JPS63211137A - 光デイスク - Google Patents
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- JPS63211137A JPS63211137A JP62042522A JP4252287A JPS63211137A JP S63211137 A JPS63211137 A JP S63211137A JP 62042522 A JP62042522 A JP 62042522A JP 4252287 A JP4252287 A JP 4252287A JP S63211137 A JPS63211137 A JP S63211137A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 19
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 abstract description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 9
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 abstract description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 abstract description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
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- 238000013518 transcription Methods 0.000 description 4
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/0938—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following servo format, e.g. guide tracks, pilot signals
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
- Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光学的に情報記録再生可能な光ディス１りに係
シ、特に、良好なトラッキング信号の得られる光ディス
クに関する。
シ、特に、良好なトラッキング信号の得られる光ディス
クに関する。
情報を記録できる光ディスクにおけるトラッキング方式
は、連続溝サーボ方式とサンプルサーボ方式の２方式が
ある。これらの方式については。
は、連続溝サーボ方式とサンプルサーボ方式の２方式が
ある。これらの方式については。
日経エレクトロコク２１９８６年１２月冨５日号第１６
３頁から第１７０頁において詳しく述べられている。
３頁から第１７０頁において詳しく述べられている。
連続溝サーボ方式は従来開発されてきた方式であるが、
サンプルサーボ方式は、トラッキング安定性が良いこと
から、最近、開発が活発化してきている。
サンプルサーボ方式は、トラッキング安定性が良いこと
から、最近、開発が活発化してきている。
第２図に示すように、サンプルサーボ方式は。
トラッキングのための案内溝は用いず、トラックのとこ
ろどころにトラッキング用のサンプルマーク１０ 、１
１を設ける。このサンプルｉ−りはトラック中心（Ａ−
Ａの線）から左右にずらしておき。
ろどころにトラッキング用のサンプルマーク１０ 、１
１を設ける。このサンプルｉ−りはトラック中心（Ａ−
Ａの線）から左右にずらしておき。
このサンプル点を検出しながらトラッキングを行なう。
また１２はクロック用ピットである。第２図において、
１はプラスチ〜り等から成るレプリカ基板、第２図（α
）は模式平面図、（６）はＡ−Ａの模式断面図である。
１はプラスチ〜り等から成るレプリカ基板、第２図（α
）は模式平面図、（６）はＡ−Ａの模式断面図である。
１０ 、１１ 、１２のピットの長さは１時間軸で９９
ｆＬＪ’であり、半径５０ｍ１回転数１８０Ｏｒｐｍに
おいては、０．５μｍとなる。またピットの光学的深さ
は、共に、λ／４（λは読み取りレーザ波長。
ｆＬＪ’であり、半径５０ｍ１回転数１８０Ｏｒｐｍに
おいては、０．５μｍとなる。またピットの光学的深さ
は、共に、λ／４（λは読み取りレーザ波長。
