JPH0731813B2 - 光デイスク - Google Patents
光デイスクInfo
- Publication number
- JPH0731813B2 JPH0731813B2 JP62042522A JP4252287A JPH0731813B2 JP H0731813 B2 JPH0731813 B2 JP H0731813B2 JP 62042522 A JP62042522 A JP 62042522A JP 4252287 A JP4252287 A JP 4252287A JP H0731813 B2 JPH0731813 B2 JP H0731813B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- groove
- sample
- area
- double transfer
- sample mark
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/0938—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following servo format, e.g. guide tracks, pilot signals
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光学的に情報記録再生可能な光ディスクに係
り、特に、良好なトラッキング信号の得られる光ディス
クに関する。
り、特に、良好なトラッキング信号の得られる光ディス
クに関する。
情報を記録できる光ディスクにおけるトラッキング方式
は、連続溝サーボ方式とサンプルサーボ方式の２方式が
ある。これらの方式については、日経エレクトロニクス
1986年12月15日号第163頁から第170頁において詳しく述
べられている。連続溝サーボ方式は従来開発されてきた
方式であるが、サンプルサーボ方式は、トラッキング安
定性が良いことから、最近、開発が活発化してきてい
る。
は、連続溝サーボ方式とサンプルサーボ方式の２方式が
ある。これらの方式については、日経エレクトロニクス
1986年12月15日号第163頁から第170頁において詳しく述
べられている。連続溝サーボ方式は従来開発されてきた
方式であるが、サンプルサーボ方式は、トラッキング安
定性が良いことから、最近、開発が活発化してきてい
る。
第２図に示すように、サンプルサーボ方式は、トラッキ
ングのための案内溝は用いず、トラックのところどころ
にトラッキング用のサンプルマーク10,11を設ける。こ
のサンプルマークはトラック中心（Ａ−Ａ′の線）から
左右にずらしておき、このサンプル点を検出しながらト
ラッキングを行なう。また12はクロック用ピットであ
る。第２図において、１はプラスチック等から成るレプ
リカ基板、第２図（ａ）は模式平面図、（ｂ）はＡ−
Ａ′の模式断面図である。10,11,12のピットの長さは、
時間軸で90nsであり、半径30mm、回転数1800rpmにおい
ては、0.5μｍとなる。またピットの光学的深さは、共
に、λ/4（λは読み取りレーザ波長、通常λ＝830nm）
である。第２図に示すようなサンプルマーク領域は、デ
ィスク一周で1000〜3000個所必要であり、通常1376個所
となっている。その他の部分はセクタアドレス部（一周
に約30個所程度）を除いて、ミラー面である。したがっ
て、ディスク全体においてピットの占める面積は約10％
程度と非常に少ない。
ングのための案内溝は用いず、トラックのところどころ
にトラッキング用のサンプルマーク10,11を設ける。こ
のサンプルマークはトラック中心（Ａ−Ａ′の線）から
左右にずらしておき、このサンプル点を検出しながらト
ラッキングを行なう。また12はクロック用ピットであ
る。第２図において、１はプラスチック等から成るレプ
リカ基板、第２図（ａ）は模式平面図、（ｂ）はＡ−
Ａ′の模式断面図である。10,11,12のピットの長さは、
時間軸で90nsであり、半径30mm、回転数1800rpmにおい
ては、0.5μｍとなる。またピットの光学的深さは、共
に、λ/4（λは読み取りレーザ波長、通常λ＝830nm）
である。第２図に示すようなサンプルマーク領域は、デ
ィスク一周で1000〜3000個所必要であり、通常1376個所
となっている。その他の部分はセクタアドレス部（一周
に約30個所程度）を除いて、ミラー面である。したがっ
て、ディスク全体においてピットの占める面積は約10％
程度と非常に少ない。
このようなディスクを射出成形法で成形すると、第３図
の10a,11a,12aに示すような本来のピット10,11,12に対
する２重転写が生ずる。はなはだしい場合は３重,4重と
なる場合もある。該２重転写は、トラッキング信号に悪
影響をおよぼし、トラッキングが正常に動作しないとい
う問題点があった。なお第３図においては第２図の仮想
のトラック中心線を省いて示した。
の10a,11a,12aに示すような本来のピット10,11,12に対
する２重転写が生ずる。はなはだしい場合は３重,4重と
なる場合もある。該２重転写は、トラッキング信号に悪
