JPH06332175A - 光重合性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 保存性の良好な光重合開始剤を用いた高感度
な光重合組成物を提供する。 【構成】 下記一般式（１）で表される光重合開始剤を
含有する光重合性組成物。 【化１】 Ｍ⁺：カチオン、Ｒ₁：芳香族複素環基、Ｒ₂、Ｒ₃、
Ｒ₄：アルキル基、アラルキル基、アルキニル基、アル
ケニル基、脂環式基又は芳香族複素環基、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ
₃及びＲ₄の２個以上が互いに結合して環を形成してもよ
い。Lig：配位子、ｉ：０、２又は３、ｋ：１、２又は
３。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光重合性組成物に関し、
更に詳しくは、新規なボレートアニオンを含有する光重
合開始剤、ラジカル付加重合又は架橋重合可能なモノマ
ー及び必要に応じて有機高分子バインダーからなる光重
合性組性物に関する。

【０００２】

【従来の技術】ボレートアニオンを含有する光重合開始
剤としては、ボレートアニオンのアンモニウム塩、銅、
銀、水銀塩、又はヨードニウム塩等が、特開平2-113002
号、同2-34603号、同2-166451号で公開されている。
又、特開平2-182701号には、紫外光領域に感光しラジカ
ルを発生する遷移金属配位錯体カチオンとボレートアニ
オンの塩化合物が開示され、それを用いたフォトレジス
トや写真平板等のポリマー画像形成材料が提示されてい
る。

【０００３】近年、長波長の可視光及び近赤外光に対す
る書込みが可能な光重合性組成物が幾つか提案されてい
る。

【０００４】近赤外光領域以上の長波長に感度を有する
感光性組成物として、特開昭62-143044号等にはカチオ
ン性染料のボレート錯体を用いた新規な光重合開始剤を
含む系が開示され、更に該開始剤系を用いたマイクロカ
プセルを用いた画像形成方法について提案されている。
又、特開平2-4804号等には、光重合開始剤としてカチオ
ン性染料とボレート化合物を組み合わせて半導体レーザ
ーに対応できる600〜900nmの波長に感光性を有する感光
性材料が開示されている。

【０００５】しかし、これらの材料に用いられる光重合
性組成物は、未だ感度が十分に高いとは言えず、実用上
不都合である。更に光重合性組成物の保存性が十分でな
いと言う欠点も有している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、高感
度の光重合組成物を提供することにある。更に別の目的
は、保存性の良好な、光重合開始剤を用いた光重性合組
成物を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、下記一般式（１）で表される化合物（光重合開始
剤）を含有する光重合性組成物で本発明の上記目的が達
成されることを見い出し、本発明を完成させた。

【０００８】

【化２】

【０００９】式中、Ｍ⁺はカチオンを表し、Ｒ₁は芳香族
複素環基を表し、、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は各々、同じでも
異なってもよく、アルキル基、アラルキル基、アルキニ
ル基、アルケニル基、脂環式基又は芳香族複素環基を表
す。、又、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は２個以上が互いに結
合して環を形成してもよい。Ligは配位子を表し、ｉは
０、２又は３を表し、ｋは１、２又は３を表す。

【００１０】本発明の光重合開始剤は、ボレートアニオ
ン部に芳香族複素環を部分構造として有することを特徴
とする。これらの化合物は特開昭62-143044号あるいは
特開平2-1812701号等に記載のボレートアニオン部に芳
香族複素環を部分構造として有さない光重合開始剤と比
較して、感度、保存性が著しく改良されることは、驚く
べきことであった。

【００１１】以下に本発明に使用される光重合開始剤に
ついて詳述する。

【００１２】一般式（１）において、Ｒ₁で表される芳
香族複素環基の複素環としては、酸素、硫黄及び窒素原
子の少なくとも１種を環内に有する５〜６員の芳香族複
素環（例えば、ピリジン、ピラジン、ピリミジン環等の
６員環アジン及びそのベンゼローグ；ピロール、チオフ
ェン、フラン及びそのベンゼローグ；イミダゾール、チ
アゾール、オキサゾール等の５員環アゾール及びそのベ
ンゼローグ等）が挙げられる。その中で特に好ましいも
のとして、フラン、チオフェン、ピロール環及びそのベ
ンゼローグが挙げられる。

【００１３】Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄で表されるアルキル基、
アラルキル基、アルキニル基、アルケニル基、脂環式基
として、好ましくはメチル、エチル、ブチル、t-ブチ
ル、ベンジル、エテニル、プロパルギル、ビニル、アリ
ール、シクロヘキシル等の各基が挙げられる。より好ま
しくはブチル基が挙げられる。

【００１４】これらのアルキル基、アラルキル基、アル
キニル基、アルケニル基、脂環式基及び芳香族複素環基
は更に別の置換基で置換されてもよく、置換基として
は、ハロゲン原子（例えば塩素、臭素等）、アルキル基
（例えばメチル、エチル、i-プロピル、ヒドロキシエチ
ル、メトキメチル、トリフルオロメチル、t-ブチル
等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル、シク
ロヘキシル等）、アラルキル基（例えばベンジル、2-フ
ェネチル等）、アリール基（例えばフェニル、ナフチ
ル、、p-トリル、p-クロロフェニル等）、アルコキシ基
（例えばメトキシ、エトキシ、i-プロポキシ基、ブトキ
シ等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ）、シア
ノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ、プロピ
オニルアミノ等）、アルキルチオ基（例えばメチルチ
オ、エチルチオ、ブチルチオ等）、アリールチオ基（例
えばフェニルチオ）、スルホニルアミノ基（例えばメタ
ンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）、
ウレイド基（例えば3-メチルウレイド、3,3-ジメチルウ
レイド、1,3-ジメチルウレイド等）、スルファモイルア
ミノ基（例えばジメチルスルファモイルアミノ）、カル
バモイル基（例えばメチルカルバモイル、エチルカルバ
モイル、ジメチルカルバモイル等）、スルファモイル基
（例えばエチルスルファモイル、ジメチルスルファモイ
ル等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル等）、アリールオキシカル
ボニル基（例えばフェノキシカルボニル）、スルホニル
基（例えばメタンスルホニル、ブタンスルホニル、フェ
ニルスルホニル等）、アシル基（例えばアセチル、プロ
パノイル、ブチロイル等）、アミノ基（メチルアミノ、
エチルアミノ、ジメチルアミノ等）、ヒドロキシル基、
ニトロ基、イミド基（例えばフタルイミド）、複素環基
（例えばピリジル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾチアゾ
リル、ベンズオキサゾリル等）が挙げられる。

