JPH01264644A - 光デイスク基板の製造方法 - Google Patents

光デイスク基板の製造方法

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Publication number
JPH01264644A
JPH01264644A JP9381488A JP9381488A JPH01264644A JP H01264644 A JPH01264644 A JP H01264644A JP 9381488 A JP9381488 A JP 9381488A JP 9381488 A JP9381488 A JP 9381488A JP H01264644 A JPH01264644 A JP H01264644A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stamper
optical disk
curing resin
disk substrate
resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9381488A
Other languages
English (en)
Inventor
Fuminori Imamura
今村 文則
Mineo Moribe
峰生 守部
Shuichi Hashimoto
修一 橋本
Yasumasa Iwamura
康正 岩村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPH01264644A publication Critical patent/JPH01264644A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 光ディスク基板の製造方法に関し、 紫外線硬化樹脂の硬化によるパリの発生を無くすること
を目的とし、 補強板により裏打ちされたスタンパを芯出し冶具の上に
置き、このスタンパ上に紫外線硬化樹脂を供給した後、
透明でディスク状をした支持板を置き、この支持板の上
から加圧用平坦ガラスを当接し、加圧した状態で芯出し
治具を回転させる際、この回転体にロール状をした溶剤
イ」きガーゼを接触させ、上下方向に移動させながら回
転させることにより、スタンパと支持板との当接面より
はみ出た過剰な紫外線硬化樹脂を拭き取った後、紫外線
照射を行うことにより光ディスク基板の製造方法を構成
する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は光ディスク基板の製造方法に関する。
光ディスクは同心円状或いは渦巻き状の案内溝(プリグ
ループ)を備えたディスク状をしたガラス基板或いは透
明な樹脂基板の上にセレン(Se) 。
テルル(Te)のようなカルコゲン元素またはこれと金
属との合金のよ・うな低融点金属を用いて記録膜を作り
、この記録膜がレーザ照射によって容易に蒸発して穴が
開くのを利用し、情報の記録を穴の有無により行う書込
み専用メモリ(Write−once Memory)
である。
また、光ディスクに属するものとして光磁気ディスクが
あり、これは記t3.膜を垂直磁化している磁性膜で形
成し、外部より磁化方向と反対方向に垂直磁界を加えな
からレーザ光を照射すると照射された磁性膜の温度−J
−、昇によって保磁力が減少して磁化反転が起こるのを
利用して情報の記録と消去とを行う書き換え可能なメモ
リ(P、rasable Memory>である◇ ご\で、光ディスク基板は多くの場合、同心円状或いは
渦巻き状の案内溝(プリグループ)と、これにトラック
番号やセクタ番号を書き込んだ型(以下略してスタンパ
)を別途用意しておき、この型に紫外線硬化樹脂(フォ
トポリマ)を置き、この上にガラスからなる支持板を圧
着した状態で紫外線の照射を行い、スタンパの案内溝と
ビ、1・情報とを支持板−ヒに転写する製造方法がとら
れている。
〔従来の技術〕
第2図(A)〜(D)は光ディスク基板の従来の製造工
程を示す断面図である。
すなわち、案内溝とこの一部にトラック番号やセクタ番
号などの共通情報が凹凸の形に書き込んであるスタンパ
1の上に紫外線硬化樹脂2を同心円状に流し込み、この
上に透明でディスク状をした支持板3をスタンパ1のパ
ターンに合わせて位置決めする。(以上同図A) 次に、この上に加圧用平坦ガラス4を置き、紫外線硬化
樹脂2が所定の厚さになるように加圧する。
この場合、スタンパ1と支持板3との間から紫外線硬化
樹脂2が溢れ出るので真空吸引機のノズルを当接して吸
引する。(以上同図B)次に、加圧用平坦ガラス4と支
持板3を通して紫外線6を照射して紫外線硬化樹脂2を
硬化させる。(以上同図C) そして、支持板3をスタンパ1よりとり除くことにより
案内溝とこれに共通情報が転写された光ディスク基板7
を得ることができる。
然し、光磁気ディスク基板7の内外周には溢れ残りの紫
外線硬化樹脂2がバリ8の形で残っており、またスタン
パ1の上にも残存している。(以上同図D) そして、スタンパ1の上にハリ8が存在すると次の転写
工程において、支持板3がバリ8の上に乗ることが多く
、所定の厚さに加圧することができない。
また、光ディスク基板7の内外周にバリが残ると、後の
工程でハリが折れ、エラー発生の原因となる。
これらのことから、溢れ出た紫外線硬化樹脂2ば注意深
く真空吸引していたが、バリ8を完全に除去することは
不可能であった。
〔発明が解決しようとする課題〕
以上記したように光ディスク基板の形成はスタンパの上
に紫外線硬化樹脂を供給し、透明な支持板を加圧した状
態で紫外線照射して硬化させ、支持板上に転写する方法
が採られているが、支持板を加圧する際に溢れでる紫外
線硬化樹脂が硬化してハリができ、これが量産に当たっ
て不良発生の原因となっている。
そこで、バリを無くすることが課題である。
〔課題を解決するための手段〕
上記の課題は補強板により裏打らされたスタンパを芯出
し治具の上に置き、このスタンパ上に紫外線硬化樹脂を
供給した後、透明でディスク状をした支持板を置き、こ
の支持板の」−から加圧用平坦ガラスを当接し、加圧し
た状態で芯出し治具を回転させる際、この回転体にロー
ル状をした溶剤付きガーゼを接触させ、上下方向に移動
させながら回転させることにより、スタンパと支持板と
の当接面よりはみ出た過剰な紫外線硬化樹脂を拭き取っ
た後、紫外線照射を行うことにより解決することができ
る。
〔作用〕
本発明は支持板とスタンパの間に供給した紫外線硬化樹
脂に加圧用平坦ガラスを加圧することにより約30/ノ
mの厚さに加圧成形する際に、支持板の周囲にはみ出し
てくる紫外線硬化樹脂をロール状をした溶剤つきのガー
ゼを用いて拭き取るものである。
こ−で、従来より支持板とスタンパとの位置合ね−lと
紫外線照射による硬化処理は芯出し治具を用いて行われ
ており、紫外線照射は芯出し治具に載・已たま\モータ
で回転させ乍ら行われているので、本発明による樹脂の
拭き取りはモータを回転さ・せながらロール状ガーゼの
付いた駆動軸を横方向にスライドさせて接触させた後、
上下の何れかの方向に移動させることにより、拭き取り
を行・うものである。
〔実施例〕
第1図は本発明に係る拭き取り機構の断面図であり、拭
き取り部のみは判り易くするために正面図で示した。
すなわち、直径200 龍の補強板9により裏打ちされ
ているスタンパ1を、モータ11の回転軸12よりとり
外した芯出し治具10に挿入して位置決めし、この上に
紫外線硬化樹脂(アクリル酸エステル)を環状に供給し
た。
次に、同じ直径(200mm)で厚さが1.2mmのガ
ラスよりなる支持板3を芯出し治具10に挿入した後、
更にこの上に加圧用平坦ガラス4を置き、2 kg/c
m2の圧力で加圧し、スタンパ1と固定した状態で芯出
し治具10ごとモータ11の回転軸12に挿着した。
次に、ロール状をし溶剤の4−Jいているガーゼ13が
固定されている駆動軸14を水平移動させて支持板3.
スタンパ1.補強板9が一体化している加圧体に接触さ
せ、加圧体と駆動軸14をそれぞれ10rpmの速度で
回転させた。
こXで、ガーゼ13にはメチルエチルケトンが滲み込ま
せであるが、この駆動軸14は徐々に下に下るよう構成
さているので、図に示すようにはみ出した紫外線硬化樹
脂2は渦巻き状を呈して拭き取られる。
拭き取りが終わると駆動軸14を元の位置に戻し゛ζ回
転を停止した後、加圧用平坦ガラス4の上から出力50
 mW/ cm”の紫外線を1分間照射して紫外線硬化
樹脂2を硬化させた。
次に、芯出し治具10ごとモータ11より取り外し、ス
タンパ1より取り出して光ディスク基板を得たが、パリ
の発生は皆無であった。
〔発明の効果〕
本発明の実施によりハリの無い光ディスク基板を作るこ
とができ、これにより作業能率の向上によるコスト低減
が達成される。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る樹脂拭き取り機構の断面図、 第2図は従来の光ディスクの製造工程を示す断面図、 である。 図において、 1はスタンパ、      2は紫外線硬化樹脂、3は
支持板、 4は加圧用平坦ガラス、  6は紫外線、7は光ディス
ク基板、   8はハリ、9は補強板、      1
0は芯出し治具、12は回転軸、      13はガ
ーゼ、である。″

