JPH08314132A - 着色画像形成媒体およびそれを用いた着色画像形成方法 - Google Patents

着色画像形成媒体およびそれを用いた着色画像形成方法

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JPH08314132A
JPH08314132A JP7121022A JP12102295A JPH08314132A JP H08314132 A JPH08314132 A JP H08314132A JP 7121022 A JP7121022 A JP 7121022A JP 12102295 A JP12102295 A JP 12102295A JP H08314132 A JPH08314132 A JP H08314132A
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JP
Japan
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bis
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JP7121022A
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Inventor
Madoka Yasuike
円 安池
Yasuhiro Tanaka
康裕 田中
Satoru Kagao
哲 加々尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Ink Mfg Co Ltd
Original Assignee
Toyo Ink Mfg Co Ltd
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Publication date
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】印刷物の見本たりえる着色画像形成媒体および
それを用いた着色画像形成方法を提供する。 【構成】支持体上に、染顔料(A)、ラジカル重合可能
なエチレン性不飽和結合を有する化合物(B)、光重合
開始剤系(C)、(さらには高分子バインダー(D))
を含む感光性層を形成し、更に必要に応じて感光性層の
上に保護フィルムを有する着色画像形成媒体において、
感光性層中の光重合開始剤系(C)が、特定の構造を有
するスルホニウム有機ホウ素錯体(イ)と、紫外線吸収
性増感剤(ロ)からなる画像形成媒体と、該媒体を用い
て着色画像を形成するに当たって、該媒体を色分解マス
クを通して画像露光する、またはレーザ光を用いて直接
画像露光することにより、感光性層の露光部および非露
光部において粘着性の差を生じせしめ、保護フィルムま
たは支持体の一方を剥離し、被転写体に画像を転写する
着色画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、着色画像形成媒体およ
びそれを用いた着色画像形成方法に関するものであり、
さらに詳しくは、感光性層の露光部および未露光部の粘
着性の差を利用し、該画像を被転写体に、単色または多
色の重ね合わせを行うことによって、印刷物と全く近似
した転写物を得ることができる、着色画像形成媒体およ
びそれを用いた着色画像形成方法に関する。すなわち印
刷校正などの分野に好適に用いられる、高品質なカラー
プルーフやダイレクトデジタルカラー画像を作成するた
めの着色画像形成媒体およびそれを用いた着色画像形成
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、印刷工業分野においては最終
的に印刷された印刷物の仕上がり、色調などを印刷する
前に確認する手段として、校正印刷あるいはプリプレス
プルーフを利用することが一般的に知られている。プリ
プレスプルーフとは、印刷用のインキを使わずに最終の
印刷物の仕上がりが予想できる利点があり、最終的に得
られる画像品質や製版および印刷工程上の様々な目的に
応じてオーバーレイ方式、サープリント方式等が使い分
けられている。オーバーレイ方式は、透明ベースフィル
ム上に各色分解マスクに応じた色材を含む感光性層があ
り、このフィルムとマスクを密着、露光、現像を行いそ
れぞれのフィルムを重ねあわせて校正を行なう。今日で
は、例えば特開昭63−188088号公報等のように
現像液乃至現像ガスを用いない新しい方法も考えられて
いるが、この方法では、透過光を利用せざるを得ないた
め低コストながら、はじめから微妙な色感、色バラン
ス、階調性は損なわれており、最終的な反射物としての
印刷物の仕上がりを判断できるには至らない。
【0003】サープリント方式は,オーバーレイ方式と
異なりハードコピーが得られるため、その利用価値は高
くこれまでに、例えば米国特許第3060023号、3
060024号、3060025号公報に記載されるよ
うな単一の支持体上に数層からなるフォトポリマー感光
性層を積層し各分色画像を順次形成してゆくものがあ
る。この例では、着色物質としてカラートナーを利用し
ており、原版マスクを忠実に再現するという点で優れた
プリプレスプルーフといえるが、感光層を積層してゆく
ために非画像部分の乱反射が甚だしく、実際の印刷物と
比べると光沢が著しく高いため、質感がかなり異なった
ものとなる。また、感光後の硬化層が脆く保存条件によ
っては表面に裂け目ができやすい。しかも,カラートナ
ーを使用した着色では、カラートナーが飛散し作業衛生
上からも好ましいものとはいえない
【0004】また、日本特公平3−71707号公報、
日本特開昭61−188537号公報に記されるような
オーバーレイ法とサープリント法の両方に使用できるよ
うなプリプレスプルーフも存在する。この方法の利点と
しては、使用目的に応じて、単なる文字等のチェックを
行いたい場合は、オーバーレイだけで確認し、絵柄など
の微妙な色彩部分などのチェックにハードコピーを得た
い場合、これを被転写体に転写すればよいという点で
は、汎用性は大きい。しかしながら、有機溶剤による現
像工程が必要な為に作業環境が悪くなる欠点がある。更
に、得られる画像については、どのような被転写体にで
も転写可能としているが被転写体と着色感光層との間に
感光性の透明中間層が介在し、被転写体と着色感光層同
士を接着させている。この層があるために、反射光が乱
反射してしまい、実際の印刷物とは所詮かなりかけはな
れた仕上がりになり、得られた転写物の濃度が実際の印
刷物と較べて低くなる傾向になる。更に、転写される感
光性層膜厚が常に一定の厚みであるため感光材料として
は安定である一方、プリプレスプルーフとしての色調可
変が出来ないので結局、実際の印刷物とかけはなれた仕
上がりになってしまう。
【0005】これらの課題を解決するために、透明支持
体上に染料もしくは顔料を含有する感光性層を形成して
なり、画像露光し感光性層における露光部および未露光
部の、転写における粘着性の差を生じせしめ、紙等の画
像受容体に画像を転写する画像形成材料を、ロールニッ
プ間で感光性層の凝集破壊により画像受容体へ画像を転
写して得られたプリプレスプルーフが、従来のプリプレ
スプルーフと全く異なり、被印刷体と画像形成材料との
間に接着層等のような層が介在しないため実際の印刷物
と全く同じ画像および質感を再現することを見い出して
いる。具体的には、特開昭63−147154、特開昭
63−147162、特開平1−172957、USP
−5,055,375、GB2213950Bに記載さ
れる材料が好適に用いられているが、露光行程における
作業時間を短縮するために、またレーザー光源の高速走
査露光によるダイレクト描画方法を達成するためにも、
より高感度な光重合開始剤が望まれていた。
【0006】
【本発明が解決しようとする課題】本発明は上述の課題
の解決を目的とし、かつ印刷物の見本たりえる画像品質
であるカラープルーフが得られる、高感度な着色画像形
成媒体およびそれを用いた着色画像形成方法を提供する
ものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、以上の諸
点を考慮して、上記目的を達成するために鋭意検討した
結果、本発明に至ったものである。すなわち、本発明
は、支持体上に、染顔料(A)、ラジカル重合可能なエ
チレン性不飽和結合を有する化合物(B)および光重合
開始剤系(C)を含む感光性層を形成し、更に必要に応
じて感光性層の上に保護フィルムを有する着色画像形成
媒体において、該感光性層中の光重合開始剤系(C)が
一般式(1)
【0008】
【化2】 〔式中、R1 は、ベンジル基、置換されたベンジル基、
フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリールオキ
シ基、置換されたアリールオキシ基、アルケニル基、置
換されたアルケニル基から選ばれる基を表し、R2 およ
びR3 は、それぞれ独立に、R1 を構成できる基と同じ
基か、またはアルキル基、置換されたアルキル基、アリ
ール基、置換されたアリール基、アラルキル基、置換さ
れたアラルキル基、アルキニル基、置換されたアルキニ
ル基、脂環基、置換された脂環基、アルコキシ基、置換
されたアルコキシ基、アルキルチオ基、置換されたアル
キルチオ基、アミノ基、置換されたアミノ基、またはR
2 とR3 が相互に結合した環状構造を表し、R4 は酸素
原子または孤立電子対を表し、R5 ,R6 ,R7 および
8 は、それぞれ独立に、アルキル基、置換されたアル
キル基、アリール基、置換されたアリール基、アラルキ
ル基、置換されたアラルキル基、アルケニル基、置換さ
れたアルケニル基を表す(但し、R5 ,R6 ,R7 およ
びR8 の全てが、アリール基または置換されたアリール
基となることはない。)〕で表されるスルホニウム有機
ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯体
(イ)と、励起状態において電子供与性と電子受容性を
併せ持つ紫外線吸収性増感剤(ロ)からなることを特徴
とする着色画像形成媒体であり、且つ該着色画像形成媒
体を、任意の側から色分解マスクを通して画像露光する
か、あるいは集光または未集光のレーザ光を用いて直接
画像露光することにより、感光性層の露光部および非露
光部において粘着性の差を生じせしめた後、保護フィル
ムまたは支持体の一方を剥離し、被転写体に着色画像を
転写し、次いで、異なる色相の着色画像を同じ被転写体
に整合させて転写することを特徴とする着色画像形成方
法である。
【0009】以下、詳細にわたって本発明を説明する。
本発明に利用できる着色画像形成媒体は、実質的に透明
支持体、感光性層、保護フイルムから構成される。この
透明支持体としては、熱、化学薬品、光等に安定であ
り、しかも画像露光に使用される活性線、特に本発明に
おいては紫外線を充分透過するような材料が好適であ
る。例えばセルロースアセテート、ポリスチレン、ポリ
塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボ
ネート、ポリプロピレン等のフィルムまたはシートであ
る。特に好ましくはポリエチレンテレフタレートフィル
ムまたはシートである。特にポリエチレンテレフタレー
トフィルムまたはシートが透明性または熱安定性、寸法
安定性等の面から好ましい。保護フィルムとしては、そ
のものが単一或いは複数層からなっていてもなんら差し
支えはないが、感光層に接触する面は、フィッシュアイ
が少なく且つ感光層との剥離性が良く、不必要な可塑剤
が析出してこないようなものが好ましい。またガスバリ
アー性を確保する面は感光層に直に接触する面であって
も、直に感光層に接触していなくとも構わない。 更
に、保護フィルムとして画像形成材料の剛性の確保を目
的として感光層と直に接触しない面に別の剛性の強い材
料を裏打ちしても構わない。この時の裏打ちする材料と
しては特に制限を設けるものではない。
【0010】バリアー性は、例えば高分子化合物でいえ
ばポリビニルアルコール(PVA)やポリエチレンビニ
ルアルコール(EVAL)などがあるが、特に制限する
ものではない。本発明の着色画像形成媒体の感光性層に
適用される材料は, (A)染顔料 (B)ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有す
る化合物 (C)光重合開始剤系 の構成であるが、特に光重合開始剤系(C)としては、
下記一般式(1)
【0011】
【化3】 〔式中、R1 は、ベンジル基、置換されたベンジル基、
フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリールオキ
シ基、置換されたアリールオキシ基、アルケニル基、置
換されたアルケニル基から選ばれる基を表し、R2 およ
びR3 は、それぞれ独立に、R1 を構成できる基と同じ
基か、またはアルキル基、置換されたアルキル基、アリ
ール基、置換されたアリール基、アラルキル基、置換さ
れたアラルキル基、アルキニル基、置換されたアルキニ
ル基、脂環基、置換された脂環基、アルコキシ基、置換
されたアルコキシ基、アルキルチオ基、置換されたアル
キルチオ基、アミノ基、置換されたアミノ基、またはR
2 とR3 が相互に結合した環状構造を表し、R4 は酸素
原子または孤立電子対を表し、R5 ,R6 ,R7 および
8 は、それぞれ独立に、アルキル基、置換されたアル
キル基、アリール基、置換されたアリール基、アラルキ
ル基、置換されたアラルキル基、アルケニル基、置換さ
れたアルケニル基を表す(但し、R5 ,R6 ,R7 およ
びR8 の全てが、アリール基または置換されたアリール
基となることはない。)〕で表されるスルホニウム有機
ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯体
(イ)と、励起状態において電子供与性と電子受容性を
併せ持つ紫外線吸収性増感剤(ロ)からなることを特徴
とする。その他、高分子重合体、光重合促進剤、熱重合
禁止剤、樹脂可塑剤、顔料分散剤等を併用することがで
きる。
【0012】ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を有する化合物としては、不飽和二重結合を少なくとも
分子内に一個を有するモノマー、ポリマー、プレポリマ
ーから選ばれる少なくとも一種が適用される。その様な
化合物としては、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、マ
レイン酸などの不飽和酸化合物、メチル(メタ)アクリ
レート、エチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル
(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレ
ートなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステル化合
物、テトラヒドロフリル(メタ)アクリレート、グリシ
ジル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレー
ト、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、モル
ホリノエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル
アミド、ジアセトン(メタ)アクリルアミド、2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、N−ビニルカルバ
ゾール等のビニルモノマー、さらには、脂肪族ポリヒド
ロキシ化合物、例えば、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレ
ングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレング
リコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレ
ングリコール、ネオペンチルグリコール、1,3−プロ
パンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペン
タンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,10−
デカンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ジペンタエリスリトール、ネオペンチルグ
リコール、ソルビトール、マンニトールなどのジあるい
はポリ(メタ)アクリルエステル類、トリフルオロエチ
ル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メ
タ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メタ)ア
クリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレ
ート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレート
などのフッ素原子含有(メタ)アクリレート化合物、
2,3−ジブロモプロピル(メタ)アクリレート、トリ
ブロモフェノールトリエチレンオキシド(メタ)アクリ
レート、p−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクレー
ト、テトラブロモビスフェノールAエチ(プロピ)レン
オキシド変性ジ(メタ)アクリレートなどの臭素原子含
有(メタ)アクリレート化合物、フェニル(メタ)アク
リレート、4−メトキシカルボニルフェニル(メタ)ア
クリレート、4−エトキシカルボニルフェニル(メタ)
アクリレート、4−ブトキシカルボニルフェニル(メ
タ)アクリレート、4−tert−ブチルフェニル(メ
タ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、4
−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−フェニ
ルエチル(メタ)アクリレート、4−フェノキシジエチ
レングルコール(メタ)アクリレート、4−フェノキシ
テトラエチレングリコール(メタ)アクリレート、4−
フェノキシヘキサエチレングリコール(メタ)アクリレ
ート、4−ビフェニリル(メタ)アクリレート、フタル
酸エピクロルヒドリン変性ジ(メタ)アクリレートなど
の芳香環を含有する(メタ)アクリレート化合物、芳香
族ポリヒドロキシ化合物、例えば、ヒドロキノン、レゾ
ルシン、カテコール、ピロガロール等のジあるいはポリ
(メタ)アクリレート化合物、イソシアヌル酸のエチ
(プロピ)レンオキシド変性(メタ)アクリレート、ビ
スフェノールAエチ(プロピ)レンオキシド変性ジ(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリル化エポシキ樹脂、
フェロセニルメチル(メタ)アクリレート、フェロセニ
ルエチル(メタ)アクリレート、亜鉛ジ(メタ)アクリ
レートなどの重金属原子含有(メタ)アクリレート化合
物などが挙げられるが、露光部と非露光部において粘着
性の差を顕著に生じせしめるために、代表的には、2−
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、エチレングリ
コールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリ
レート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリ
エチレングルコールジアクリレート、プロピレングリコ
ールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリ
レート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ポ
リプロピレングリコールジアクリレート、1,6ヘキサ
ンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
トなどが好適に用いられる。
【0013】さらに、露光部と非露光部の粘着性の差を
顕著にするために、本発明においては、さらに高分子バ
インダーを併用することが可能である。その様な高分子
バインダーとしては、熱可塑性で、光重合性化合物との
相溶性に優れた光重合性を有しない高分子重合体が使用
できる。例えば、ポリスチレン、スチレン/無水マレイ
ン酸共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ(メタ)アクリル
酸エステル、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロ
ース誘導体、(例えば、エチルセルロース、酢酸セルロ
ース、ニトロセルロース)、ポリ酢酸ビニル、エチレン
/酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合
体、ポリアマイド樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビ
ニルブチラール、ポリビニルホルマール樹脂、ジアリル
フタレート樹脂、ブタジエン/アクリロニトリル共重合
体のような合成ゴム等があり、必要な物性に応じてこれ
らの熱可塑性物質を一種、もしくは二種以上含んでも良
い。
【0014】次に、光重合開始剤系(C)におけるスル
ホニウム有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機
ホウ素錯体(イ)については、一般式(1)
【0015】
【化4】 〔式中、R1 は、ベンジル基、置換されたベンジル基、
フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリールオキ
シ基、置換されたアリールオキシ基、アルケニル基、置
換されたアルケニル基から選ばれる基を表し、R2 およ
びR3 は、それぞれ独立に、R1 を構成できる基と同じ
基か、またはアルキル基、置換されたアルキル基、アリ
ール基、置換されたアリール基、アラルキル基、置換さ
れたアラルキル基、アルキニル基、置換されたアルキニ
ル基、脂環基、置換された脂環基、アルコキシ基、置換
されたアルコキシ基、アリールチオ基、置換されたアリ
ールチオ基、アミノ基、置換されたアミノ基、またはR
2 とR3 が相互に結合した環状構造を表し、R4 は酸素
原子または孤立電子対を表し、R5 ,R6 ,R7 および
8 は、それぞれ独立に、アルキル基、置換されたアル
キル基、アリール基、置換されたアリール基、アラルキ
ル基、置換さえたアラルキル基、アルケニル基、置換さ
れたアルケニル基を表す(但し、R5 ,R6 ,R7 およ
びR8 の全てが、アリール基または置換されたアリール
基となることはない。)〕で表されるスルホニウム有機
ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯体が
示される。これら、一般式(1)で表されるスルホニウ
ム有機ホウ素錯体は、特開平5−213861号および
特開平5−255347号にて記載の方法に従い合成す
ることができる。
【0016】一般式(1)におけるスルホニウムまたは
オキソスルホニウムカチオン上の置換基R1 、R2 およ
びR3 において、ベンジル基または置換されたベンジル
基としては、p−シアノベンジル基、p−ニトロベンジ
ル基、p−クロロベンジル基、p−ヒドロキシベンジル
基、p−メチルベンジル基、p−メトキシベンジル基、
p−ジメチルアミノベンジル基、1−(または2−)ナ
フチルメチレン基などが、フェナシル基または置換され
たフェナシル基としては、p−シアノフェナシル基、p
−ニトロフェナシル基、p−クロロフェナシル基、p−
ヒドロキシフェナシル基、フェナシル基、p−メチルフ
ェナシル基、p−ジメチルアミノフェナシル基などが、
