JPH09134008A - 感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents
感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法Info
- Publication number
- JPH09134008A JPH09134008A JP31164095A JP31164095A JPH09134008A JP H09134008 A JPH09134008 A JP H09134008A JP 31164095 A JP31164095 A JP 31164095A JP 31164095 A JP31164095 A JP 31164095A JP H09134008 A JPH09134008 A JP H09134008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- image
- atom
- image forming
- ring
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体レーザー光のような長波長のレーザー
光に対して高い感度を有し、かつ、保存性が優れた感光
性組成物を提供すること。 【解決手段】特定構造を有する630〜730nmの範囲にλma
xを有する色素と、有機過酸化物、ジフェニルヨードニ
ウム塩、特定構造を有する有機ホウ素化合物あるいは特
定構造を有する含酸素、含窒素複素環化合物とを含有す
る感光性組成物、あるいは、特定構造を有する430〜550
nmの範囲にλmaxを有する色素と、ジフェニルヨードニ
ウム塩あるいは特定構造を有する有機ホウ素化合物とを
含むことを特徴とする感光性組成物。
光に対して高い感度を有し、かつ、保存性が優れた感光
性組成物を提供すること。 【解決手段】特定構造を有する630〜730nmの範囲にλma
xを有する色素と、有機過酸化物、ジフェニルヨードニ
ウム塩、特定構造を有する有機ホウ素化合物あるいは特
定構造を有する含酸素、含窒素複素環化合物とを含有す
る感光性組成物、あるいは、特定構造を有する430〜550
nmの範囲にλmaxを有する色素と、ジフェニルヨードニ
ウム塩あるいは特定構造を有する有機ホウ素化合物とを
含むことを特徴とする感光性組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な増感色素とラジ
カル発生剤とを組み合わせた組成物を含有する感光性組
成物、該感光性組成物を用いた画像形成材料及び画像形
成方法に関する。
カル発生剤とを組み合わせた組成物を含有する感光性組
成物、該感光性組成物を用いた画像形成材料及び画像形
成方法に関する。
【０００２】
【発明の背景】近年、情報記録の分野においてデジタル
化が進められており、また、レーザー技術の著しい進歩
に伴い、露光光源として、レーザー光を用いることが検
討されている。
化が進められており、また、レーザー技術の著しい進歩
に伴い、露光光源として、レーザー光を用いることが検
討されている。
【０００３】長波長のレーザー光を放出する半導体レー
ザーは安価であり、小型にできることから、半導体レー
ザーを露光光源として用いることができれば、装置を小
型にでき、価格も安くすることができるので、半導体レ
ーザー光に対して十分な感度を有し、かつ、保存性も優
れた感光材料の開発が望まれていた。
ザーは安価であり、小型にできることから、半導体レー
ザーを露光光源として用いることができれば、装置を小
型にでき、価格も安くすることができるので、半導体レ
ーザー光に対して十分な感度を有し、かつ、保存性も優
れた感光材料の開発が望まれていた。
【０００４】特公平6-76444号公報などには、感光材料
にケトクマリン系色素と有機過酸化物を用いた感光材料
が記載されている。該感光材料は、短波長の可視光に感
光性を有しているが、長波長の光に対しては十分な感光
性を有していなかった。従って、露光には、可視光レー
ザーの中でも比較的に短波長の光を放出するアルゴンレ
ーザーを用いなければならず、アルゴンレーザーよりも
長波長なレーザー光を放出する半導体レーザーを用いる
ことはできなかった。また、上述のアルゴンレーザーを
用いて露光することができる感光材料においては、保存
性が十分でないものがあった。
にケトクマリン系色素と有機過酸化物を用いた感光材料
が記載されている。該感光材料は、短波長の可視光に感
光性を有しているが、長波長の光に対しては十分な感光
性を有していなかった。従って、露光には、可視光レー
ザーの中でも比較的に短波長の光を放出するアルゴンレ
ーザーを用いなければならず、アルゴンレーザーよりも
長波長なレーザー光を放出する半導体レーザーを用いる
ことはできなかった。また、上述のアルゴンレーザーを
用いて露光することができる感光材料においては、保存
性が十分でないものがあった。
【０００５】そこで本発明者らが検討したところ、特定
の増感色素と特定のラジカル発生剤の新規な組み合わせ
を用いることにより、波長が長波のレーザー光に対して
も対応することができる感光性組成物が得られることを
見いだし、これにより、長波長なレーザー光を放出する
安価な半導体レーザーを用いた場合にも十分な感度を有
し、保存性も優れている画像形成材料を得ることができ
た。
の増感色素と特定のラジカル発生剤の新規な組み合わせ
を用いることにより、波長が長波のレーザー光に対して
も対応することができる感光性組成物が得られることを
見いだし、これにより、長波長なレーザー光を放出する
安価な半導体レーザーを用いた場合にも十分な感度を有
し、保存性も優れている画像形成材料を得ることができ
た。
【０００６】
【発明の目的】従って、本発明の目的は、半導体レーザ
ー光のような長波長のレーザー光に対して高い感度を有
し、かつ、保存性が優れた感光性組成物及び画像形成材
料を提供することにある。
ー光のような長波長のレーザー光に対して高い感度を有
し、かつ、保存性が優れた感光性組成物及び画像形成材
料を提供することにある。
【０００７】
【発明の構成】上記本発明の目的は、 （１）630〜730nmの範囲にλmaxを有する一般式（１）
〜（４）で表される色素のうちの少なくとも一種と、有
機過酸化物、ジフェニルヨードニウム塩、一般式（５）
及び一般式（６）で示される化合物から選ばれた少なく
とも一種の化合物とを含有することを特徴とする感光性
組成物。
〜（４）で表される色素のうちの少なくとも一種と、有
機過酸化物、ジフェニルヨードニウム塩、一般式（５）
及び一般式（６）で示される化合物から選ばれた少なく
とも一種の化合物とを含有することを特徴とする感光性
組成物。
【０００８】
【化１６】 ［式中、Ｗ1はアルキル基を表し、Ｚ1及びＺ2はそれぞ
れ５〜７員の複素環を形成するのに必要な原子群を表
す。Ｚ1及びＺ2で形成される複素環はそれぞれ他の環を
縮合していてもよい。Ｖ1は窒素原子、硫黄原子、酸素
原子である。Ａは
れ５〜７員の複素環を形成するのに必要な原子群を表
す。Ｚ1及びＺ2で形成される複素環はそれぞれ他の環を
縮合していてもよい。Ｖ1は窒素原子、硫黄原子、酸素
原子である。Ａは
【０００９】
【化１７】
【００１０】
【化１８】
【００１１】
【化１９】 （上記式において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及び
Ｒ4はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5及びＲ
6は水素原子、アルキル基を表す。ｌ、ｍは０または１
以上の整数を表す。ただし、ｌ＋ｍは１以上である。）
Ｙ-は対アニオンを表す。］
ハロゲン原子、アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及び
Ｒ4はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5及びＲ
6は水素原子、アルキル基を表す。ｌ、ｍは０または１
以上の整数を表す。ただし、ｌ＋ｍは１以上である。）
Ｙ-は対アニオンを表す。］
【００１２】
【化２０】 ［式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基を表し、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。
原子、アルキル基を表し、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。
【００１３】Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は水素原子、ハ
ロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、ア
ルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、アリ
ール基、複素環基を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は
それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、隣接して
いるＲ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は互いに結合して環を形
成していてもよい。Ｗ2はアルキル基を表す。
ロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、ア
ルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、アリ
ール基、複素環基を表し、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は
それぞれ同一でも異なっていてもよい。また、隣接して
いるＲ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は互いに結合して環を形
成していてもよい。Ｗ2はアルキル基を表す。
【００１４】Ｚ3は５〜７員の複素環を形成するのに必
要な原子群を表す。Ｚ3で形成される複素環はそれぞれ
他の環を縮合していてもよい。
要な原子群を表す。Ｚ3で形成される複素環はそれぞれ
他の環を縮合していてもよい。
【００１５】Ｙ-は対アニオンを表す。ｎ、ｏは０また
は１以上の整数を表す。ただし、ｎ＋ｏは１以上であ
る。］
は１以上の整数を表す。ただし、ｎ＋ｏは１以上であ
る。］
【００１６】
【化２１】 ［式中、Ｗ3は酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚ4及びＺ5
はそれぞれ５〜７員の複素環を形成するのに必要な原子
群を表す。Ｚ4及びＺ5で形成される複素環はそれぞれ他
の環を縮合していてもよい。ｐは０または１以上の整数
を表す。］
はそれぞれ５〜７員の複素環を形成するのに必要な原子
群を表す。Ｚ4及びＺ5で形成される複素環はそれぞれ他
の環を縮合していてもよい。ｐは０または１以上の整数
を表す。］
【００１７】
【化２２】 ［式中、Ａは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル
原子を表す。
原子を表す。
【００１８】Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカル
ボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、ア
リール基、複素環基を表し、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及
びＲ19はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、
隣接しているＲ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は互いに
結合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを
表す。］
子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカル
ボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、ア
リール基、複素環基を表し、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及
びＲ19はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、
隣接しているＲ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は互いに
結合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを
表す。］
【００１９】
【化２３】 ［Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はシアノ基、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］
【００２０】
【化２４】 ［Ｒ24及びＲ25は水素原子、シアノ基、アルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリ
ノ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコ
キシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキ
シ基、アリール基、複素環基を表し、Ｒ24及びＲ25はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘはハロゲン原子
を表す。
ルケニル基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリ
ノ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコ
キシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキ
シ基、アリール基、複素環基を表し、Ｒ24及びＲ25はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘはハロゲン原子
を表す。
【００２１】Ｚ6は５〜７員の複素環を形成するのに必
要な原子群を表す。Ｚ6で形成される複素環はそれぞれ
他の環を縮合していてもよい。Ｄは窒素原子、酸素原子
である。］ （２）430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般式（７）
で表される色素と、ジフェニルヨードニウム塩及び一般
式（５）で示される化合物から選ばれた少なくとも一種
の化合物とを含むことを特徴とする感光性組成物。
要な原子群を表す。Ｚ6で形成される複素環はそれぞれ
他の環を縮合していてもよい。Ｄは窒素原子、酸素原子
である。］ （２）430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般式（７）
で表される色素と、ジフェニルヨードニウム塩及び一般
式（５）で示される化合物から選ばれた少なくとも一種
の化合物とを含むことを特徴とする感光性組成物。
【００２２】
【化２５】 ［式中、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及びＲ30は水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、アリ
ール基、複素環基を表し、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及び
Ｒ30はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、隣
接しているＲ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及びＲ30は互いに結
合して環を形成していてもよい。
ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、アリ
ール基、複素環基を表し、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及び
Ｒ30はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、隣
接しているＲ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及びＲ30は互いに結
合して環を形成していてもよい。
【００２３】Ｗ4はアルキル基を表し、Ｚ7は５〜７員の
複素環を形成するのに必要な原子群を表す。Ｚ7で形成
される複素環はそれぞれ他の環を縮合していてもよい。
Ｙ-は対アニオンを表す。］
複素環を形成するのに必要な原子群を表す。Ｚ7で形成
される複素環はそれぞれ他の環を縮合していてもよい。
Ｙ-は対アニオンを表す。］
【００２４】
【化２６】 ［Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はシアノ基、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ （３）430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般式（８）
で表される色素と、一般式（５）で示される化合物とを
含むことを特徴とする感光性組成物。
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ （３）430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般式（８）
で表される色素と、一般式（５）で示される化合物とを
含むことを特徴とする感光性組成物。
【００２５】
【化２７】 ［式中、Ｄは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル
原子を表す。
原子を表す。
【００２６】Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカル
ボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、ア
リール基、複素環基を表し、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及
びＲ35はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、
隣接しているＲ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は互いに
結合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを
表す。］
子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカル
ボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、ア
リール基、複素環基を表し、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及
びＲ35はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、
隣接しているＲ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は互いに
結合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを
表す。］
【００２７】
【化２８】 ［Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はシアノ基、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ （４）430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般式（８
Ａ）で表される色素と、一般式（５）で示される化合物
とを含むことを特徴とする感光性組成物。
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ （４）430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般式（８
Ａ）で表される色素と、一般式（５）で示される化合物
とを含むことを特徴とする感光性組成物。
【００２８】
【化２９】 ［式中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、アリ
ール基、複素環基を表し、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及び
Ｒ35はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、隣
接しているＲ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は互いに結
合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを表
す。］
ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、アリ
ール基、複素環基を表し、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及び
Ｒ35はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、隣
接しているＲ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は互いに結
合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを表
す。］
【００２９】
【化３０】 ［Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はシアノ基、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ （５）エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物
及び着色剤を含有することを特徴とする上記（１）〜
（４）のいずれかに記載の感光性組成物。 （６）アンモニアまたはアミンが配位したコバルト（II
I）錯体及びアンモニアまたはアミンにより発色または
変色する化合物を含有することを特徴とする上記（１）
〜（４）のいずれかに記載の感光性組成物。 （７）支持体上に、上記（５）記載の感光性組成物より
なる感光層を設けたことを特徴とする画像形成材料。 （８）支持体と上記（５）記載の感光性組成物よりなる
感光層との間に中間層を設けたことを特徴とする上記
（７）記載の画像形成材料。 （９）感光層の上にカバーシートを設けたことを特徴と
する上記（７）または（８）記載の画像形成材料。 （１０）支持体上に、上記（６）記載の感光性組成物よ
りなる感光層を設けたことを特徴とする画像形成材料。 （１１）上記（７）または（８）記載の画像形成材料
を、画像様に露光し、画像形成材料の感光層に受像材料
を重ね、加熱または加圧し、感光層の露光部及び未露光
部に生じた粘着性の差により、感光層を受像材料に転写
し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 （１２）上記（９）記載の画像形成材料を、画像様に露
光し、カバーシートを除去した後、画像形成材料の感光
層に受像材料を重ね、加熱または加圧し、感光層の露光
部及び未露光部に生じた粘着性の差により、感光層を受
像材料に転写し、画像を形成することを特徴とする画像
形成方法。 （１３）上記（９）記載の画像形成材料を、カバーシー
ト側から画像様に露光し、感光層の露光部及び未露光部
に生じた粘着性の差により、カバーシートに接着してい
る画像を形成し、次いで、カバーシートに形成された画
像とともにカバーシートを剥離することを特徴とする画
像形成方法。 （１４）上記（１０）記載の画像形成材料を、画像様に
露光し、次いで、加熱することを特徴とする画像形成方
法。 （１５）露光を、レーザー光により行なうことを特徴と
する上記（１１）〜（１４）のいずれかに記載の画像形
成方法。 （１６）レーザー光が、固体レーザーより得られたレー
ザー光であることを特徴とする上記（１５）記載の画像
形成方法。 （１７）レーザー光が、アルゴンレーザー、Ｗ−ＹＡＧ
レーザーまたは半導体レーザーより得られたレーザー光
であることを特徴とする上記（１５）記載の画像形成方
法。 （１８）露光を、レーザー光の走査露光により行なうこ
とを特徴とする請求項上記（１１）〜（１７）のいずれ
かに記載の画像形成方法。
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ （５）エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物
及び着色剤を含有することを特徴とする上記（１）〜
