JPS606018B2 - 情報記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は基体に情報トラックが設けられた情報記録媒体
の製造方法に関するものであって、特に、音声及び／又
はビデオの情報トラックをビット（凹部）又はブロック
（凸部）として有し、この記録された情報を光学システ
ムによって書込み及び謙取るようにしたディスク記録盤
に適用するのに最適な方法を提供するものである。

従来此種のディスク記録緩からはメッキ等の方法によっ
てスタンバ−が得られ、このスタンバーを順次転写して
多数のプレス成形されたビデオディスク等を製作するよ
うにしている。

従釆から行われても、るスタンバーの製作方法としては
例えば第１図に示す如きものがある。

まず第ＩＡ図に示す如く３０仇舷での円盤状ガラス板１
表面に塗布したフオトレジスト層２に対し垂直上方から
変調されたレーザー光３又は電子ビームを照射して選択
的に露光し、次いでこの露光部分を現像によって除去し
てフオトレジスト層２に第ＩＢ図に示す如き関口４を所
定幅に形成する。次に第ＩＣ図に示す如く、フオトレジ
スト層２を含むガラス板１表面に無電解〆ツキによりニ
ッケル膜５又は銀膜を形成し、この状態でニッケル膜５
表面にニッケル層６を電気メッキで形成し、しかる後に
ニッケル層６を剥離して機械的強度の大きいニッケル製
のスタンバー７を得るようにしている。この方法によれ
ば、スタンバー７を得るまでに第ＩＢ図に原盤を第ＩＣ
図にて転写しなければならず、この転写が既に情報を記
録した状態で行われるために、工程が面倒でありかつ処
理時間が長くなり、転写により記録像の忠実度が悪くな
る。

従ってガラス板１上に記録材料であるフオトレジスト層
２を形成せず、金属板上にこの記録材料層を直接形成す
れば、転写工程を経ることなくスタンバーを製作するこ
とが考えられる。しかしながら、情報記録媒体の基板の
表面組度はＳ／Ｎ比の点から０．０１仏ｍ以下であるこ
とが表示されており、この表面粗度を具備した金属板は
未だ見出されてはいない。即ち例えば３０仇舷ぐのニッ
ケル板を単に研摩したとしてもその表面に０．０１仏以
上のキズが残ってしまうので雑音が大きく記録信号の講
取りが不可能となる。研摩ガラス板又はフロートガラス
板の表面粗度は上記の要求を満足しているので「表面粗
度を小さくしようとすれば第１図に示す如き方法を採ら
ぎるを得ない。

なお他の方法としてガラス板上に形成した金属層を選択
的に除去（カッティング）するようにしてもやはり転写
工程を経なければスタンバーを得ることが出釆ない。本
発明は上述の如き欠陥を是正すべく発明されたものであ
って、その第１の発明は「表面粗度の小さい基体表面に
導電層を形成し「次いでこの導電層上に金属メッキ層を
形成し、次いで前記導電層を具備する前記金属メッキ層
を前記基体から剥離し、次いで前記導電層上に情報記録
層を形成し、次いでこの情報記録層を情報トラック相当
部分に沿って選択的に除去するようにしたことを特徴と
する情報記録媒体の製造方法に係るものであり、またそ
の第２の発明は表面粗度の小さい基体表面に導電層を形
成し、次いでこの導電層上に金属メッキ層を形成し、次
いで前記導電層を具備する前記金属メッキ層を前記基体
から剥離し、次いで少なくとも前記導電層表面を酸化し
、次いでこの酸化された表面に金属メッキ層を形成し、
次いでこの金属メッキ層を剥離し、次いでこの金属メッ
キ層の剥離側表面に情報記録層を形成し、次いでこの情
報記録層を情報トラック相当部分に沿って選択的に除去
するようにしたことを特徴とする情報記録媒体の製造方
法に係るものである。

これら第１及び第２の発明の方法によって、製造工程を
大幅に短縮することが出来、表面組度の小さいものが容
易に得られてＳノＮ比及び忠実度が向上し、コスト少な
くして大量生産が可能となる。特に前記第２の発明の方
法によれば、製造時間を更に大幅に短縮出来る。なお上
述の基体としては、表面組度が０．０１山ｍ以下の研摩
ガラス板又はフロートガラス板等が用いられるのが好ま
しい。