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 補強板(9)により裏打ちされたスタンパ(1)を芯出
    し治具(10)の上に置き、該スタンパ(1)の上に紫
    外線硬化樹脂(2)を供給した後、透明でディスク状を
    した支持板(3)を置き、該支持板(3)の上から加圧
    用平坦ガラス(4)を当接し、加圧した状態で芯出し治
    具(10)を回転させる際、該回転体にロール状をした
    溶剤付きガーゼ(13)を接触させ、上下方向に移動さ
    せながら回転させることにより、前記スタンパ(1)と
    支持板(3)との当接面よりはみ出した過剰な紫外線硬
    化樹脂(2)を拭き取った後、紫外線照射を行うことを
    特徴とする光ディスク基板の製造方法。
JP9381488A 1988-04-15 1988-04-15 光デイスク基板の製造方法 Pending JPH01264644A (ja)

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JP (1) JPH01264644A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0321410A (ja) * 1989-06-20 1991-01-30 Nikka Eng Kk ディスク製造装置
US6939485B2 (en) 2001-10-30 2005-09-06 Randy Kish Method for shaping optical storage discs and products thereof
US10595710B2 (en) 2001-10-19 2020-03-24 Visionscope Technologies Llc Portable imaging system employing a miniature endoscope
US11484189B2 (en) 2001-10-19 2022-11-01 Visionscope Technologies Llc Portable imaging system employing a miniature endoscope

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