（４）のいずれかに記載の感光性組成物。 （６）アンモニアまたはアミンが配位したコバルト（II
I）錯体及びアンモニアまたはアミンにより発色または
変色する化合物を含有することを特徴とする上記（１）
〜（４）のいずれかに記載の感光性組成物。 （７）支持体上に、上記（５）記載の感光性組成物より
なる感光層を設けたことを特徴とする画像形成材料。 （８）支持体と上記（５）記載の感光性組成物よりなる
感光層との間に中間層を設けたことを特徴とする上記
（７）記載の画像形成材料。 （９）感光層の上にカバーシートを設けたことを特徴と
する上記（７）または（８）記載の画像形成材料。 （１０）支持体上に、上記（６）記載の感光性組成物よ
りなる感光層を設けたことを特徴とする画像形成材料。 （１１）上記（７）または（８）記載の画像形成材料
を、画像様に露光し、画像形成材料の感光層に受像材料
を重ね、加熱または加圧し、感光層の露光部及び未露光
部に生じた粘着性の差により、感光層を受像材料に転写
し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 （１２）上記（９）記載の画像形成材料を、画像様に露
光し、カバーシートを除去した後、画像形成材料の感光
層に受像材料を重ね、加熱または加圧し、感光層の露光
部及び未露光部に生じた粘着性の差により、感光層を受
像材料に転写し、画像を形成することを特徴とする画像
形成方法。 （１３）上記（９）記載の画像形成材料を、カバーシー
ト側から画像様に露光し、感光層の露光部及び未露光部
に生じた粘着性の差により、カバーシートに接着してい
る画像を形成し、次いで、カバーシートに形成された画
像とともにカバーシートを剥離することを特徴とする画
像形成方法。 （１４）上記（１０）記載の画像形成材料を、画像様に
露光し、次いで、加熱することを特徴とする画像形成方
法。 （１５）露光を、レーザー光により行なうことを特徴と
する上記（１１）〜（１４）のいずれかに記載の画像形
成方法。 （１６）レーザー光が、固体レーザーより得られたレー
ザー光であることを特徴とする上記（１５）記載の画像
形成方法。 （１７）レーザー光が、アルゴンレーザー、Ｗ−ＹＡＧ
レーザーまたは半導体レーザーより得られたレーザー光
であることを特徴とする上記（１５）記載の画像形成方
法。 （１８）露光を、レーザー光の走査露光により行なうこ
とを特徴とする請求項上記（１１）〜（１７）のいずれ
かに記載の画像形成方法。
【００３０】以下、本発明について詳細に説明する。
【００３１】先ず、上記（１）項に記載の感光性組成物
〔以下、本発明の感光性組成物（Ａ）という。〕、
（２）項に記載の感光性組成物〔以下、本発明の感光性
組成物（Ｂ）という。〕、（３）項に記載の感光性組成
物〔以下、本発明の感光性組成物（Ｃ）という。〕及び
（４）項に記載の感光性組成物〔以下、本発明の感光性
組成物（Ｄ）という。〕について説明する。
〔以下、本発明の感光性組成物（Ａ）という。〕、
（２）項に記載の感光性組成物〔以下、本発明の感光性
組成物（Ｂ）という。〕、（３）項に記載の感光性組成
物〔以下、本発明の感光性組成物（Ｃ）という。〕及び
（４）項に記載の感光性組成物〔以下、本発明の感光性
組成物（Ｄ）という。〕について説明する。
【００３２】本発明において、上記（１）項記載の一般
式（１）〜（４）で表される色素は630〜730nmの範囲に
λmaxを有するものに限定され、上記（２）項記載の一
般式（７）で表される色素、上記（３）項記載の一般式
（８）で表される色素、上記（４）項記載の一般式（８
Ａ）で表される色素は430〜550nmの範囲にλmaxを有す
るものに限定されている。
式（１）〜（４）で表される色素は630〜730nmの範囲に
λmaxを有するものに限定され、上記（２）項記載の一
般式（７）で表される色素、上記（３）項記載の一般式
（８）で表される色素、上記（４）項記載の一般式（８
Ａ）で表される色素は430〜550nmの範囲にλmaxを有す
るものに限定されている。
【００３３】一般式（１）において、Ｗ1で表されるア
ルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基を挙げることができる。また、これらアルキル基
は、置換基を有していてもよい。
ルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロ
ピル基を挙げることができる。また、これらアルキル基
は、置換基を有していてもよい。
【００３４】Ｚ1、Ｚ2で形成される縮合環を有していて
もよい複素環としては、例えば、キノリン、ベンゾオキ
サゾール、ベンゾチアゾール、チアゾリン、チアゾー
ル、ナフトチアゾール、セレナゾリン、セレナゾール、
ベンゾセレナゾール、ナフトセレナゾール、オキサゾー
ル、ナフトオキサゾール、ベンズイミダゾール、ナフト
イミタゾール、ピリジン、インドレニン、イミダゾ
〔４，５−ｂ〕キノキザリン、ベンゾテルラゾールが挙
げられる。また、これら複素環は置換基を有していても
よく、これら置換基としては、例えば、低級アルキル基
（好ましくは炭素数６以下で、ヒドロキシ基、ハロゲン
原子、フェニル基、置換フェニル基、カルボキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アルコキシ基などで更に置換さ
れていてもよい。）、低級アルコキシ基（好ましくは炭
素数６以下。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数８
以下。）、単環アリール基、カルボキシ基、低級アルコ
キシカルボニル基（好ましくは炭素数６以下。）、ヒド
ロキシ基、シアノ基またはハロゲン原子等が挙げられ
る。
もよい複素環としては、例えば、キノリン、ベンゾオキ
サゾール、ベンゾチアゾール、チアゾリン、チアゾー
ル、ナフトチアゾール、セレナゾリン、セレナゾール、
ベンゾセレナゾール、ナフトセレナゾール、オキサゾー
ル、ナフトオキサゾール、ベンズイミダゾール、ナフト
イミタゾール、ピリジン、インドレニン、イミダゾ
〔４，５−ｂ〕キノキザリン、ベンゾテルラゾールが挙
げられる。また、これら複素環は置換基を有していても
よく、これら置換基としては、例えば、低級アルキル基
（好ましくは炭素数６以下で、ヒドロキシ基、ハロゲン
原子、フェニル基、置換フェニル基、カルボキシ基、ア
ルコキシカルボニル基、アルコキシ基などで更に置換さ
れていてもよい。）、低級アルコキシ基（好ましくは炭
素数６以下。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数８
以下。）、単環アリール基、カルボキシ基、低級アルコ
キシカルボニル基（好ましくは炭素数６以下。）、ヒド
ロキシ基、シアノ基またはハロゲン原子等が挙げられ
る。
【００３５】Ｚ1で形成される縮合環を有していてもよ
い複素環には、Ｖ1の位置に窒素原子、硫黄原子、酸素
原子が存在している。
い複素環には、Ｖ1の位置に窒素原子、硫黄原子、酸素
原子が存在している。
【００３６】Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で表されるハロゲン
原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子が挙げられ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6で表さ
れるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基が挙げられる。また、これらアルキル基
は、置換基を有していてもよい。
原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子が挙げられ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6で表さ
れるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基が挙げられる。また、これらアルキル基
は、置換基を有していてもよい。
【００３７】Ｙ-で表される対アニオンとしては、例え
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
【００３８】なお、分子内で塩を形成できる場合には、
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
【００３９】一般式（２）において、Ｚ3で形成される
縮合環を有していてもよい複素環としては、先に、
Ｚ1、Ｚ2で形成される縮合環を有していてもよい複素環
の例として記載した複素環を例示することができ、ま
た、また、これら複素環は置換基を有していてもよく、
これら置換基としては、先に、Ｚ1、Ｚ2で形成される縮
合環を有していてもよい置換基の例として記載した置換
基を例示することができる。
縮合環を有していてもよい複素環としては、先に、
Ｚ1、Ｚ2で形成される縮合環を有していてもよい複素環
の例として記載した複素環を例示することができ、ま
た、また、これら複素環は置換基を有していてもよく、
これら置換基としては、先に、Ｚ1、Ｚ2で形成される縮
合環を有していてもよい置換基の例として記載した置換
基を例示することができる。
【００４０】Ｗ2で表されるアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基を挙げることがで
きる。また、これらアルキル基は、置換基を有していて
もよい。
ば、メチル基、エチル基、プロピル基を挙げることがで
きる。また、これらアルキル基は、置換基を有していて
もよい。
【００４１】Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10で表されるハロゲ
ン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基が挙げられる。また、これら
アルキル基は、置換基を有していてもよい。
ン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基が挙げられる。また、これら
アルキル基は、置換基を有していてもよい。
【００４２】Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14で表されるハロ
ゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基が挙げられ、アルケニル基
としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニ
ル基が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、シクロヘキシ
ルオキシ基が挙げられ、スルホンアミド基としては、例
えば、メチルスルホンアミド基、エチルスルホンアミド
基、フェニルスルホンアミド基が挙げられ、アシルアミ
ノ基としては、例えば、アセチルアミノ基、プロピオニ
ルアミノ基、ブチリルアミノ基が挙げられ、ウレイド基
としては、例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド
基、フェニルウレイド基が挙げられ、アルコキシカルボ
ニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基が挙げられ、アルコキシカルボニルア
ミノ基としては、例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、エトキシカルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモ
イル基としては、例えば、メチルカルバモイル基、エチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基が挙げら
れ、スルファモイル基としては、例えば、メチルスルフ
ァモイル基、エチルスルファモイル基、フェニルスルフ
ァモイル基が挙げられ、アリール基としては、例えば、
フェニル基、ナフチル基が挙げられ、複素環基として
は、例えば、フラン、チオフェン、ピリジン、ピロー
ル、オキサゾールチアゾールからの基が挙げられる。ま
た、これら基は、置換基を有していてもよい。
ゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基が挙げられ、アルケニル基
としては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニ
ル基が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メト
キシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、シクロヘキシ
ルオキシ基が挙げられ、スルホンアミド基としては、例
えば、メチルスルホンアミド基、エチルスルホンアミド
基、フェニルスルホンアミド基が挙げられ、アシルアミ
ノ基としては、例えば、アセチルアミノ基、プロピオニ
ルアミノ基、ブチリルアミノ基が挙げられ、ウレイド基
としては、例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド
基、フェニルウレイド基が挙げられ、アルコキシカルボ
ニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基が挙げられ、アルコキシカルボニルア
ミノ基としては、例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、エトキシカルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモ
イル基としては、例えば、メチルカルバモイル基、エチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基が挙げら
れ、スルファモイル基としては、例えば、メチルスルフ
ァモイル基、エチルスルファモイル基、フェニルスルフ
ァモイル基が挙げられ、アリール基としては、例えば、
フェニル基、ナフチル基が挙げられ、複素環基として
は、例えば、フラン、チオフェン、ピリジン、ピロー
ル、オキサゾールチアゾールからの基が挙げられる。ま
た、これら基は、置換基を有していてもよい。
【００４３】Ｙ-で表される対アニオンとしては、例え
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
【００４４】なお、分子内で塩を形成できる場合には、
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
【００４５】一般式（３）において、Ｚ4、Ｚ5で形成さ
れる縮合環を有していてもよい複素環としては、先に、
Ｚ1、Ｚ2で形成される縮合環を有していてもよい複素環
の例として記載した複素環を例示することができ、ま
た、また、これら複素環は置換基を有していてもよく、
これら置換基としては、先に、Ｚ1、Ｚ2で形成される縮
合環を有していてもよい置換基の例として記載した置換
基を例示することができる。
れる縮合環を有していてもよい複素環としては、先に、
Ｚ1、Ｚ2で形成される縮合環を有していてもよい複素環
の例として記載した複素環を例示することができ、ま
た、また、これら複素環は置換基を有していてもよく、
これら置換基としては、先に、Ｚ1、Ｚ2で形成される縮
合環を有していてもよい置換基の例として記載した置換
基を例示することができる。
【００４６】一般式（４）において、Ｒ15、Ｒ16、
Ｒ17、Ｒ18及びＲ19で表されるハロゲン原子としては、
例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられ、
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基が挙げられ、アルケニル基としては、例えば、
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基が挙げられ、ア
ルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が挙げ
られ、スルホンアミド基としては、例えば、メチルスル
ホンアミド基、エチルスルホンアミド基、フェニルスル
ホンアミド基が挙げられ、アシルアミノ基としては、例
えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブチ
リルアミノ基が挙げられ、ウレイド基としては、例え
ば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フェニルウ
レイド基が挙げられ、アルコキシカルボニル基として
は、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基が挙げられ、アルコキシカルボニルアミノ基として
は、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカ
ルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモイル基として
は、例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイ
ル基、フェニルカルバモイル基が挙げられ、スルファモ
イル基としては、例えば、メチルスルファモイル基、エ
チルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基が挙
げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナ
フチル基が挙げられ、複素環基としては、例えば、フラ
ン、チオフェン、ピリジン、ピロール、オキサゾールチ
アゾールからの基が挙げられる。また、これら基は、置
換基を有していてもよい。
Ｒ17、Ｒ18及びＲ19で表されるハロゲン原子としては、
例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられ、
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基が挙げられ、アルケニル基としては、例えば、
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基が挙げられ、ア
ルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が挙げ
られ、スルホンアミド基としては、例えば、メチルスル
ホンアミド基、エチルスルホンアミド基、フェニルスル
ホンアミド基が挙げられ、アシルアミノ基としては、例
えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブチ
リルアミノ基が挙げられ、ウレイド基としては、例え
ば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フェニルウ
レイド基が挙げられ、アルコキシカルボニル基として
は、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基が挙げられ、アルコキシカルボニルアミノ基として
は、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカ
ルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモイル基として
は、例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイ
ル基、フェニルカルバモイル基が挙げられ、スルファモ
イル基としては、例えば、メチルスルファモイル基、エ
チルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基が挙
げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナ
フチル基が挙げられ、複素環基としては、例えば、フラ
ン、チオフェン、ピリジン、ピロール、オキサゾールチ
アゾールからの基が挙げられる。また、これら基は、置
換基を有していてもよい。
【００４７】また、隣接しているＲ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ
18及びＲ19は互いに結合して環を形成していてもよく、
形成される環としては、例えば、ベンゼン環、シクロヘ
キサン環が挙げられる。また、これら環は、置換基を有
していてもよい。
18及びＲ19は互いに結合して環を形成していてもよく、
形成される環としては、例えば、ベンゼン環、シクロヘ
キサン環が挙げられる。また、これら環は、置換基を有
していてもよい。
【００４８】Ｙ-で表される対アニオンとしては、例え
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
【００４９】なお、分子内で塩を形成できる場合には、
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
【００５０】また、一般式（７）において、Ｒ26、
Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及びＲ30で表されるハロゲン原子とし
ては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げ
られ、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基が挙げられ、アルケニル基としては、例
えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基が挙げら
れ、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が
挙げられ、スルホンアミド基としては、例えば、メチル
スルホンアミド基、エチルスルホンアミド基、フェニル
スルホンアミド基が挙げられ、アシルアミノ基として
は、例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ
基、ブチリルアミノ基が挙げられ、ウレイド基として
は、例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フ
ェニルウレイド基が挙げられ、アルコキシカルボニル基
としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基が挙げられ、アルコキシカルボニルアミノ基
としては、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エト
キシカルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモイル基と
しては、例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基が挙げられ、スルフ
ァモイル基としては、例えば、メチルスルファモイル
基、エチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル
基が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル
基、ナフチル基が挙げられ、複素環基としては、例え
ば、フラン、チオフェン、ピリジン、ピロール、オキサ
ゾールチアゾールからの基が挙げられる。また、これら
基は、置換基を有していてもよい。
Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及びＲ30で表されるハロゲン原子とし
ては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げ
られ、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基が挙げられ、アルケニル基としては、例
えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基が挙げら
れ、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基、プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が
挙げられ、スルホンアミド基としては、例えば、メチル
スルホンアミド基、エチルスルホンアミド基、フェニル
スルホンアミド基が挙げられ、アシルアミノ基として
は、例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ
基、ブチリルアミノ基が挙げられ、ウレイド基として
は、例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フ
ェニルウレイド基が挙げられ、アルコキシカルボニル基
としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基が挙げられ、アルコキシカルボニルアミノ基
としては、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エト
キシカルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモイル基と