【００１５】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄の最も好ましい組合
せとしては、一つのアルキル基と三つの芳香族複素環基
の組合せである。

【００１６】Ｍ⁺で表されるカチオンとしては、アルカ
リ金属及びアルカリ土類金属のカチオン、４級アンモニ
ウムカチオン、ヨードニウムカチオン、遷移金属カチオ
ン、及びカチオン性色素等が挙げられるが、好ましくは
カチオン性色素及び遷移金属カチオンである。

【００１７】カチオン性色素としてはシアニン色素やポ
リメチン色素が好ましい。カチオン性色素の具体例とし
ては特開昭62-143044号、同63-208036号、同64-84245
号、同64-72150号、同64-88444号、特開平1-152108号、
同3-202609号等、又は「機能性色素の化学」1981年,393
頁〜416頁,CMC出版社、「色材」60［4］,212-224頁（19
87年）等に記載のものを用いることができる。

【００１８】遷移金属カチオンとして好ましくは、R
u²⁺，Fe²⁺，Re⁺，Co²⁺, Co³⁺，Ir³⁺が挙げられる。

【００１９】Ligとしては遷移金属配位錯体を形成する
ことのできる配位子が好ましく用いられ、その具体例と
しては、特開平2-182701号に記載のものが挙げられる。

【００２０】前記一般式（１）で表される化合物の中、
特に好ましいものとして下記一般式（２）及び一般式
（３）で表されるものを挙げることができる。

【００２１】

【化３】

【００２２】式中、Dye⁺は一般式（１）におけるＭ⁺が
表すカチオン色素と同義である。Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄
も一般式（１）におけるものと同義である。

【００２３】

【化４】

【００２４】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は一般式
（１）におけるものと同義である。Ｒ₅及びＲ₆は各々、
水素原子、ハロゲン原子（好ましくは塩素、臭素）又は
１価の置換基を表す。Ｘはヒドロキシル基又は-N(R₇)(R
₈)（Ｒ₇及びＲ₈ は各々、水素原子又は置換されてもよい
アルキル基を表し、Ｒ₆、Ｒ₇及びＲ₈は互いに結合して
環を形成してもよい。Ｍ⁺は一般式（１）における遷移
金属カチオンと同義である。ｍは１〜５の整数、ｎは１
〜４の整数、ｐは２又は３を表し、ｒは１〜３の整数を
表す。

【００２５】以下に本発明で用いられる光重合開始剤の
具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

【００２６】

【化５】

【００２７】

【化６】

【００２８】

【化７】

【００２９】

【化８】

【００３０】

【化９】

【００３１】

【化１０】

【００３２】

【化１１】

【００３３】光重合開始剤（１）の合成 チオフェン5.0ｇをエーテル30ccに溶解し、ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液（1.63モル／リットル）36ccを加え
３時間加熱・還流する。室温まで冷却し、2-チオフェン
リチウムの懸濁液を得る。三臭化硼素5.0ｇをヘキサン5
0ccに溶解し、−50℃に冷却する。50℃を保ちつつ、先
に調製した2-チオフェンリチウムの懸濁液をゆっくりと
滴下する。滴下終了後、徐々に室温に戻し更に３時間撹
拌する。不溶物を濾過し、減圧で溶媒を溜去し、残渣を
ヘキサンから再結晶してトリ(2-チエニル)硼素3.5ｇ（収率6
5％）を得た。

【００３４】これをヘキサン30ccに溶解し、ブチルリチ
ウムのヘキサン溶液（1.63モル／リットル）8.2ccを加
えた。直ちに白色沈澱が生じ、これを濾過してヘキサン
50ccで洗浄し、減圧下で乾燥した。ブチルトリ(2-チエ
ニル）硼素リチウム4.0ｇ（＝Ｂ−１）（収率92％）を
得た。

【００３５】次に、得られた硼素塩4.0ｇとカチオン色
素Ａ9.1ｇをHishiki,Y.,Repts. Sci-Reserch Inst.(195
3) 29,72〜79頁に記載の方法により反応させ目的物
（１）11ｇ（収率91％）を得た。

【００３６】

【化１２】

【００３７】光重合開始剤（30）の合成 下記色素−１を特開平1-241385号に記載の方法により合
成した。

【００３８】

【化１３】

【００３９】1.0ｇの塩化コバルトと3.1モル過剰の上記
色素−１を150ccのエタノール中で混合し加熱・還流し
た。反応液より溶媒のエタノールを溜去した後、ヘキサ
ンで洗浄し色素−１のコバルト錯体クロライド塩を得
た。

【００４０】この塩をブチルトリ(2-チエニル)硼素リチ
ウムと酢酸エチル中で混合し、30分攪拌後、水を加えて
抽出することにより無機塩を除去した。酢酸エチル溶液
を濃縮・乾固させ、固体をヘキサンで洗浄して目的物
（30）を得た。

【００４１】他の光重合開始剤も同様の合成法に準じて
製造した。

【００４２】本発明の光重合性組成物における光重合開
始剤の添加量は、後述するモノマー100重量部に対して
0.01〜20重量部、更に好ましくは0.05〜10重量部であ
る。