影響をおよぼし、トラッキングが正常に動作しないとい
う問題点があった。なお第３図においては第２図の仮想
のトラック中心線を省いて示した。
本発明の目的は、上記２重転写をなくし、良好なトラッ
キング信号の得られる光ディスクを提供することにあ
る。
キング信号の得られる光ディスクを提供することにあ
る。
上記目的は、サンプルマークを有するトラック領域の内
側および外側に、該トラック領域に近接して、グルーブ
あるいはピットを連続して設けることにより、達成され
る。
側および外側に、該トラック領域に近接して、グルーブ
あるいはピットを連続して設けることにより、達成され
る。
本発明者等は、上記２重転写の現象把握と原因推定を行
ない、２重転写を防止するには、内周および外周に射出
成形時の樹脂の動きを防止する溝（以下、グルーブとす
る）あるいはピットを設けることが有効であることを見
い出した。第４図に従来のレプリカ基板の模式平面図を
示す。18は直径15mmの内円、斜線で示した16の部分はサ
ンプルマーク領域、17は内周ミラー領域、15は外周ミラ
ー領域であり、外周の直径は130mmである。該レプリカ
基板を射出成形法で成形した時には、上記した２重転写
が発生するが、該２重転写は主に内周と外周に発生し、
特にミラー領域との境界が著しい。この現象は、従来の
グルーブやピットを基板面全体に有するレプリカにおい
てはほとんど発生せず、サンプルサーボ方式のレプリカ
基板で発生した。該レプリカ基板は前述したように、基
板面全体でサンプルマークピットの割合が10％程度と少
なく、その他の部分はミラー面となっているため、射出
成形時に樹脂が動きやすく、２重転写が生ずるものと考
えた。このように、ミラー面が大部分を占め、その一部
にピットが存在するようなレプリカ基板を射出成形で成
形し、ピットを正確に転写することは、従来のグルーブ
やピットが全面に存在するようなレプリカ基板の射出成
形に比べて、非常に高度な技術を要する。本発明者等
は、中程度の技術で安定に上記サンプルサーボ方式レプ
リカ基板を成形できるようなレプリタ基板の形状につい
て検討を行なった。本発明者等は前記したような内周と
外周に２重転写が発生するという現象に着目し、２重転
写の発生メカニズムを以下のように考察した。第５図は
射出成形金型の断面を模式的に示した図である。21,22
は金型、23はスタンパ、24は金型キャビティである。第
５図（ｂ）は該金型キャビティ内に樹脂を射出した時の
様子を模式的に示したものである。射出した後、斜線で
示した25の部分から樹脂が硬まり、26の部分は比較的や
わらかな状態である。該状態において、ディスクのひけ
等を防止するために、圧力（保圧）をかけるために、樹
脂のやわらかな部分26で樹脂の移動が起こり、２重転写
となる。該部分26は内周と外周に存在するため、内・外
周で２重転写が生ずることになる。一方、グルーブある
いはピットを全面に有するレプリカ基板においては第５
図（ｂ）のような状態になったとしても、２重転写が起
こらない。これは、該グルーブあるいはピット部分は、
微少な凹凸となっているため、樹脂が多少やわらかくて
も該凹凸のすべり防止の働きにより２重転写の発生をお
さえているためである。これに対し、ミラー部分の多い
サンプルサーボ方式レプリカ基板では、サンプルマーク
ピット部が少ないために上記すべり防止効果は非常に少
なく、２重転写が発生する。
ない、２重転写を防止するには、内周および外周に射出
成形時の樹脂の動きを防止する溝（以下、グルーブとす
る）あるいはピットを設けることが有効であることを見
い出した。第４図に従来のレプリカ基板の模式平面図を
示す。18は直径15mmの内円、斜線で示した16の部分はサ
ンプルマーク領域、17は内周ミラー領域、15は外周ミラ
ー領域であり、外周の直径は130mmである。該レプリカ
基板を射出成形法で成形した時には、上記した２重転写
が発生するが、該２重転写は主に内周と外周に発生し、
特にミラー領域との境界が著しい。この現象は、従来の
グルーブやピットを基板面全体に有するレプリカにおい
てはほとんど発生せず、サンプルサーボ方式のレプリカ
基板で発生した。該レプリカ基板は前述したように、基
板面全体でサンプルマークピットの割合が10％程度と少
なく、その他の部分はミラー面となっているため、射出
成形時に樹脂が動きやすく、２重転写が生ずるものと考
えた。このように、ミラー面が大部分を占め、その一部
にピットが存在するようなレプリカ基板を射出成形で成
形し、ピットを正確に転写することは、従来のグルーブ
やピットが全面に存在するようなレプリカ基板の射出成
形に比べて、非常に高度な技術を要する。本発明者等
は、中程度の技術で安定に上記サンプルサーボ方式レプ
リカ基板を成形できるようなレプリタ基板の形状につい
て検討を行なった。本発明者等は前記したような内周と
外周に２重転写が発生するという現象に着目し、２重転
写の発生メカニズムを以下のように考察した。第５図は
射出成形金型の断面を模式的に示した図である。21,22
は金型、23はスタンパ、24は金型キャビティである。第
５図（ｂ）は該金型キャビティ内に樹脂を射出した時の
様子を模式的に示したものである。射出した後、斜線で