しては、例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバ
モイル基、フェニルカルバモイル基が挙げられ、スルフ
ァモイル基としては、例えば、メチルスルファモイル
基、エチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル
基が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェニル
基、ナフチル基が挙げられ、複素環基としては、例え
ば、フラン、チオフェン、ピリジン、ピロール、オキサ
ゾールチアゾールからの基が挙げられる。また、これら
基は、置換基を有していてもよい。
【００５１】また、隣接しているＲ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ
29及びＲ30は互いに結合して環を形成していてもよく、
形成される環としては、例えば、ベンゼン環、シクロヘ
キサン環が挙げられる。また、これら環は、置換基を有
していてもよい。
29及びＲ30は互いに結合して環を形成していてもよく、
形成される環としては、例えば、ベンゼン環、シクロヘ
キサン環が挙げられる。また、これら環は、置換基を有
していてもよい。
【００５２】Ｚ7で形成される縮合環を有していてもよ
い複素環としては、Ｚ2で形成される縮合環を有してい
てもよい複素環の例として記載した複素環を例示するこ
とができ、また、これら複素環は置換基を有していても
よく、これら置換基としては、先に、Ｚ2で形成される
縮合環を有していてもよい置換基の例として記載した置
換基を例示することができる。
い複素環としては、Ｚ2で形成される縮合環を有してい
てもよい複素環の例として記載した複素環を例示するこ
とができ、また、これら複素環は置換基を有していても
よく、これら置換基としては、先に、Ｚ2で形成される
縮合環を有していてもよい置換基の例として記載した置
換基を例示することができる。
【００５３】Ｗ4で表されるアルキル基としては、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられる。ま
た、これら基は、置換基を有していてもよい。
ば、メチル基、エチル基、プロピル基が挙げられる。ま
た、これら基は、置換基を有していてもよい。
【００５４】Ｙ-で表される対アニオンとしては、例え
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
【００５５】なお、分子内で塩を形成できる場合には、
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
【００５６】一般式（８）及び一般式（８Ａ）におい
て、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35で表されるハロゲ
ン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基が挙げられ、アルケニル基と
しては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル
基が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メトキ
シ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、シクロヘキシル
オキシ基が挙げられ、スルホンアミド基としては、例え
ば、メチルスルホンアミド基、エチルスルホンアミド
基、フェニルスルホンアミド基が挙げられ、アシルアミ
ノ基としては、例えば、アセチルアミノ基、プロピオニ
ルアミノ基、ブチリルアミノ基が挙げられ、ウレイド基
としては、例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド
基、フェニルウレイド基が挙げられ、アルコキシカルボ
ニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基が挙げられ、アルコキシカルボニルア
ミノ基としては、例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、エトキシカルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモ
イル基としては、例えば、メチルカルバモイル基、エチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基が挙げら
れ、スルファモイル基としては、例えば、メチルスルフ
ァモイル基、エチルスルファモイル基、フェニルスルフ
ァモイル基が挙げられ、アリール基としては、例えば、
フェニル基、ナフチル基が挙げられ、複素環基として
は、例えば、フラン、チオフェン、ピリジン、ピロー
ル、オキサゾールチアゾールからの基が挙げられる。ま
た、これら基は、置換基を有していてもよい。
て、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35で表されるハロゲ
ン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素
原子が挙げられ、アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、プロピル基が挙げられ、アルケニル基と
しては、例えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル
基が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メトキ
シ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、シクロヘキシル
オキシ基が挙げられ、スルホンアミド基としては、例え
ば、メチルスルホンアミド基、エチルスルホンアミド
基、フェニルスルホンアミド基が挙げられ、アシルアミ
ノ基としては、例えば、アセチルアミノ基、プロピオニ
ルアミノ基、ブチリルアミノ基が挙げられ、ウレイド基
としては、例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド
基、フェニルウレイド基が挙げられ、アルコキシカルボ
ニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基が挙げられ、アルコキシカルボニルア
ミノ基としては、例えば、メトキシカルボニルアミノ
基、エトキシカルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモ
イル基としては、例えば、メチルカルバモイル基、エチ
ルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基が挙げら
れ、スルファモイル基としては、例えば、メチルスルフ
ァモイル基、エチルスルファモイル基、フェニルスルフ
ァモイル基が挙げられ、アリール基としては、例えば、
フェニル基、ナフチル基が挙げられ、複素環基として
は、例えば、フラン、チオフェン、ピリジン、ピロー
ル、オキサゾールチアゾールからの基が挙げられる。ま
た、これら基は、置換基を有していてもよい。
【００５７】また、隣接しているＲ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ
34及びＲ35は互いに結合して環を形成していてもよく、
形成される環としては、例えば、ベンゼン環、シクロヘ
キサン環が挙げられる。また、これら環は、置換基を有
していてもよい。
34及びＲ35は互いに結合して環を形成していてもよく、
形成される環としては、例えば、ベンゼン環、シクロヘ
キサン環が挙げられる。また、これら環は、置換基を有
していてもよい。
【００５８】Ｙ-で表される対アニオンとしては、例え
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
ば、臭素イオン、塩素イオン、過塩素酸イオン、ヨード
イオン、四フッ化ホウ素イオン、ヘキサフルオロリン酸
イオン、トリフルオロスルホン酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオンが挙げられる。
【００５９】なお、分子内で塩を形成できる場合には、
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
Ｙ-表される対アニオンは必要がない。
【００６０】本発明の感光性組成物（Ａ）で用いられる
上記一般式（１）〜一般式（４）で表される色素は、63
0〜730nmの範囲にλmaxを有しているものに限定されて
いる。上記一般式（１）〜一般式（４）で表される色素
であっても、630〜730nmの範囲にλmaxを有していなけ
れば、本発明の感光性組成物（Ａ）に使用することはで
きない。
上記一般式（１）〜一般式（４）で表される色素は、63
0〜730nmの範囲にλmaxを有しているものに限定されて
いる。上記一般式（１）〜一般式（４）で表される色素
であっても、630〜730nmの範囲にλmaxを有していなけ
れば、本発明の感光性組成物（Ａ）に使用することはで
きない。
【００６１】本発明の感光性組成物（Ｂ）で用いられる
上記一般式（７）で表される色素は、430〜550nmの範囲
にλmaxを有しているものに限定されている。上記一般
式（７）で表される色素であっても、430〜550nmの範囲
にλmaxを有していなければ、本発明の感光性組成物
（Ｂ）に使用することはできない。
上記一般式（７）で表される色素は、430〜550nmの範囲
にλmaxを有しているものに限定されている。上記一般
式（７）で表される色素であっても、430〜550nmの範囲
にλmaxを有していなければ、本発明の感光性組成物
（Ｂ）に使用することはできない。
【００６２】本発明の感光性組成物（Ｃ）で用いられる
上記一般式（８）で表される色素は、430〜550nmの範囲
にλmaxを有しているものに限定されている。上記一般
式（８）で表される色素であっても、430〜550nmの範囲
にλmaxを有していなければ、本発明の感光性組成物
（Ｃ）に使用することはできない。
上記一般式（８）で表される色素は、430〜550nmの範囲
にλmaxを有しているものに限定されている。上記一般
式（８）で表される色素であっても、430〜550nmの範囲
にλmaxを有していなければ、本発明の感光性組成物
（Ｃ）に使用することはできない。
【００６３】本発明の感光性組成物（Ｄ）で用いられる
上記一般式（８Ａ）で表される色素は、430〜550nmの範
囲にλmaxを有しているものに限定されている。上記一
般式（８Ａ）で表される色素であっても、430〜550nmの
範囲にλmaxを有していなければ、本発明の感光性組成
物（Ｄ）に使用することはできない。
上記一般式（８Ａ）で表される色素は、430〜550nmの範
囲にλmaxを有しているものに限定されている。上記一
般式（８Ａ）で表される色素であっても、430〜550nmの
範囲にλmaxを有していなければ、本発明の感光性組成
物（Ｄ）に使用することはできない。
【００６４】本発明において使用することができる一般
式（１）〜一般式（４）、一般式（７）、一般式（８）
及び一般式（８Ａ）で表される色素の具体例としては、
下記の化合物を挙げることができる。
式（１）〜一般式（４）、一般式（７）、一般式（８）
及び一般式（８Ａ）で表される色素の具体例としては、
下記の化合物を挙げることができる。
【００６５】
【化３１】
【００６６】
【化３２】
【００６７】
【化３３】
【００６８】
【化３４】
【００６９】
【化３５】
【００７０】
【化３６】
【００７１】
【化３７】
【００７２】次に、本発明において用いられる有機過酸
化物、ジフェニルヨードニウム塩、一般式（５）及び一
般式（６）で示される化合物について説明する。
化物、ジフェニルヨードニウム塩、一般式（５）及び一
般式（６）で示される化合物について説明する。
【００７３】本発明に用いられる有機過酸化物は、分子
中に酸素−酸素結合を１個以上有する有機過酸化物であ
るが、その具体例としては、例えば、ジアシルパーオキ
サイド類、ヒドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオ
キサイド類、パーオキシケタール類、アルキルパーエス
テル類、パーオキシカーボネート類、コハク酸パーオキ
サイドが挙げられる。
中に酸素−酸素結合を１個以上有する有機過酸化物であ
るが、その具体例としては、例えば、ジアシルパーオキ
サイド類、ヒドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオ
キサイド類、パーオキシケタール類、アルキルパーエス
テル類、パーオキシカーボネート類、コハク酸パーオキ
サイドが挙げられる。
【００７４】ジフェニルヨードニウム塩は、ハロゲン原
子（例えば、フッ素原子、塩素原子）、アルキル基等の
置換基を有していてもよい。塩を形成する陰イオンとし
ては、例えば、ＰＦ - 6、Ｃｌ-、ＣｌＯ - 4、ＰＦ - 6、
ＡｓＦ - 6、ＳｂＦ - 6、ＮＯ- 3、ＣＦ3ＳＯ - 3が挙げら
れる。
子（例えば、フッ素原子、塩素原子）、アルキル基等の
置換基を有していてもよい。塩を形成する陰イオンとし
ては、例えば、ＰＦ - 6、Ｃｌ-、ＣｌＯ - 4、ＰＦ - 6、
ＡｓＦ - 6、ＳｂＦ - 6、ＮＯ- 3、ＣＦ3ＳＯ - 3が挙げら
れる。
【００７５】一般式（５）において、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22
及びＲ23で表されるアルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ヘキシル基が挙げられ、アルケニル基としては、例
えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基が挙げら
れ、アルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロ
ピニル基、イソプロピニル基が挙げられ、アリール基と
しては、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられ、
複素環基としては、例えば、フラン、チオフェン、ピリ
ジン、ピロール、オキサゾールチアゾールからの基が挙
げられる。また、これら基は、置換基を有していてもよ
い。
及びＲ23で表されるアルキル基としては、例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、ヘキシル基が挙げられ、アルケニル基としては、例
えば、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基が挙げら
れ、アルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロ
ピニル基、イソプロピニル基が挙げられ、アリール基と
しては、例えば、フェニル基、ナフチル基が挙げられ、
複素環基としては、例えば、フラン、チオフェン、ピリ
ジン、ピロール、オキサゾールチアゾールからの基が挙
げられる。また、これら基は、置換基を有していてもよ
い。
【００７６】また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は互いに
結合して環を形成していてもよい。また、これら環は、
置換基を有していてもよい。
結合して環を形成していてもよい。また、これら環は、
置換基を有していてもよい。
【００７７】Ｍ+で表される対カチオンとしては、例え
ば、アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホ
スホニウムカチオンなどの周期表５Ａ族オニウム化合物
のカチオン、スルホニウムカチオン、テルロニウムカチ
オンなどの６Ａ族オニウム化合物のカチオンが挙げられ
る。
ば、アルカリ金属カチオン、アンモニウムカチオン、ホ
スホニウムカチオンなどの周期表５Ａ族オニウム化合物
のカチオン、スルホニウムカチオン、テルロニウムカチ
オンなどの６Ａ族オニウム化合物のカチオンが挙げられ
る。
【００７８】なお、分子内で塩を形成できる場合には、
Ｍ+で表される対カチオンは必要がない。
Ｍ+で表される対カチオンは必要がない。
【００７９】一般式（６）において、Ｒ24及びＲ25で表
されるアルキル基としては、例えば、トリクロロメチル
基のごときトリハロメチル基、メチル基、エチル基、プ
ロピル基が挙げられ、アルケニル基としては、例えば、
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基が挙げられ、ア
ルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が挙げ
られ、スルホンアミド基としては、例えば、メチルスル
ホンアミド基、エチルスルホンアミド基、フェニルスル
ホンアミド基が挙げられ、アシルアミノ基としては、例
えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブチ
リルアミノ基が挙げられ、ウレイド基としては、例え
ば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フェニルウ
レイド基が挙げられ、アルコキシカルボニル基として
は、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基が挙げられ、アルコキシカルボニルアミノ基として
は、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカ
ルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモイル基として
は、例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイ
ル基、フェニルカルバモイル基が挙げられ、スルファモ
イル基としては、例えば、メチルスルファモイル基、エ
チルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基が挙
げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナ
フチル基が挙げられ、複素環基としては、例えば、フラ
ン、チオフェン、ピリジン、ピロール、オキサゾールチ
アゾールからの基が挙げられる。また、これら基は、置
換基を有していてもよい。
されるアルキル基としては、例えば、トリクロロメチル
基のごときトリハロメチル基、メチル基、エチル基、プ
ロピル基が挙げられ、アルケニル基としては、例えば、
ビニル基、アリル基、イソプロペニル基が挙げられ、ア
ルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ
基、プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が挙げ
られ、スルホンアミド基としては、例えば、メチルスル
ホンアミド基、エチルスルホンアミド基、フェニルスル
ホンアミド基が挙げられ、アシルアミノ基としては、例
えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ブチ
リルアミノ基が挙げられ、ウレイド基としては、例え
ば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、フェニルウ
レイド基が挙げられ、アルコキシカルボニル基として
は、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニ
ル基が挙げられ、アルコキシカルボニルアミノ基として
は、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカ
ルボニルアミノ基が挙げられ、カルバモイル基として
は、例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイ
ル基、フェニルカルバモイル基が挙げられ、スルファモ
イル基としては、例えば、メチルスルファモイル基、エ
チルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基が挙
げられ、アリール基としては、例えば、フェニル基、ナ
フチル基が挙げられ、複素環基としては、例えば、フラ
ン、チオフェン、ピリジン、ピロール、オキサゾールチ
アゾールからの基が挙げられる。また、これら基は、置
換基を有していてもよい。
【００８０】Ｘで表されるハロゲン原子としては、例え
ば、塩素原子が挙げられる。
ば、塩素原子が挙げられる。
【００８１】Ｚ6で形成される縮合環を有していてもよ
い複素環としては、例えば、キノリン、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾチアゾール、チアゾリン、チアゾール、ナ
フトチアゾール、セレナゾリン、セレナゾール、ベンゾ
セレナゾール、ナフトセレナゾール、オキサゾール、ナ
フトオキサゾール、ベンズイミダゾール、ナフトイミタ
ゾール、ピリジン、インドレニン、イミダゾ〔４，５−
ｂ〕キノキザリン、ベンゾテルラゾールが挙げられる。
また、これら複素環は置換基を有していてもよく、これ
ら置換基としては、例えば、キノリン、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾチアゾール、チアゾリン、チアゾール、ナ
フトチアゾール、セレナゾリン、セレナゾール、ベンゾ
セレナゾール、ナフトセレナゾール、オキサゾール、ナ
フトオキサゾール、ベンズイミダゾール、ナフトイミタ
ゾール、ピリジン、インドレニン、イミダゾ〔４，５−
ｂ〕キノキザリン、ベンゾテルラゾールが挙げられる。
い複素環としては、例えば、キノリン、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾチアゾール、チアゾリン、チアゾール、ナ
フトチアゾール、セレナゾリン、セレナゾール、ベンゾ
セレナゾール、ナフトセレナゾール、オキサゾール、ナ
フトオキサゾール、ベンズイミダゾール、ナフトイミタ
ゾール、ピリジン、インドレニン、イミダゾ〔４，５−
ｂ〕キノキザリン、ベンゾテルラゾールが挙げられる。
また、これら複素環は置換基を有していてもよく、これ
ら置換基としては、例えば、キノリン、ベンゾオキサゾ
ール、ベンゾチアゾール、チアゾリン、チアゾール、ナ
フトチアゾール、セレナゾリン、セレナゾール、ベンゾ
セレナゾール、ナフトセレナゾール、オキサゾール、ナ
フトオキサゾール、ベンズイミダゾール、ナフトイミタ
ゾール、ピリジン、インドレニン、イミダゾ〔４，５−
ｂ〕キノキザリン、ベンゾテルラゾールが挙げられる。
【００８２】Ｚ6で形成される縮合環を有していてもよ
い複素環は、Ｄの位置に窒素原子、酸素原子が存在して
いる。
い複素環は、Ｄの位置に窒素原子、酸素原子が存在して
いる。
【００８３】一般式（５）で表される化合物の具体例
は、特開昭64−13142号公報、特開平2−4804号公報に記
載されている。
は、特開昭64−13142号公報、特開平2−4804号公報に記
載されている。
【００８４】一般式（６）で表される化合物の具体例と
しては、ｓ−トリアジン化合物（例えば、２，４，６−
トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（４−メトキシフェニル）−４，６ビス−（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン）、特開昭55−77742号公報
の第２頁右下〜第３頁右下に記載された化合物、特開昭
62−57646号公報の第８頁左上〜第９頁左上に記載され
た化合物、特開昭64−13140号公報の第５頁左上〜第６
頁右上に記載された化合物などを挙げることができる。
しては、ｓ−トリアジン化合物（例えば、２，４，６−
トリス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（４−メトキシフェニル）−４，６ビス−（トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン）、特開昭55−77742号公報
の第２頁右下〜第３頁右下に記載された化合物、特開昭
62−57646号公報の第８頁左上〜第９頁左上に記載され
た化合物、特開昭64−13140号公報の第５頁左上〜第６
頁右上に記載された化合物などを挙げることができる。
【００８５】本発明の感光性組成物（Ａ）、（Ｂ）、
（Ｃ）及び（Ｄ）中において、一般式（１）〜（４）、
一般式（７）、一般式（８）及び一般式（８Ａ）で表さ
れる色素（以下、併せて、本発明の増感色素という。）
と、有機過酸化物、ジフェニルヨードニウム塩、一般式
（５）及び一般式（６）で示される化合物（以下、併せ
て、本発明のラジカル発生剤という。）とは、１：0.1
〜１：10（重量比）とすることが好ましい。
（Ｃ）及び（Ｄ）中において、一般式（１）〜（４）、
一般式（７）、一般式（８）及び一般式（８Ａ）で表さ
れる色素（以下、併せて、本発明の増感色素という。）
と、有機過酸化物、ジフェニルヨードニウム塩、一般式
（５）及び一般式（６）で示される化合物（以下、併せ
て、本発明のラジカル発生剤という。）とは、１：0.1
〜１：10（重量比）とすることが好ましい。
