JPS60251536A - 光ビデオデイスク用ガラス原盤 - Google Patents
光ビデオデイスク用ガラス原盤Info
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- JPS60251536A JPS60251536A JP10664484A JP10664484A JPS60251536A JP S60251536 A JPS60251536 A JP S60251536A JP 10664484 A JP10664484 A JP 10664484A JP 10664484 A JP10664484 A JP 10664484A JP S60251536 A JPS60251536 A JP S60251536A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B23/00—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
- G11B23/30—Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture with provision for auxiliary signals
- G11B23/36—Signals on record carriers or on containers and recorded by the same method as the main recording
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、スタンパのマスクとなる光ビデオディスク用
ガラス原盤に係り、特に、光ビデオディスクの高画質化
を志向した光ビデオディスク用ガラス原盤に関するもの
である。
ガラス原盤に係り、特に、光ビデオディスクの高画質化
を志向した光ビデオディスク用ガラス原盤に関するもの
である。
まず、従来の光ビデオディスクの加工工程(日経メカニ
カル、1983年5月23日)を、図面を用いて説明す
る。
カル、1983年5月23日)を、図面を用いて説明す
る。
第1図は、従来の光ビデオディスクの加工工程を説明す
るだめの工程図、第2図は、ニッケル導電膜およびニッ
ケルめっき膜を形成したのちの、従来の光ビデオディス
ク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図である。
るだめの工程図、第2図は、ニッケル導電膜およびニッ
ケルめっき膜を形成したのちの、従来の光ビデオディス
ク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図である。
光学研磨したガラス盤1を洗浄しく第1図(a))、こ
のガラス盤1上にフォトレジスト膜2を厚さ1500人
に形成する(第1図(b))。このフォトレジスト膜2
上の信号形成範囲14a(第2図参照)に、記録しよう
とする信号に応じたレーザを照射し露光する。この露光
によって生じた潜像を現像によって除去することにより
微小凹凸(以下ピット8という)に変え(第1図(C)
)、この表面に電気めっきに必要なニッケル導電膜3を
厚さ約700人に形成する(第1図(d))。これが、
後述するスタンパ9のマスクとなる光ビデオディスク用
ガラス原盤14である。次に、このガラス原盤14の中
心に導通ワッシャ5(第2図参照)を載置して、電気め
っきにより、ニッケル導電膜3上にニッケルめっき膜4
を形成しく第1図(e))、ニッケル膜の厚さを300
μmiで増大させる。この状態の光ビデオディスク用ガ
ラス原盤14の中心近傍は、第2図のようになっている
。この第2図において第1図と同一番号を付したものは
同一部分である。
のガラス盤1上にフォトレジスト膜2を厚さ1500人
に形成する(第1図(b))。このフォトレジスト膜2
上の信号形成範囲14a(第2図参照)に、記録しよう
とする信号に応じたレーザを照射し露光する。この露光
によって生じた潜像を現像によって除去することにより
微小凹凸(以下ピット8という)に変え(第1図(C)
)、この表面に電気めっきに必要なニッケル導電膜3を
厚さ約700人に形成する(第1図(d))。これが、
後述するスタンパ9のマスクとなる光ビデオディスク用
ガラス原盤14である。次に、このガラス原盤14の中
心に導通ワッシャ5(第2図参照)を載置して、電気め
っきにより、ニッケル導電膜3上にニッケルめっき膜4
を形成しく第1図(e))、ニッケル膜の厚さを300
μmiで増大させる。この状態の光ビデオディスク用ガ
ラス原盤14の中心近傍は、第2図のようになっている
。この第2図において第1図と同一番号を付したものは
同一部分である。
次に、ニッケルめっき膜4の表面に水を吐出して冷却し
ながら、表面に砥粒を貼付けた研磨テープでなぞり、表
面粗さを1μm以下にまで仕上げた(第1図(f))の
鴇ち、ガラス盤1から剥離しく第1図(g) ) 、酸
素プラズマにてフォトレジスト膜2を除去しく第1図(