１常λ＝８５０ ｎｍ ）である。第２図に示すような
す・ンブルマーク領域は、ディスク−周で１０００−３
０００・個所必要であり１通常１３７６個所となってい
る。
す・ンブルマーク領域は、ディスク−周で１０００−３
０００・個所必要であり１通常１３７６個所となってい
る。
その他の部分はセクタアドレス部（−周に約３０個所程
度）を除いて、ミラー面である。したがって。
度）を除いて、ミラー面である。したがって。
ディスク全体においてピｙ）の占める面積は約１０チ程
度と非常に少ない。
度と非常に少ない。
〔発明が解決しようとする問題点］
このようなディスクを射出成形法で成形すると、第ｓ図
ノ＋ｏα、１１α、１２αに示すような本来のピットｓ
ｏ、１１．１２に対する２重転写が生ずる。はなはだし
い場合は３重、４重となる場合もある。該２重転写は、
トラッキング信号に悪影響をおよぼし、トラッキングが
正常に動作しないという問題点があった。なお第３図に
おいては第２図の仮想のトラック中心線を省いて示した
。
ノ＋ｏα、１１α、１２αに示すような本来のピットｓ
ｏ、１１．１２に対する２重転写が生ずる。はなはだし
い場合は３重、４重となる場合もある。該２重転写は、
トラッキング信号に悪影響をおよぼし、トラッキングが
正常に動作しないという問題点があった。なお第３図に
おいては第２図の仮想のトラック中心線を省いて示した
。
本発明の目的は、上記２重転写をなくシ、良好なトラッ
キング信号の得られる光ディスクを提供することにある
。
キング信号の得られる光ディスクを提供することにある
。
上記目的は、サンプルマークを有するトラック領域の内
側および外側に、該トラック領域に近接して、グループ
あるいはピットを連続して設けることにより、達成され
る。
側および外側に、該トラック領域に近接して、グループ
あるいはピットを連続して設けることにより、達成され
る。
本発明者等は、上記２重転写の現象把握と原因推定を行
ない、２重転写を防止するには、内周および外周に射出
成形時の樹脂の動きを防止する溝（以下、グループとす
る）あるいはピットを設けることが有効であることを見
い出した。第４図に従来のレプリカ基板の模式平面図を
示す。１８は直径１５鳳の内円、斜線で示した１６の部
分はサンプルマーク領域、１７は内周ミラー領域、１５
は外周ミラー領域であシ、外周の直径は１５０頭である
。該レプリカ基板を射出成形法で成形した時には、上記
した２重転写が発生するが、該２重転写は主に内周と外
周に発生し、特にミラー領域との境界が著しい。この現
象は、従来のグループやピットを基板面全体に有するレ
プリカにおいてはほとんど発生せず、サンプルサーボ方
式のレプリカ基板で発生した。該レプリカ基板は前述し
たよ５に、基板面全体でサンプルマークピットの割合が
１０％程度と少なく、その他の部分はミラー面となって
いるため、射出成形時に樹脂が動きやすく、２重転写が
生ずるものと考えた。このように、ミラー面が大部分を
占め、その一部にピットが存在するようなレプリカ基板
を射出成形で成形し、ピットを正確に転写することは、
従来のグループやピットが全面に存在するようなレプリ
カ基板の射出成形に比べて、非常に高度な技術を要する
。本発明者等は、中程度の技術で安定に上記サンプルサ
ーボ方式レプリカ基板を成形できるようなレプリカ基板
の形状について検討を行なった。本発明者等は前記した
ような内周と外周ｉ／ｃ２重転写が発生するという現象
に着目し、２重転写の発生メカニズムを以下のように考
察した。第５図は射出成形金型の断面を模式的に示した
図である。２１ 、２２は金型、２３はスタンパ、２４
は金型キャビティである。第５図（Ａ）は該金型キャビ
ティ内に樹脂を射出した時の様子を模式的に示したもの
である。射出した後。
ない、２重転写を防止するには、内周および外周に射出
成形時の樹脂の動きを防止する溝（以下、グループとす
る）あるいはピットを設けることが有効であることを見
い出した。第４図に従来のレプリカ基板の模式平面図を
示す。１８は直径１５鳳の内円、斜線で示した１６の部
分はサンプルマーク領域、１７は内周ミラー領域、１５
は外周ミラー領域であシ、外周の直径は１５０頭である
。該レプリカ基板を射出成形法で成形した時には、上記
した２重転写が発生するが、該２重転写は主に内周と外
周に発生し、特にミラー領域との境界が著しい。この現
象は、従来のグループやピットを基板面全体に有するレ
プリカにおいてはほとんど発生せず、サンプルサーボ方
式のレプリカ基板で発生した。該レプリカ基板は前述し
たよ５に、基板面全体でサンプルマークピットの割合が