【００４３】本発明の光重合性組成物は、光重合開始剤
の他にラジカル付加重合又は架橋重合可能なモノマー、
及び必要に応じて有機高分子バインダーを含有する。

【００４４】付加重合又は架橋可能なモノマーとして
は、公知のモノマーが特に制限なく使用することができ
るが、分子内にエチレン性不飽和２重結合を少なくとも
１個有するモノマーが好ましい。具体的モノマーとして
は、2-エチルヘキシルアクリレート、2-ヒドロキシエチ
ルアクルレート、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、
グリセロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルア
クリレート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフ
ェノキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリル
オキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオ
キシヘキサノリドアクリレート、1,3-ジオキサンアルコ
ールのε-カプロラクトン付加物のアクリレート、1,3-
ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステ
ル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレー
ト、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えた
メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エ
ステル；エチレングリコールジアクリレート、トリエチ
レングルコールジアクリレート、ペンタエリスリトール
ジアクリレート、ハイドロキノンジアクリレート、レゾ
ルシンジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン
酸ネオペンチルグリコールのジアクリレート、ネオペン
チルグリコールアジペートのジアクリレート、ヒドロキ
シピバリン酸ネオペンチルグリコールのε-カプロラク
トン付加物のジアクリレート、2-(2-ヒドロキシ1,1-ジ
メチルエチル)-5-ヒドロキシメチル-5-エチル-1,3-ジオ
キサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロール
アクリレート、トリシクロデカンジメチロールアクリレ
ートのε-カプロラクトン付加物、1,6-ヘキサンジオー
ルのジグリシジルエーテルのジアクリレート等の２官能
アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアクリレート
をメタクリレート、イタコネート、クロトネート、マレ
エートに代えたメタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、マレイン酸エステル；トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリ
レート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテト
ラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートのε-カプ
ロラクトン付加物、ピロガロールトリアクリレート、プ
ロピオン酸・ジペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、プロピオン酸・ジペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロー
ルプロパントリアクリレート等の多官能アクリル酸エス
テル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレー
ト、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えた
メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸エ
ステル等を挙げることができる。中でも、アクリル酸エ
ステル、メタクリル酸エステルモノマーが特に好適に使
用できる。これらのモノマーのうち１種又は２種以上を
混合して用いることができる。

【００４５】その他に、付加重合又は架橋可能なモノマ
ーとして、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸又は
メタクリル酸を導入し光重合性を付与した、所謂プレポ
リマーと呼ばれるものも好適に使用できる。これらはプ
レポリマーだけ１種又は２種以上を混合して用いてもよ
いし、上述のモノマー類と混合して用いてもよい。プレ
ポリマーとしては、アジピン酸、トリメリット酸、マレ
イン酸、フタル酸、テレフタル酸、ハイミック酸、マロ
ン酸、琥珀酸、グルタール酸、イタコン酸、ピロメリッ
ト酸、フマル酸、グルタール酸、ピメリン酸、セバシン
酸、ドデカン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸
と、エチレングリコール、プロピレングルコール、ジエ
チレングリコール、プロピレンオキサイド、1,4-ブタン
ジオール、トリエチレングリコール、テトラエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビト
ール、1,6-ヘキサンジオール、1,2,6-ヘキサントリオー
ル等の多価アルコールの結合で得られるポリエステルに
（メタ）アクリル酸を導入したポリエステルアクリレー
ト類；ビスフェノールＡ・エピクロルヒドリン・（メ
タ）アクリル酸、フェノールノボラック・エピクロルヒ
ドリン・（メタ）アクリル酸のようにエポキシ樹脂に
（メタ）アクリル酸を導入したエポキシアクリレート
類；エチレングリコール・アジピン酸・トリレンジイソ
シアナート・2-ヒドロキシエチルアクリレート、ポリエ
チレングリコール・トリレンジイソシアナート・2-ヒド
ロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルフタリル
メタクリレート・キシレンジイソシアナート、1,2-ポリ
ブタジエングリコール・トリレンジイソシアナート・2-
ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパ
ン・プロピレングルコール・トリレンジイソシアナート
・2-ヒドロキシエチルアクリレートのようにウレタン樹
脂に（メタ）アクリル酸を導入したウレタンアクリレー
ト；ポリシロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジ
イソシアナート・2-ヒドロキシエチルアクリレート等の
シリコーン樹脂アクリレート類；その他、油変性アルキ
ッド樹脂に（メタ）アクリロイル基を導入したアルキッ
ド変性アクリレート類、スピラン樹脂アクリレート類等
が挙げられる。

【００４６】有機高分子バインダーとしては、ポリメタ
クリル酸、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル
酸、ポリアクリル酸アルキルエステル（アルキル基とし
ては、メチル、エチル、ブチル等）、アクリル酸アルキ
ルエステル（アルキル基としては、メチル、エチル、ブ
チル等）とアクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、スチレン、ブタジエン、アクリル酸、メタクリル
酸等との共重合物；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル、ポリ
塩化ビニリデン、塩化ビニリデン、スチレン、スチレン
・ブタジエンとアクリロニトリルの共重合物；ポリアク
リロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリビニルアリ
キルエーテル（アルキル基は、メチル、エチル、プロピ
ル、ブチル等）、ポリビニルアルキルケトン、ポリスチ
レンン、ポリブタジエン、ポリイソプレン、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンイソフタレート；塩素化ポリエチレン、塩素化
ポリプロピレン等の塩素化ポリオレフィン；塩化ゴム、
環化ゴム、エチルセルロース、アセチルセルロース、ポ
リビニルブチラール、ポリビニルホルマール；その他の
化合物としては、各種イタコン酸共重合体、マレイン酸
共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が挙げ
られ、これらの化合物群の中から１種又は２種以上のも
のを組み合わせて用いることができる。更に上記化合物
を主成分として30モル％以上含有する多元系共重合物も
好ましく用いることができる。

【００４７】これらのバインダー成分は、前記付加重合
又は架橋可能なモノマー100重量部に対して500重量部以
下、より好ましくは200重量部以下の範囲で添加混合し
て使用することができる。

【００４８】本発明の光重合性組成物には、必要に応じ
て更に増感剤、熱重合防止剤、酸素クエンチャー、着色
剤、可塑剤等の各種添加剤を含有させることができる。

【００４９】増感剤としては、特開昭64-13140号に記載
のトリアジン系化合物、特開昭64-13141号に記載の芳香
族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、特開昭64-13143号
に記載の有機過酸化物を用いることができる。 又、特
開昭64-131444号、同64-17048号、特開平1-229003号、
同1-298348号に記載される増感剤も用いることができ
る。