上述の導電層としてはニッケル蒸着層又は無電解ニッケ
ルメッキ層が挙げられる。上述の導電層上に形成される
金属メッキ層としてはニッケル又はこれ以上の強度を有
する金属からなっているものを用いる。上述の情報記録
層としてはＫＰＲ，ＫＭＥＲ，ＫＦ瓜（イーストマン・
コダック社製）等のネガタィプのフオトレジスト、ＡＺ
（アゾプレート・シツプレ一社製）、ＫＯＲ（イースト
マン・コダック社製）、ＯＰＦＲ（東京応化株式会社製
）等のポジタィプのフオトレジスト「ＰＶＡ等の合成樹
脂、低融点の金属等が挙げられる。また上述の酸化され
た導電層表面に形成される金属メッキ層はニッケルから
なっていてよい。次に本発明をビデオディスク記録板に
適用した実施例を第２図〜第６図に付き述べる。

第２図〜第４図は本発明の第１図の実施例を示すもので
ある。

まず第２Ａ図に示す如く、表面粗度が０．０１＃ｍ以下
で３０比奴Ｊの研摩ガラス板１ １を用意し「 このガ
ラス板の研摩表面に真空蒸着によってニッケル膜を均一
厚さに形成し「更にこのニッケル膜表面に電気メッキに
よりニッケル層１６を均一厚さに形成する。

この場合〜ガラス板１１の表面粕度は０．０１山ｍ以下
であるので「 この表面のニッケル膜１５表面のキズ、
即ち凹凸はＳ／Ｎ比の点で問題にならない。またニッケ
ル層竃６は後述するスタンパ−の基体となるものである
。ニッケル層１６がスタンパーとして必要とされる厚さ
になったときに電気メッキを中止し、次いでニッケル膜
１５を具備するニッケル層１６をガラス板１１から剥離
する。

これによって表面額度０．０１仏ｍ以下のニッケル板を
得ることが出来る。次いでこのニッケル層１６上のニッ
ケル膜ｉ５表面にフオトレジスト層１２を均一に塗布す
る。このフオトレジスト層の厚さは後述する情報トラッ
クを構成するニッケル層の厚さの倍以上であるのが好ま
しい。そしてフオトレジスト層１６に対し第４図に示す
装置を用いて変調されたレーザー光１３を間欠的に照射
し、この照射部分を露光し、しかる後にこの露光部分を
現像処理によって除去すればフオトレジスト層１６に幅
ｌＡｍ程度、ピッチ２ｒｍ程度の閉口１４を螺旋状に形
成することが出来る。この関口は記録情報となって情報
トラックを構成するものである。次いで第２Ｄ図に示す
如く、関口１４内にニッケル層１８を均一厚さ、即ち後
述するモニタリング用レーザー光の波長の１′４に対応
する厚さ（１１００Ａ程度）であってフオトレジスト層
１２の１′沙〆下の厚さに付着せしめる。

この付着を行うには、ニッケル層１６が導電性があるこ
とから電気メッキ法を用いてよく、また真空蒸着法によ
ってもよい。なおニッケル層１８の厚さは後述の透明保
護膜の屈折率を考慮して決められる。次いでフオトレジ
スト層１２のみを溶解除去せしめ、第２８図に示す如く
、ニッケル層１６上に所定パターンのニッケル層１８を
残し、スタンパー１７を完成する。

なおこのニッケル層１８の周辺はニッケル層１６に対し
てほゞ垂直になっているので、モニタリングに際して解
像度が非常に良好である。即ち第２Ｄ図に示す工程にお
いて第３図に拡大明示する如く、フオトレジスト層１２
の側面は現像処理の関係でニッケル層１６に対して幾分
傾斜しているが、フオトレジスト層１２の下半分ではそ
の側面はニッケル層１６に対してはゞ垂直となっている
。従って上記下半分に付着したニッケル層１８の周辺部
はニッケル層１６に対してほゞ垂直となるからである。
またこのようにして製作されたスタンパー１７において
は、ニッケル膜１５の表面組度は０．０１ｒｍ以下とな
り、従ってＳ／Ｎ比が極めて良好である。

またスタンパー１７の機械的強度は大であり、このニッ
ケル層１８側表面を熱可塑性樹脂に転写することにより
低コストにして大量のディスクを製作することが出来る
。なお実際にはスタンパー表面には厚さ１０仏程度の透
明保護膜が形成される。なお原盤への情報の記録及びこ
のモニター」ングの方法を第４図に付き説明する。