示した25の部分から樹脂が硬まり、26の部分は比較的や
わらかな状態である。該状態において、ディスクのひけ
等を防止するために、圧力（保圧）をかけるために、樹
脂のやわらかな部分26で樹脂の移動が起こり、２重転写
となる。該部分26は内周と外周に存在するため、内・外
周で２重転写が生ずることになる。一方、グルーブある
いはピットを全面に有するレプリカ基板においては第５
図（ｂ）のような状態になったとしても、２重転写が起
こらない。これは、該グルーブあるいはピット部分は、
微少な凹凸となっているため、樹脂が多少やわらかくて
も該凹凸のすべり防止の働きにより２重転写の発生をお
さえているためである。これに対し、ミラー部分の多い
サンプルサーボ方式レプリカ基板では、サンプルマーク
ピット部が少ないために上記すべり防止効果は非常に少
なく、２重転写が発生する。
以上のような検討結果より、本発明者等は、樹脂のやわ
らかな部分26に、グルーブあるいはピットを形成し、こ
れにすべり防止効果を持たせて、２重転写を防止できる
ことを見い出した。
らかな部分26に、グルーブあるいはピットを形成し、こ
れにすべり防止効果を持たせて、２重転写を防止できる
ことを見い出した。
以下、本発明の一実施例について第１図および第６図を
用いて説明する。第６図に示すレプリカ基板２は、ポリ
カーボネートより成り、内径（図中31で示す）15mm、外
形130mm、厚さ1.2mmである。サンプルマーク領域32は、
半径29mmより61mmまで設けており、この領域にデータ等
を記録する。本実施例においては、サンプルマーク領域
32に近接して内外周にそれぞれグルーブ領域34,36を1mm
の幅で設けた。33,34は共にミラー領域である。第１図
に第６図の内周におけるサンプルマーク領域32とグルー
ブ領域35の境界部分を拡大して示す。第１図において、
前述したように10,11はサンプルマークピット、12はク
ロック用ピットである。また３は光学的深さ約λ/4、幅
0.5μｍ、ピッチ1.5μｍのグルーブである。外周におけ
るサンプルマーク領域32とグルーブ領域36の境界部分も
第１図と同様に設けている。本実施例のように、内周お
よび、外周にグルーブを設けることにより、該部が射出
成形時にアンカー効果として働き、２重転写の発生を防
止することができた。また、射出成形条件として、樹脂
温度、金型温度、射出速度、保圧等の種々のパラメータ
があるが、本実施例によれば、これらの条件に対して許
容範囲が広く、安定して良好なレプリカ基板を得ること
ができた。本実施例においては、樹脂温度340℃、金型
温度90℃、射出速度100mm/sec保圧100Kg/cm2としたが、
この条件は射出成形機の種類により変化することから、
成形条件が重要なポイントではなく、内外周にグルーブ
を設けたというレプリカ基板形状が重要なポイントであ
る。
用いて説明する。第６図に示すレプリカ基板２は、ポリ
カーボネートより成り、内径（図中31で示す）15mm、外
形130mm、厚さ1.2mmである。サンプルマーク領域32は、
半径29mmより61mmまで設けており、この領域にデータ等
を記録する。本実施例においては、サンプルマーク領域
32に近接して内外周にそれぞれグルーブ領域34,36を1mm
の幅で設けた。33,34は共にミラー領域である。第１図
に第６図の内周におけるサンプルマーク領域32とグルー
ブ領域35の境界部分を拡大して示す。第１図において、
前述したように10,11はサンプルマークピット、12はク
ロック用ピットである。また３は光学的深さ約λ/4、幅
0.5μｍ、ピッチ1.5μｍのグルーブである。外周におけ
るサンプルマーク領域32とグルーブ領域36の境界部分も
第１図と同様に設けている。本実施例のように、内周お
よび、外周にグルーブを設けることにより、該部が射出
成形時にアンカー効果として働き、２重転写の発生を防
止することができた。また、射出成形条件として、樹脂
温度、金型温度、射出速度、保圧等の種々のパラメータ
があるが、本実施例によれば、これらの条件に対して許
容範囲が広く、安定して良好なレプリカ基板を得ること
ができた。本実施例においては、樹脂温度340℃、金型
温度90℃、射出速度100mm/sec保圧100Kg/cm2としたが、
この条件は射出成形機の種類により変化することから、
成形条件が重要なポイントではなく、内外周にグルーブ
を設けたというレプリカ基板形状が重要なポイントであ
る。
本発明の他の実施例を第７図および第８図に示す。第１
図では、サンプルマーク領域に近接させてグルーブを設
けたが、これに限るものではなく、連続グルーブではな
く、グルーブ５の一部にミラー部４を設ける（第７
図）。または、ピット列６を設ける（第８図）ことによ
っても２重転写を防止することができた。
図では、サンプルマーク領域に近接させてグルーブを設
けたが、これに限るものではなく、連続グルーブではな
く、グルーブ５の一部にミラー部４を設ける（第７
図）。または、ピット列６を設ける（第８図）ことによ
っても２重転写を防止することができた。
上記実施例において、グルーブおよびピットの光学的深
さをλ/4としたが、これに限るものではなく、深さが10