アリールオキシ基または置換されたアリールオキシ基と
しては、p−シアノフェノキシ基、p−ニトロフェノキ
シ基、p−クロロフェノキシ基、フェノキシ基、p−ト
リルオキシ基、p−メトキシフェノキシ基、p−ジメチ
ルアミノフェノキシ基などが、アルケニル基または置換
されたアルケニル基としては、ビニル基、1−プロペニ
ル基、1−ブテニル基、3,3−ジシアノ−1−プロペ
ニル基などが、アルキル基または置換されたアルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、
tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル
基、サリチル基、アセトニル基、シアノメチル基、クロ
ロメチル基、ブロモメチル基、メトキシカルボニルメチ
ル基、エトキシカルボニルメチル基、メンチル基、ピナ
ニル基などが、アリール基または置換されたアリール基
としては、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、メ
シチル基、クメニル基、p−メトキシフェニル基、ビフ
ェニリル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリ
ル基、p−シアノフェニル基、p−ニトロフェニル基、
2,4−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、p−
フルオロフェニル基、p−クロロフェニル基、p−ジメ
チルアミノフェニル基、p−フェニルチオフェニル基な
どが、脂環基または置換された脂環基としては、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、ボル
ニル基、1−シクロヘキセニル基などが、アルコキシ基
または置換されたアルコキシ基としては、メトキシ基、
エトキシ基、n−(またはiso−)プロポキシ基、n
−(または、sec−、tert−)ブトキシ基、ベン
ジルオキシ基、p−シアノベンジルオキシ基、p−クロ
ロベンジルオキシ基、p−ニトロベンジルオキシ基、p
−メチルベンジルオキシ基、p−メトキシベンジルオキ
シ基などが、アルキルチオ基または置換されたアルキル
チオ基としてメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ
基などが、アミノ基または置換されたアミノ基として
は、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジ
エチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基、アニリノ
基、ピペリジノ基、モルホリノ基などが挙げられ、アリ
ールチオ基または置換されたアルキルチオ基、フェニル
チオ基、p−トリルチオ基、p−シアノフェニルチオ基
などが挙げられ、さらにR2 およびR3 は結合している
環状構造であってもよく、例えば、テトラメチレン基、
ペンタメチレン基、1,4−ジクロロテトラメチレン基
などの置換基を有してもよいアルキレン基、エチレンジ
オキシ基、ジエチレンジオキシ基、アジポイル基、エチ
レンジチオ基などの環状構造が挙げられる。
【0017】また、一般式(1)における有機ホウ素ア
ニオン上の置換基R5、R6、R7およびR8において、ア
ルキル基または置換されたアルキル基としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、ドデシル基、オクタデシル基、アリル基、ベンジル
基などが、アリール基または置換されたアリール基とし
ては、フェニル基、p−トリル基、キシリル基、メシチ
ル基、クメニル基、p−メトキシフェニル基、ナフチル
基、2,4−ビス(トリフルオロメチル)フェニル基、
p−フルオロフェニル基、p−クロロフェニル基、p−
ブロモフェニル基などが、アルケニル基または置換され
たアルケニル基としては、ビニル基、1−プロペニル
基、1−ブテニル基等などが、置換基を有してもよいア
ルキニル基としては、エテニル基、2−tert−ブチ
ルエテニル基、2−フェニルエテニル基などが挙げられ
る。
【0018】この様なスルホニウム有機ホウ素錯体また
はオキソスルホニウム有機ホウ素錯体の例としては、ジ
メチル−tert−ブチルスルホニウム−tert−ブ
チルトリエチルボレート、ジメチルベンジルスルホニウ
ムフェニルトリエチルボレート、ジメチル(p−クロロ
ベンジル)スルホニウムメチルトリフェニルボレート、
ジブチル(p−ブロモベンジル)スルホニウムイソプロ
ピルトリフェニルボレート、ジメチル(p−シアノベン
ジル)スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジメ
チルフェナシルスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジメチルフェナシルスルホニウム−sec−ブチル
トリフェニルボレート、ジ−tert−ブチルフェナシ
ルスルホニウム−sec−ブチルトリフェニルボレー
ト、ジメチル(p−クロロフェナシル)スルホニウム−
tert−ブチルトリフェニルボレート、ジメチル(p
−ブロモフェナシル)スルホニウムベンジルトリフェニ
ルボレート、ジメチル(2−フェニル−3,3−ジシア
ノプロプ−2−エニル)スルホニウムブチルトリ(p−
メトキシフェニル)ボレート、ジブチルエトキシスルホ
ニウムブチルトリ(p−フルオロフェニル)ボレート、
ジメチルフェノキシスルホニウムブチルトリ(p−クロ
ロフェニル)ボレート、メチル(ジメチルアミノ)(p
−トリル)スルホニウムブチルトリ(p−ブロモフェニ
ル)ボレート、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムブ
チルトリス[3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェ
ニル]ボレート、ジメチルフェニルチオスルホニウム−
sec−ブチルトリ(p−メトキシフェニル)ボレー
ト、メチルフェニル(p−シアノベンジル)スルホニウ
ム−sec−ブチルトリ(p−フルオロフェニル)ボレ
ート、メチルフェニルフェナシルスルホニウム、メチル
フェニル(2−フェニル−3,3−ジシアノプロプ−2
−エニル)スルホニウム−tert−ブチルトリ(p−
ブロモフェニル)ボレート、メチルフェニルエトキシス
ルホニウムブチルトリフェニルボレート、ブチルフェニ
ルフェノキシスルホニウムブチルトリフェニルボレー
ト、ジメチルアミノビス(p−トリル)スルホニウム−
sec−ブチルトリ(p−ブロモフェニル)ボレート、
テトラメチレンフェナシルスルホニウム−sec−ブチ
ルトリフェニルボレート、ジメチルアリルスルホニウム
ブチルトリフェニルボレート、ジメチルシアノメチルス
ルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジメチルアセ
トニルスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジメ
チルエトキシカルボニルメチルスルホニウム−tert
−ブチルトリ(p−クロロフェニル)ボレート、ジメチ
ル(メチルチオメチル)スルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート、テトラメチレン−p−シアノベンジルスル
ホニウム−sec−ブチルトリ−p−フルオロフェニル
ボレート、ジメチルベンジルオキソスルホニウムブチル
トリフェニルボレート、ジメチルフェナシルオキソスル
ホニウム−sec−ブチルトリ(p−クロロフェニル)
ボレート、メチルフェニルベンジルオキソスルホニウム
−tert−ブチルトリ(p−メトキシフェニル)ボレ
ート、メチルフェニルフェナシルオキソスルホニウム−
tert−ブチルトリ(p−フルオロフェニル)ボレー
ト、ジフェニルベンジルスルホニウムブチルトリフェニ
ルボレート、ジフェニル(p−クロロベンジル)スルホ
ニウムブチルトリス(p−メトキシフェニル)ボレー