【００５０】更に好ましい増感剤として、下記一般式
（４）で表される硼素塩が挙げられる。

【００５１】

【化１４】

【００５２】式中、Ｒ₁〜Ｒ₄は一般式（１）で定義した
ものと同義であり、Ｚ⁺はカチオン（例えば４級アンモ
ニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、アルカリ金属
カチオン等）を表す。

【００５３】一般式（４）で表される硼素塩の具体例と
しては、特開昭64-13142号、特開平2-4804号に記載され
ている。

【００５４】熱重合防止剤としては、キノン系、フェノ
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えば、ハイ
ドロキノン、ピロガロール、p-メトキシフェノール、カ
テコール、β-ナフトール、2,6-ジ-ｔ-ブチル-p-クレゾ
ール等が挙げられる。熱重合防止剤は、付加重合又は架
橋可能な化合物とバインダーの合計量100重量部に対し
て10重量部以下、好ましくは0.01〜５重量部程度添加さ
れる。

【００５５】酸素クエンチャーとしてはN,N-ジアルキル
アニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許4,772,541
号の11カラム58行目〜12カラム35行目に記載の化合物が
挙げられる。

【００５６】着色剤としては、感光性平版印刷版材料に
用いる場合の可視画剤や、露光後未重合部を転写してカ
ラー画像を形成する為の画像形成用色素又はその前駆体
が挙げられ、例えばカーボンブラック、酸化チタン、酸
化鉄、フタロシアニン系色素、アゾ系色素、アントラキ
ノン系色素、アゾメチン系色素等の顔料や染料が挙げら
れる。

【００５７】可塑剤としては、ジメチルフタレート、ジ
エチルフタレート、ジブチルフタレート、ジヘプチルフ
タレート、ジオクチルフタレート、ジ-i-ブチルフタレ
ート、ジシクロヘキシルフタレート、ジトリデシルフタ
レート、i-ノニルフタレート、ジブチルベンジルフタレ
ート、ジアリールフタレート等のフタル酸エステル類；
ジメチルグリコールフタレート、メチルフタリルエチル
グリコレート、メチルフタリルエチルグルコレート等の
グリコールエステル類；トリクレジルホスフェート、ト
リフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ト
リ-2-エチルヘキシルホスフェート等の燐酸エステル
類；ブチルオレエート、グリセリンモノオレエート等の
脂肪族１塩基酸エステル類；ジブチルアジペート、ジ-i
-ブチルアジペート、ジオクチルアジペート、ジオクチ
ルアゼレート、ジブチルセバケート、ジメチルセバケー
ト、ジオクチルセバケート、ジブチルマレエート等の脂
肪族２塩基酸エステル類；ジエチレングリコールジベン
ゾエート、トリエチレングルコールジ-2-エチルブチラ
ート等の２価アルコールエステル類；その他、枸櫞酸ト
リエチル、グリセリントリアセチルエステル、ラウリン
酸ブチル等を使用することができる。

【００５８】本発明の光重合性組成物は、支持体上に本
発明の光重合性組成物を含有する感光層を有する剥離現
像方式又は転写現像方式などのドライ処理による画像形
成材料に好ましく用いることができる。

【００５９】剥離現像方式による画像形成材料は、第一
支持体、剥離層、本発明の光重合組成物を含有する光重
合性層、第二支持体を、この順に積層されて成る材料で
あり、これに画像を露光後、第一支持体と第二支持体を
引き剥がすことにより、一方の支持体上に露光部の画像
を、他方の支持体上に未露光部の画像を形成する画像形
成材料である。

【００６０】第一及び第二支持体としては、紙、合成紙
（例えばポリプロピレンを主成分とする合成紙、片面又
は両面に多孔質構造の顔料塗工層を設けた合成紙な
ど）、樹脂のフィルムあるいはシート、更には前記樹脂
を２層以上積層してなるプラスチックフィルム又はシー
ト、あるいは各種高分子材料、金属、セラミックもしく
は木材パルプやセルロースパルプ、サルファイトパルプ
などで抄造された紙等に、前記樹脂層を積層したフィル
ム又はシートなどを挙げることができる。

【００６１】このような樹脂のフィルム又はシートを構
成する樹脂としては、アクリル酸エステル、メタクリル
酸エステル等のアクリル樹脂；ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等のポリ
エステル系樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリ弗化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂；ナイロ
ン、芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂；ポリエー
テルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバン
酸、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、メ
ラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、弗素樹
脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。

【００６２】本発明に用いられる樹脂からなる支持体
は、シート又はフィルム状に延伸し、ヒートセットした
ものが寸法安定性の面から好ましく、基材は、内部にミ
クロボイドがないものでも、又、ミクロボイドのあるも
のでも用途に応じて適宜に選択することができる。

【００６３】本発明の支持体に用いられる紙は、天然パ
ルプ、合成パルプ、又はそれらの混合物から抄紙される
パルプ紙が好ましく、紙は長網抄紙機等を用いて抄造さ
れ、平滑度向上の目的で、抄紙後にマシンカレンダー、
スーパーカレンダー、熱カレンダー等を用いてカレンダ
ー処理することが好ましい。又、平滑性向上のために、
顔料を含有した樹脂層でコートした基紙も本発明におい
ては好適に用いることができる。本発明における紙とし
ては、上質紙、アート紙、コート紙、片艶紙、含浸紙、
板紙等が挙げられる。なお、紙としては、白色微粒子を
含有するポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフ
ィン系樹脂のラミネート層を設ける際に、平滑性を持た
せるためにベック平滑度50秒以上にするのが好ましく、
100秒以上、更には200秒以上の平滑性を有することが好
ましい。更に、紙中には必要に応じてサイズ剤、定着
剤、紙力増強剤、填料、帯電防止剤、染料、顔料、蛍光
増白剤、酸化防止剤、減摩剤等の添加剤が含まれていて
もよい。

【００６４】剥離層は第一支持体との接着性を確保し、
更に光重合性層との剥離を確保する必要があるから基本
的にバインダー樹脂から構成され、光重合性層を剥離す
るための層として設けられる。