【００８６】本発明の感光性材料における上記本発明の
増感色素と本発明のラジカル発生剤の組み合わせは新規
であり、上記新規な本発明の増感色素と本発明のラジカ
ル発生剤の組み合わせにより、可視以上の長波長のレー
ザー光を用いた場合にも十分な感度を有せしめることが
でき、優れた保存性を有している感光性組成物とするこ
とができる。
増感色素と本発明のラジカル発生剤の組み合わせは新規
であり、上記新規な本発明の増感色素と本発明のラジカ
ル発生剤の組み合わせにより、可視以上の長波長のレー
ザー光を用いた場合にも十分な感度を有せしめることが
でき、優れた保存性を有している感光性組成物とするこ
とができる。
【００８７】以下、本発明における画像形成材料に用い
られる感光性組成物の構成について詳細に説明する。
られる感光性組成物の構成について詳細に説明する。
【００８８】次に、エチレン性不飽和結合を有する重合
可能な化合物及び着色剤を含有する本発明の感光性組成
物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）〔以下、本発明の
感光性組成物（１）という。〕及びアンモニアまたはア
ミンが配位したコバルト（III）錯体及びアンモニアま
たはアミンにより発色または変色する化合物を含有する
本発明の感光性組成物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び
（Ｄ）〔以下、本発明の感光性組成物（２）という。〕
について説明する。
可能な化合物及び着色剤を含有する本発明の感光性組成
物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び（Ｄ）〔以下、本発明の
感光性組成物（１）という。〕及びアンモニアまたはア
ミンが配位したコバルト（III）錯体及びアンモニアま
たはアミンにより発色または変色する化合物を含有する
本発明の感光性組成物（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）及び
（Ｄ）〔以下、本発明の感光性組成物（２）という。〕
について説明する。
【００８９】先ず、本発明の感光性組成物（１）につい
て説明する。
て説明する。
【００９０】本発明の感光性組成物（１）に用いるエチ
レン性不飽和結合を有する重合可能な化合物としては、
付加重合又は架橋可能な公知のモノマーが制限なく使用
することができる。
レン性不飽和結合を有する重合可能な化合物としては、
付加重合又は架橋可能な公知のモノマーが制限なく使用
することができる。
【００９１】具体的化合物としては、例えば、２−エチ
ルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクル
レート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセ
ロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキ
シエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシ
エチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘ
キサノリドアクリート、１，３−ジオキサンアルコール
のε−カプロラクトン付加物のアクリレート、１，３−
ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステ
ル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレー
ト、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えた
メタクリル酸エステル類、イタコン酸エステル類、クロ
トン酸エステル類、マレイン酸エステル類；エチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングルコールジア
クリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハ
イドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ
アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジ
ペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアク
リレート、２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエ
チル）−５−ヒドロキシメチル−５−エチル−１，３−
ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロ
ールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアク
リレートのε−カプロラクトン付加物、１，６−ヘキサ
ンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等
の２官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアク
リレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネー
ト、マレエートに代えたメタクリル酸エステル類、イタ
コン酸エステル類、クロトン酸エステル類、マレイン酸
エステル類；トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ト
リメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン
付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオ
ン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒ
ドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパント
リアクリレート、等の多官能アクリル酸エステル類、あ
るいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコ
ネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル
酸エステル類、イタコン酸エステル類、クロトン酸エス
テル類、マレイン酸エステル類；等を挙げることができ
る。これらの中でも、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類が特に好適に使用できる。これらの化合
物は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
ルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクル
レート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、グリセ
ロールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、フェノキシエチルアクリレート、ノニルフェノキ
シエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシ
エチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルオキシヘ
キサノリドアクリート、１，３−ジオキサンアルコール
のε−カプロラクトン付加物のアクリレート、１，３−
ジオキソランアクリレート等の単官能アクリル酸エステ
ル類、あるいはこれらのアクリレートをメタクリレー
ト、イタコネート、クロトネート、マレエートに代えた
メタクリル酸エステル類、イタコン酸エステル類、クロ
トン酸エステル類、マレイン酸エステル類；エチレング
リコールジアクリレート、トリエチレングルコールジア
クリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ハ
イドロキノンジアクリレート、レゾルシンジアクリレー
ト、ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジ
アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールのジアクリレート、ネオペンチルグリコールアジ
ペートのジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペ
ンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアク
リレート、２−（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエ
チル）−５−ヒドロキシメチル−５−エチル−１，３−
ジオキサンジアクリレート、トリシクロデカンジメチロ
ールアクリレート、トリシクロデカンジメチロールアク
リレートのε−カプロラクトン付加物、１，６−ヘキサ
ンジオールのジグリシジルエーテルのジアクリレート等
の２官能アクリル酸エステル類、あるいはこれらのアク
リレートをメタクリレート、イタコネート、クロトネー
ト、マレエートに代えたメタクリル酸エステル類、イタ
コン酸エステル類、クロトン酸エステル類、マレイン酸
エステル類；トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ト
リメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレートのε−カプロラクトン
付加物、ピロガロールトリアクリレート、プロピオン酸
・ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオ
ン酸・ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ヒ
ドロキシピバルアルデヒド変性ジメチロールプロパント
リアクリレート、等の多官能アクリル酸エステル類、あ
るいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタコ
ネート、クロトネート、マレエートに代えたメタクリル
酸エステル類、イタコン酸エステル類、クロトン酸エス
テル類、マレイン酸エステル類；等を挙げることができ
る。これらの中でも、アクリル酸エステル類、メタクリ
ル酸エステル類が特に好適に使用できる。これらの化合
物は単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００９２】その他に、付加重合又は架橋可能な化合物
として、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸又はメ
タクリル酸等を導入し、光重合性を付与した所謂プレポ
リマーと呼ばれるものも好適に使用できる。
として、適当な分子量のオリゴマーにアクリル酸又はメ
タクリル酸等を導入し、光重合性を付与した所謂プレポ
リマーと呼ばれるものも好適に使用できる。
【００９３】これらプレポリマーとしては、例えば、ア
ジピン酸、トリメリツト酸、マレイン酸、フタル酸、テ
レフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、琥珀酸、グルタ
ール酸、イタコン酸、ピロメリツト酸、フマル酸、グル
タール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テト
ラヒドロフタル酸等の多塩基酸成分と、エチレングリコ
ール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、
プロピレンオキサイド、１，４−ブタンジオール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，６−
ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール等
の多価アルコール成分から得られたポリエステルに、
（メタ）アクリロイル基を導入したポリエステル（メ
タ）アクリレート類；ビスフェノールＡ−エピクロルヒ
ドリン、フェノールノボラツク−エピクロルヒドリンの
ようなエポキシ樹脂に、（メタ）アクリロイル基を導入
したエポキシアクリレート類；エチレングリコール・ア
ジピン酸・トリレンジイソシアナート・２−ヒドロキシ
エチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレ
ンジイソシアナート・２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレ
ンジイソシアナート、１，２−ポリブタジエングリコー
ル・トリレンジイソシアナート・２−ヒドロキシエチル
アクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレング
ルコール・トリレンジイソシアナート・２−ヒドロキシ
エチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に（メタ）
アクリロイル基を導入したウレタンアクリレート；ポリ
シロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシア
ナート・２−ヒドロキシエチルアクリレート等のシリコ
ーン樹脂アクリレート類；その他、油変性アルキッド樹
脂に（メタ）アクリロイル基を導入したアルキッド変性
アクリレート類、スピラン樹脂に（メタ）アクリロイル
基を導入した化合物等が挙げられる。
ジピン酸、トリメリツト酸、マレイン酸、フタル酸、テ
レフタル酸、ハイミック酸、マロン酸、琥珀酸、グルタ
ール酸、イタコン酸、ピロメリツト酸、フマル酸、グル
タール酸、ピメリン酸、セバシン酸、ドデカン酸、テト
ラヒドロフタル酸等の多塩基酸成分と、エチレングリコ
ール、プロピレングルコール、ジエチレングリコール、
プロピレンオキサイド、１，４−ブタンジオール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリ
エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール、ソルビトール、１，６−
ヘキサンジオール、１，２，６−ヘキサントリオール等
の多価アルコール成分から得られたポリエステルに、
（メタ）アクリロイル基を導入したポリエステル（メ
タ）アクリレート類；ビスフェノールＡ−エピクロルヒ
ドリン、フェノールノボラツク−エピクロルヒドリンの
ようなエポキシ樹脂に、（メタ）アクリロイル基を導入
したエポキシアクリレート類；エチレングリコール・ア
ジピン酸・トリレンジイソシアナート・２−ヒドロキシ
エチルアクリレート、ポリエチレングリコール・トリレ
ンジイソシアナート・２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ヒドロキシエチルフタリルメタクリレート・キシレ
ンジイソシアナート、１，２−ポリブタジエングリコー
ル・トリレンジイソシアナート・２−ヒドロキシエチル
アクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレング
ルコール・トリレンジイソシアナート・２−ヒドロキシ
エチルアクリレートのように、ウレタン樹脂に（メタ）
アクリロイル基を導入したウレタンアクリレート；ポリ
シロキサンアクリレート、ポリシロキサン・ジイソシア
ナート・２−ヒドロキシエチルアクリレート等のシリコ
ーン樹脂アクリレート類；その他、油変性アルキッド樹
脂に（メタ）アクリロイル基を導入したアルキッド変性
アクリレート類、スピラン樹脂に（メタ）アクリロイル
基を導入した化合物等が挙げられる。
【００９４】これらの中で、分子内に２個以上のアクリ
ロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物が本発
明においては好ましい。
ロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物が本発
明においては好ましい。
【００９５】分子量は10,000以下、更には5,000以下の
ものが好ましい。
ものが好ましい。
【００９６】これらプレポリマーは単独で用いても、２
種以上を併用してもよい。また、上述のモノマー類と混
合して用いてもよい。
種以上を併用してもよい。また、上述のモノマー類と混
合して用いてもよい。
【００９７】エチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物は、本発明の感光性組成物（１）中に、５重量％
以上、さらには15重量％以上含有させるのが好ましい。
化合物は、本発明の感光性組成物（１）中に、５重量％
以上、さらには15重量％以上含有させるのが好ましい。
【００９８】また、着色剤は、特に制限はなく、種々の
ものを使用することができる。用いることができる着色
材の具体例としては、例えば、カーボンブラック、酸化
チタン、酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、
アントラキノン系顔料及びキナクリドン系顔料等の顔料
や、クリスタルバイオレット、メチレンブルー、アゾ系
染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料等の染料
が挙げられる。これら着色剤は単独で用いても、２種以
上を併用してもよい。
ものを使用することができる。用いることができる着色
材の具体例としては、例えば、カーボンブラック、酸化
チタン、酸化鉄、フタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、
アントラキノン系顔料及びキナクリドン系顔料等の顔料
や、クリスタルバイオレット、メチレンブルー、アゾ系
染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料等の染料
が挙げられる。これら着色剤は単独で用いても、２種以
上を併用してもよい。
【００９９】本発明の感光性組成物（１）中に着色剤を
添加せしめるには、サンドミル、ボールミル、アトライ
ター、超音波分散機、ジェットミル、ホモジナイザー、
遊星ミル等公知の装置を用い、本発明の感光性組成物
（１）の溶液中に分散混合すればよい。更に、必要に応
じて、本発明の感光性組成物（１）の溶液は濾過され
る。着色剤が溶剤可溶性である場合には、着色剤を溶液
として添加することができる。
添加せしめるには、サンドミル、ボールミル、アトライ
ター、超音波分散機、ジェットミル、ホモジナイザー、
遊星ミル等公知の装置を用い、本発明の感光性組成物
（１）の溶液中に分散混合すればよい。更に、必要に応
じて、本発明の感光性組成物（１）の溶液は濾過され
る。着色剤が溶剤可溶性である場合には、着色剤を溶液
として添加することができる。
【０１００】着色剤は必要な濃度の画像が形成されるよ
うに用いられるが、通常用いられている添加量は、本発
明の感光性組成物（１）中に10〜80重量％であり、15〜
60重量％添加するのが好ましい。
うに用いられるが、通常用いられている添加量は、本発
明の感光性組成物（１）中に10〜80重量％であり、15〜
60重量％添加するのが好ましい。
【０１０１】本発明の感光性組成物（１）中には、必要
に応じてバインダー樹脂を添加することができる。これ
らバインダー樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹
脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリアミド系樹脂、セルロース系樹脂、オレフィン
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリスルフォン、ポリカ
プロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。
に応じてバインダー樹脂を添加することができる。これ
らバインダー樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹
脂、ポリビニルアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、ポリアミド系樹脂、セルロース系樹脂、オレフィン
系樹脂、塩化ビニル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、
スチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ
ール、ポリビニルピロリドン、ポリスルフォン、ポリカ
プロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。
【０１０２】バインダー樹脂としては前述の樹脂の中か
ら、１種または２種以上のものを組み合わせて用いるこ
とができる。これらのバインダー樹脂は、前記エチレン
性不飽和結合を有する重合可能な化合物100重量部に対
して、500重量部以下、より好ましくは200重量部以下の
範囲で添加混合して使用するのが好ましい。
ら、１種または２種以上のものを組み合わせて用いるこ
とができる。これらのバインダー樹脂は、前記エチレン
性不飽和結合を有する重合可能な化合物100重量部に対
して、500重量部以下、より好ましくは200重量部以下の
範囲で添加混合して使用するのが好ましい。
【０１０３】本発明の感光性組成物（１）には、目的を
損なわない範囲であれば、熱重合禁止剤、酸素クエンチ
ャー、可塑剤、熱溶融性化合物等の他の成分を含有せし
めることは任意である。
損なわない範囲であれば、熱重合禁止剤、酸素クエンチ
ャー、可塑剤、熱溶融性化合物等の他の成分を含有せし
めることは任意である。
【０１０４】熱重合防止剤としては、キノン系、フェノ
ール系等の化合物が好ましく用いられる。これら化合物
としては、例えば、ハイドロキノン、ピロガロール、ｐ
−メトキシフェノール、カテコール、β−ナフトール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等が挙げられ
る。熱重合防止剤は、エチレン性不飽和結合を有する重
合可能な化合物とバインダーの合計量100重量部に対し
て、10重量部以下、好ましくは0.01〜５重量部添加され
る。
ール系等の化合物が好ましく用いられる。これら化合物
としては、例えば、ハイドロキノン、ピロガロール、ｐ
−メトキシフェノール、カテコール、β−ナフトール、
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール等が挙げられ
る。熱重合防止剤は、エチレン性不飽和結合を有する重
合可能な化合物とバインダーの合計量100重量部に対し
て、10重量部以下、好ましくは0.01〜５重量部添加され
る。
【０１０５】酸素クエンチャーとしては、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルアニリン誘導体が好ましく、これら化合物として
は、例えば、米国特許4,772,541号明細書の第11カラム
第58行目から第12カラム第35行目に記載の化合物が挙げ
られる。
ルキルアニリン誘導体が好ましく、これら化合物として
は、例えば、米国特許4,772,541号明細書の第11カラム
第58行目から第12カラム第35行目に記載の化合物が挙げ
られる。
【０１０６】可塑剤としては、フタル酸エステル類、ト
リメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その
他飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸
エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、
エポキシステアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル
類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類などが挙
げられる。
リメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その
他飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸
エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、
エポキシステアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル
類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類などが挙
げられる。
【０１０７】熱溶融性化合物としては、常温で固体であ
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物を用いることが
できる。これら熱溶融性物質としては、例えば、テルピ
ネオール、メントール、１，４−シクロヘキサンジオー
ル、フェノール等のアルコール類、アセトアミド、ベン
ズアミド等のアミド類、クマリン、ケイ皮酸ベンジル等