１０％程度と少なく、その他の部分はミラー面となって
いるため、射出成形時に樹脂が動きやすく、２重転写が
生ずるものと考えた。このように、ミラー面が大部分を
占め、その一部にピットが存在するようなレプリカ基板
を射出成形で成形し、ピットを正確に転写することは、
従来のグループやピットが全面に存在するようなレプリ
カ基板の射出成形に比べて、非常に高度な技術を要する
。本発明者等は、中程度の技術で安定に上記サンプルサ
ーボ方式レプリカ基板を成形できるようなレプリカ基板
の形状について検討を行なった。本発明者等は前記した
ような内周と外周ｉ／ｃ２重転写が発生するという現象
に着目し、２重転写の発生メカニズムを以下のように考
察した。第５図は射出成形金型の断面を模式的に示した
図である。２１ 、２２は金型、２３はスタンパ、２４
は金型キャビティである。第５図（Ａ）は該金型キャビ
ティ内に樹脂を射出した時の様子を模式的に示したもの
である。射出した後。
斜線で示した２５の部分から樹脂が硬まシ、２６の部分
は比較的やわらかな状態である。該状態において、ディ
スクのひけ等を防止するために、圧力（保圧）をかける
ために、樹脂のやわらかな部分２６で樹脂の移動が起こ
り、２重転写となる。該部分２６は内周と外周に存在す
るため、内・外周で２重転写が生ずることになる。一方
、グループあるいはピットを全面に有するレプリカ基板
においては第５図（ｂｌのような状態になったとしても
、２重転写が起こらない。これは、該グループあるいは
ピット部分は、微少な凹凸となっているため、樹脂が多
少やわらかくても該凹凸のすベシ防止の働きに・よ９２
重転写の発生をおさえているためである。
は比較的やわらかな状態である。該状態において、ディ
スクのひけ等を防止するために、圧力（保圧）をかける
ために、樹脂のやわらかな部分２６で樹脂の移動が起こ
り、２重転写となる。該部分２６は内周と外周に存在す
るため、内・外周で２重転写が生ずることになる。一方
、グループあるいはピットを全面に有するレプリカ基板
においては第５図（ｂｌのような状態になったとしても
、２重転写が起こらない。これは、該グループあるいは
ピット部分は、微少な凹凸となっているため、樹脂が多
少やわらかくても該凹凸のすベシ防止の働きに・よ９２
重転写の発生をおさえているためである。
これに対し、ミラ一部分の多いサンプルサーボ方・式レ
プリカ基板では、サンプルマークピット部が少ないため
に上記すベシ防止効果は非常に少なく。
プリカ基板では、サンプルマークピット部が少ないため
に上記すベシ防止効果は非常に少なく。
２重転写が発生する。
以上のような検討結果よシ１本発明者等は、樹。
脂のやわらかな部分２６に、グループあるいはピットを
形成し、これにすベシ防止効果を持たせて。
形成し、これにすベシ防止効果を持たせて。
２重転写を防止できることを見い出した。
以下１本発明の一実施例について第１図および第６図を
用いて説明する。第６図に示すレプリカ基板２は、ポリ
カーボネートよυ成シ、内径（図中３１で示す）１５闘
、外径１６０閣、厚さ１．２騙である。サンプルマーク
領域３２は、牛径２９ｍよシロ１踵まで設けてお）、こ
の領域にデータ等を記録する。
用いて説明する。第６図に示すレプリカ基板２は、ポリ
カーボネートよυ成シ、内径（図中３１で示す）１５闘
、外径１６０閣、厚さ１．２騙である。サンプルマーク
領域３２は、牛径２９ｍよシロ１踵まで設けてお）、こ
の領域にデータ等を記録する。
本実施例においては、サンプルマーク領域５２に近接し
て内外周にそれぞれグループ領域３４ 、５６を１踵の
幅で設けた。５５ 、５４は共にミラー領域である。
て内外周にそれぞれグループ領域３４ 、５６を１踵の
幅で設けた。５５ 、５４は共にミラー領域である。
第１図に第６図の内周におけるサンプルマーク領域３２
とグループ領域３５の境界部分を拡大して示す。
とグループ領域３５の境界部分を拡大して示す。
第１図において、前述したように１０．■はサングルマ
ークビット、１２はクロック用ビットである。
ークビット、１２はクロック用ビットである。
また６は光学的深さ約λ／４．幅０．５μｍ、ピッチ１
．５μｍのグループである。外周におけるサンプルマー
。
．５μｍのグループである。外周におけるサンプルマー
。
り領域３２とグループ領域３６の境界部分も第１図と同
様に設けている。本実施例のように、内周お上び、外周
にグループを設けることＫより、核部が、射出成形時に
アンカー効果として働き、２重転写の発生を防止するこ
とができた。また、射出成形条件として、樹脂温度、金
凰温度、射出速度、保圧等の桓々のパラメータがあるが