0Å以上あればアンカー効果として働く。また、グルー
ブおよびピットの幅およびトラックピッチについては、
基本的には、グルーブあるいはピットが存在すれば良
く、望ましくは幅は0.1μｍ以上５μｍ以下、トラック
ピッチは１μｍ以上、10μｍ以下である。
さをλ/4としたが、これに限るものではなく、深さが10
0Å以上あればアンカー効果として働く。また、グルー
ブおよびピットの幅およびトラックピッチについては、
基本的には、グルーブあるいはピットが存在すれば良
く、望ましくは幅は0.1μｍ以上５μｍ以下、トラック
ピッチは１μｍ以上、10μｍ以下である。
また、サンプルマーク領域とグルーブあるいはピット領
域との間隔を上記実施例では、トラックピッチ程度とし
た。該間隔は近接させた方が望ましいが、これに限るも
のではなく、0.5mm以内であれば、本発明の効果を損な
うものではない。
域との間隔を上記実施例では、トラックピッチ程度とし
た。該間隔は近接させた方が望ましいが、これに限るも
のではなく、0.5mm以内であれば、本発明の効果を損な
うものではない。
一方、上記実施例において、グルーブあるいはピット領
域の幅を1mmとしたが、0.1mm以上あれば本発明の効果を
損なうものではない。
域の幅を1mmとしたが、0.1mm以上あれば本発明の効果を
損なうものではない。
本発明によれば、サンプルマークの２重転写を防止する
ことができるので、トラッキング安定性の良い、サンプ
ルサーボ方式レプリカ基板を得ることができる。
ことができるので、トラッキング安定性の良い、サンプ
ルサーボ方式レプリカ基板を得ることができる。
また、光ディスクにおいてはレプリカ基板のトラックに
合わせて、中心孔を有するハブを接着し該中心孔とトラ
ックの偏心を少なくする方法がとられている。ところ
が、サンプルサーボ方式にするとグルーブがないため、
トラック合わせが困難となる。本発明によれば、内周・
外周にグルーブを設けることから、該グルーブを用いて
トラック合わせをすることが可能となる効果がある。
合わせて、中心孔を有するハブを接着し該中心孔とトラ
ックの偏心を少なくする方法がとられている。ところ
が、サンプルサーボ方式にするとグルーブがないため、
トラック合わせが困難となる。本発明によれば、内周・
外周にグルーブを設けることから、該グルーブを用いて
トラック合わせをすることが可能となる効果がある。
第１図は本発明の一実施例の部分平面図、第２図はサン
プルサーボ方式を説明するためのレプリカ基板の部分平
面図および部分断面図、第３図は２重転写を説明するた
めの部分平面図、第４図は従来のレプリカ基板の平面
図、第５図は２重転写の発生メカニズムを説明するため
の金型の模式断面図、第６図は本発明の一実施例のレプ
リカ基板の平面図、第７図は本発明の他の実施例のレプ
リカ基板の部分平面図、第８図は本発明の他の実施例の
レプリカ基板の部分平面図である。 1,2……レプリカ基板、 10,11……サンプルマーク、 12……クロック用ピット、 16,32……サンプルマーク領域、 35,36……グルーブ領域。
プルサーボ方式を説明するためのレプリカ基板の部分平
面図および部分断面図、第３図は２重転写を説明するた
めの部分平面図、第４図は従来のレプリカ基板の平面
図、第５図は２重転写の発生メカニズムを説明するため
の金型の模式断面図、第６図は本発明の一実施例のレプ
リカ基板の平面図、第７図は本発明の他の実施例のレプ
リカ基板の部分平面図、第８図は本発明の他の実施例の
レプリカ基板の部分平面図である。 1,2……レプリカ基板、 10,11……サンプルマーク、 12……クロック用ピット、 16,32……サンプルマーク領域、 35,36……グルーブ領域。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉井 正樹 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 海老沼 尚武 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内
Claims (1)
- 【請求項１】トラックのところどころにトラッキング用
のサンプルマークを配置し、該サンプルマークの信号を
検知しながらトラッキングを行なうサンプルサーボ方式
光ディスクにおいて、上記サンプルマークを有するトラ
ック領域の内側および外側に、上記トラック領域に近接
して、グルーブおよび／又はピットを複数トラック設け
たことを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62042522A JPH0731813B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光デイスク |
| DE88100697T DE3882735T2 (de) | 1987-02-27 | 1988-01-19 | Optische Informationsplatte. |
| EP88100697A EP0280028B1 (en) | 1987-02-27 | 1988-01-19 | An optical information disc |