のエステル類、ジフェニルエーテル、クラウンエーテル
等のエーテル類、カンファー、ｐ−メチルアセトフェノ
ン等のケトン類、バニリン、ジメトキシベンズアルデヒ
ド等のアルデヒド類、ノルボルネン、スチルベン等の炭
化水素類、マルガリン酸等の高級脂肪酸、エイコサノー
ル等の高級アルコール、パルミチン酸セチル等の高級脂
肪酸エステル、ステアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミ
ド、ベへニルアミン等の高級アミンなどに代表される単
分子化合物、蜜ロウ、キャンデリラワックス、パラフィ
ンワックス、エステルワックス、モンタンロウ、カルナ
バワックス、アミドワックス、ポリエチレンワックス、
マイクロクリスタリンワックスなどのワックス類、エス
テルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹
脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、エ
ポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テルペン系炭化
水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポリオレフィン系
樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールなどのポリオレフィン
オキサイドなどに代表される高分子化合物などを挙げる
ことができる。
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物を用いることが
できる。これら熱溶融性物質としては、例えば、テルピ
ネオール、メントール、１，４−シクロヘキサンジオー
ル、フェノール等のアルコール類、アセトアミド、ベン
ズアミド等のアミド類、クマリン、ケイ皮酸ベンジル等
のエステル類、ジフェニルエーテル、クラウンエーテル
等のエーテル類、カンファー、ｐ−メチルアセトフェノ
ン等のケトン類、バニリン、ジメトキシベンズアルデヒ
ド等のアルデヒド類、ノルボルネン、スチルベン等の炭
化水素類、マルガリン酸等の高級脂肪酸、エイコサノー
ル等の高級アルコール、パルミチン酸セチル等の高級脂
肪酸エステル、ステアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミ
ド、ベへニルアミン等の高級アミンなどに代表される単
分子化合物、蜜ロウ、キャンデリラワックス、パラフィ
ンワックス、エステルワックス、モンタンロウ、カルナ
バワックス、アミドワックス、ポリエチレンワックス、
マイクロクリスタリンワックスなどのワックス類、エス
テルガム、ロジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹
脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、エ
ポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テルペン系炭化
水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポリオレフィン系
樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールなどのポリオレフィン
オキサイドなどに代表される高分子化合物などを挙げる
ことができる。
【０１０８】更に必要に応じて、酸化防止剤、フィラ
ー、帯電防止剤などを添加してもよい。
ー、帯電防止剤などを添加してもよい。
【０１０９】酸化防止剤としては、クロマン系化合物、
クラマン系化合物、フェノール系化合物、ハイドロキノ
ン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダン系
化合物、硫黄系化合物、リン系化合物などが用いられ、
特開昭59-182785号公報、同60-130735号公報、同61-159
644号公報、特開平1-127387号公報、「11290の化学商
品」化学工業日報社、第862頁〜第868頁等に記載の化合
物、写真その他の画像記録材料の耐久性を改善するもの
として公知の化合物を用いることができる。
クラマン系化合物、フェノール系化合物、ハイドロキノ
ン誘導体、ヒンダードアミン誘導体、スピロインダン系
化合物、硫黄系化合物、リン系化合物などが用いられ、
特開昭59-182785号公報、同60-130735号公報、同61-159
644号公報、特開平1-127387号公報、「11290の化学商
品」化学工業日報社、第862頁〜第868頁等に記載の化合
物、写真その他の画像記録材料の耐久性を改善するもの
として公知の化合物を用いることができる。
【０１１０】フィラーとしては、無機微粒子や有機樹脂
粒子を用いることができる。無機微粒子としては、シリ
カゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活性
白土、アルミナ等を挙げることができ、有機微粒子とし
ては、フッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル
樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子を挙げること
ができる。
粒子を用いることができる。無機微粒子としては、シリ
カゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫酸
バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活性
白土、アルミナ等を挙げることができ、有機微粒子とし
ては、フッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル
樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子を挙げること
ができる。
【０１１１】帯電防止剤としては、カチオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子などのほか「11290の化
学商品」化学工業日報社、第875頁〜第876頁などに記載
の化合物なども好適に用いることができる。
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子などのほか「11290の化
学商品」化学工業日報社、第875頁〜第876頁などに記載
の化合物なども好適に用いることができる。
【０１１２】次に、本発明の感光性組成物（２）につい
て説明する。
て説明する。
【０１１３】本発明の感光性組成物（２）に用いるアン
モニアまたはアミンが配位したコバルト（III）錯体及
びアンモニアまたはアミンにより発色または変色する化
合物としては、特に制限はなく、各種のものを使用する
ことができる。
モニアまたはアミンが配位したコバルト（III）錯体及
びアンモニアまたはアミンにより発色または変色する化
合物としては、特に制限はなく、各種のものを使用する
ことができる。
【０１１４】アンモニアまたはアミンが配位したコバル
ト（III）錯体（以下、本発明のコバルト錯体とい
う。）は、コバルト（III）錯体がコバルト（II）錯体
ヘ還元された後、加熱によりアンモニア又は一級アミン
を発生する。
ト（III）錯体（以下、本発明のコバルト錯体とい
う。）は、コバルト（III）錯体がコバルト（II）錯体
ヘ還元された後、加熱によりアンモニア又は一級アミン
を発生する。
【０１１５】本発明のコバルト錯体は、アンモニアまた
はアミンを配位子とする錯体であれば特に制限はない
が、アンモニアまたは一級アミンを配位子とする錯体が
好ましく、それらの錯体の中でも、以下の一般式（９）
で表される錯体がより好ましい。
はアミンを配位子とする錯体であれば特に制限はない
が、アンモニアまたは一級アミンを配位子とする錯体が
好ましく、それらの錯体の中でも、以下の一般式（９）
で表される錯体がより好ましい。
【０１１６】
【化３８】 ［式中、Ｌ1はＣｏと錯体を形成するアンモニア又は１
級アミン配位子を表し、Ｌ2はＣｏと錯体を形成するア
ンモニア又は１級アミン以外の配位子を表す。ｍはＬ1
の配位数を表す１以上の整数であり、ｎはＬ2の配位数
を表す０または１以上の整数である。
級アミン配位子を表し、Ｌ2はＣｏと錯体を形成するア
ンモニア又は１級アミン以外の配位子を表す。ｍはＬ1
の配位数を表す１以上の整数であり、ｎはＬ2の配位数
を表す０または１以上の整数である。
【０１１７】Ｘは塩を形成するアニオンを表す。ｋは塩
を形成するのに必要なアニオンの数を表す。］ 一般式（９）において、Ｘで表されるアニオンとして
は、例えば、ハロゲンイオン（フッ素イオン、塩素イオ
ン、臭素イオン、沃素イオン）、亜硫酸イオン、硫酸イ
オン、アルキル又はアリールスルホン酸イオン、硝酸イ
オン、亜硝酸イオン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオ
ン、サリチル酸イオン、安息香酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオン、ヘキサフルオロ燐酸イオン、テトラフルオ
ロホウ素酸イオン等が挙げられる。
を形成するのに必要なアニオンの数を表す。］ 一般式（９）において、Ｘで表されるアニオンとして
は、例えば、ハロゲンイオン（フッ素イオン、塩素イオ
ン、臭素イオン、沃素イオン）、亜硫酸イオン、硫酸イ
オン、アルキル又はアリールスルホン酸イオン、硝酸イ
オン、亜硝酸イオン、過塩素酸イオン、カルボン酸イオ
ン、サリチル酸イオン、安息香酸イオン、トリフルオロ
酢酸イオン、ヘキサフルオロ燐酸イオン、テトラフルオ
ロホウ素酸イオン等が挙げられる。
【０１１８】Ｌ1で表されるＣｏと錯体を形成するＣｏ
と錯体を形成するアンモニア又は１級アミン配位子とし
ては、例えば、アンモニア、メチルアミン、エチレンジ
アミン、１，３−プロパンジアミン、ジエチレントリア
ミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジアセテー
ト、グリシンアミドなどが挙げられる。
と錯体を形成するアンモニア又は１級アミン配位子とし
ては、例えば、アンモニア、メチルアミン、エチレンジ
アミン、１，３−プロパンジアミン、ジエチレントリア
ミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジアセテー
ト、グリシンアミドなどが挙げられる。
【０１１９】Ｌ2で表されるＣｏと錯体を形成するｏと
錯体を形成するアンモニア又は１級アミン以外の配位子
としては、例えば、水、２，２′−ビピリジン、ハロゲ
ン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ＯＨ、ＮＯ3、ＣＮ、ＳＣＮ、
Ｎ3、カルボナートイオン、オキサラートイオン、アセ
チルアセトナートイオン等が挙げられる。
錯体を形成するアンモニア又は１級アミン以外の配位子
としては、例えば、水、２，２′−ビピリジン、ハロゲ
ン（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ＯＨ、ＮＯ3、ＣＮ、ＳＣＮ、
Ｎ3、カルボナートイオン、オキサラートイオン、アセ
チルアセトナートイオン等が挙げられる。
【０１２０】好ましいコバルト錯体の具体例としては以
下の化合物が挙げられ、これらの化合物は新実験化学講
座（８）無機化合物の合成（III）、日本化学学会編等
に記載の方法を参考にして合成される。
下の化合物が挙げられ、これらの化合物は新実験化学講
座（８）無機化合物の合成（III）、日本化学学会編等
に記載の方法を参考にして合成される。
【０１２１】 Ｃｏ−１：ヘキサアンミンコバルト（III）トリフルオ
ロアセテート Ｃｏ−２：ヘキサアンミンコバルト（III）ベンジレー
ト Ｃｏ−３：ヘキサアンミンコバルト（III）チオシアネ
ート Ｃｏ−４：ヘキサアンミンコバルト（III）アセテート Ｃｏ−５：ヘキサアンミンコバルト（III）クロライド Ｃｏ−６：ヘキサアンミンコバルト（III）パークロレ
ート Ｃｏ−７：クロロペンタアンミンコバルト（III）パー
クロレート Ｃｏ−８：ブロモペンタアンミンコバルト（III）パー
クロレート Ｃｏ−９：アクアペンタアンミンコバルト（III）ナイ
トレート Ｃｏ−１０：アクアペンタアンミンコバルト（III）ジ
クロロアセテート Ｃｏ−１１：ニトラトペンタアンミンコバルト（III）
クロライド Ｃｏ−１２：ニトラトペンタアンミンコバルト（III）
パークロレート Ｃｏ−１３：カルボナートテトラアンミンコバルト（II
I）クロライド Ｃｏ−１４：トリス（エチレンジアミン）コバルト（II
I）パークロレート Ｃｏ−１５：ビス（エチレンジアミン）ビスアジドコバ
ルト（III）パークロレート Ｃｏ−１６：トリス（１，３−プロパンジアミン）コバ
ルト（III）トリアルオロアセテート Ｃｏ−１７：トルスグリシンアミドコバルト（III）ク
ロライド
ロアセテート Ｃｏ−２：ヘキサアンミンコバルト（III）ベンジレー
ト Ｃｏ−３：ヘキサアンミンコバルト（III）チオシアネ
ート Ｃｏ−４：ヘキサアンミンコバルト（III）アセテート Ｃｏ−５：ヘキサアンミンコバルト（III）クロライド Ｃｏ−６：ヘキサアンミンコバルト（III）パークロレ
ート Ｃｏ−７：クロロペンタアンミンコバルト（III）パー
クロレート Ｃｏ−８：ブロモペンタアンミンコバルト（III）パー
クロレート Ｃｏ−９：アクアペンタアンミンコバルト（III）ナイ
トレート Ｃｏ−１０：アクアペンタアンミンコバルト（III）ジ
クロロアセテート Ｃｏ−１１：ニトラトペンタアンミンコバルト（III）
クロライド Ｃｏ−１２：ニトラトペンタアンミンコバルト（III）
パークロレート Ｃｏ−１３：カルボナートテトラアンミンコバルト（II
I）クロライド Ｃｏ−１４：トリス（エチレンジアミン）コバルト（II
I）パークロレート Ｃｏ−１５：ビス（エチレンジアミン）ビスアジドコバ
ルト（III）パークロレート Ｃｏ−１６：トリス（１，３−プロパンジアミン）コバ
ルト（III）トリアルオロアセテート Ｃｏ−１７：トルスグリシンアミドコバルト（III）ク
ロライド
【０１２２】本発明のコバルト錯体はコバルト錯体の種
類及び使用形態により異なるが、感光性組成物（２）中
に２〜70重量％、さらには５〜50重量％添加するのが好
ましい。通常の用途に用いる場合、画像形成層の厚み
は、0.5〜50μm、好ましくは２〜30μmであり、目的に
応じて適宜採用する。
類及び使用形態により異なるが、感光性組成物（２）中
に２〜70重量％、さらには５〜50重量％添加するのが好
ましい。通常の用途に用いる場合、画像形成層の厚み
は、0.5〜50μm、好ましくは２〜30μmであり、目的に
応じて適宜採用する。
【０１２３】アンモニアまたはアミンにより発色または
変色する化合物としては、本発明のコバルト錯体から発
生するアンモニアまたはアミンによって発色または変色
する化合物であれば特に限定されない。
変色する化合物としては、本発明のコバルト錯体から発
生するアンモニアまたはアミンによって発色または変色
する化合物であれば特に限定されない。
【０１２４】発色または変色とは、無色から有色へ、有
色から無色へ、有色から他の有色へと変化して、露光に
応じた画像を形成することができるものであれば吸光性
がどのような変化をするものであってもよい。
色から無色へ、有色から他の有色へと変化して、露光に
応じた画像を形成することができるものであれば吸光性
がどのような変化をするものであってもよい。
【０１２５】本発明の感光性組成物（２）に用いるに好
ましいアンモニアまたはアミンにより発色する化合物と
して、例えば、ｏ−フタルアルデヒドやニンヒドリン等
が挙げられ、消色する化合物として、ある種のシアニン
色素、スチリル色素、ローダミン色素、アゾ色素、ピリ
リウム色素等が挙げられる。また、アンモニア又は一級
アミンで消色することが公知のロイコ色素等を用いるこ
とも可能である。
ましいアンモニアまたはアミンにより発色する化合物と
して、例えば、ｏ−フタルアルデヒドやニンヒドリン等
が挙げられ、消色する化合物として、ある種のシアニン
色素、スチリル色素、ローダミン色素、アゾ色素、ピリ
リウム色素等が挙げられる。また、アンモニア又は一級
アミンで消色することが公知のロイコ色素等を用いるこ
とも可能である。
【０１２６】アンモニアまたはアミンにより発色する化
合物としては、高濃度で安定なポリマー色素が形成され
て画像安定性が良好な、下記一般式（１０）で表される
化合物が特に好ましい。
合物としては、高濃度で安定なポリマー色素が形成され
て画像安定性が良好な、下記一般式（１０）で表される
化合物が特に好ましい。
【０１２７】
【化３９】 ［式中、Ｚは芳香族環、５員又は６員の複素環を形成す
るのに必要な原子群を表す。Ｚで形成される芳香族環、
５員又は６員の複素環は他の環を縮合していてもよく、
また、置換基を有していてもよい。］ 一般式（１０）において、Ｚで形成される芳香族環、５
員又は６員の複素環としては、例えば、ベンゼン環、ナ
フタレン環、イミダゾール環、フラン環、チオフェン
環、ピラゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、ベンズチアゾール環、インドール環、キノリ
ン環等が挙げられる。
るのに必要な原子群を表す。Ｚで形成される芳香族環、
５員又は６員の複素環は他の環を縮合していてもよく、
また、置換基を有していてもよい。］ 一般式（１０）において、Ｚで形成される芳香族環、５
員又は６員の複素環としては、例えば、ベンゼン環、ナ
フタレン環、イミダゾール環、フラン環、チオフェン
環、ピラゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリ
ミジン環、ベンズチアゾール環、インドール環、キノリ
ン環等が挙げられる。
【０１２８】以下に、一般式（１０）で表される化合物
の具体例を示す。
の具体例を示す。
【０１２９】
【化４０】
【０１３０】
【化４１】
【０１３１】
【化４２】
【０１３２】
【化４３】
【０１３３】
【化４４】
【０１３４】これらの化合物は、Chem.Ber.88,1276（19
55）、同89,1574（1956）、同90,2646（1957）、同99,6
34（1966）、J.Org.Chem.,24,372（1959）、同29,3048
（1964）、Zeit.Chem.;11,175（1971）、同11、17（197
1）及び特開平2−184678号公報に記載の方法を参考にし
て合成される。
55）、同89,1574（1956）、同90,2646（1957）、同99,6
34（1966）、J.Org.Chem.,24,372（1959）、同29,3048
（1964）、Zeit.Chem.;11,175（1971）、同11、17（197
1）及び特開平2−184678号公報に記載の方法を参考にし
て合成される。
【０１３５】一般式（１０）で表される化合物は、感光
層中に２〜98重量％、好ましくは５〜80重量％添加する
のが好ましい。
層中に２〜98重量％、好ましくは５〜80重量％添加する
のが好ましい。
【０１３６】また、アンモニアまたはアミンにより消色
する化合物としては、消色させた際に、可視部に吸収を
持たない、または、吸収が極力少ないものが好ましい。
する化合物としては、消色させた際に、可視部に吸収を
持たない、または、吸収が極力少ないものが好ましい。
【０１３７】アンモニアまたはアミンにより消色する化
合物としては、ピリリウム色素が特に好ましい。
合物としては、ピリリウム色素が特に好ましい。
【０１３８】以下に、アンモニアまたはアミンにより消
色する化合物の具体的例を示す。 （１）２，６−ジフェニル−４−（３−メトキシフェニ
ル）ピリリウムパークロレート （２）４−フェニル−２，６−ジエチルピリリウムパー
クロレート （３）４−（４−モルホリノフェニル）−２，６−ジフ
ェニルピリリウムパークロレート （４）２，６−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−４−フ
ェニルピリリウムテトラフルオロボレート （５）２，４−ジフェニル−６−（β−メチル−３，４
−ジエトキシチリル）ピリリウムテトラフルオロボレー
ト （６）４−（４−ジメチルアミノビニル）−２，６−ジ
フェニルピリリウムパークロレート （７）２−（２−ナフチル）−４，６−ジフェニルピリ
リウムパークロレート
色する化合物の具体的例を示す。 （１）２，６−ジフェニル−４−（３−メトキシフェニ
ル）ピリリウムパークロレート （２）４−フェニル−２，６−ジエチルピリリウムパー
クロレート （３）４−（４−モルホリノフェニル）−２，６−ジフ
ェニルピリリウムパークロレート （４）２，６−ビス（ｐ−メトキシフェニル）−４−フ
ェニルピリリウムテトラフルオロボレート （５）２，４−ジフェニル−６−（β−メチル−３，４
−ジエトキシチリル）ピリリウムテトラフルオロボレー
ト （６）４−（４−ジメチルアミノビニル）−２，６−ジ
フェニルピリリウムパークロレート （７）２−（２−ナフチル）−４，６−ジフェニルピリ
リウムパークロレート
【０１３９】 （８）２，６−ジフェニル−４−〔２−（１０−メチル
フェノチアジル）〕ピリリウムパークロレート （９）２−ブチル−３−〔β−（２−ヒドロキシ−１−
ナフチル）ビニル〕−ナフト〔２，１−ｂ〕ピリリウム
パークロレート （１０）４−（２−ヒドロキシベンジリデン）−１，
２，３，４−テトラヒドロキシサンチリウムパークロレ
ート （１１）４−（４−メチルメルカプトフェニル）−２，
６−ジフェニルピリリウムパークロレート （１２）９−フェニルジベンゾ〔ａ・ｊ〕キサンチリウ
ムパークロレート （１３）２，６−ジフェニル−４−（４−メトキシカル
ポニルフェニル）ピリリウムパークロレート （１４）５，６−ジヒドロ−２，４−ジフェニルナフト
〔１，２−ｂ〕−ピリリウムテトラフルオロボレート （１５）８−（べンゾ〔ｂ〕−３Ｈ−１，２−ジチオー
ル−３−イリジン）−９，１０，１１，１２−テトラヒ
ドロ−８Ｈ−シクロヘプタ〔ｅ〕ナフト〔２，１−ｂ〕
ピリリウムパークロレート
フェノチアジル）〕ピリリウムパークロレート （９）２−ブチル−３−〔β−（２−ヒドロキシ−１−
ナフチル）ビニル〕−ナフト〔２，１−ｂ〕ピリリウム
パークロレート （１０）４−（２−ヒドロキシベンジリデン）−１，
２，３，４−テトラヒドロキシサンチリウムパークロレ
ート （１１）４−（４−メチルメルカプトフェニル）−２，
６−ジフェニルピリリウムパークロレート （１２）９−フェニルジベンゾ〔ａ・ｊ〕キサンチリウ
ムパークロレート （１３）２，６−ジフェニル−４−（４−メトキシカル
ポニルフェニル）ピリリウムパークロレート （１４）５，６−ジヒドロ−２，４−ジフェニルナフト
〔１，２−ｂ〕−ピリリウムテトラフルオロボレート （１５）８−（べンゾ〔ｂ〕−３Ｈ−１，２−ジチオー
ル−３−イリジン）−９，１０，１１，１２−テトラヒ
ドロ−８Ｈ−シクロヘプタ〔ｅ〕ナフト〔２，１−ｂ〕
ピリリウムパークロレート
【０１４０】ピリリウム色素は、画像形成層を形成する
組成物中に１〜70重量％、好ましくは３〜50重量％添加
するのが好ましい。
組成物中に１〜70重量％、好ましくは３〜50重量％添加
するのが好ましい。
【０１４１】本発明の感光性組成物（２）には、層の膜
付きや均一性を良好にする目的で、バインダー樹脂を含
有させるのが好ましく、これらバインダー樹脂として
は、セルロース付加化合物、セルロースエステル、セル
ロースエーテル等のセルロース系樹脂；ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラール等の
ビニル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニト
リル共重合体等のスチレン系樹脂；ポリ（メタ）アクリ
ル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリ（メタ）アク
リル酸共重合体、（メタ）アクリル酸共重合体等のアク
リル系樹脂；ポリビニルピロリドン；ゴム系樹脂；アイ
オノマー樹脂；オレフィン系樹脂；ポリエステル系樹
脂；ゼラチン；カゼイン等が挙げられる。これらのバイ
ンダー樹脂は、単独で用いてもよく、また、二種以上を
併用してもよい。
付きや均一性を良好にする目的で、バインダー樹脂を含
有させるのが好ましく、これらバインダー樹脂として
は、セルロース付加化合物、セルロースエステル、セル
ロースエーテル等のセルロース系樹脂；ポリ酢酸ビニ
ル、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルアセトアセタール、ポリビニルブチラール等の
ビニル系樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニト
リル共重合体等のスチレン系樹脂；ポリ（メタ）アクリ
ル酸エステル、ポリアクリルアミド、ポリ（メタ）アク
リル酸共重合体、（メタ）アクリル酸共重合体等のアク
リル系樹脂；ポリビニルピロリドン；ゴム系樹脂；アイ
オノマー樹脂；オレフィン系樹脂；ポリエステル系樹
脂；ゼラチン；カゼイン等が挙げられる。これらのバイ
ンダー樹脂は、単独で用いてもよく、また、二種以上を
併用してもよい。
【０１４２】バインダー樹脂の画像形成層への添加量
は、30〜98重量％、好ましくは50〜95重量％である。