【００６５】剥離層を形成するバインダー樹脂として
は、前述の光重合性層と接着力の強固なものでなければ
特に制限はなく、例えばポリビニルアルコール、ポリビ
ニルホルマール、ポリビニルアセトアセタール等のポリ
ビニルアルコール誘導体；ゼラチン、カゼイン等の天然
物；メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース等
のセルロース誘導体；ポリエチレン、ポリプロピレン等
のポリオレフィン系樹脂；ポリスルホン樹脂、ポリアリ
レート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリパラバン酸樹
脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。又、前述のバイ
ンダー樹脂をシリコーンオイル（樹脂）、弗素樹脂で変
性したものも好適に用いることができ、更にはシリコー
ンオイル（樹脂）、ポリエチレンワックス、アミドワッ
クス、テフロンパウダー等の固型ワックス類；弗素系、
燐酸エステル系の界面活性剤などの剥離剤を添加して層
を形成したものなども好適に用いることができる。

【００６６】剥離層の厚みは通常0.1〜20μmが好まし
く、0.2〜10μmがより好ましい。

【００６７】本発明において、第一支持体と剥離層との
接着性を向上させるために、第一支持体の表面を表面処
理してもよい。

【００６８】表面処理の方法としては、コロナ放電処
理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、
粗面化処理、化学薬品処理、プラズマ処理、低温プラズ
マ処理、プライマー処理、グラフト化処理など公知の樹
脂表面改質技術をそのまま適用することができる。具体
的には「高分子表面の基礎と応用（下）」化学同人，２
章、及び／又は「高分子新素材便覧」丸善，８章等に記
載の方法を参照でき、それらを１種又は２種以上を併用
することもできる。

【００６９】本発明においては、後述の画像形成方法で
記載する様に、少なくとも支持体の片面側から光重合性
層に長波長の可視光及び近赤外光を照射して画像書込み
を行う。従って、第一支持体及び／又は第二支持体は、
長波長の可視光及び近赤外光を十分透過させる透明な樹
脂のフィルム又はシートで構成される。なお、支持体の
厚みは通常２〜1000μm、好ましくは4.5〜500μmの範囲
から適宜に選定される。

【００７０】本発明において光重合性層の厚みは用途に
より適時選択されるが、0.2〜５μmが好ましく、より好
ましくは0.5〜３μmである。

【００７１】剥離層あるいは光重合性層は、前記バイン
ダー樹脂あるいは本発明の光重合性組成物を、溶媒に分
散又は溶解して塗工液を調製し、この塗工液を第一支持
体の積層させる面に塗布・乾燥する塗工法や、剥離可能
なシート上に前記の層を形成した後、積層させる面上に
加熱及び／又は加圧することにより光重合性層を転写さ
せる転写法等により形成することができる。

【００７２】上記塗工法に用いる溶媒としては、水、ア
ルコール類（例えばエタノール、プロパノール）、セロ
ソルブ類（例えばメチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ）、芳香族類（例えばトルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケ
トン）、エステル系溶剤（例えば酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなど）、エーテル類（例えばテトラヒドロフラン、ジ
オキサン）、塩素系溶剤（例えばクロロホルム、トリク
ロルエチレン）、アミド系溶剤（例えばジメチルホルム
アミド、N-メチルピロリドン）、ジメチルスルホキシド
等が挙げられる。

【００７３】前記塗工には、従来から公知のグラビアロ
ールによる面順次塗別け塗布法、押出し塗布法、ワイヤ
ーバー塗布法、ロール塗布法等を採用することができ
る。前記の層は、積層させる面の表面全体に亘って形成
されていてもよいし、必要に応じて表面の一部に形成さ
れていてもよい。

【００７４】第二支持体は、光重合性層表面上に樹脂フ
ィルムを加圧圧着又は加熱加圧圧着することにより設け
ることができるが、アクリル系樹脂などの弱粘着剤層、
ワックスやエチレン・酢酸ビニルなどのホットメルト接
着層を設けた樹脂フィルムを加圧圧着又は加熱加圧圧着
させて酸素遮断層を設けてもよい。

【００７５】本発明においては、上述の第一及び第二支
持体、剥離層、光重合性層以外に接着性、離型性等の改
良のために他の層を設けてもよい。

【００７６】本発明の光重合組成物は、支持体上に剥離
層及び光重合性層を設けた転写現像方式に用いられる画
像形成材料にも好ましく用いることができる。この場合
の支持体、剥離層、光重合性層は前記剥離現像方式にお
ける画像形成材料で挙げたものと同義である。

【００７７】本発明においては、保存性改良のために、
光重合性層の上に更に酸素遮断層を設けることが好まし
い。

【００７８】酸素遮断層は塗工法で設けた樹脂層、転写
箔のように樹脂層を転写したもの又は樹脂フィルムをラ
ミネートしたものでも用途に応じて適時用いることがで
きるが、自己面支持性の面から、又、後述する画像形成
時の操作性、機械強度、寸法安定性の面から樹脂フィル
ムを用いるのが好ましい。

【００７９】酸素遮断層は、後述の画像形成時に、酸素
遮断層上からレーザー光を照射し光重合を行う場合には
レーザー光の波長を吸収及び／又は散乱させないため
に、紫外光、可視光、近赤外線の透過性が良く（波長凡
そ300〜2000nmにおける透過率が40％以上、好ましくは6
0％以上）、表面平滑性が高いものが好ましい。

【００８０】酸素遮断層に用いられる樹脂は、ポリビニ
ルアルコール系樹脂、ポリエレンテレフタレート、ポリ
ブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂；メチ
ルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリプロピレン
等のポリオレフィン系樹脂などが挙げられ、更には支持
体として用いることのできる樹脂フィルムも好適に用い
ることができる。

【００８１】酸素遮断層の厚みは通常１〜100μmが好ま
しく、２〜50μmがより好ましい。

【００８２】本発明では、上述の支持体、剥離層、光重
合性層、酸素遮断層以外にクッション性、接着性、離型
性等の改良のために他の層を設けてもよい。

【００８３】酸素遮断層と光重合性層との間には、後述
の画像形成の際に酸素遮断層と光重合性層との離型性を
十分にするために酸素遮断層側に離型処理を施してもよ
い。このような離型処理としては、酸素遮断層を形成す
る樹脂に離型性物質を溶融混練して押し出しフィルムに
したものや、樹脂フィルムの片面に離型性物質を含有す
る組成物を塗布して設けたものなどを好適に用いること
ができる。塗布で設ける際は、熱性硬化性の化合物又は
活性エネルギー線で硬化しうる化合物を含有する場合に
は、酸素遮断層を構成する樹脂フィルムに塗布した後、
既存の方法で熱硬化あるいは活性エネルギー線硬化して
離型層を形成したものを好適に用いることができる。