h) ) 、内周、外周を規定寸法に加工することによ
りスタンパ9が完成する(第1図(1))。このスタン
パ9を用いて射出成形によりプラスチックディスク10
を成形し、上記ピット8を転写する(第1図(]))。
ながら、表面に砥粒を貼付けた研磨テープでなぞり、表
面粗さを1μm以下にまで仕上げた(第1図(f))の
鴇ち、ガラス盤1から剥離しく第1図(g) ) 、酸
素プラズマにてフォトレジスト膜2を除去しく第1図(
h) ) 、内周、外周を規定寸法に加工することによ
りスタンパ9が完成する(第1図(1))。このスタン
パ9を用いて射出成形によりプラスチックディスク10
を成形し、上記ピット8を転写する(第1図(]))。
このピット8上にアルミニウムの反射膜11を蒸着しく
第1口伝))、保護膜12を形成したのち(第1図(4
))、2枚を貼合せることにより光ビデオディスク13
が完成する(第1図に))。
第1口伝))、保護膜12を形成したのち(第1図(4
))、2枚を貼合せることにより光ビデオディスク13
が完成する(第1図に))。
このようにして製造された光ビデオディスク13の欠点
を、図面を用いて説明する。
を、図面を用いて説明する。
第3図は、第2図に係る光ビデオディスク用ガラス原盤
の変形状態を示す模式図である。この第3図において、
第2図と同一番号を付したものは同一部分である。
の変形状態を示す模式図である。この第3図において、
第2図と同一番号を付したものは同一部分である。
前記めっき工程(第1図(e))において、めっき浴温
度は50〜60Cであシ、室温は約20Cであるため、
めっき後にニッケル膜3,4とガラス盤1との熱膨張系
数の差により両者の収縮量に差を生じ、面界で相対的に
ずれる方向に力が働き、その結果、光ビデオディスク用
ガラス原盤14がニッケルめっき膜4側が凹となるよう
な形状に反ってしまう。ところが、光ビデオディスク用
ガラス原盤14の内周部14b(第2図参照)はピット
8のない鏡面であるため、フォトレジスト膜2とニッケ
ル導電膜3との間、ガラス原盤1とフォトレジスト膜2
との間などの付着力が小さく、それらの界面に剥離部1
5(第2図)が発生してしまう。したがって、次工程(
第1図(f))の研磨の際に冷却水が剥離部15から浸
入し、水あるいは異物がビット8上に付着する。このた
め、第1図01)の工程で、酸素プラズマによりフォト
レジスト膜2を除去しても、ニッケル導電膜3に異物6
が付着していたシあるいはフォトレジスト膜2が残る。
度は50〜60Cであシ、室温は約20Cであるため、
めっき後にニッケル膜3,4とガラス盤1との熱膨張系
数の差により両者の収縮量に差を生じ、面界で相対的に
ずれる方向に力が働き、その結果、光ビデオディスク用
ガラス原盤14がニッケルめっき膜4側が凹となるよう
な形状に反ってしまう。ところが、光ビデオディスク用
ガラス原盤14の内周部14b(第2図参照)はピット
8のない鏡面であるため、フォトレジスト膜2とニッケ
ル導電膜3との間、ガラス原盤1とフォトレジスト膜2
との間などの付着力が小さく、それらの界面に剥離部1
5(第2図)が発生してしまう。したがって、次工程(
第1図(f))の研磨の際に冷却水が剥離部15から浸
入し、水あるいは異物がビット8上に付着する。このた
め、第1図01)の工程で、酸素プラズマによりフォト
レジスト膜2を除去しても、ニッケル導電膜3に異物6
が付着していたシあるいはフォトレジスト膜2が残る。
このようにして製造されたスタンパ9を用いて成形した
プラスチックディスク10には正常なピット8が転写さ
れず、光ビデオディスク13をプレヤで再生しても信号
欠落を有する画面となシ、高画質が得られないという欠
点があった。
プラスチックディスク10には正常なピット8が転写さ
れず、光ビデオディスク13をプレヤで再生しても信号
欠落を有する画面となシ、高画質が得られないという欠
点があった。
本発明は、上記した従来技術の欠点を除去して、信号欠
落がきわめて少ない高画質な光ビデオディスクを製作す
ることができる、スタンパのマスクとなる光ビデオディ
スク用ガラス原盤の提供を、その目的とするものである
。
落がきわめて少ない高画質な光ビデオディスクを製作す
ることができる、スタンパのマスクとなる光ビデオディ
スク用ガラス原盤の提供を、その目的とするものである
。
本発明に係る光ビデオディスク用ガラス原盤の構成ハ、
ガラス盤上に形成したフォトレジスト膜の信号形成範囲
をレーザで露光し、その潜像を現像してピットを形成し
、その表面にニッケル導電膜を形成してなる光ビデオデ
ィスク用ガラス原盤において、前記信号形成範囲よりも
内側にダミーのピットを形成するようにしたものである
。
ガラス盤上に形成したフォトレジスト膜の信号形成範囲
をレーザで露光し、その潜像を現像してピットを形成し
、その表面にニッケル導電膜を形成してなる光ビデオデ
ィスク用ガラス原盤において、前記信号形成範囲よりも
内側にダミーのピットを形成するようにしたものである
。
さらに詳しくは、次の通りである。
ガラス盤上に形成したフォトレジストmをレーザで露光