は、30〜98重量％、好ましくは50〜95重量％である。
【０１４３】また、本発明の感光性組成物（２）には、
アンモニアや１級アミンの放出を容易にするために不安
定化剤を添加してもよい。
アンモニアや１級アミンの放出を容易にするために不安
定化剤を添加してもよい。
【０１４４】これら不安定化剤としては、特開昭59-955
29号公報第10頁に記載の化合物や、スクシンイミド、フ
タルイミド、２−メチルスクシンイミド、ジチオウラシ
ル、５−メチル−５−ｎ−ペンチルヒダントイン、ニト
ロフタルイミド、２，３，４，５−テトラクロロフタル
イミド、５，５−ジメチルオキサゾロン、ジフェニルヒ
ダントイン、メレンイミド、グルタルイミド、ピロメリ
トイミド、Ｎ−（トリメチルシリル）フタルイミド、ヒ
ダントイン、３−メチルフタルイミド、４−ｎ−オクチ
ルフタルイミド等のイミド化合物が挙げられる。
29号公報第10頁に記載の化合物や、スクシンイミド、フ
タルイミド、２−メチルスクシンイミド、ジチオウラシ
ル、５−メチル−５−ｎ−ペンチルヒダントイン、ニト
ロフタルイミド、２，３，４，５−テトラクロロフタル
イミド、５，５−ジメチルオキサゾロン、ジフェニルヒ
ダントイン、メレンイミド、グルタルイミド、ピロメリ
トイミド、Ｎ−（トリメチルシリル）フタルイミド、ヒ
ダントイン、３−メチルフタルイミド、４−ｎ−オクチ
ルフタルイミド等のイミド化合物が挙げられる。
【０１４５】これらの化合物の添加量は本発明の感光性
組成物（２）の構成及び目的により変わるが、例えば、
本発明のコバルト錯体に対して0.1〜20モル％の割合で
添加される。
組成物（２）の構成及び目的により変わるが、例えば、
本発明のコバルト錯体に対して0.1〜20モル％の割合で
添加される。
【０１４６】本発明の感光性組成物（２）には、本発明
の利点を損なわない範囲で、更に、フィラー、顔料、帯
電防止剤、可塑剤、熱溶剤、酸素クエンチャー等を添加
してもよい。
の利点を損なわない範囲で、更に、フィラー、顔料、帯
電防止剤、可塑剤、熱溶剤、酸素クエンチャー等を添加
してもよい。
【０１４７】フィラーとしては、シリカゲル、炭酸カル
シウム、酸化チタン、酸性白土、アルミナ等の無機微粒
子やフッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹
脂粒子、シリコン樹脂粒子等の有機樹脂粒子が挙げら
れ、顔料としては、チタンホワイト、炭酸カルシウム、
酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、カ
オリン、活性白土、酸性白土等が挙げられる。
シウム、酸化チタン、酸性白土、アルミナ等の無機微粒
子やフッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル樹
脂粒子、シリコン樹脂粒子等の有機樹脂粒子が挙げら
れ、顔料としては、チタンホワイト、炭酸カルシウム、
酸化亜鉛、硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、カ
オリン、活性白土、酸性白土等が挙げられる。
【０１４８】帯電防止剤としては、カチオン系界面活性
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子等が挙げられる。更に、
「11290の化学商品」化学工業日報社、第875頁〜第876
頁等に記載の化合物も用いることもできる。
剤、アニオン系界面活性剤、非イオン系界面活性剤、高
分子帯電防止剤、導電性微粒子等が挙げられる。更に、
「11290の化学商品」化学工業日報社、第875頁〜第876
頁等に記載の化合物も用いることもできる。
【０１４９】可塑剤は、現像時間の短縮、現像温度の低
下等を目的として添加される。これら可塑剤としては、
例えば、フタル酸エステル類、トリメリット酸エステル
類、アジピン酸エステル類、飽和又は不飽和カルボン酸
エステル類、クエン酸エステル類、エポキシ化大豆油や
エポキシ類、正リン酸エステル類、亜燐酸エステル類、
グリコールエステル類が挙げられる。更に、「11290の
化学商品」化学工業日報社、第843頁〜第857頁等に記載
の化合物を用いることもできる。
下等を目的として添加される。これら可塑剤としては、
例えば、フタル酸エステル類、トリメリット酸エステル
類、アジピン酸エステル類、飽和又は不飽和カルボン酸
エステル類、クエン酸エステル類、エポキシ化大豆油や
エポキシ類、正リン酸エステル類、亜燐酸エステル類、
グリコールエステル類が挙げられる。更に、「11290の
化学商品」化学工業日報社、第843頁〜第857頁等に記載
の化合物を用いることもできる。
【０１５０】熱溶剤は可塑剤と同様の目的で添加され
る。これら熱溶剤としては、常温で固体であり、加熱時
に可逆的に液体となる化合物が好ましく、具体的には、
例えば、テルピネオール、メントール等のアルコール
類、アセトアミド、ベンズアミド等のアミド類、クマリ
ン、桂皮酸ベンジル等のエステル類、ジフェニルエーテ
ル、クラウンエーテル等のエーテル類、カンファー、ｐ
−メチルアセトフェノン等のケトン類、バニリン、ジメ
トキシベンズアルデヒド等のアルデヒド類、ｐ−べンジ
ルビフェニル、スチルベン等の炭化水素類、エイコサノ
ール等の高級アルコール、パルミチニルアミン等の高級
アミンなどに代表される単分子化合物、蜜蝋、キャンデ
リラワックス、パラフィンワックス、エステルワック
ス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミドワック
ス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワッ
クス等のワックス類、エステルガム、ロジンフェノール
樹脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、
エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テルペン系炭
化水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール等のポリオレフィン
オキサイドなどに代表される高分子化合物などを挙げる
ことができる。
る。これら熱溶剤としては、常温で固体であり、加熱時
に可逆的に液体となる化合物が好ましく、具体的には、
例えば、テルピネオール、メントール等のアルコール
類、アセトアミド、ベンズアミド等のアミド類、クマリ
ン、桂皮酸ベンジル等のエステル類、ジフェニルエーテ
ル、クラウンエーテル等のエーテル類、カンファー、ｐ
−メチルアセトフェノン等のケトン類、バニリン、ジメ
トキシベンズアルデヒド等のアルデヒド類、ｐ−べンジ
ルビフェニル、スチルベン等の炭化水素類、エイコサノ
ール等の高級アルコール、パルミチニルアミン等の高級
アミンなどに代表される単分子化合物、蜜蝋、キャンデ
リラワックス、パラフィンワックス、エステルワック
ス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミドワック
ス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタリンワッ
クス等のワックス類、エステルガム、ロジンフェノール
樹脂等のロジン誘導体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、
エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、テルペン系炭
化水素樹脂、シクロペンタジエン樹脂、ポリオレフィン
系樹脂、ポリカプロラクトン系樹脂、ポリエチレングリ
コール、ポリプロピレングリコール等のポリオレフィン
オキサイドなどに代表される高分子化合物などを挙げる
ことができる。
【０１５１】熱溶剤の融点あるいは軟化点は、10〜150
℃の範囲にあることが好ましい。
℃の範囲にあることが好ましい。
【０１５２】酸素クエンチャーとしては、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルアニリン誘導体が好ましく、これら化合物として
は、例えば、米国特許第4,772,541号明細書の第11カラ
ム第58行目から第12カラム第35行目に記載の化合物が挙
げられる。
ルキルアニリン誘導体が好ましく、これら化合物として
は、例えば、米国特許第4,772,541号明細書の第11カラ
ム第58行目から第12カラム第35行目に記載の化合物が挙
げられる。
【０１５３】上記記載の添加剤は、画像形成層に対し
て、0.1〜70重量％添加するのが好ましい。
て、0.1〜70重量％添加するのが好ましい。
【０１５４】本発明の感光性組成物（１）及び本発明の
感光性組成物（２）は、各構成成分を、溶媒に分散ある
いは溶解して調製することができる。感光層は、例え
ば、これら各構成成分を溶解あるいは分散した塗工液
を、支持体上に、塗布・乾燥することにより形成するこ
とができる。
感光性組成物（２）は、各構成成分を、溶媒に分散ある
いは溶解して調製することができる。感光層は、例え
ば、これら各構成成分を溶解あるいは分散した塗工液
を、支持体上に、塗布・乾燥することにより形成するこ
とができる。
【０１５５】これら溶媒としては、例えば、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、
フタル酸ジメチル、安息香酸エチル等のエステル類；ト
ルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン等の芳香
族炭化水素；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロ
ホルム、１，１，１−トリクロロエタン、モノクロロベ
ンゼン、クロロナフタレン、ジクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート等のエーテル類；その他、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ベント
キソン等が使用できる。
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、ジイソブチルケトン等のケトン類；酢酸エ
チル、酢酸ブチル、酢酸アミル、プロピオン酸エチル、
フタル酸ジメチル、安息香酸エチル等のエステル類；ト
ルエン、キシレン、ベンゼン、エチルベンゼン等の芳香
族炭化水素；四塩化炭素、トリクロロエチレン、クロロ
ホルム、１，１，１−トリクロロエタン、モノクロロベ
ンゼン、クロロナフタレン、ジクロロエタン等のハロゲ
ン化炭化水素；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテルアセテート等のエーテル類；その他、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ベント
キソン等が使用できる。
【０１５６】塗工液の塗布には、グラビアロールを用い
た面順次塗り別け塗布法、押し出し塗布法、ワイヤーバ
ー塗布法、ロール塗布法等を用いることができる。
た面順次塗り別け塗布法、押し出し塗布法、ワイヤーバ
ー塗布法、ロール塗布法等を用いることができる。
【０１５７】次に、本発明の画像形成材料、即ち、支持
体上に、本発明の感光性組成物（１）よりなる感光層を
設けた画像形成材料〔以下、本発明の画像形成材料（１
−１）という。〕、上記本発明の画像形成材料（１−
１）において、支持体と感光層との間に中間層を設けた
画像形成材料〔以下、本発明の画像形成材料（１−２）
という。〕、上記本発明の画像形成材料（１−１）及び
本発明の画像形成材料（１−２）において、感光層の上
にカバーシートを設けた画像形成材料〔以下、本発明の
画像形成材料（１−３）という。〕〔以上併せて、本発
明の画像形成材料（１）という。〕及び支持体上に、本
発明の感光性組成物（２）よりなる感光層を設けた画像
形成材料〔以下、本発明の画像形成材料（２）とい
う。〕について説明する。
体上に、本発明の感光性組成物（１）よりなる感光層を
設けた画像形成材料〔以下、本発明の画像形成材料（１
−１）という。〕、上記本発明の画像形成材料（１−
１）において、支持体と感光層との間に中間層を設けた
画像形成材料〔以下、本発明の画像形成材料（１−２）
という。〕、上記本発明の画像形成材料（１−１）及び
本発明の画像形成材料（１−２）において、感光層の上
にカバーシートを設けた画像形成材料〔以下、本発明の
画像形成材料（１−３）という。〕〔以上併せて、本発
明の画像形成材料（１）という。〕及び支持体上に、本
発明の感光性組成物（２）よりなる感光層を設けた画像
形成材料〔以下、本発明の画像形成材料（２）とい
う。〕について説明する。
【０１５８】上記各画像形性材料に用いる支持体は、十
分な機械的強度と耐熱性及び寸法安定性を有していれ
ば、特に制限なく公知の材料を使用することができる。
具体的には、例えば、木材パルプ、セルロースパルプ、
サルファイトパルプなどを抄紙した紙；合成紙（例え
ば、ポリプロピレンを主成分とする合成紙）；樹脂フィ
ルムあるいはシート；樹脂フィルムあるいはシートを２
層以上積層してなる積層フィルムまたはシート；各種高
分子材料；金属；セラミックを挙げることができる。
分な機械的強度と耐熱性及び寸法安定性を有していれ
ば、特に制限なく公知の材料を使用することができる。
具体的には、例えば、木材パルプ、セルロースパルプ、
サルファイトパルプなどを抄紙した紙；合成紙（例え
ば、ポリプロピレンを主成分とする合成紙）；樹脂フィ
ルムあるいはシート；樹脂フィルムあるいはシートを２
層以上積層してなる積層フィルムまたはシート；各種高
分子材料；金属；セラミックを挙げることができる。
【０１５９】上記支持体に用いる樹脂、高分子材料とし
ては、単量体成分として、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル等を用いたアクリル系樹脂；ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカ
ーボネート；ポリ塩化ビニル；ポリ塩化ビニリデン；ポ
リフツ化ビニリデン；ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂；ナイロン、芳
香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂；ポリエーテルエ
ーテルケトン；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；
ポリイミド；ポリエーテルイミド；フェノキシ樹脂；エ
ポキシ樹脂；ウレタン樹脂；メラミン樹脂；アルキッド
樹脂；フェノール樹脂；フッ素樹脂；シリコーン樹脂な
どが挙げられる。
ては、単量体成分として、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル等を用いたアクリル系樹脂；ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリカ
ーボネート；ポリ塩化ビニル；ポリ塩化ビニリデン；ポ
リフツ化ビニリデン；ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂；ナイロン、芳
香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂；ポリエーテルエ
ーテルケトン；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；
ポリイミド；ポリエーテルイミド；フェノキシ樹脂；エ
ポキシ樹脂；ウレタン樹脂；メラミン樹脂；アルキッド
樹脂；フェノール樹脂；フッ素樹脂；シリコーン樹脂な
どが挙げられる。
【０１６０】樹脂フィルムあるいはシートは、樹脂、高
分子材料をシートあるいはフィルム状に押し出し、一軸
延伸あるいは二時軸延伸し、ヒートセツトしたものが寸
法安定性の面から好ましい。
分子材料をシートあるいはフィルム状に押し出し、一軸
延伸あるいは二時軸延伸し、ヒートセツトしたものが寸
法安定性の面から好ましい。
【０１６１】支持体上に形成した画像を反射画像とする
場合には、画像の鮮明性を高めるために、白色顔料、例
えば、チタンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、
硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウ
ム等を少なくとも表面層に添加せしめることが好まし
い。
場合には、画像の鮮明性を高めるために、白色顔料、例
えば、チタンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、
硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウ
ム等を少なくとも表面層に添加せしめることが好まし
い。
【０１６２】フィルムまたはシートは、片面あるいは両
面に多孔質構造の顔料塗工層を設けたものも好適に用い
ることができる。
面に多孔質構造の顔料塗工層を設けたものも好適に用い
ることができる。
【０１６３】支持体は、内部にミクロボイドを有するも
のであっても、ミクロボイドを有しないものであっても
よく、用途に応じて適宜に選択することができる。
のであっても、ミクロボイドを有しないものであっても
よく、用途に応じて適宜に選択することができる。
【０１６４】紙は、天然パルプ、合成パルプまたはこれ
らの混合物から抄紙されるパルプ紙が好ましく、長網抄
紙機等を用いて抄紙される。抄紙後、表面の平滑度を向
上させる目的で、マシンカレンダー、スーパーカレンダ
ー、熱カレンダー等を用いてカレンダー処理することが
好ましい。また、顔料を含有した樹脂層でコートし、表
面の平滑性を向上させた紙も本好適に用いることができ
る。
らの混合物から抄紙されるパルプ紙が好ましく、長網抄
紙機等を用いて抄紙される。抄紙後、表面の平滑度を向
上させる目的で、マシンカレンダー、スーパーカレンダ
ー、熱カレンダー等を用いてカレンダー処理することが
好ましい。また、顔料を含有した樹脂層でコートし、表
面の平滑性を向上させた紙も本好適に用いることができ
る。
【０１６５】本発明に用いられる紙の具体例としては、
上質紙、アート紙、コート紙、片艶紙、含浸紙、板紙、
コンデンサー紙，グラシン紙等の薄葉紙等が挙げられ
る。
上質紙、アート紙、コート紙、片艶紙、含浸紙、板紙、
コンデンサー紙，グラシン紙等の薄葉紙等が挙げられ
る。
【０１６６】紙に、白色微粒子を含有するポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂のラミネ
ート層を設けた場合、表面はベック平滑度で５０秒以上
あるようにするのが好ましく、100秒以上、更には200秒
以上のベック平滑度を有することが好ましい。
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂のラミネ
ート層を設けた場合、表面はベック平滑度で５０秒以上
あるようにするのが好ましく、100秒以上、更には200秒
以上のベック平滑度を有することが好ましい。
【０１６７】紙には、必要に応じて、サイズ剤、定着
剤、紙力増強剤、填料、帯電防止剤、染料、顔料、蛍光
増白剤、酸化防止剤、減摩剤等の添加剤を含有させるこ
とができる。
剤、紙力増強剤、填料、帯電防止剤、染料、顔料、蛍光
増白剤、酸化防止剤、減摩剤等の添加剤を含有させるこ
とができる。
【０１６８】支持体には、接着性を向上させるためにコ
ロナ放電処理、紫外線処理、プラズマ処理、紫外線処
理、火炎処理、高周波処理、グロー放電処理、レーザー
処理、アルカリ処理、アミン処理、トリクロル酢酸処
理、フェノール類処理、混酸処理、オゾン酸化処理、機
械的処理を施すことができる。
ロナ放電処理、紫外線処理、プラズマ処理、紫外線処
理、火炎処理、高周波処理、グロー放電処理、レーザー
処理、アルカリ処理、アミン処理、トリクロル酢酸処
理、フェノール類処理、混酸処理、オゾン酸化処理、機
械的処理を施すことができる。
【０１６９】支持体としては、通常、２〜300μmの厚み
を有するものが用いられ、また、4.5〜150μmの厚みを
有するものが好ましく用いられる。
を有するものが用いられ、また、4.5〜150μmの厚みを
有するものが好ましく用いられる。
【０１７０】支持体に形成された画像をＯＨＰや印刷藩
のマスク原稿等として用いる場合には、光透過率の高い
支持体を用いることが好ましく、通常、70％以上、更に
は80％以上の光透過率を有する支持体を用いることが好
ましい。
のマスク原稿等として用いる場合には、光透過率の高い
支持体を用いることが好ましく、通常、70％以上、更に
は80％以上の光透過率を有する支持体を用いることが好
ましい。
【０１７１】本発明の画像形成材料（１−１）は、本発
明の感光性組成物（１）よりなる感光層を上記の支持体
上に設けて構成される。支持体上にこれら感光層を設け
るには、本発明の感光性組成物（１）を無溶剤にて支持
体上塗布形成又はラミネートするか、先に述べたように
適当な溶剤に本発明の感光性組成物（１）を溶解し、こ
れを支持上に塗布・乾燥すればよい。
明の感光性組成物（１）よりなる感光層を上記の支持体
上に設けて構成される。支持体上にこれら感光層を設け
るには、本発明の感光性組成物（１）を無溶剤にて支持
体上塗布形成又はラミネートするか、先に述べたように
適当な溶剤に本発明の感光性組成物（１）を溶解し、こ
れを支持上に塗布・乾燥すればよい。
【０１７２】本発明の画像形成材料（１−２）における
中間層は、転写を適切に行なうために感光層と支持体と
を適切な接着力で接合する層であり、転写を適切に行な
うことができるように、露光部、未露光部における感光
層と中間層との間の接着力及び露光部、未露光部におけ
る感光層の凝集力の関係を満足させるものであれば、公
知の粘着剤、接着剤組成物が使用可能である。本発明に
おける凝集力とは感光層を破断するのに要する単位面積
当たりの力を意味する。
中間層は、転写を適切に行なうために感光層と支持体と
を適切な接着力で接合する層であり、転写を適切に行な
うことができるように、露光部、未露光部における感光
層と中間層との間の接着力及び露光部、未露光部におけ
る感光層の凝集力の関係を満足させるものであれば、公
知の粘着剤、接着剤組成物が使用可能である。本発明に
おける凝集力とは感光層を破断するのに要する単位面積
当たりの力を意味する。
【０１７３】中間層は、例えば、シリコーン樹脂、弗素
樹脂、弗素系界面活性剤等の離型性化合物で支持体表面
を処理することにより形成することができる。また、例
えば、アルコール可溶性ポリアミド、アルコール可溶性
ナイロン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリビニ
ルアルコール等の樹脂を支持体上に塗布して形成したも
のも好ましく用いることができる。
樹脂、弗素系界面活性剤等の離型性化合物で支持体表面
を処理することにより形成することができる。また、例
えば、アルコール可溶性ポリアミド、アルコール可溶性
ナイロン、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニル、ポリビニ
ルアルコール等の樹脂を支持体上に塗布して形成したも
のも好ましく用いることができる。
【０１７４】また、中間層を形成するのに用いられる好
適な化合物としては、例えば、天然ゴム類、イソプレン
系ゴム類、ブタジエン系ゴム類、クロロプレンゴム、ニ
トリルゴム、ブチルゴム類、エチレン系ゴム類、アクリ
ル系ゴム類、ウレタンゴム、シリコーンゴム等のゴム類
や、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンブロ
ック共重合体（ＳＢＳ）、ＳＢＳのポリブタジエンを水
素添加したブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、ポリスチレ
ン−ポリイソプレン−ポリスチレンブロツク共重合体
（ＳＩＳ）等のスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリ
オレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱
可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラスト
マー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、１，２−ポ
リブタジエン系熱可塑性エラストマー、エチレン−酢酸
ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビニル系熱可
塑性エラストマー、天然ゴム系熱可塑性エラストマー、
フツ素ゴム系熱可塑性エラストマー、トランス−ポリイ
ソプレン系熱可塑性エラストマー、塩素化ポリエチレン
系熱可塑性エラストマー、等の熱可塑性エラストマー類
や、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系
樹脂、塩化ビニル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ズ
チレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリカプロラクトン
樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、等の熱可塑性樹