【００８４】被転写体との密着性を確保するために、支
持体と剥離層との間にクッション性のある中間層を設け
てもよい。中間層は熱を掛けた時点で軟化するもの、あ
るいはゴム弾性を有するものにより構成することができ
る。

【００８５】中間層に用いられる樹脂はポリエステル系
樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、アクリル系
樹脂、オレフィン系樹脂、ゴム系樹脂などを挙げること
ができる。更に、内部を多孔質化した樹脂層も好適に用
いることができる。

【００８６】光重合性層を有する画像形成用材料への高
圧水銀灯、キセノンフラッシュランプやレーザー走査に
よる画像露光と、剥離現像又は転写現像によるドライな
処理を組み合わせることにより、廃液の処理が必要で、
かつ大きな処理装置を必要とする液体処理をすることな
く、簡便に、高精細な画像形成を行うことができる。

【００８７】画像を形成させるための光源としては、光
重合開始剤に対し活性な電磁波を発生させるものは全て
用いることができる。例えば、高圧水銀灯、レーザー、
発光ダイオード、キセノンフラッシュランプ、ハロゲン
ランプ、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タ
ングステンランプ等を挙げることができる。

【００８８】キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボ
ンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステンラン
プ等を用いて一括露光する場合には、画像形成材料の酸
素遮断層側に、所望露光画像のネガパターンを遮光性材
料で形成したマスク材料を重ね合わせて露光すればよ
い。

【００８９】発光ダイオードアレイ等のアレイ型光源を
使用する場合や、ハロゲンランプ、メタルハライドラン
プ、タングステンランプ等の光源を、液晶、PLZT等の光
学的シャッター材料で露光制御する場合には、画像信号
に応じたデジタル露光をすることが可能である。この場
合はマスク材料を使用せず、直接書込みを行うことがで
きる。

【００９０】レーザーの場合には、光をビーム状に絞
り、画像データに応じた走査露光が可能であるため、マ
スク材料を使用せず、直接書込みを行うのに適してい
る。又、レーザーを光源として用いる場合には、露光面
積を微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画
像形成が可能となる。

【００９１】本発明で用いられるレーザー光源は、一般
によく知られている、YAGレーザー、ガラスレーザー等
の固体レーザー；Arレーザー、He-Neレーザー、CO₂レー
ザー、COレーザー、その他の放電励起分子レーザー、エ
キシマーレーザーなどの気体レーザー；化学レーザー、
色素レーザー、半導体レーザー等を使用することができ
る。その中でも、YAGレーザー、He-Neレーザー、半導体
レーザーが好ましく、特に半導体レーザーは小型、安価
であり、その組成により発振波長を変化させることがで
きるので、使用する感光性組成物の感光波長域に合わせ
て適宜選択することも可能であり好ましい。

【００９２】好ましく用いられる半導体レーザーの組成
とその発振波長範囲を例示すれば、InGaPレーザー（0.6
5〜1.0μm）、AlGaAsレーザー（0.7〜1.0μm）、GaAsP
レーザー（0.7〜1.0μm）、InGaAsレーザー（1.0〜3.5
μm）、InAsPレーザー（1.0〜3.5μm）、CdSnP₂レーザ
ー（1.01μm）、GaSbレーザー（1.53μm）等である。

【００９３】更に、半導体レーザーの波長で重合可能な
画像形成材料と組み合わせて画像を形成する場合は、半
導体レーザーが小さいことによる装置の小型化だけでな
く、光重合性組成物に光重合開始剤として含有させるカ
チオン性染料として、可視光に吸収を持たないか又は吸
収の少ない染料を用いることができるので、特にカラー
画像の形成を行う場合に濁りのない良好な色を再現でき
るという利点を有している。

【００９４】転写現像方式の場合には、複数の異なる色
調の単色の画像を形成後、異なる色調の画像部を順次同
一の受像体上に転写することで複数の色調を有する画像
を受像体上に形成することができる。特にイエロー、マ
ゼンタ、シアン又はイエロー、マゼンタ、シアン、ブラ
ックの各色の単色の画像を順次同一の受像体上に転写す
ることで受像体上にフルカラー画像を形成することがで
きる。

【００９５】フルカラー画像を形成するための画像形成
用材料としては、それぞれ色の異なる複数の画像形成用
材料を用いることで、複数の異なる色調の単色画像を形
成することができるが、好ましくは、イエロー、マゼン
タ及びシアン、又はイエロー、マゼンタ、シアン及びブ
ラックの着色材を含有する色の異なる複数の光重合性組
成物を、それぞれ同一の支持体上の別領域に塗布した光
重合性組成物層を有する所謂、面順次型の画像形成用材
料を用いることができる。このような面順次型の画像形
成用材料を用いることで、画像形成装置内での画像形成
用材料の搬送系の簡素化が可能となり、画像形成装置を
更にコンパクト化することが可能となる。

【００９６】又、フルカラー画像形成用の画像形成用材
料として、色の識別用の検知マークを設けたものを用い
てもよい。

【００９７】剥離現像方式の場合には、画像形成後、第
一の支持体と第二の支持体とを剥離することにより、光
重合性着色層の未露光部分を第二の支持体上に、露光部
分を第一の支持体上に形成することができる。

【００９８】転写現像方式の場合における光重合性着色
層の未露光部分を被転写体に転写する方法としては、酸
素遮断層を除去した後、光重合性着色層面と被転写体面
とを接するように配置し、加熱及び／又は加圧可能に構
成されたローラー状又は板状の部材に接触させる方法、
熱線を含む電磁波を照射する方法等を任意に選択するこ
とができる。転写温度、圧力等の転写条件は、露光され
た感光性組成物層の未露光部分のみが転写される条件を
適宜設定すればよい。更に、転写時に加熱及び／又は加
圧の他に、振動を与え転写を促進することも好ましい。