| US07/153,004 US4991163A (en) | 1987-02-27 | 1988-02-08 | Optical information medium with sample mark area and multiple transcription prevention |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62042522A JPH0731813B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63211137A JPS63211137A (ja) | 1988-09-02 |
| JPH0731813B2 true JPH0731813B2 (ja) | 1995-04-10 |
Family
ID=12638415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62042522A Expired - Lifetime JPH0731813B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光デイスク |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4991163A (ja) |
| EP (1) | EP0280028B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0731813B2 (ja) |
| DE (1) | DE3882735T2 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63273232A (ja) * | 1987-05-01 | 1988-11-10 | Seiko Epson Corp | 光記録ディスク |
| JPH0340250A (ja) * | 1989-07-06 | 1991-02-21 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気ディスクおよび光磁気ディスク装置 |
| EP0443522B1 (en) * | 1990-02-22 | 1996-10-30 | Sony Corporation | Optical information recording medium |
| JP2638248B2 (ja) * | 1990-03-15 | 1997-08-06 | 松下電器産業株式会社 | 光学的情報媒体および再生装置および記録装置および再生方法および記録方法 |
| JPH04149834A (ja) * | 1990-10-12 | 1992-05-22 | Pioneer Electron Corp | 相変化型光学式情報記録媒体 |
| JP3301621B2 (ja) * | 1991-05-30 | 2002-07-15 | ティーディーケイ株式会社 | 光記録ディスクの製造方法 |
| JP3240762B2 (ja) * | 1993-07-26 | 2001-12-25 | ソニー株式会社 | 光記録媒体の再生方法及び再生装置 |
| WO1995007532A1 (fr) * | 1993-09-07 | 1995-03-16 | Sony Corporation | Disque |
| DE69528574T2 (de) | 1994-08-25 | 2003-05-22 | Sony Corp | Optische platte und optisches plattenantriebsgerät |
| EP1344212B1 (en) * | 2000-12-14 | 2008-08-13 | ECD Systems, Inc. | Method for determining authenticity of an optical recording medium and optical recording medium |
| US7562396B2 (en) * | 2001-08-21 | 2009-07-14 | Ecd Systems, Inc. | Systems and methods for media authentication |
| US7643393B2 (en) * | 2001-12-12 | 2010-01-05 | Ecd Systems, Inc. | Systems and methods for optical media modification |
| US7716485B2 (en) * | 2002-02-01 | 2010-05-11 | Sca Ipla Holdings Inc. | Systems and methods for media authentication |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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