脂である。特に好ましくはポリエステル樹脂、ポリ酢酸
ビニル樹脂、塩ビ−酢ビ−マレイン酸共重合体、ポリウ
レタン樹脂が挙げられる。
適な化合物としては、例えば、天然ゴム類、イソプレン
系ゴム類、ブタジエン系ゴム類、クロロプレンゴム、ニ
トリルゴム、ブチルゴム類、エチレン系ゴム類、アクリ
ル系ゴム類、ウレタンゴム、シリコーンゴム等のゴム類
や、ポリスチレン−ポリブタジエン−ポリスチレンブロ
ック共重合体（ＳＢＳ）、ＳＢＳのポリブタジエンを水
素添加したブロック共重合体（ＳＥＢＳ）、ポリスチレ
ン−ポリイソプレン−ポリスチレンブロツク共重合体
（ＳＩＳ）等のスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリ
オレフィン系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱
可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラスト
マー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー、１，２−ポ
リブタジエン系熱可塑性エラストマー、エチレン−酢酸
ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビニル系熱可
塑性エラストマー、天然ゴム系熱可塑性エラストマー、
フツ素ゴム系熱可塑性エラストマー、トランス−ポリイ
ソプレン系熱可塑性エラストマー、塩素化ポリエチレン
系熱可塑性エラストマー、等の熱可塑性エラストマー類
や、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系
樹脂、塩化ビニル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ズ
チレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリカプロラクトン
樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、等の熱可塑性樹
脂である。特に好ましくはポリエステル樹脂、ポリ酢酸
ビニル樹脂、塩ビ−酢ビ−マレイン酸共重合体、ポリウ
レタン樹脂が挙げられる。
【０１７５】上記化合物は単独であるいは２種以上混合
して用いることができる。また、中間層には、上記化合
物を50重量％以上含有せしめることが好ましい。
して用いることができる。また、中間層には、上記化合
物を50重量％以上含有せしめることが好ましい。
【０１７６】中間層には、接着力、フィルム形成性及び
凝集力を調整する目的で、粘着付与剤、高分子樹脂類、
充填剤、可塑剤、ワツクス類等を含有せしめることがで
きる。
凝集力を調整する目的で、粘着付与剤、高分子樹脂類、
充填剤、可塑剤、ワツクス類等を含有せしめることがで
きる。
【０１７７】更に、中間層には必要に応じて紫外線吸収
剤、帯電防止剤、酸化防止剤を添加することができる。
剤、帯電防止剤、酸化防止剤を添加することができる。
【０１７８】中間層は、支持体上に0.5〜50μmの乾燥膜
厚で設けられることが好ましい。特に好ましくは0.5〜3
0μmである。
厚で設けられることが好ましい。特に好ましくは0.5〜3
0μmである。
【０１７９】中間層の形成方法としては、ホットメルト
押し出しで形成する方法、適当な溶剤に分散または溶解
した塗布液を塗布乾燥して形成する方法が用いられる。
押し出しで形成する方法、適当な溶剤に分散または溶解
した塗布液を塗布乾燥して形成する方法が用いられる。
【０１８０】必要に応じて、中間層と支持体との間の接
着力を高める目的で接着層を設けてもよい。
着力を高める目的で接着層を設けてもよい。
【０１８１】本発明の画像形成材料（１−３）における
カバーシートは、感光層の表面に塗工法で設けた樹脂層
であっても、転写して得た樹脂層であってもよく、ラミ
ネートした樹脂フィルムであってもよく、用途に応じて
適時用いることができるが、カバーシートとしては、カ
バーシートに転写画像を形成しようとする場合には、樹
脂フィルムを用いることが好ましい。
カバーシートは、感光層の表面に塗工法で設けた樹脂層
であっても、転写して得た樹脂層であってもよく、ラミ
ネートした樹脂フィルムであってもよく、用途に応じて
適時用いることができるが、カバーシートとしては、カ
バーシートに転写画像を形成しようとする場合には、樹
脂フィルムを用いることが好ましい。
【０１８２】カバーシートとしては、酸素透過性が低
く、かつ、露光光源の波長を吸収、散乱しにくいものを
用いることが好ましい。特に、光透過率が40％以上、好
ましくは60％以上であり、表面平滑性が高いものが好ま
しい。
く、かつ、露光光源の波長を吸収、散乱しにくいものを
用いることが好ましい。特に、光透過率が40％以上、好
ましくは60％以上であり、表面平滑性が高いものが好ま
しい。
【０１８３】樹脂フィルムとしては、先に支持体の説明
において示した樹脂フィルムあるいはシート等を適宜選
択して用いることができ、更に、自己支持性を有する離
型性層形成樹脂フィルムあるいはシートも本発明では好
適に用いることができる。
において示した樹脂フィルムあるいはシート等を適宜選
択して用いることができ、更に、自己支持性を有する離
型性層形成樹脂フィルムあるいはシートも本発明では好
適に用いることができる。
【０１８４】カバーシートに転写画像を形成しようとす
る場合には、カバーシートとして、表面を処理した樹脂
フィルムあるいはシート用いることも好ましい。表面処
理の方法としては、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン
処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品
処理、プラズマ処理、低温プラズマ処理、プライマー処
理、グラフト化処理など公知の樹脂表面改質技術をその
まま適用することができる。具体的には、「高分子表面
の基礎と応用（下）」（化学同人）２章、「高分子新素
材便覧」（丸善）８章等に記載の方法を用いることがで
きる。表面処理には、これらの方法を単独で用いてもよ
いしまた二種以上を併用してもよい。
る場合には、カバーシートとして、表面を処理した樹脂
フィルムあるいはシート用いることも好ましい。表面処
理の方法としては、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン
処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品
処理、プラズマ処理、低温プラズマ処理、プライマー処
理、グラフト化処理など公知の樹脂表面改質技術をその
まま適用することができる。具体的には、「高分子表面
の基礎と応用（下）」（化学同人）２章、「高分子新素
材便覧」（丸善）８章等に記載の方法を用いることがで
きる。表面処理には、これらの方法を単独で用いてもよ
いしまた二種以上を併用してもよい。
【０１８５】樹脂フィルムあるいはシートの表面処理と
しては、画像形成の上からいうと、樹脂フィルムあるい
はシートの表面の極性を高める処理が好ましく、特に、
コロナ放電処理、親水性化合物によるプライマー処理が
好ましい。
しては、画像形成の上からいうと、樹脂フィルムあるい
はシートの表面の極性を高める処理が好ましく、特に、
コロナ放電処理、親水性化合物によるプライマー処理が
好ましい。
【０１８６】カバーシートの厚みは、通常、１〜200μm
の範囲で適宜選択できるが、５〜125μmがより好まし
い。
の範囲で適宜選択できるが、５〜125μmがより好まし
い。
【０１８７】本発明の画像形成材料（１−２）及び本発
明の画像形成材料（１−３）において、本発明の感光性
組成物（１）よりなる感光層は、中間層の上に設けられ
る。
明の画像形成材料（１−３）において、本発明の感光性
組成物（１）よりなる感光層は、中間層の上に設けられ
る。
【０１８８】本発明の画像形成材料（１）において、画
像形成層は単層で形成されてもよいし、二層以上の複数
の層で構成されてもよい。また、画像形成層を複数の層
で構成する場合、それぞれの画像形成層は、組成の異な
る画像形成層であってもよい。この場合、着色剤を含有
しない画像形成層を用いてもよい。
像形成層は単層で形成されてもよいし、二層以上の複数
の層で構成されてもよい。また、画像形成層を複数の層
で構成する場合、それぞれの画像形成層は、組成の異な
る画像形成層であってもよい。この場合、着色剤を含有
しない画像形成層を用いてもよい。
【０１８９】感光層の厚みは、0.1〜10μmが好ましく、
より好ましくは0.3〜５μmである。また、得られた画像
を、感光性平版印刷版のマスク材として使用する場合に
は、500nm以下の波長範囲の吸光度が3.0以上あることが
好ましい。
より好ましくは0.3〜５μmである。また、得られた画像
を、感光性平版印刷版のマスク材として使用する場合に
は、500nm以下の波長範囲の吸光度が3.0以上あることが
好ましい。
【０１９０】本発明の画像形成材料（１−３）におい
て、各構成層はどのような方法で作成してもよいが、感
光層を表面に形成したカバーシートを作成しておき、こ
の感光層を表面に形成したカバーシートと、予め表面に
中間層を形成した支持体とを、中間層と感光層とが接す
るように重ね、加熱下、加圧下あるいは加熱・加圧下に
積層し作成することが特に好ましい。
て、各構成層はどのような方法で作成してもよいが、感
光層を表面に形成したカバーシートを作成しておき、こ
の感光層を表面に形成したカバーシートと、予め表面に
中間層を形成した支持体とを、中間層と感光層とが接す
るように重ね、加熱下、加圧下あるいは加熱・加圧下に
積層し作成することが特に好ましい。
【０１９１】本発明の画像形成材料（１）において、上
述の構成の他に、本発明の目的を逸脱しない範囲であれ
ば、必要に応じてその他の層を設けることもできる。
述の構成の他に、本発明の目的を逸脱しない範囲であれ
ば、必要に応じてその他の層を設けることもできる。
【０１９２】例えば、支持体と感光層の間の接着性を制
御するための層、感光層の上の酸素遮断層、支持体の感
光層を設けた面と反対側に設ける搬送改善層、転写時の
感光性層と受像材料との密着を助ける弾性層あるいはク
ッション層、帯電防止層、等を設けることも任意であ
る。
御するための層、感光層の上の酸素遮断層、支持体の感
光層を設けた面と反対側に設ける搬送改善層、転写時の
感光性層と受像材料との密着を助ける弾性層あるいはク
ッション層、帯電防止層、等を設けることも任意であ
る。
【０１９３】接着性を制御するための層は、画像記録の
際、感光性層の露光部と未露光部の転写性をコントロー
ルしＳ／Ｎ比を改良する。具体的には、例えば、シリコ
ーン樹脂、弗素樹脂、弗素系界面活性剤等の離型性化合
物で支持体表面を処理したもの、アルコール可溶性ポリ
アミド、アルコール可溶性ナイロン、ポリ酢酸ビニル、
ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、等の樹脂を支
持体上に塗布したもの等を好ましく用いることができ
る。
際、感光性層の露光部と未露光部の転写性をコントロー
ルしＳ／Ｎ比を改良する。具体的には、例えば、シリコ
ーン樹脂、弗素樹脂、弗素系界面活性剤等の離型性化合
物で支持体表面を処理したもの、アルコール可溶性ポリ
アミド、アルコール可溶性ナイロン、ポリ酢酸ビニル、
ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、等の樹脂を支
持体上に塗布したもの等を好ましく用いることができ
る。
【０１９４】本発明の画像形成材料（１）は、酸素遮断
層を設けなくても従来のものに比較して小さい露光エネ
ルギーで画像記録が可能であるが、酸素遮断層を設ける
ことで更に露光エネルギーを低減させることができる。
層を設けなくても従来のものに比較して小さい露光エネ
ルギーで画像記録が可能であるが、酸素遮断層を設ける
ことで更に露光エネルギーを低減させることができる。
【０１９５】酸素遮断層としては、酸素透過性が低いこ
と、剥離に耐える機械的強度があること、使用する本発
明の感光性組成物（Ａ）の感光波長における光透過性が
良好なこと（好ましくは透過率40％以上、より好ましく
は透過率60％以上）、表面平滑性が高いことが好ましい
である。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、三
酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、ポリ
スルホン、ポリアミド、ポリイミド等の樹脂フィルムが
単独で、又は２種以上の複合体として使用できる。酸素
遮断層の厚さは１〜200μm，好ましくは３〜50μmの範
囲のものが好ましい。
と、剥離に耐える機械的強度があること、使用する本発
明の感光性組成物（Ａ）の感光波長における光透過性が
良好なこと（好ましくは透過率40％以上、より好ましく
は透過率60％以上）、表面平滑性が高いことが好ましい
である。具体的には、ポリエチレンテレフタレート、三
酢酸セルロース、二酢酸セルロース、ポリ塩化ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、ポリスチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、ポリ
スルホン、ポリアミド、ポリイミド等の樹脂フィルムが
単独で、又は２種以上の複合体として使用できる。酸素
遮断層の厚さは１〜200μm，好ましくは３〜50μmの範
囲のものが好ましい。
【０１９６】酸素遮断層は、酸素遮断層用の樹脂フィル
ムを加熱及び／又は加圧により感光性層上に積層する
か、酸素遮断層用の樹脂を適当な溶剤に溶解したもの
を、感光性層上に塗布・乾燥して設けてもよい。また、
酸素遮断層樹脂フィルム上に感光性層を塗布・乾燥して
形成した後、支持体上に加熱及び／又は加圧により積層
して形成してもよい。
ムを加熱及び／又は加圧により感光性層上に積層する
か、酸素遮断層用の樹脂を適当な溶剤に溶解したもの
を、感光性層上に塗布・乾燥して設けてもよい。また、
酸素遮断層樹脂フィルム上に感光性層を塗布・乾燥して
形成した後、支持体上に加熱及び／又は加圧により積層
して形成してもよい。
【０１９７】本発明の画像形成材料（２）は、本発明の
感光性組成物（２）よりなる感光層を上記の支持体上に
設けて構成される。支持体上にこれら感光層を設けるに
は、本発明の感光性組成物（１）を無溶剤にて支持体上
塗布形成又はラミネートするか、先に述べたように適当
な溶剤に本発明の感光性組成物（１）を溶解し、これを
支持上に塗布・乾燥すればよい。
感光性組成物（２）よりなる感光層を上記の支持体上に
設けて構成される。支持体上にこれら感光層を設けるに
は、本発明の感光性組成物（１）を無溶剤にて支持体上
塗布形成又はラミネートするか、先に述べたように適当
な溶剤に本発明の感光性組成物（１）を溶解し、これを
支持上に塗布・乾燥すればよい。
【０１９８】支持体として、通常、６〜1000μmの厚み
を有するものが用いられ、また、10〜800μmの厚みを有
するものが好ましく用いられる。
を有するものが用いられ、また、10〜800μmの厚みを有
するものが好ましく用いられる。
【０１９９】本発明の画像形成材料（２）には、支持
体、感光層の他に、本発明の画像形成材料（１）と同様
に、接着性、剥離性、密着性、バリア性、保存性等の改
良のために他の層を設けてもよい。
体、感光層の他に、本発明の画像形成材料（１）と同様
に、接着性、剥離性、密着性、バリア性、保存性等の改
良のために他の層を設けてもよい。
【０２００】本発明の画像形性材料（２）は、高濃度の
画像を得ることができるので、透過画像の用途（例え
ば、ＯＨＰ、ガラス等に貼付けるシール用、印刷用マス
ク材料等の透過原稿）に特に適しており、この用途に用
いる場合、基体としては、必要とする透明度や寸法安定
性を損なわないもの、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等のポ
リエステル系樹脂フィルム、特に、２軸延伸フィルムが
好ましい。
画像を得ることができるので、透過画像の用途（例え
ば、ＯＨＰ、ガラス等に貼付けるシール用、印刷用マス
ク材料等の透過原稿）に特に適しており、この用途に用
いる場合、基体としては、必要とする透明度や寸法安定
性を損なわないもの、例えば、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフ
タレート、ポリカーボネート、ポリアクリレート等のポ
リエステル系樹脂フィルム、特に、２軸延伸フィルムが
好ましい。
【０２０１】本発明の画像形成材料（１）及び本発明の
画像形成材料（２）の露光には、種々の光源を用いるこ
とができる。
画像形成材料（２）の露光には、種々の光源を用いるこ
とができる。
【０２０２】露光用の光源としては、紫外線領域、可視
光領域、近赤外線領域の波長を有し、本発明の感光性組
成物（Ａ）に対し活性な電磁波を発生させるものは全て
用いることができる。具体的には、例えば、レーザー、
発光ダイオード、キセノンランプ、ハロゲンランプ、高
圧水銀灯、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、
タングステンランプ、蛍光管、等を挙げることができ
る。
光領域、近赤外線領域の波長を有し、本発明の感光性組
成物（Ａ）に対し活性な電磁波を発生させるものは全て
用いることができる。具体的には、例えば、レーザー、
発光ダイオード、キセノンランプ、ハロゲンランプ、高
圧水銀灯、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、
タングステンランプ、蛍光管、等を挙げることができ
る。
【０２０３】キセノンランプ、ハロゲンランプ、高圧水
銀灯、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タン
グステンランプ、蛍光管等を用いて一括露光する場合に
は、画像記録媒体に、所望の露光画像のパターンを遮光
性材料で形成したマスク材料を重ね合わせ露光すればよ
い。
銀灯、カーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タン
グステンランプ、蛍光管等を用いて一括露光する場合に
は、画像記録媒体に、所望の露光画像のパターンを遮光
性材料で形成したマスク材料を重ね合わせ露光すればよ
い。
【０２０４】発光ダイオードアレイ、蛍光管アレイ等の
アレイ型光源、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ、タングステンランプ、蛍光管等の光源
を、液晶、ＰＬＺＴ等の光学的シヤツター材料により画
像信号に応じて露光を制御することも可能である。この
場合は、マスク材料を使用せず直接書き込みを行うデジ
タル信号による記録が可能である。デジタル化させた情
報に従ってレーザーの場合には、光をビーム状に絞り、
画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク材料
を使用せずに、デジタル化された情報に従って直接書き
込みを行う記録に適している。レーザーは露光面積を微
小サイズに絞ることが容易であるので高解像度の画像形
成が可能である。
アレイ型光源、ハロゲンランプ、高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ、タングステンランプ、蛍光管等の光源
を、液晶、ＰＬＺＴ等の光学的シヤツター材料により画
像信号に応じて露光を制御することも可能である。この
場合は、マスク材料を使用せず直接書き込みを行うデジ
タル信号による記録が可能である。デジタル化させた情
報に従ってレーザーの場合には、光をビーム状に絞り、
画像データに応じた走査露光が可能なので、マスク材料
を使用せずに、デジタル化された情報に従って直接書き
込みを行う記録に適している。レーザーは露光面積を微
小サイズに絞ることが容易であるので高解像度の画像形
成が可能である。
【０２０５】本発明で用いられるレーザー光源は、一般
によく知られているルビーレーザー、ＹＡＧレーザー、
ガラスレーザー等の固体レーザー；Ｈｅ−Ｎｅレーザ
ー、Ｈｅ−Ｘｅレーザー、アルゴンレーザー、クリプト
ンレーザー、窒素レーザー、炭酸ガスレーザー、一酸化
炭素レーザー、その他の放電励起分子レーザー、エキシ
マーレーザーなどの気体レーザー；化学レーザー、色素
レーザー、半導体レーザー等を使用することができる。
特に、アルゴンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧ
レーザー、半導体レーザー等が好ましく用いられる。半
導体レーザーは、その組成により発振波長を変化させる
ことができるので、使用する感光性組成物の感光波長域
に合わせて適宜選択される。本発明において好ましく用
いられる半導体レーザーとしては、ＩｎＧａＰレーザー
（0.65〜1.0μm）、ＡｌＧａＡｓレーザー（0.7〜1.0μ
m）、ＧａＡｓＰレーザー（0.7〜1.0μm）、ＩｎＧａＡ
ｓレーザー（1.0〜3.5μm）、ＩｎＡｓＰレーザー（1.0
〜3.5μm）、ＣｄＳｎＰ２レーザー（1.01μm）、Ｇａ
Ｓｂレーザー（1.53μm）等が挙げられる。
によく知られているルビーレーザー、ＹＡＧレーザー、
ガラスレーザー等の固体レーザー；Ｈｅ−Ｎｅレーザ
ー、Ｈｅ−Ｘｅレーザー、アルゴンレーザー、クリプト
ンレーザー、窒素レーザー、炭酸ガスレーザー、一酸化
炭素レーザー、その他の放電励起分子レーザー、エキシ
マーレーザーなどの気体レーザー；化学レーザー、色素
レーザー、半導体レーザー等を使用することができる。
特に、アルゴンレーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、ＹＡＧ
レーザー、半導体レーザー等が好ましく用いられる。半
導体レーザーは、その組成により発振波長を変化させる
ことができるので、使用する感光性組成物の感光波長域
に合わせて適宜選択される。本発明において好ましく用
いられる半導体レーザーとしては、ＩｎＧａＰレーザー
（0.65〜1.0μm）、ＡｌＧａＡｓレーザー（0.7〜1.0μ
m）、ＧａＡｓＰレーザー（0.7〜1.0μm）、ＩｎＧａＡ
ｓレーザー（1.0〜3.5μm）、ＩｎＡｓＰレーザー（1.0
〜3.5μm）、ＣｄＳｎＰ２レーザー（1.01μm）、Ｇａ
Ｓｂレーザー（1.53μm）等が挙げられる。
【０２０６】本発明の感光性組成物（Ａ）は、長波な光
に対しても優れた感度を有しているので長波な光を放出
するレーザーを用いることができる。
に対しても優れた感度を有しているので長波な光を放出
するレーザーを用いることができる。
【０２０７】本発明の画像形成材料（１）を用いて画像
記録を行うには、画像材料の支持体側または感光層側か
ら画像露光した後、感光層上にカバーシート、保護層等
の層を有している場合には、これらカバーシート、保護
層等を剥離し、感光層と受像材料を密着させ、加圧、加
熱あるいは加圧をすると共に加熱することにより、未露
光部を受像材料表面に転写させ、受像材料を剥離すれば
よい。
記録を行うには、画像材料の支持体側または感光層側か
ら画像露光した後、感光層上にカバーシート、保護層等
の層を有している場合には、これらカバーシート、保護
層等を剥離し、感光層と受像材料を密着させ、加圧、加
熱あるいは加圧をすると共に加熱することにより、未露
光部を受像材料表面に転写させ、受像材料を剥離すれば
よい。
【０２０８】受像材料の剥離は、画像形成材料と受像材
料とが一定の角度になるように保ち、一定速度で剥離す
ることが好ましい。これにより画像は受像材料上に安定
して形成される。
料とが一定の角度になるように保ち、一定速度で剥離す
ることが好ましい。これにより画像は受像材料上に安定
して形成される。
【０２０９】画像の形成は、受像材料への感光層の露光
部と末露光部の接着力の差を利用している。
部と末露光部の接着力の差を利用している。
【０２１０】カバーシートが受像材料として機能するも
のである場合には、カバーシートを剥離することなく、
加熱及び／又は加圧し、未露光部をカバーシートに転写
させ、カバーシートを剥離する。
のである場合には、カバーシートを剥離することなく、
加熱及び／又は加圧し、未露光部をカバーシートに転写
させ、カバーシートを剥離する。
【０２１１】カバーシートの厚みが25μm以下である場
合は、剥離を安定に行なうため、また、形成された画像
の強度及び取扱性を高めるために、加熱及び／又は加圧
前、または、加熱及び／又は加圧後、剥離する前にカバ
ーシート上に別の支持体を貼り合わせ両者を同時に剥離
することが好ましい。
合は、剥離を安定に行なうため、また、形成された画像
の強度及び取扱性を高めるために、加熱及び／又は加圧
前、または、加熱及び／又は加圧後、剥離する前にカバ
ーシート上に別の支持体を貼り合わせ両者を同時に剥離
することが好ましい。
【０２１２】画像を形成した後、形成した画像の重合を
完了させるために、露光あるいは加熱を行なうことがで
きる。
完了させるために、露光あるいは加熱を行なうことがで
きる。
【０２１３】露光に用いる光源としては、例えば、レー
ザー、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カ
ーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステン
ランプ、赤外線ランプ、高圧水銀灯、蛍光灯、日光等を