【００９９】形成後の画像の重合を完了させるため及び
開始剤の消色を行うために照射される光は、レーザー、
キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボン
アーク燈、メタルハライドランプ、タングステンラン
プ、赤外線ランプ、高圧水銀灯、蛍光灯、日光等、光重
合開始剤に作用するものであれば公知の如何なる光源も
使用することができる。露光強度、露光時間は少なくと
も光重合開始剤の消色が行われ、かつ画像形成材料とし
て実用上問題ない程度に硬化することができれば、光重
合性層の組成、露光装置の条件により適宜設定すればよ
い。この場合は一括露光であっても走査露光であっても
同様の効果が得られる。

【０１００】形成後の画像の加熱硬化方法は、公知の如
何なる加熱方法も使用できる。加熱温度、加熱時間は少
なくとも開始剤の消色が行われ、かつ画像形成材料とし
て実用上問題ない程度に硬化することができれば、光重
合性層の組成、加熱装置の条件により適宜設定すればよ
い。

【０１０１】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明の実施態様はこれらに限定されない。

【０１０２】実施例１ 以下、「部」は特に断りがない限り「有効成分としての
重量部」を表す。

【０１０３】画像形成材料１の作成 （第一支持体） 100μm延伸透明ポリエチレンテレフタレートフィルム
〔ダイアホイルヘキスト（株）製：T100〕 （表面処理）第一支持体の表面をコロナ放電処理した。

【０１０４】（剥離層）厚み25μmのポリエチレンテレ
フタレートフィルム〔ダイアホイルヘキスト（株）製：
Ｓ〕の片面に、下記組成の剥離層形成用塗工液、接着層
形成用塗工液を、それぞれ調製し、ワイヤーバーコーテ
ィング法により乾燥後の厚みが、それぞれ0.5μm、５μ
ｍの厚みになるように順次塗布・乾燥して剥離層転写部
材を形成した。次いで、剥離層転写部材の接着層表面と
第一支持体面を重ね合わせ、ヒートロールで加熱・加圧
処理（温度160℃、圧力1.0kg／cm² 、送り速度15cm／
秒）して剥離層を転写し形成した。

【０１０５】剥離層形成用塗工液 ポリビニルアセトアセタール 10部 〔積水化学工業（株）製：エスレックKW-1〕 蒸留水 86部接着層形成用塗工液 エチレン・酢酸ビニル共重合体 35部 〔三井・デュポン ポリケミカル（株）製：エバフレッ
クスEV-40Y〕 トルエン 65部 （光重合性層）下記組成の光重合性層形成塗工液を、ワ
イヤーバーコーティングにより剥離層上に、塗布・乾燥
し厚さ1.0μmの光重合性着色層を形成した。

【０１０６】 塩素化ポリエチレン 21.0部 〔山陽国策パルプ（株）製：スーパークロン907LTA〕 ジアリルフタレート樹脂 10.0部 〔ダイソー（株）製：ダイソーイソダップ〕 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 31.0部 〔日本化薬（株）製：KAYARAD DPHA〕 イソシアヌール酸EO変性トリアクリレート 10.5部 〔東亜合成化学工業（株）製：ARONIX M-315〕 EO変性テトラブロモビスフェノールＡジメタクリレート 10.0部 〔第一工業製薬（株）製：ニューフロンティアBR-42M〕 黄色顔料〔御国色素（株）製：MHI イエローNo.534〕 9.5部 光重合開始剤（１） 1.2部 テトラメチルアンモニウムブチルトリフェニル硼素 4.4部 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 1.2部 N,N-2,4,6-ペンタメチルアニリン 1.2部 トルエン 200部 メチルエチルケトン 200部 (第二支持体)厚み25μmの片面をコロナ放電処理したポ
リエチレンテレフタレートフィルム〔ダイアホイルヘキ
スト（株）製：MRH〕の離型処理した面を、光重合性層
と重ね合わせ、ヒートロールで加熱・加圧処理（温度40
℃、圧力2.0kg／cm² 、送り速10mm／秒）して貼り合わ
せ第二支持体を形成した。

【０１０７】次に画像形成材料１の光重合性組成物の開
始剤と硼素塩を下記のものに代えた他は同様の構成で本
発明の画像形成材料２〜９及び比較の画像形成材料１〜
３を作成した。

【０１０８】（画像形成方法）第二支持体側からキセノ
ンフラッシュランプ〔理想科学（株）製：ゼノファクス
FX180を使用、露光時間は１mm秒、露光エネルギーは100
mJ／cm² 〕で一括露光した後、第一支持体と第二支持体
を引き剥がし、第一及び第二体支持体上に形成された画
像を、キセノンフラッシュランプで一括露光して第二支
持体上に再現されている感度（画像形成に必要最低の平
均露光量）、解像度、転写性及び保存性を、下記の基準
で評価した結果を以下に示す。

【０１０９】《感度》 画像形成材料表面の平均露光量［Ｅ］（必要最低の平均
露光量） ◎………Ｅ≦５（mJ／mm²） ○………５＜Ｅ≦10（mJ／mm²） △………10＜Ｅ≦20（mJ／mm²） ×………20＜Ｅ（mJ／mm²） 《解像度》 必要最低の平均露光量で画像を形成した際の１mm当たり
の解像可能な線の本数［Ｎ］ ◎………120≦Ｎ（本） ○………80≦Ｎ＜120（本） △………40≦Ｎ＜80（本） ×………Ｎ＜40（本） 《転写性》 ルーゼックスII〔（株）ニレコ製〕で２×２mmのベタ画
像部分のボイド率［Ｘ］を測定 ◎………Ｘ≦0.1（％） ○………0.1＜Ｘ≦0.5（％） △………0.5＜Ｘ≦1.0（％） ×………1.0＜Ｘ（％） 《保存性》 画像形成材料を55℃・24時間保存した後の感度 ◎………Ｅ≦５（mJ／mm²） ○………５＜Ｅ≦10（mJ／mm²） △………10＜Ｅ≦20（mJ／mm²） ×………20＜Ｅ（mJ／mm²） 画像形成材料 開始剤 硼 素 塩 感度 解像度 転写性 保存性 本発明１ １ 硼素塩１ ◎ ◎ ◎ ◎ 〃 ２ ２ 〃 ◎ ◎ ◎ ◎ 〃 ３ ７ 〃 ◎ ◎ ◎ ◎ 〃 ４ 14 〃 ◎ ◎ ◎ ◎ 〃 ５ 30 硼素塩２ ◎ ◎ ◎ ◎ 〃 ６ 38 硼素塩１ ◎ ◎ ◎ ◎ 〃 ７ 53 〃 ◎ ◎ ◎ ◎ 〃 ９ 61 〃 ◎ ◎ ◎ ◎ 比 較１ ＊１ 〃 × × × × 〃 ２ ＊２ 〃 △ △ △ △ 〃 ３ ＊３ 〃 △ △ △ △