、本実施例によれば、これらの条件に対して許容範囲が
広く、安定して良好なレプリカ基板を得ることができた
。
様に設けている。本実施例のように、内周お上び、外周
にグループを設けることＫより、核部が、射出成形時に
アンカー効果として働き、２重転写の発生を防止するこ
とができた。また、射出成形条件として、樹脂温度、金
凰温度、射出速度、保圧等の桓々のパラメータがあるが
、本実施例によれば、これらの条件に対して許容範囲が
広く、安定して良好なレプリカ基板を得ることができた
。
本実施例においては、樹脂温度３４０ｔ’、金型温度０
０Ｋｆ ９０で、射出速度ｔｏｏ■／、、Ｃ保圧 フィーとし
たが、この条件は射出成形機の櫨類により変化すること
から、成形条件が重要なポイントではなく、内外周にグ
ループを設けたというレプリカ基板形状が重要なポイン
トである。
０Ｋｆ ９０で、射出速度ｔｏｏ■／、、Ｃ保圧 フィーとし
たが、この条件は射出成形機の櫨類により変化すること
から、成形条件が重要なポイントではなく、内外周にグ
ループを設けたというレプリカ基板形状が重要なポイン
トである。
本発明の他の実施例を第７図および第８図に示、す。第
１図では、サンプルマーク領域に近接させてグループを
設けたが、これに限るものではなく。
１図では、サンプルマーク領域に近接させてグループを
設けたが、これに限るものではなく。
連続グループではなく、グループ５の一部にミラ一部４
を設ける（第７図）。または、ビット列６を設ける（第
８図）ことによっても２重転写を防止することができた
。
を設ける（第７図）。または、ビット列６を設ける（第
８図）ことによっても２重転写を防止することができた
。
上記実施例において、グループおよびピットの光学的深
さをλ／４としたが、これに限るものではなく、深さが
１００ Ａ以上あればアンカー効果として働く。また、
グループおよびピットの幅およびトラックピッチについ
ては、基本的には、グループあるいはピットが存在すれ
ば良く、望ましくは幅は０．１μｍ以上５μｍ以下、ト
ラックピッチは１μｍ以上、１０μｍ以下である。
さをλ／４としたが、これに限るものではなく、深さが
１００ Ａ以上あればアンカー効果として働く。また、
グループおよびピットの幅およびトラックピッチについ
ては、基本的には、グループあるいはピットが存在すれ
ば良く、望ましくは幅は０．１μｍ以上５μｍ以下、ト
ラックピッチは１μｍ以上、１０μｍ以下である。
また、サンプルマーク領域とグループあるいはビット領
域との間隔を上記実施例では、トラックピッチ程度とし
た。該間隔は近接させた方が望ましいが、これに限るも
のではなく、０．５ＪＥＩＩ以内であれば１本発明の効
果を損なうものではない。
域との間隔を上記実施例では、トラックピッチ程度とし
た。該間隔は近接させた方が望ましいが、これに限るも
のではなく、０．５ＪＥＩＩ以内であれば１本発明の効
果を損なうものではない。
一方、上記実施例において、グループあるいはビット領
域の幅を１■としたが、０．１ｍ＋以上あれば本発明の
効果を損なうものではない。
域の幅を１■としたが、０．１ｍ＋以上あれば本発明の
効果を損なうものではない。
本発明によれば、サンプルマークの２重転写を防止する
ことができるので、トラッキング安定性の良い、サンプ
ルサーボ方式レプリカ基板を得る。
ことができるので、トラッキング安定性の良い、サンプ
ルサーボ方式レプリカ基板を得る。
ことができる。
また、光ディスクにおいてはレプリカ基板のトラックに
合わせて、中心孔を有するハブを接着し該中心孔とトラ
ックの偏心を少なくする方法がとられている。ところが
、サンプルサーボ方式にするとグループがないため、ト
ラック合わせが困難となる。本発明によれば、内周・外
周にグループを設けることから、該グループを用いてト
ラック合わせをすることが可能となる効果がある。
合わせて、中心孔を有するハブを接着し該中心孔とトラ
ックの偏心を少なくする方法がとられている。ところが
、サンプルサーボ方式にするとグループがないため、ト
ラック合わせが困難となる。本発明によれば、内周・外
周にグループを設けることから、該グループを用いてト
ラック合わせをすることが可能となる効果がある。
第１図は本発明の一実施例の部分平面図、第２図はサン
プルサーボ方式を説明するためのレプリカ基板の部分平
面図および部分断面図、第３図は２重転写を説明するだ
めの部分平面図、第４図は従来のレプリカ基板の平面図
、第５図は２重転写の発生メカニズムを説明するための
金型の模式断面図、第６図は本発明の一実施例のレプリ
カ基板の平面図、第７図は本発明の他の実施例のレプリ