する際、映像信号にて露光する信号形成範囲よシも内側
に、映像信号の一部あるいはサブキャリヤなどを用いて
露光し、その潜像を現像してダミーのピットを形成する
、ことにより、次工程でニッケル導電膜が前記ダミーの
ピットの凹部にも入シ込むので、前記フォトレジスト膜
とニッケル導電膜およびこの上に形成されるニッケルめ
っき膜との付着力が増大し、剥離部の発生を防止するこ
とができるものである。
する際、映像信号にて露光する信号形成範囲よシも内側
に、映像信号の一部あるいはサブキャリヤなどを用いて
露光し、その潜像を現像してダミーのピットを形成する
、ことにより、次工程でニッケル導電膜が前記ダミーの
ピットの凹部にも入シ込むので、前記フォトレジスト膜
とニッケル導電膜およびこの上に形成されるニッケルめ
っき膜との付着力が増大し、剥離部の発生を防止するこ
とができるものである。
以下、実施例によって説明する。
第4図は、本発明の一実施例に係る光ビデオディスク用
ガラス原盤の平面図、第5図は、ニッケル導電膜および
ニッケルめっき膜を形成したのちの、第4図に係る光ビ
デオディスク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図であ
る。
ガラス原盤の平面図、第5図は、ニッケル導電膜および
ニッケルめっき膜を形成したのちの、第4図に係る光ビ
デオディスク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図であ
る。
図において、第2図と同一番号を付したものは同一部分
である。そして7は、光ビデオディスク用ガラス原盤1
4Aの信号形成範囲14.’lの内径側の内周部14b
にあるレーベル貼付範囲14Cに形成したダミーのピン
トである。このダミーのピット7は、ガラス盤1上に形
成されたフォトレジスト膜2の信号形成範囲14aにレ
ーザ露光装置(図示せず)によって露光する際、リング
状のレーベル貼付範囲14Cに正規の映像信号の一部も
しくはサブキャリヤを用いて露光し、次に正規の映像信
号を用いて信号形成範囲14aに露光を行ない、その後
に現像することにより、ピット8とともに形成される。
である。そして7は、光ビデオディスク用ガラス原盤1
4Aの信号形成範囲14.’lの内径側の内周部14b
にあるレーベル貼付範囲14Cに形成したダミーのピン
トである。このダミーのピット7は、ガラス盤1上に形
成されたフォトレジスト膜2の信号形成範囲14aにレ
ーザ露光装置(図示せず)によって露光する際、リング
状のレーベル貼付範囲14Cに正規の映像信号の一部も
しくはサブキャリヤを用いて露光し、次に正規の映像信
号を用いて信号形成範囲14aに露光を行ない、その後
に現像することにより、ピット8とともに形成される。
このようにして、光ビデオディスク用ガラス原盤14A
の内周部14bにもピット7が形成されるため、フォト
レジスト膜2とニッケル導電膜3との間、ガラス原盤1
とフォトレジスト膜2との間などの付着力が大きくなり
、めっき工程後に剥離部を生ずることはない。
の内周部14bにもピット7が形成されるため、フォト
レジスト膜2とニッケル導電膜3との間、ガラス原盤1
とフォトレジスト膜2との間などの付着力が大きくなり
、めっき工程後に剥離部を生ずることはない。
以上説明した実施例によれば、めっき工程中、あるいは
めつき工程後の剥離を防止し、スタンバに異物が付着し
たり、フォトレジスト膜2が残留するようなことはなく
、信号欠落がきわめて少ない光ビデオディスクが得られ
るという効果がある。
めつき工程後の剥離を防止し、スタンバに異物が付着し
たり、フォトレジスト膜2が残留するようなことはなく
、信号欠落がきわめて少ない光ビデオディスクが得られ
るという効果がある。
なお、本実施例においては、ダミーのピット7の形成範
囲をレーベル貼付範囲14Cにすることにより、ダミー
のピット7がレーベルによって隠れるようにしたが、ダ
ミービット7の形成範囲は内周部14b内であれば、ど
の領域であってもよい。
囲をレーベル貼付範囲14Cにすることにより、ダミー
のピット7がレーベルによって隠れるようにしたが、ダ
ミービット7の形成範囲は内周部14b内であれば、ど
の領域であってもよい。
さらに、本発明は、光ビデオディスク用のガラス原盤に
限らず、光ディスク、コンパクトディスクなどのガラス
原盤にも適用できるものである。
限らず、光ディスク、コンパクトディスクなどのガラス
原盤にも適用できるものである。
以上詳細に説明したように本発明によれば、信号欠落が
きわめて少ない高画質な光ビデオディスクを製作するこ
とができる、スタンパのマスクドなる元ビデオディスク
用ガラス原盤を提供することができる。
きわめて少ない高画質な光ビデオディスクを製作するこ
とができる、スタンパのマスクドなる元ビデオディスク
用ガラス原盤を提供することができる。
第1図は、従来の光ビデオディスクの加工工程を説明す
るだめの工程図、第2図は、ニッケル導電膜およびニッ
ケルめっき膜を形成したのちの、従来の光ビデオディス