【０１１０】

【化１５】

【０１１１】 Ｚ Ｒ₇ Ｒ₈ Ｒ₉ Ｒ₁₀ 硼素塩１ (C₄H₉)₄N C₄H₉ Ph Ph Ph 硼素塩２ (C₄H₉)₄P C₄H₉ Ph Ph Ph 硼素塩３ (C₄H₉)₄N C₃H₇(i) Ph Ph Ph ＊１：開始剤なし ＊２：Ru(Me₂bipy)₃(t-C₄H₉Ph)₃C₄H₉B（特開平2-182701
号に記載の化合物） ＊３：下記化合物Ｄ

【０１１２】

【化１６】

【０１１３】以上の結果から明らかなように、本発明の
画像形成材料は感度、解像度、転写性、保存性の何れに
も優れている。

【０１１４】実施例２ 下記組成の光重合性組成物のメチルセロソルブ溶液を調
製した。

【０１１５】光重合性組成物 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 60部 ペンタエリスリトール・テレフタル酸・アクリレート 60部 （ペンタエリスリトール：テレフタル酸：アクリル酸＝2：1：7） アクリル樹脂 80部 （ブチルアクリレート・エチルアクリレート・無水マレイン酸共重合体） 塩素化ポリエチレン 20部 （山陽国策パルプ製：スーパークロン907LTA） 光重合開始剤（１） 1部 メチルセロソルブ 1800部 砂目立てされたアルミニウム板を、メタ珪酸ナトリウム
の３％水溶液中に25℃で５分間浸漬して、表面の脱脂処
理を行い乾燥したものを支持体として使用し、その上に
上記の溶液をワイヤーバーコート法により乾燥膜厚３μ
mになるように塗布・乾燥して光重合性組成物を塗設し
た。更に光重合性組成物の上に、厚さ25μmの透明なポ
リエチレンテレフタレートフィルムを加圧ラミネート
し、感光性平版印刷版材料１を得た。この感光性平版印
刷版材料１の透明カバーフィルム上に、所望画像のネガ
パターンを遮光性材料で形成したネガマスクを重ね、キ
セノンフラッシュランプ〔理想科学社製：ゼノファクス
FX180、露光時間約３ミリ秒〕で一括露光した後、カバ
ーフィルムを引き剥がしたところ、支持体上に硬化した
樹脂によるポジパターンが形成された。これを通常のオ
フセット印刷機で印刷テストをしたところ、十分な耐刷
性を以て鮮明な印刷物が得られた。

【０１１６】実施例３ 実施例２で作成した感光性平版印刷版１を使用して、下
記の条件で半導体レーザーによる走査露光を行った他は
実施例２と同様に評価したところ、十分実用的で、かつ
高解像度の平版印刷版を形成することができた。

【０１１７】（露光条件） 光源：半導体レーザー〔シャープ株式会社製：LT090M
D、出力100mW〕 主波長：830nm 光学系効率：68％ 感光層面に照射された光の平均エネルギー密度：0.05mJ
／mm² ビーム径：15μm 走査ピッチ：10μm 実施例４ 画像形成材料１の第二支持体の代わりに下記組成の酸素
遮断層形成用塗工液を、ワイヤーバーコーティングによ
り光重合性層上に塗布・乾燥して厚さ3.0μmの酸素遮断
層を設けた画像形成材料10を作成した。

【０１１８】酸素遮断層塗布液 ポリビニルアルコール 15部 〔日本合成化学（株）製：ゴーセノールKN-05〕 蒸留水 85部 又、画像形成材料10の黄色顔料を、赤色顔料〔御国色素
（株）製：MHI レッドNo.527〕に替えた他は同様の構成
の画像形成材料11を、青色顔料〔御国色素（株）製：MH
I ブルーNo.454〕に替えた他は同様の構成の画像形成材
料12を、又、下記組成の顔料に替えた他は同様の構成の
画像形成材料13を、それぞれ作成した。

【０１１９】 （組成） 黄色顔料〔御国色素（株）製：MHI イエローNo.534〕 4.0部 赤色顔料〔御国色素（株）製：MHI レッドNo.527〕 4.0部 青色顔料〔御国色素（株）製：MHI ブルーNo.454〕 4.0部 上記の画像形成材料10〜13に対し、像パターンに対応し
て酸素遮断層側から半導体レーザー〔シャープ（株）
製：LT090MD、出力100mW、主波長830nm〕を用いて走査
露光（ビーム径８μm、走査ピッチ５μm）を施した後、
酸素遮断層を剥離し、光重合着色層を順次アート紙と対
面させ、加熱・加圧処理（温度100℃、圧力1.5kg／c
m²、送り速度20mm／秒）により各画像をアート紙に転写
することによりフルカラー画像が作成できた。

【０１２０】

【発明の効果】実施例に示す通り、本発明に従えば高感
度な光重合組成物を提供できる。この光重合組成物は印
刷板やカラー画像形成材料として用いるのに好適であ
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表される化合物を含
   有することを特徴とする光重合性組成物。 【化１】 〔式中、Ｍ⁺はカチオンを表し、Ｒ₁は芳香族複素環基を
   表し、、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は各々、同じでも異なっても
   よく、アルキル基、アラルキル基、アルキニル基、アル
   ケニル基、脂環式基又は芳香族複素環基を表す。、又、
   Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は２個以上が互いに結合して環を
   形成してもよい。Ligは配位子を表し、ｉは０、２又は
   ３を表し、ｋは１、２又は３を表す。〕