ト、ジフェニル(p−ブロモベンジル)スルホニウムブ
チルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフェ
ニル(p−シアノベンジル)スルホニウムブチルトリフ
ェニルボレート、ビス(p−tert−ブチルフェニ
ル)ベンジルスルホニウムブチルトリス(p−ブロモフ
ェニル)ボレート、ビス(p−クロロフェニル)(p−
シアノベンジル)スルホニウムブチルトリフェニルボレ
ート、ジフェニル(p−シアノベンジル)スルホニウム
フェニルトリブチルボレート、ジフェニル(p−シアノ
ベンジル)スルホニウムジブチルジフェニルボレート、
ジフェニル(p−シアノベンジル)スルホニウムビニル
トリフェニルボレート、ジフェニル(p−シアノベンジ
ル)スルホニウム−sec−ブチルトリフェニルボレー
ト、ジフェニル(p−シアノベンジル)スルホニウムシ
クロヘキシルトリフェニルボレート、ジフェニルフェナ
シルスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル(p−クロロフェナシル)スルホニウムブチルトリ
フェニルボレート、ジフェニル(p−ブロモフェナシ
ル)スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル(p−メトキシフェナシル)スルホニウムブチルト
リフェニルボレート、ジフェニル(p−シアノフェナシ
ル)スルホニウムシクロヘキシルトリス(p−メトキシ
フェニル)ボレート、ビス(p−tert−ブチルフェ
ニル)フェナシルスルホニウム−sec−ブチルトリス
(p−フルオロフェニル)ボレート、ビス(p−メトキ
シフェニル)(p−クロロフェナシル)スルホニウムジ
ブチルジフェニルボレート、ビス(p−クロロフェニ
ル)(p−ブロモフェナシル)スルホニウムベンジルト
リフェニルボレート、ビス(p−メチルフェニル)(p
−メトキシフェナシル)スルホニウム−tert−ブチ
ルトリフェニルボレート、ビス(p−tert−ブチル
フェニル)(p−シアノフェナシル)スルホニウムベン
ジルトリブチルボレート、ジフェニルアリルスルホニウ
ムブチルトリフェニルボレート、ジフェニル(2−メチ
ル−3,3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウム
−2−フェニルエチニルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニ
ル)スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニル[2−フェニル−3,3−ビス(メトキシカルボニ
ル)−2−プロペニル]スルホニウム−sec−ブチル
トリフェニルボレート、ビス(p−クロロフェニル)ア
リルスルホニウムフェニルトリエチルボレート、ビス
(p−tert−ブチルフェニル)(2−メチル−3,
3−ジシアノ−2−プロペニル)スルホニウムジ(se
c−ブチル)ジフェニルボレート、ビス(p−メチルフ
ェニル)(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロ
ペニル)スルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジ
フェニルアセトニルスルホニウムブチルトリフェニルボ
レート、ジフェニルシアノメチルスルホニウムブチルト
リフェニルボレート、ジフェニルメトキシカルボニルメ
チルスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェ
ニルスルホメチルスルホニウムメチルトリス(p−フル
オロフェニル)ボレート、ジフェニル−p−トルエンス
ルホニルメチルスルホニウムジシクロヘキシルジフェニ
ルボレート、ジフェニル(トリメチルアンモニウミルメ
チル)スルホニウムビス(ブチルトリフェニルボレー
ト)、ジフェニル(トリフェニルフェナシルホスホニウ
ミルメチル)スルホニウムビス(ブチルトリフェニルボ
レート)、ジフェニル(フェニルヨードニウミルエチニ
ル)スルホニウムビス(ブチルトリフェニルボレー
ト)、ジフェニルベンジルオキソスルホニウムブチルト
リフェニルボレート、ジフェニル(p−シアノベンジ
ル)オキソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、
ジフェニル(p−シアノベンジル)オキソスルホニウム
−sec−ブチルトリフェニルボレート、ジフェニル
(p−シアノベンジル)オキソスルホニウムシクロヘキ
シルトリス(p−フルオロフェニル)ボレート、ジフェ
ニルフェナシルオキソスルホニウムブチルトリフェニル
ボレート、ジフェニル(p−クロロフェナシル)オキソ
スルホニウム−sec−ブチルトリス(p−フルオロフ
ェニル)ボレート、ビス(p−tert−ブチルフェニ
ル)フェナシルオキソスルホニウムオクチルトリス(p
−フルオロフェニル)ボレート、ジフェニルアリルオキ
ソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニ
ル(2−フェニル−3,3−ジシアノ−2−プロペニ
ル)オキソスルホニウム−tert−ブチルトリフェニ
ルボレート、ジフェニルメトキシカルボニルメチルオキ
ソスルホニウムブチルトリフェニルボレート、ジフェニ
ル(トリメチルアンモニウミルメチル)オキソスルホニ
ウムビス(ブチルトリフェニルボレート)、ジフェニル
(トリフェニルフェナシルオキソホスホニウミルメチ
ル)オキソスルホニウムビス(ブチルトリフェニルボレ
ート)等が挙げられる。代表的なSB(A)ないしSB
(L)を以下に示す。
【0019】
【化5】
【0020】
【化6】
【0021】
【化7】
【0022】次に、本発明において用いられる、励起状
態において電子供与性と電子受容性を併せ持つ紫外線吸
収性増感剤(ロ)について説明する。この様な紫外線吸
収性増感剤としては、その吸収極大が200nmから4
50nmの範囲にあり、蛍光量子収率(ΦF)または系
間交差効率(ΦISC)のどちらか一方が0.01以上
で、且つサイクリックボルタングラム測定において酸化
および還元電位の両方が観察される化合物が選択され
る。その様な化合物としては、ベンゾフェノン誘導体、
チオキサントン誘導体、および分子内にトリハロゲノメ
チル基および発色団基を有するトリアジン誘導体が好適
に用いられる。
【0023】ベンゾフェノン誘導体としては、ベンゾフ
ェノン、ジベンゾスベロン、ベンゾイル安息香酸、ベン
ゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノ
ン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファ
イド、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノ
ン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、2,4’−ジク
ロロベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノ
ン、4,4’−モルホリノベンゾフェノン、4,4’−
ジメチルアミノベンゾフェノン、4、4’−ジエチルア
ミノベンゾフェノン(EAB)、ビス〔9,9−(2,
3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[i,
j]キノリジニル)〕メタノン、ビス(N−エチル−
1,2,3,4−テトラヒドロ−6−キノリル)ケト
ン、3,3,4,4’−テトラ(t−ブチルパーオキシ
カルボニル)ベンゾフェノン、4’,4’’−ジエチル
イソフタロン、などが、チオキサントン誘導体として
は、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−
メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサント
