第1図(a)は、
第3図に示した従来例のままであるが、本発明による熱
処理によって、(b)図中に角度寸法線βで示した溝4
の両側壁面4aの傾斜は、(a)図中の角度寸法線αで示
した傾斜より小さくなり、且つ、側壁面4aおよび感光性
レジスト膜2の表面2aの荒れが小さくなる。
上記のことより、光ディスク7の成形工程において、
ニッケルスタンパ6の離型の際に発生していた側壁面4a
の端部のばり8が、発生しなくなる。
(発明の効果) 以上説明したように、本発明によれば、レジスト原盤
の感光性レジスト膜の表面の荒れが小さくなり、且つ、
溝の側壁面の傾斜がなだらかになるので、これを転写す
る光ディスクの信号面の粗さが小さくなり、且つ有害な
ばりの発生も抑えられるため、ノイズレベルの低い、情
報記録信号の読出しが安定した光ディスクが得られ、レ
ジストを硬化変質温度以下で熱処理を施すため、レジス
ト溶剤や剥離剤でレジストを容易に除去できる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)および(b)は本発明による感光性レジス
ト膜の熱処理の前後の状態を示すレジスト原盤の要部拡
大斜視図、第2図は、光ディスク用スタンパの製造方法
を工程順に示した要部拡大断面図、第3図は従来の製造
方法における現像による感光性レジスト膜の面荒れ状態
を示す要部拡大斜視図、第4図(a)および(b)は、
光ディスクの成形工程を示す要部拡大断面図である。 1…ガラス基板、2…感光性レジスト膜、2a…表面、3
…レーザ光、4,7a…溝、4a,6b…側壁面、5…ニッケル
層、6…ニッケルスタンパ、6a…堤、7…光ディスク、
8…ばり。

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板の上に感光性レジスト膜を形成する工
    程と、上記の感光性レジスト膜の表面にレーザ光等で螺
    旋状または同心円状の露光をした後、現像し露光部を除
    去し溝を形成する工程と、残留した感光性レジスト膜を
    熱処理する工程と、スパッタ法等で表面を導体化した
    後、電気鋳造する工程とからなる光ディスク用スタンパ
    の製造方法において、上記感光性レジスト膜を露光、現
    像した後、上記感光性レジスト膜の溶融点温度130℃以
    上,硬化変質温度150℃以下で熱処理を施したことを特
    徴とする光ディスク用スタンパの製造方法。
JP1314362A 1989-12-05 1989-12-05 光ディスク用スタンパの製造方法 Expired - Lifetime JP2767638B2 (ja)

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