カ基板の部分平面図、第８図は本発明の他の実施例のレ
プリカ基板の部分平面図である。 １．２・・・レプリカ基板。 １０．１１・・・サンプルマーク。 １２・・・クロック用ピット。 １６ 、３２・・・サンプルマーク領域。 ３５ 、５６・・・グループ領域。 氏埋へ升坦士 少 川 ＃ 労 第 １ 区 第 Ｚ 図 （α） ８３ 図 第 ４− 図 第５図 （ａ”１ ｔ （ｂ） 保圧 第 ６ 図 第７図 ５ ＋ 栴 ８ 図
プルサーボ方式を説明するためのレプリカ基板の部分平
面図および部分断面図、第３図は２重転写を説明するだ
めの部分平面図、第４図は従来のレプリカ基板の平面図
、第５図は２重転写の発生メカニズムを説明するための
金型の模式断面図、第６図は本発明の一実施例のレプリ
カ基板の平面図、第７図は本発明の他の実施例のレプリ
カ基板の部分平面図、第８図は本発明の他の実施例のレ
プリカ基板の部分平面図である。 １．２・・・レプリカ基板。 １０．１１・・・サンプルマーク。 １２・・・クロック用ピット。 １６ 、３２・・・サンプルマーク領域。 ３５ 、５６・・・グループ領域。 氏埋へ升坦士 少 川 ＃ 労 第 １ 区 第 Ｚ 図 （α） ８３ 図 第 ４− 図 第５図 （ａ”１ ｔ （ｂ） 保圧 第 ６ 図 第７図 ５ ＋ 栴 ８ 図
Claims (1)
- １、トラックのところどころにトラッキング用のサンプ
ルマークを配置し、該サンプルマークの信号を検知しな
がらトラッキングを行なうサンプルサーボ方式光ディス
クにおいて、上記サンプルマークを有するトラック領域
の内側および外側に、上記トラック領域に近接して、グ
ループおよび／又はピットを複数トラック設けたことを
特徴とする光ディスク。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62042522A JPH0731813B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光デイスク |
| EP88100697A EP0280028B1 (en) | 1987-02-27 | 1988-01-19 | An optical information disc |
| DE88100697T DE3882735T2 (de) | 1987-02-27 | 1988-01-19 | Optische Informationsplatte. |
| US07/153,004 US4991163A (en) | 1987-02-27 | 1988-02-08 | Optical information medium with sample mark area and multiple transcription prevention |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62042522A JPH0731813B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63211137A true JPS63211137A (ja) | 1988-09-02 |
| JPH0731813B2 JPH0731813B2 (ja) | 1995-04-10 |
Family
ID=12638415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62042522A Expired - Lifetime JPH0731813B2 (ja) | 1987-02-27 | 1987-02-27 | 光デイスク |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4991163A (ja) |
| EP (1) | EP0280028B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0731813B2 (ja) |
| DE (1) | DE3882735T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63273232A (ja) * | 1987-05-01 | 1988-11-10 | Seiko Epson Corp | 光記録ディスク |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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