ク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図、第3図は、第
2図に係る光ビデオディスク用ガラス原盤の変形状態を
示す模式図、第4図は、本発明の一実施例に係る光ビデ
オディスク用ガラス原盤の平面図、第5図は、ニッケル
、・導電膜およびニッケルめっき膜を形成したのちの、
1で。 1”:;+、第4図に係る光ビデオディスク用ガラス原
盤の中、1 心近傍の要部断面図である。 1・・・ガラス盤、2・・・フォトレジスト膜、3・・
・ニッケル導電膜、7・・・ダミーのピット、8・・・
ピット、14A・・・光ビデオディスク用ガラス原盤、
14C・・・レーベル貼付範囲。 代理人 弁理士 福田幸作 (ほか1名) 8+5iJ 1!72房 半3図 半4riJ 第5氏
るだめの工程図、第2図は、ニッケル導電膜およびニッ
ケルめっき膜を形成したのちの、従来の光ビデオディス
ク用ガラス原盤の中心近傍の要部断面図、第3図は、第
2図に係る光ビデオディスク用ガラス原盤の変形状態を
示す模式図、第4図は、本発明の一実施例に係る光ビデ
オディスク用ガラス原盤の平面図、第5図は、ニッケル
、・導電膜およびニッケルめっき膜を形成したのちの、
1で。 1”:;+、第4図に係る光ビデオディスク用ガラス原
盤の中、1 心近傍の要部断面図である。 1・・・ガラス盤、2・・・フォトレジスト膜、3・・
・ニッケル導電膜、7・・・ダミーのピット、8・・・
ピット、14A・・・光ビデオディスク用ガラス原盤、
14C・・・レーベル貼付範囲。 代理人 弁理士 福田幸作 (ほか1名) 8+5iJ 1!72房 半3図 半4riJ 第5氏
Claims (1)
- 1、ガラス盤上に形成したフォトレジスト膜の信号形成
範囲をレーザで露光し、その潜像を現像してピントを形
成し、その表面にニッケル導電膜を形成してなる光ビデ
オディスク用ガラス原盤において、前記信号形成範囲よ
シも内側にダミーのピットを形成したことを特徴とする
光ビデオディスク用ガラス原盤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10664484A JPH0664758B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 光ビデオデイスク用ガラス原盤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10664484A JPH0664758B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 光ビデオデイスク用ガラス原盤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60251536A true JPS60251536A (ja) | 1985-12-12 |
JPH0664758B2 JPH0664758B2 (ja) | 1994-08-22 |
Family
ID=14438829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10664484A Expired - Lifetime JPH0664758B2 (ja) | 1984-05-28 | 1984-05-28 | 光ビデオデイスク用ガラス原盤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0664758B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61172233A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-02 | Nec Corp | 光デイスク用基板 |
EP0280028A2 (en) * | 1987-02-27 | 1988-08-31 | Hitachi, Ltd. | An optical information disc |
-
1984
- 1984-05-28 JP JP10664484A patent/JPH0664758B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61172233A (ja) * | 1985-01-25 | 1986-08-02 | Nec Corp | 光デイスク用基板 |
JPH047019B2 (ja) * | 1985-01-25 | 1992-02-07 | Nippon Electric Co | |
EP0280028A2 (en) * | 1987-02-27 | 1988-08-31 | Hitachi, Ltd. | An optical information disc |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0664758B2 (ja) | 1994-08-22 |
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