ン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチ
オキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン(DE
TX)、2,4−ジイソプロピルチオキサントンなど
が、また、分子内にトリハロゲノメチル基および発色団
基を有するトリアジン誘導体としては、先ず2−フェニ
ル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−トリ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(p−クロロフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−ピペロニル−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジンお
よびこれらのトリブロモメチル体が挙げられる。さら
に、発色団基の共役系を延ばすことによって紫外領域の
吸光特性を向上させたトリアジン化合物が、本発明にお
いてはより好適に用いられる。その例として、先ず特開
昭48−36281号(特公昭59−1281号)に記
載の、一般式(2)
【0024】
【化8】 〔式中、Xは臭素または塩素であり、Yは−CX3 、−
NH2 、−NHR、−NR2 または−ORで(ここでR
はフェニルまたは炭素数1ないし6の低級アルキル)、
nは1ないし3の整数であり、Wは置換または非置換の
芳香環または複素環を示す。〕
【0025】で表される少なくとも1個のトリハロメチ
ル基およびエチレン系不飽和基によってトリアジン環と
共役された少なくとも1個の発色団部分を有するs−ト
リアジン化合物、例えば、ビニル−ハロメチル−s−ト
リアジンおよびメチル−ハロメチル−s−トリアジン、
例えば、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−スチ
リル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチ
ル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジ
メチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−s−
トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6
(N−エチル−2(3H)−ベンズオキサゾリリジン)
−エチリデンs−トリアジン、2−トリクロロメチル−
4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジ
ン、2,4−ビス(トリブロモメチル)−6−スチリル
−s−トリアジン、2,4−ビス(トリブロモメチル)
−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4
−ビス(トリブロモメチル)−6−(1−p−ジメチル
アミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−s−トリア
ジン、2,4−ビス(トリブロモメチル)−6(N−エ
チル−2(3H)−ベンズオキサゾリリジン)−エチリ
デン−s−トリアジン、2−トリブロモメチル−4−ア
ミノ−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、
2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−メチル−s−
トリアジン、2,4−ビス(トリブロモメチル)−6−
メチル−s−トリアジンなどを挙げることができる。代
表的な化合物としてTAZ−1ないしTAZ−6を以下
に示す。
【0026】
【化9】
【0027】
【化10】
【0028】次に、特開昭53−133428号(特公
昭62−44258号)に記載の、一般式(3)
【0029】
【化11】 〔式中、Xは臭素または塩素を表し、Qは置換または非
置換の二核または三核の芳香環または複素環を示す。〕
で表される置換または非置換の二核または三核の芳香族
基または複素環式芳香環基を1つと、2つのトリハロゲ
ノメチル基を有するs−トリアジン化合物、例えば、2
−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト
−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
〔4−(2−メトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イ
ル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−〔4−(2−ブトキシエチル)−ナフト−1
−イル〕−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジン、2−(2−メトキシ−ナフト−1−イル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(6−メトキシ−5−メチル−ナフト−2−イル)
−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジ
ン、2−(6−メトキシナフト−2−イル)−4,6−
ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(5
−メトキシナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリク
ロロメチル)−s−トリアジン、2−(4,7−ジメト
キシナフト−1−イル)−4,6−ビス(トリクロロメ
チル)−s−トリアジン、2−(6−メトキシナフト−
2−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−
トリアジン、2−(4,5−ジメトキシナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(ナフト
−2−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s
−トリアジン、2−(フェナントリル−9−イル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(ジベンゾチエン−2−イル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−(ベンゾピラ
ン−3−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2−(4−メトキシアントラセン−1
−イル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−ト
リアジンおよびこれらのトリブロモメチル置換誘導体類
などを挙げることができる。代表的な化合物として、T
AZ−7ないしTAZ−10を以下に示す。
【0030】
【化12】
【0031】次に、特開昭60−105667に記載
の、下記一般式(4)
【0032】
【化13】 〔式中、Arは置換または非置換の単核ないし3核の芳
香族基を表し、R9 およびR10は水素原子またはアルキ
ル基を表し、、R11およびR13は相互に異なっており、
それぞれ水素原子または4,6−ビス−トリクロロメチ
ル−s−トリアジン−2−イル基を表し、R12、R14
よびR15は同一または異なっており、水素原子、ハロゲ
ン原子、置換または非置換のアルキル、アルケニルまた
はアルコキシ基を表す。〕で表されるアリールビニルフ
ェニル−ビス−トリハロゲノメチル−s−トリアジン化
合物が挙げられる。具体例として、TAZ−11ないし
TAZ−13を例示する。
【0033】
【化14】
【0034】さらに、本発明において好適に用いられる
トリハロゲノメチル基を有するトリアジン化合物として