第２Ｂ図に示す状態のニッケル層１６を電動機１９の回
転軸に連結して回転可能に配し、フオトレジスト層１２
側には径方向に開□２０を有するダストカバー２１を近
接配置する。この閉口２０内には移動台２２に固定され
た空気ベアリングヘッド２３を配し「フオトレジスト層
１２に近接する対物レンズ（図示せず）を空気ベアリン
グによって位置保持する。フオトレジスト層１２のカッ
テイングを行うには、Ａｒレーザー２４からのレーザー
光１３を電気シャツ夕２５により変調してからプリズム
２６、レンズ２７「ダイクロイツクミラー２８に夫々通
じ、ミラー２９によってヘッド２３の対物レンズに導び
し、てフオトレジスト層１２上の所定位置に導び〈。

この際ニッケル層１６を回転させかつ移動台２２を等速
移動させるようにすれ‘よフオトレジスト層１２のカッ
ティングを螺旋状に行うことが出来る。またモニタリン
グを行うには、第２８図に示すスタンバ−１７を電動機
１９に取付け、Ｈｅ−Ｎｅレーザー３０からのレーザー
光３１をミラー３２にてレンズ３３に導びき、これをミ
ラー３４，２８，２９にて夫々反射させてニッケル層１
８及びニッケル膜１５上に導びき、表面からの反射光を
トラッキングトランスデューサ３５で検出することが出
来る。なお各レーザー光の焦点を調節するにはしンズ２
７，３３を移動させればよい。本実施例によれば、上述
した如く表面粗度の極めて４・さし、スタンパーを得る
ことが出来るが、このスタンパーを得るに際し従来のよ
うな転写工程を経る必要がないことから記録像の忠実度
を大幅に向上させることが出来、然も製造工程を大幅に
短縮することが出来る。

またニッケル層を電気メッキしてスタンパーを製作出来
るから、無電解〆ッキの必要がない。次に本発明をビデ
オディスク記録盤に適用した第２の実施例を第５図に付
き述べる。

本実施例においては、露光前のフオトレジスト層上に金
属膜を形成している点で前記第１の実施例と異なるので
、共通する部分には共通の符号を付して説明を省略する
。

即ち第２８図に示すフオトレジスト層１２表面に第５Ａ
図に示す如くＢｉ等の金属層４０を２００〜３００Ａ厚
に真空蒸着し、しかる後にレーザー１３を前述の如くに
照射し、これによって金属層４０の所定部分を加熱して
蒸発除去せしめ、かっこの加熱部分下のフオトレジスト
層１２も同時に露光し、この露光部分を現像処理によっ
て除去する。

この結果第５Ｂ図に示す如く第２Ｃ図に示すものと同一
パターンのフオトレジスト層１２とこの表面の金属層４
０とを夫々残すことが出来る。次いで金属層４０のみを
希硝酸で溶解除去すれば第２Ｃ図と同じものを製作する
ことが出釆る。本実施例によれば、金属層４０の存在に
よって露光前のフオトレジスト層１２の感光を防止する
ことが出釆、白色光中にて処理することが可能となる。

またフオトレジスト層１２をモニタリング用レーザー光
の波長の１′４の厚さに塗布しておけばカッティングと
同時にモニタリングも可能である。次に本発明をビデオ
ディスク記録盤に適用した第３の実施例を第６図に付き
述べる。

本実施例においては、第２Ａ図においてガラス板１１か
ら剥離したニッケル膜ｉ５上にフオトレジスト層を塗布
せず、第６Ａ図に示す如くニッケル膜１５表面を一様に
陽極酸化してニッケル酸化物層５０となし、この表面に
第６Ｂ図に示す如く電気メッキによりスタンパーの基体
となるニッケル層５６を被着せしめる。

この場合厚にニッケル層１６は導電性があるために電流
密度を高めることが出来て電気メッキを行い易い。次い
でニッケル層５６をニッケル酸化物層５０から剥離し「
しかる後第２Ｂ図以下に示した工程を行うことにより
前記第１の実施例で述べたと同様にしてスタンパーを製
作することが出釆る。