は、特開昭60−89473に記載のトリハロゲノメチ
ル基含有のカルボニルメチレン複素環式化合物、具体的
には、2−(p−トリクロロメチルベンゾイルメチレ
ン)−3−エチル−ベンゾチアゾール、2−(p−トリ
クロロメチルベンゾイルメチレン)−3−エチル−5−
メチルベンゾチアゾリン、2−(p−トリクロロメチル
ベンゾイルメチレン)−3−ベンジルベンゾチアゾリ
ン、2−(p−トリクロロメチルベンゾイルメチレン)
−3−メチルベンゾチアゾリン、2−(トリクロロアセ
チルメチレン)−3−メチルベンゾチアゾリン、2−
(p−トリクロロメチルベンゾイルメチレン)−3−
(2−メトキシエチル)−ベンゾチアゾリン、2−(p
−トリクロロメチルベンゾイルメチレン)−3−n−ヘ
キシルベンゾチアゾリン、2−(p−トリクロロメチル
ベンゾイルメチレン)−3−メチル−ナフト〔1,2−
d〕チアゾリン、2−〔3,5−ビス(トリクロロメチ
ル)ベンゾイルメチレン〕−3−メチル−ナフト〔1,
2−d〕チアゾリン、2−トリクロロアセチルメチレン
−3−メチル−ナフト〔1,2−d〕チアゾリン、2−
(p−トリクロロメチルベンゾイルメチレン)−3−エ
チル−5−メチルベンゾセレナゾリン、2−(p−トリ
クロロメチルベンゾイルメチレン)−3−エチル−5−
メトキシベンゾセレナゾリン、2−トリクロロアセチル
メチレン−3−エチルベンゾセレナゾリン、2−(p−
トリクロロメチルベンゾイルメチレン)−1,3,3−
トリエチル−5−クロロインドリン、2−(m−トリク
ロロメチルベンゾイルメチレン)−1,3,3−トリメ
チルインドリン、2−トリクロロアセチルメチレン−
1,3,3−トリメチルインドリン、2−トリクロロア
セチルメチレン−1,3,3−トリメチル−5−クロロ
インドリン、2−〔3,5−ビス(トリクロロメチル)
−ベンゾメチレン〕−1,3,3,−トリメチルインド
リン、2−〔ビス(p−トリクロロメチルベンゾイル)
−メチレン〕−3−エチルベンゾチアゾリン、2−トリ
クロロアセチルメチレン−3−エチルベンゾチアゾリ
ン、2−トリクロロアセチルメチレン−3−エチル−5
−メチルベンゾチアゾリン、2−トリクロロアセチルメ
チレン−3−ベンジルベンゾチアゾリン、2−(p−ト
リクロロメチルベンゾイルメチレン)−3−エチル−4
−メチル−5−エトキシカルボニルチアゾリン、2−ト
リクロロアセチルメチレン−3−エチル−4−メチル−
5−エトキシカルボニルチアゾリン、2−(p−トリク
ロロメチルベンゾイルメチレン)−3−エチル−4,5
−ジフェニルチアゾリン、2−トリクロロアセチルメチ
レン−3−エチル−4,5−ジフェニルチアゾリン、2
−トリクロロアセチルメチレン−3−エチル−5−フェ
ニルチアゾリン、2−トリクロロアセチルメチレン−1
−メチル−1,2−ジヒドロキノリン、2−ビス(トリ
クロロアセチルメチレン)−1−メチル−1,2−ジヒ
ドロキノリンなど、さらに特開平2−3686、特開平
2−4782、特開平2−4787および、特開平2−
292278記載のトリアジン化合物を挙げることがで
きる。
【0035】感光性層に適用される染顔料(A)として
は、従来から知られているものが使用できる。一般に、
イエロー、マゼンタ、シアン、ブラックの色相を一致し
た染顔料が必要となり、この他、金属粉、白色顔料、蛍
光顔料なども使用できる。通常、毒性、耐候性、化学的
および熱的安定性の観点から有機顔料が用いられ、例え
ばアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ペリレ
ン系、ペリノン系、イソインドリノン系、キノフタロン
系、ジオキサジン系、アントラキノン系、インジゴ系、
メチン系などの有機顔料が好適に用いられる。これらの
顔料は、色相を最適化するために、複数の顔料を組み合
わせて使用することも出来る。
【0036】その他、本発明において使用可能な添加剤
の内、熱重合禁止剤として、ハイドロキノン、p−メト
キシフェノール、t−ブチルカテコール、ピロガロー
ル、アリールフォスファイト、フェノチアジン等を挙げ
ることができる。また、さらに重合度をコントロールす
る目的のために、連鎖移動剤を添加することもできる。
例えば、2−メルカプトベンツオキサゾール、2−メル
カプトベンツチアゾール、2−メルカプトベンツイミダ
ゾール、4,4−チオビスベンチオール、p−ブロモベ
ンゼンチオール、チオシアヌル酸、1,4−ビス(メル
カプトメチル)ベンゼン、p−トリエンチオールなどの
チオール類を例示することができる。
【0037】本発明における着色画像形成媒体中の感光
性層に使用される染顔料(A)は、感光性層全固形分の
5〜50重量%が適当であり、更に好ましくは、9〜2
0重量%が好ましい。光重合開始剤系(C)は、感光性
層全固形分の0.1重量%〜30重量%が適当であり、
更に好ましくは、1重量%から15重量%であるが、最
適量は保存性と感度特性とのバランスを考慮し最適化す
ることが望ましく、また、特に光重合開始剤系(C)の
内の紫外線吸収性増感剤(ロ)の添加量は、支持体上に
任意の厚みで感光性層を形成した時に、露光に用いる照
射波長における吸光度が2を越えない範囲で使用するこ
とが望ましい。また、感光性層に、ラジカル重合可能な
エチレン性不飽和結合を有する化合物(B)に、さらに
高分子バインダー(D)を加えた時、高分子バインダー
(D)は感光性層全固形分の10重量%から90重量%
の範囲で添加され用いられる。
【0038】次に、本発明を、例えばカラープルーフと
して使用するに際しての、画像形成工程を順を追って説
明する。 (1)イエロー(Y)、マゼンタ(M)、シアン
(C)、ブラック(K)の各色の顔料を 配合した
着色画像形成媒体をそれぞれ作成する。その際、顔料を
分散した、エチレ ン性不飽和結合を有する化合
物、光重合開始剤系、溶媒、さらに必要に応じて高分
子バインダーからなる感光液を、支持体または保護
フィルム上に任意の厚みで塗工 し乾燥した後、保
護フィルムまたは支持体を感光層上に積層する。 (2)4色の着色画像形成媒体を、色分解画像マスクを
通して、紫外線(例えば、超高圧 水銀灯、キセノ
ンランプ、重水素ランプ、カーボンアーク灯、メタルハ
ライドラン プ、蛍光ランプ、タングステンラン
プ、ブラックライトなどを使用する。)による 画
像露光を感光性層の硬化に十分な程度行うか、または画
像データを出力できる紫 外線レーザ描画装置(例
えば、He−Cdレーザ、Arイオンレーザ、SHG素
子 により波長変換された紫外線を発振する半導体
レーザ、半導体レーザ励起のNd− YAGレーザ
をTHG素子で波長変換され351nm光を発振するレ
ーザ、あるい はエキシマーレーザなどを搭載した
レーザ描画装置)を用いて、画像露光を感光性 層
の硬化に十分な程度行う。 (3)保護フィルムまたは支持体のどちらか一方を感光
性層より剥離し、前記露光工程に て非露光の感光
性層を紙等の被転写体へ重ね、加圧下あるいは必要に応
じて加熱加 圧下で転写を行う。 (4)支持体または保護フィルムの一端を持ち剥離する
ことにより、非露光の感光性層す なわち着色画像
が被転写体(紙)に転写され転写画像が形成される。 (5)転写された画像全面へ固着を強固にし、転写され
た着色画像の粘性を消失させる目 的の後露光を行
う。 (6)以上の(2)〜(5)を4回(Y、M、C、K)
繰り返し、4色の画像を同一被転 写体の上に形成
し、カラープルーフを得る。
【0039】以下、本発明を実施例により更に詳述する
が、本発明はこれによって限定するものではない。例
中、部とは重量部を示す。
【0040】実施例1 下記の組成からなる感光性層液を調整した。 ジアリルイソフタレートプレポリマー 10 .0 部 (ダイソー(株)製) KAYARAD・DPHA 7.0 部 (日本化薬(株)製) KAYARAD・TPGDA 1 .0 部 (日本化薬(株)製) SB(A) 0.5 部 EAB 0.4部 ソルスパーズ24000 0.1部 (アイ・シー・アイ・ジャパン(株)製) KP−604 0.02部 (信越化学(株)製) リオノールレッドカーミン6BFG 3.3部 4200 (東洋インキ製造(株)製) p−メトキシフェノール 0.1部 (東京化成工業(株)製) メチルエチルケトン 75.0部 保護フィルムを下記の要領で作成した。OPPトレファ
ン2372、8μ(東レ(株))とルミラー#100
(100μ)Tタイプとを接着剤を介してドライラミネ
ートを行い、保護フィルムとした。透明支持体上に形成
した着色感光性層と保護フィルムの2372面、(ルミ
ラー面ではない)が接触するようにラミネーターで貼合
わせて、目的のマゼンタ用着色画像形成媒体を得た。こ
の画像形成媒体の透明支持体側と原版ポジマスクの銀塩
面とを密着し、UVプリンター、DS−P−647−G
A(大日本スクリーン製造(株)製)で2mJ/cm2
の紫外線露光を与えた。この画像形成媒体と原版ポジマ
スクとを剥し、更に、保護フィルムを剥離し、転写は、
ファーストラミネ−タ・8B−700特殊型(大成ラミ
ネータ(株)製)を用いてコート紙:SKコート(山陽
国策パルプ(株)製)と、保護フィルムを剥離した画像
形成媒体とを密着させ、圧力4kg/cm2 、通過速度
35cm/min、ローラー表面温度70℃の条件でロ
ーラー間のニップにより転写したところ、未露光部の感
光層が厚さ2.0μで転写し、転写面全面にブロッキン
グのない、通常の印刷物と材質感が全く変わらないマゼ
ンタ色の転写物を得ることができた。得られた転写物に
紫外線の全面露光をし、画像の固着処理を行った。
【0041】更に、この画像形成材料を設定温度40℃
の恒温器中で1年間保存し、同様の露光条件にて画像露
光を行い、転写したところ1年前と全く同じ画像露光量
で転写ができ、かつ画像形成材料の保護フィルムを剥離
するときブロッキングを全く起こさなかった。このこと
は、40℃の保存条件下で1年の間、感光層中の反応性
成分の全てが変化しなかったことを意味する。
【0042】実施例2 実施例1の着色画像形成媒体の画像露光をUVレーザー
露光機(イノーヴァ328・コヒーレント社製、351
nmおよび364nm光使用)で2mJ/cm 2 2 のエ
ネルギーを与え、実施例1の方法で転写物を作成した
後、紫外線の全面露光したところ、通常の印刷物と材質
感が全く変わらないダイレクトディジタルカラープルー
フとしての転写物を得ることができた。
【0043】実施例3 実施例1において、紫外線吸収性増感剤として0.4部
のEABに換え、1.2部のDETXを用いた他は、全
く同様の操作によりマゼンタ色の転写物を得た。露光感
度は2.5mJ/cm2 であった。
【0044】実施例4 実施例1において、紫外線吸収性増感剤として0.4部
のEABに換え、0.5部のTAZ−1を用いた他は、
全く同様の操作によりマゼンタ色の転写物を得た。露光
感度は1.5mJ/cm2 であった。
【0045】
【化15】
【0046】
【発明の効果】本発明における着色画像形成媒体および
それを用いた着色画像形成方法の使用により、高感度で
且つ印刷物の見本たりえる高品位な画像品質のカラープ
ルーフを提供することが可能となる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 3/10 G03F 3/10 B 7/027 502 7/027 502 7/029 7/029 7/033 7/033 7/11 501 7/11 501 7/20 505 7/20 505 7/34 7/34

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体上に、染顔料(A)、ラジカル重
    合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物(B)お
    よび光重合開始剤系(C)を含む感光性層を形成し、更
    に必要に応じて感光性層の上に保護フィルムを有する着
    色画像形成媒体において、該感光性層中の光重合開始剤
    系(C)が、下記一般式(1)で表されるスルホニウム
    有機ホウ素錯体またはオキソスルホニウム有機ホウ素錯
    体(イ)と、励起状態において電子供与性と電子受容性
    を併せ持つ紫外線吸収性増感剤(ロ)からなることを特
    徴とする着色画像形成媒体。 【化1】 〔式中、R1 は、ベンジル基、置換されたベンジル基、
    フェナシル基、置換されたフェナシル基、アリールオキ
    シ基、置換されたアリールオキシ基、アルケニル基、置
    換されたアルケニル基から選ばれる基を表し、R2 およ
    びR3 は、それぞれ独立に、R1 を構成できる基と同じ
    基か、またはアルキル基、置換されたアルキル基、アリ
    ール基、置換されたアリール基、アラルキル基、置換さ
    れたアラルキル基、アルキニル基、置換されたアルキニ
    ル基、脂環基、置換された脂環基、アルコキシ基、置換
    されたアルコキシ基、アルキルチオ基、置換されたアル
    キルチオ基、アミノ基、置換されたアミノ基、またはR
    2 とR3 が相互に結合した環状構造を表し、R4 は酸素
    原子または孤立電子対を表し、R5 ,R6 ,R7 および
    8 は、それぞれ独立に、アルキル基、置換されたアル
    キル基、アリール基、置換されたアリール基、アラルキ
    ル基、置換されたアラルキル基、アルケニル基、置換さ
    れたアルケニル基を表す(但し、R5 ,R6 ,R7 およ
    びR8 の全てが、アリール基または置換されたアリール
    基となることはない。)〕
  2. 【請求項2】 さらに高分子バインダー(D)を添加し
    てなる請求項1記載の着色画像形成媒体。
  3. 【請求項3】 励起状態において電子供与性と電子受容
    性を併せ持つ紫外線吸収性増感剤(ロ)が、ベンゾフェ
    ノン誘導体であることを特徴とする請求項1ないし2記
    載の着色画像形成媒体。
  4. 【請求項4】 励起状態において電子供与性と電子受容
    性を併せ持つ紫外線吸収性増感剤(ロ)が、チオキサン
    トン誘導体であることを特徴とする請求項1ないし2記
    載の着色画像形成媒体。
  5. 【請求項5】 励起状態において電子供与性と電子受容
    性を併せ持つ紫外線吸収性増感剤(ロ)が、分子内にト
    リハロゲノメチル基および発色団基を有するトリアジン
    誘導体であることを特徴とする請求項1ないし2記載の
    着色画像形成媒体。
  6. 【請求項6】 請求項1ないし5記載の着色画像形成媒
    体を、任意の側から色分解マスクを通して画像露光す
    る、または任意の側から集光または未集光のレーザ光を
    用いて直接画像露光することにより、感光性層の露光部
    および非露光部において粘着性の差を生じせしめた後、
    保護フィルムまたは支持体の一方を剥離し、被転写体に
    着色画像を転写し、次いで、異なる色相の着色画像を同
    じ被転写体に整合させて転写することを特徴とする着色
    画像形成方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10147607A (ja) * 1996-11-19 1998-06-02 Nippon Soda Co Ltd 硬化性組成物および硬化方法
WO2000043837A1 (fr) * 1999-01-22 2000-07-27 Kodak Polychrome Graphics Company Ltd. Procede de production d'une plaque d'impression
US8575234B2 (en) 2010-09-06 2013-11-05 Samsung Display Co., Ltd. Ink composition, and method of forming pattern, color filter and method of preparing color filter using the same

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