本実施例によれば、第６Ａ図に示す状態のものさえ製作
して保管しておけば、これを用いて極めて簡単に何枚も
のスタンパーを短時間で製作出来〜例えばこの製作時間
を３〜４時間程度に短縮可能である。従って前記第１の
実施例のようにガラス板から出発する工程をはじめから
行う必要がなく「途中で得られたものから工程を開始出
来るために極めて有利である。以上本発明を実施例に塞
いて説明したが、本発明の技術的思想に塞いて更に変形
が可能であることが理解されよう。

例えば第２Ｂ図においてフオトレジスト層１２の代りに
Ｂｉ等の低融点金属層を用いることが出来る。この場合
はカッテイングした金属層をそのま）残して情報トラッ
クを構成し、これをスタンパーとして直接用いることが
出来る。またスタンパー表面のニッケル層１８の代りに
他の硬い金属「例えばクロムからなるものも用い得る。
また螺旋状トラックに限らず同０円状にしてもよい。な
お本発明はディスク記録盤に限定することなく、例えば
円筒状の記録体及び音声情報の記録体に適用することも
可能である。本発明は上述の如く、表面粗度の小さい基
体表面に形成した金属メッキ層を基体から剥離し、こ合
上に情報記録層を形成し、これをカッティングするよう
にしているから「従来のような転写工程を経ることなく
、原盤製造までの工程を大幅に短縮することが出釆る。
また剥離した金属メッキ層の導電層表面を少なくとも酸
化し、この上に別の金属メッキ層を形成し「 この金属
メッキ層上に情報記録層を形成するようにしているから
、上記の酸化表面を有する金属メッキ層を保管し「これ
から源盤を製作し得るから工程が更に簡略化される。

また表面粗度の小さい基体から原盤の基体をメッキ形成
するようにしているから「 この原盤基体の表面組度も
極めて小さいものとなり、従って従来不可能であった表
面粗度の小さい金属基体を得ることが出来、コスト、量
産性の点で有利であると共に、Ｓ／Ｎ比が良好となる。

然も従来のように情報トラックが存在する状態で転写せ
ず、情報のない状態で原盤基体をメッキ形成し、この基
体上に形成した情報記録層をカッティングするようにし
ているから、原盤上に情報トラックを形成するに際し記
録像の忠実度が極めて高くなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来例を示すものであって「ビデオディスク記
録盤の製造工程を概略的に示す断面図である。 第２図〜第４図は本発明をビデオディスク託録盤に適用
した第１の実施例を示すものであってト第２Ａ図〜第２
Ｅ図はビデオディスク記録盤の製造工程を概略的に示す
断面図、第３図は第２Ｄ図の拡大図、第４図はカッティ
ング及びモニタリングに用いる装置の概略図である。第
５図は本発明をビデオディスク記録盤に適用した第２の
実施例を示すものであって「 ビデオディスク記録盤の
製造工程を概略的に示す断面図である。第６図は本発明
をビデオディスク記録盤に適用した第３の実施例を示す
ものであって、ビデオディスク記録盤の製造工程を概略
的に示す断面図である。なお図面に用いられている符号
において、１１はガラス板、１２はフオトレジスト層、
１３，３１はしーザー光、１５はニッケル膿、１６，５
６はニッケル層、１７はスタンパー、１８‘まニッケル
層、１９は電動機「 ２３は電気ベアリングヘッド、２
４はＡＪレーザー、３ ０はＨｅ−Ｎｅレーザー「
３５はトランスデューサ、４６は金属層、５川まニッケ
ル酸化物層である。第１図 第２図 第２図 第３図 第４図 第５図 第６図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 表面粗度の小さい基体表面に導電層を形成し、次い
   でこの導電層上に金属メツキ層を形成し、次いで前記導
   電層を具備する前記金属メツキ層を前記基体から剥離し
   、次いで前記導電層上に情報記録層を形成し、次いでこ
   の情報記録層を情報トラツク相当部分に沿って選択的に
   除去するようにしたことを特徴とする情報記録媒体の製
   造方法。 ２ 表面粗度の小さい基体表面に導電層を形成し、次い
   でこの導電層上に金属メツキ層を形成し、次いで前記導
   電層を具備する前記金属メツキ層を前記基体から剥離し
   、次いで少なくとも前記導電層表面を酸化し、次いでこ
   の酸化された表面に金属メツキ層を形成し、次いでこの
   金属メツキ層を剥離し、次いでこの金属メツキ層の剥離
   側表面に情報記録層を形成し、次いでこの情報記録層を
   情報トラツク相当部分に沿って選択的に除去するように
   したことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。