用いることができる。露光光源は、画像形成層中の光重
合開始剤に作用し、エチレン性不飽和結合を有する重合
可能な化合物を重合し、画像形成層を硬化させることが
できるものであればよい。露光光源の露光強度、露光時
間は、画像を実用上問題ない程度に硬化することができ
るように選定される。露光は、一括露光であっても走査
露光であってもよい。また、加熱に用いる加熱源として
はいかなるものであってもよい。加熱温度、加熱時間
は、画像を実用上問題ない程度に硬化することができる
ように選定される。
ザー、キセノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カ
ーボンアーク燈、メタルハライドランプ、タングステン
ランプ、赤外線ランプ、高圧水銀灯、蛍光灯、日光等を
用いることができる。露光光源は、画像形成層中の光重
合開始剤に作用し、エチレン性不飽和結合を有する重合
可能な化合物を重合し、画像形成層を硬化させることが
できるものであればよい。露光光源の露光強度、露光時
間は、画像を実用上問題ない程度に硬化することができ
るように選定される。露光は、一括露光であっても走査
露光であってもよい。また、加熱に用いる加熱源として
はいかなるものであってもよい。加熱温度、加熱時間
は、画像を実用上問題ない程度に硬化することができる
ように選定される。
【０２１４】形成された画像を硬化させることは、画像
の定着性向上、あるいは、複数色を重ねて転写する場合
に発生し易いトラッピングを防止する意味で好ましい。
の定着性向上、あるいは、複数色を重ねて転写する場合
に発生し易いトラッピングを防止する意味で好ましい。
【０２１５】画像を転写される受像材料としては、転写
時に感光層と密着性を保てるようなものであれば、素
材、形状共、特に制限なく使用することができる。代表
的具体例としては、上質紙、アート紙、コート紙及び合
成紙（ポリプロピレン、ポリスチレン又はそれらを紙と
貼り合わせた複合材料）等の各種紙類；塩化ビニル樹脂
シート、ＡＢＳ樹脂シート、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリ
イミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリカ
ーボネートフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィ
ルム、ポリアリレートフィルム、ポリスルホンフィル
ム、ポリエーテルスルホンフィルム等の単層あるいはそ
れらを２層以上に積層した各種プラスチックフィルム；
各種の金属で形成されたフィルム、各種のセラミックス
類で形成されたフィルム等が挙げられる。また、受像材
料に、画像を転写するのに適さない材料を用いる場合に
は、画像を転写することができるような表面処理を施せ
ばよい。
時に感光層と密着性を保てるようなものであれば、素
材、形状共、特に制限なく使用することができる。代表
的具体例としては、上質紙、アート紙、コート紙及び合
成紙（ポリプロピレン、ポリスチレン又はそれらを紙と
貼り合わせた複合材料）等の各種紙類；塩化ビニル樹脂
シート、ＡＢＳ樹脂シート、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリ
イミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリカ
ーボネートフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィ
ルム、ポリアリレートフィルム、ポリスルホンフィル
ム、ポリエーテルスルホンフィルム等の単層あるいはそ
れらを２層以上に積層した各種プラスチックフィルム；
各種の金属で形成されたフィルム、各種のセラミックス
類で形成されたフィルム等が挙げられる。また、受像材
料に、画像を転写するのに適さない材料を用いる場合に
は、画像を転写することができるような表面処理を施せ
ばよい。
【０２１６】受像材料に形成した画像を反射画像とする
場合には、画像の鮮明性を高めるために、白色顔料、例
えば、チタンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、
硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウ
ム等を少なくとも表面層に添加せしめることが好まし
い。
場合には、画像の鮮明性を高めるために、白色顔料、例
えば、チタンホワイト、炭酸マグネシウム、酸化亜鉛、
硫酸バリウム、シリカ、タルク、クレー、炭酸カルシウ
ム等を少なくとも表面層に添加せしめることが好まし
い。
【０２１７】親水性表面を有する受像材料（例えば、親
水化処理を施したアルミニウム板、プラスチックフィル
ム等）上に画像記録を行えば、それを平版印刷用の版と
して使用することが可能である。
水化処理を施したアルミニウム板、プラスチックフィル
ム等）上に画像記録を行えば、それを平版印刷用の版と
して使用することが可能である。
【０２１８】異なる色相（例えば、イエロー、マゼン
タ、シアン、ブラツク）の画像形成材料を作成し、同一
受像材料上に順次重ねて転写記録を行えば、フルカラー
画像の形成が可能であり、この画像記録媒体をカラープ
ルーフ材料、カラープリント材料として使用できる。
タ、シアン、ブラツク）の画像形成材料を作成し、同一
受像材料上に順次重ねて転写記録を行えば、フルカラー
画像の形成が可能であり、この画像記録媒体をカラープ
ルーフ材料、カラープリント材料として使用できる。
【０２１９】本発明の画像形成材料（２）を用いて画像
記録を行うには、露光後に加熱処理をすればよい。
記録を行うには、露光後に加熱処理をすればよい。
【０２２０】加熱処理は、均一に、十分に熱が掛かる処
理であれば特に制限はない。加熱処理手段としては、単
に加熱するだけのもの、加熱すると共に加圧するものが
用いられるが、アンモニア、アミンと色素を効率よく均
一に混合し、反応させるためには、加熱するとともに圧
力を掛けることが好ましい。
理であれば特に制限はない。加熱処理手段としては、単
に加熱するだけのもの、加熱すると共に加圧するものが
用いられるが、アンモニア、アミンと色素を効率よく均
一に混合し、反応させるためには、加熱するとともに圧
力を掛けることが好ましい。
【０２２１】これら加熱処理手段としては、オーブン、
サーマルヘッド、ヒートロール、ホットスタンプ、熱ペ
ンなどを用いることができる。
サーマルヘッド、ヒートロール、ホットスタンプ、熱ペ
ンなどを用いることができる。
【０２２２】加熱処理手段としてオーブンを用いる場合
の加熱温度は、通常60〜200℃、好ましくは80〜180℃の
範囲であり、加熱時間は、通常0.1〜300秒、好ましくは
0.5〜100秒である。サーマルヘッドを用いる場合、通常
の溶融転写、昇華転写などを行なうと同様の条件で本発
明の加熱を行なうことができる。
の加熱温度は、通常60〜200℃、好ましくは80〜180℃の
範囲であり、加熱時間は、通常0.1〜300秒、好ましくは
0.5〜100秒である。サーマルヘッドを用いる場合、通常
の溶融転写、昇華転写などを行なうと同様の条件で本発
明の加熱を行なうことができる。
【０２２３】ヒートロールを用いる場合の加熱温度は、
通常60〜200℃、好ましくは80〜180℃の範囲であり、搬
送速度は、通常0.1〜100mm／秒、好ましくは0.5〜50mm
／秒である。加える圧力は、通常0.1〜20kg／cm、好ま
しくは0.5〜10kg／cmである。
通常60〜200℃、好ましくは80〜180℃の範囲であり、搬
送速度は、通常0.1〜100mm／秒、好ましくは0.5〜50mm
／秒である。加える圧力は、通常0.1〜20kg／cm、好ま
しくは0.5〜10kg／cmである。
【０２２４】ホットスタンプを用いる場合の加熱温度
は、通常60〜200℃、好ましくは80〜150℃の範囲であ
り、加熱時間は、通常0.1〜300秒、好ましくは0.5〜100
秒である。加える圧力は、通常0.05〜10kg／cm2、好ま
しくは0.5〜5kg／cm2である。
は、通常60〜200℃、好ましくは80〜150℃の範囲であ
り、加熱時間は、通常0.1〜300秒、好ましくは0.5〜100
秒である。加える圧力は、通常0.05〜10kg／cm2、好ま
しくは0.5〜5kg／cm2である。
【０２２５】加圧手段を持たないオーブンなどを用い
て、加圧を行なう場合には、例えば、オーブン中に加圧
ロールを設置すればよい。
て、加圧を行なう場合には、例えば、オーブン中に加圧
ロールを設置すればよい。
【０２２６】
【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。なお、以下において、「部」は、特に断り
がない限り「有効成分としての重量部」を表す。
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。なお、以下において、「部」は、特に断り
がない限り「有効成分としての重量部」を表す。
【０２２７】実施例１ 厚さ75μmの延伸透明ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム〔Ｔ100、ダイアホイルヘキスト（株）製〕上に、
エチレン−酢酸ビニル共重合体（酢酸ビニル含有量28
％、メルトインデックス400ｇ／10min）の20重量％トル
エン溶液を、塗布し、乾燥して厚さ10μmの中間層を形
成した。次いで、中間層の上に、下記の組成の接着力調
整層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングにより塗
布し、乾燥して厚さ1.5μmの接着力調整層を形成した。
ルム〔Ｔ100、ダイアホイルヘキスト（株）製〕上に、
エチレン−酢酸ビニル共重合体（酢酸ビニル含有量28
％、メルトインデックス400ｇ／10min）の20重量％トル
エン溶液を、塗布し、乾燥して厚さ10μmの中間層を形
成した。次いで、中間層の上に、下記の組成の接着力調
整層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングにより塗
布し、乾燥して厚さ1.5μmの接着力調整層を形成した。
【０２２８】 《接着力調整層形成塗工液組成》 ポリビニルアルコール（ゴーセノールGL-05）（日本合成化学（株）製） 10部 界面活性剤（FT-248）（バイエル社製） 0.5部 蒸留水 89.5部
【０２２９】さらに、接着力調整層上に、下記の組成の
感光層形成塗工液をワイヤーバーコーティングにより塗
布・乾燥し、厚さ1.0μmの感光層を形成した。
感光層形成塗工液をワイヤーバーコーティングにより塗
布・乾燥し、厚さ1.0μmの感光層を形成した。
【０２３０】 《感光層形成塗工液組成》 増感色素（表１に記載） 2.0部 ラジカル発生剤（表１に記載） 4.0部 アクリル系樹脂（ダイヤナールBR-83）（三菱レイヨン（株）製） 22.0部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（KAYARAD DPHA） （日本化薬（株）製） 31.0部 イソシアヌール酸ＥＯ変性トリアクリレート（ARONIX M-315） （東亜合成化学工業（株）製） 10.0部 カルナバワックス（メチルエチルケトン分散物）（LW-130） （東京インキ（株）製） 20.0部 マゼンタ顔料（MHI レッドNo.534)（御国色素（株）製） 10.0部 ジメチルフォルムアミド 80部 メチルエチルケトン 320部 なお、ラジカル発生剤として「Ｃ」を用いた場合には、
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールを1.0部を
添加した。
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールを1.0部を
添加した。
【０２３１】さらに上記感光層の上に、上記の接着力調
整層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングにより乾
燥膜厚1.5μmになるように塗布乾燥し、保護層を形成
し、画像形成材料試料No.１〜２０を作成した。
整層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングにより乾
燥膜厚1.5μmになるように塗布乾燥し、保護層を形成
し、画像形成材料試料No.１〜２０を作成した。
【０２３２】
【表１】
【０２３３】表１において、増感色素は、先に示した色
素であり、ラジカル発生剤は下記に示すものである。本
実施例において、増感色素とラジカル発生剤は協同して
光重合開始剤として作用している。
素であり、ラジカル発生剤は下記に示すものである。本
実施例において、増感色素とラジカル発生剤は協同して
光重合開始剤として作用している。
【０２３４】
【化４５】
【０２３５】得られた画像形成材料試料No.１〜２０に
ついて、下記画像の形成１あるいは画像の形成２によっ
て画像を得、下記によって各試料の感度及び保存性を評
価した。
ついて、下記画像の形成１あるいは画像の形成２によっ
て画像を得、下記によって各試料の感度及び保存性を評
価した。
【０２３６】《画像の形成１》保護層側から、アルゴン
イオンレーザー（アメリカンレーザー社製60Ｃ、出力30
mW、波長514.5nm）で得られたレーザー光をレンズで集
光させて得られたビーム径20μmのレーザービームで走
査露光を施した後、保護層を剥離し、感光層面をアート
紙と対面させ、一対の熱圧ロール間を通して、加熱・加
圧［温度；80℃、圧力；1.5Kg／cm2、送り速度；30mm／
秒］し、感光層の未露光部をアート紙に転写し、アート
紙上に画像を形成した。
イオンレーザー（アメリカンレーザー社製60Ｃ、出力30
mW、波長514.5nm）で得られたレーザー光をレンズで集
光させて得られたビーム径20μmのレーザービームで走
査露光を施した後、保護層を剥離し、感光層面をアート
紙と対面させ、一対の熱圧ロール間を通して、加熱・加
圧［温度；80℃、圧力；1.5Kg／cm2、送り速度；30mm／
秒］し、感光層の未露光部をアート紙に転写し、アート
紙上に画像を形成した。
【０２３７】《画像の形成２》保護層側から、半導体レ
ーザー（東芝社製 ＴＯＬＤ9215、出力10mW、主波長67
0nm）で得られたレーザー光をレンズで集光させて得ら
れたビーム径20μmのレーザービームで走査露光を施し
た後、保護層を剥し、感光層面をアート紙と対面させ、
一対の熱圧ロール間を通して、加熱・加圧［温度；80
℃、圧力；1.5Kg／cm2、送り速度；30mm／秒］し、感光
層の未露光部をアート紙に転写し、アート紙上に画像を
形成した。
ーザー（東芝社製 ＴＯＬＤ9215、出力10mW、主波長67
0nm）で得られたレーザー光をレンズで集光させて得ら
れたビーム径20μmのレーザービームで走査露光を施し
た後、保護層を剥し、感光層面をアート紙と対面させ、
一対の熱圧ロール間を通して、加熱・加圧［温度；80
℃、圧力；1.5Kg／cm2、送り速度；30mm／秒］し、感光
層の未露光部をアート紙に転写し、アート紙上に画像を
形成した。
【０２３８】《感度の評価》アート紙上に画像を形成す
るのに必要な最低の平均露光量Ｅ（Ｅ：単位mＪ／cm2）
をもって、感度を下記の４段階で評価した。
るのに必要な最低の平均露光量Ｅ（Ｅ：単位mＪ／cm2）
をもって、感度を下記の４段階で評価した。
【０２３９】 ◎・・・Ｅ≦10mＪ／cm2 ○・・・10mＪ／cm2＜Ｅ≦25mＪ／cm2 △・・・25mＪ／cm2＜Ｅ≦50mＪ／cm2 ×・・・Ｅ＞50mＪ／cm2
【０２４０】《保存性の評価》得られた画像形成材料試
料を、遮光下、40℃の条件で４月間保存した後、前記感
度の評価と同様にして、アート紙上に画像を形成するの
に必要な最低の平均露光量Ｅを求め、保存前の感度を１
とする相対感度（Ｎ）を算出し、保存性を下記の４段階
で評価した。
料を、遮光下、40℃の条件で４月間保存した後、前記感
度の評価と同様にして、アート紙上に画像を形成するの
に必要な最低の平均露光量Ｅを求め、保存前の感度を１
とする相対感度（Ｎ）を算出し、保存性を下記の４段階
で評価した。
【０２４１】 ◎・・・Ｎ≦1.25 ○・・・1.25＜Ｎ≦1.5 △・・・1.5＜Ｎ≦2.00 ×・・・Ｎ＞2.00 得られた結果を表２に示す。
【０２４２】
【表２】
【０２４３】実施例２ 厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム〔Ｔ1
00、ダイアホイルヘキスト（株）製〕上に、エチレン−
酢酸ビニル共重合体（酢酸ビニル含有量28％、メルトイ
ンデックス400ｇ／10min）の20重量％トルエン溶液を、
塗布し、乾燥して厚さ15μmの中間層を形成した。
00、ダイアホイルヘキスト（株）製〕上に、エチレン−
酢酸ビニル共重合体（酢酸ビニル含有量28％、メルトイ
ンデックス400ｇ／10min）の20重量％トルエン溶液を、
塗布し、乾燥して厚さ15μmの中間層を形成した。
【０２４４】また、コロナ処理（80W／m2min）を施した
カバーシート［25μmポリエチレンテレフタレートフィ
ルム〔Ｔ100、ダイヤホイルヘキスト（株）製〕］のコ
ロナ処理をした面に、下記の組成の感光層形成塗工液を
ワイヤーバーコーティングにより塗布・乾燥し、膜さ2
μmの感光層を形成した。
カバーシート［25μmポリエチレンテレフタレートフィ
ルム〔Ｔ100、ダイヤホイルヘキスト（株）製〕］のコ
ロナ処理をした面に、下記の組成の感光層形成塗工液を
ワイヤーバーコーティングにより塗布・乾燥し、膜さ2
μmの感光層を形成した。
【０２４５】 《感光層形成塗工液組成》 増感色素（表３に記載） 2.0部 ラジカル発生剤（表３に記載） 4.0部 アクリル系樹脂（ダイヤナールBR-83）（三菱レイヨン（株）製） 31.0部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（KAYARAD DPHA） （日本化薬（株）製） 31.0部 カーボンブラックのメチルエチルケトン分散液（DM-022) （御国色素（株）製） 20.0部 メチルエチルケトン 320部 なお、ラジカル発生剤として「Ｃ」を用いた場合には、
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールを1.0部を
添加した。
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールを1.0部を
添加した。
【０２４６】上記ポリエチレンテレフタレートフィルム
上の中間層とカバーシート上の感光層を重ね合わせ、一
対の熱圧ロール間を通して、加熱・加圧［温度；60℃、
圧力；1.2Kg／cm2、送り速度；10mm／秒］し、圧着し、
画像形成材料試料No.２１〜４０を作成した。
上の中間層とカバーシート上の感光層を重ね合わせ、一
対の熱圧ロール間を通して、加熱・加圧［温度；60℃、
圧力；1.2Kg／cm2、送り速度；10mm／秒］し、圧着し、
画像形成材料試料No.２１〜４０を作成した。
【０２４７】
【表３】
【０２４８】表３において、増感色素は、先に示した色
素であり、ラジカル発生剤は実施例１に示したものであ
る。本実施例において、増感色素とラジカル発生剤は協
同して光重合開始剤として作用している。
素であり、ラジカル発生剤は実施例１に示したものであ
る。本実施例において、増感色素とラジカル発生剤は協
同して光重合開始剤として作用している。
【０２４９】得られた画像形成材料試料No.２１〜４０
について、下記画像の形成１あるいは画像の形成２によ
って画像を得、下記によって各試料の感度及び保存性を
評価した。
について、下記画像の形成１あるいは画像の形成２によ
って画像を得、下記によって各試料の感度及び保存性を
評価した。
【０２５０】《画像の形成１》カバーシート側から、ア
ルゴンイオンレーザー（アメリカンレーザー社製60Ｃ、
出力30mW、波長514.5nm）で得られたレーザー光をレン
ズで集光させて得られたビーム径20μmのレーザービー
ムで走査露光を施した後、画像形成材料からカバーシー
トを、温度25℃、速度80cm／秒の条件で剥離し、感光層
の露光部をカバーシート側に引き抜き、カバーシート上
に画像を形成した。
ルゴンイオンレーザー（アメリカンレーザー社製60Ｃ、
出力30mW、波長514.5nm）で得られたレーザー光をレン
ズで集光させて得られたビーム径20μmのレーザービー
ムで走査露光を施した後、画像形成材料からカバーシー
トを、温度25℃、速度80cm／秒の条件で剥離し、感光層
の露光部をカバーシート側に引き抜き、カバーシート上
に画像を形成した。
【０２５１】《画像の形成２》保護層側から、半導体レ
ーザー（東芝社製 ＴＯＬＤ9215、出力10mW、主波長67
0nm）で得られたレーザー光をレンズで集光させて得ら
れたビーム径20μmのレーザービームで走査露光を施し
た後、画像形成材料からカバーシートを、温度25℃、速
度80cm／秒の条件で剥離し、感光層の露光部をカバーシ
ート側に引き抜き、カバーシート上に画像を形成した。
ーザー（東芝社製 ＴＯＬＤ9215、出力10mW、主波長67
0nm）で得られたレーザー光をレンズで集光させて得ら
れたビーム径20μmのレーザービームで走査露光を施し
た後、画像形成材料からカバーシートを、温度25℃、速
度80cm／秒の条件で剥離し、感光層の露光部をカバーシ
ート側に引き抜き、カバーシート上に画像を形成した。
【０２５２】《感度の評価》カバーシート上に画像を形
成するのに必要な最低の平均露光量Ｅ（Ｅ：単位mＪ／c
m2）をもって、感度を下記の４段階で評価した。
成するのに必要な最低の平均露光量Ｅ（Ｅ：単位mＪ／c
m2）をもって、感度を下記の４段階で評価した。
【０２５３】 ◎・・・Ｅ≦15mJ／cm2 ○・・・15mJ／cm2＜Ｅ≦40mJ／cm2 △・・・40mJ／cm2＜Ｅ≦100mJ／cm2 ×・・・Ｅ＞100mJ／cm2 得られた結果を表４に示す。
【０２５４】《保存性の評価》得られた画像形成材料試
料を、遮光下、40℃の条件で４月間保存した後、前記感
度の評価と同様にして、アート紙上に画像を形成するの
に必要な最低の平均露光量Ｅを求め、保存前の感度を１
とする相対感度（Ｎ）を算出し、保存性を下記の４段階
で評価した。
料を、遮光下、40℃の条件で４月間保存した後、前記感
度の評価と同様にして、アート紙上に画像を形成するの
に必要な最低の平均露光量Ｅを求め、保存前の感度を１
とする相対感度（Ｎ）を算出し、保存性を下記の４段階
で評価した。
【０２５５】 ◎・・・Ｎ≦1.25 ○・・・1.25＜Ｎ≦1.5 △・・・1.5＜Ｎ≦2.00 ×・・・Ｎ＞2.00 得られた結果を表２に示す。
【０２５６】
【表４】
【０２５７】実施例３ 厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム〔Ｔ
100、ダイアホイルヘキスト（株）製〕上に、下記の組
成の感光層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングに
より乾燥膜厚14μmになるように塗布乾燥し、感光層を
形成し、形成材料試料No.４１〜６０を作成した。
100、ダイアホイルヘキスト（株）製〕上に、下記の組
成の感光層形成塗工液を、ワイヤーバーコーティングに
より乾燥膜厚14μmになるように塗布乾燥し、感光層を
形成し、形成材料試料No.４１〜６０を作成した。
【０２５８】 《感光層形成塗工液組成》 増感色素（表５に記載） 0.6部 ラジカル発生剤（表５に記載） 0.3部 コバルト錯体（Ｃｏ−１） 1.8部 ｏ−フタルアルデヒド 2.9部 ポリビニルブチラール樹脂（BL-1 積水化学工業製） 8.0部 メチルエチルケトン 250部 アセトン 100部
【０２５９】
【表５】
【０２６０】表５において、増感色素は、先に示した色
素であり、ラジカル発生剤は実施例１に示したものであ
る。本実施例において、増感色素とラジカル発生剤は協
同して光還元剤として作用している。
素であり、ラジカル発生剤は実施例１に示したものであ
る。本実施例において、増感色素とラジカル発生剤は協
同して光還元剤として作用している。
【０２６１】得られた画像形成材料試料No.４１〜６０
について、下記画像の形成１あるいは画像の形成２によ
って画像を得、下記によって各試料の感度を評価した。
について、下記画像の形成１あるいは画像の形成２によ
って画像を得、下記によって各試料の感度を評価した。
【０２６２】《画像の形成１》感光層側から、アルゴン
イオンレーザー（アメリカンレーザー社製60Ｃ、出力30
mW、波長514.5nm）で得られたレーザー光をレンズで集
光させて得られたビーム径20μmのレーザービームで、
縦5mm、横5mmのベタの走査露光して潜像を形成した。次
いで、画像形成材料をヒートローラー（130℃、20mm／s
ec.、1.5kg／cm）で加熱現像処理を行い画像を形成し
た。
イオンレーザー（アメリカンレーザー社製60Ｃ、出力30
mW、波長514.5nm）で得られたレーザー光をレンズで集
光させて得られたビーム径20μmのレーザービームで、
縦5mm、横5mmのベタの走査露光して潜像を形成した。次
いで、画像形成材料をヒートローラー（130℃、20mm／s
ec.、1.5kg／cm）で加熱現像処理を行い画像を形成し
た。
【０２６３】《画像の形成２》感光層側から、半導体レ
ーザー（東芝社製 ＴＯＬＤ9215、出力10mW、主波長67
0nm）で得られたレーザー光をレンズで集光させて得ら
れたビーム径20μmのレーザービームで、縦5mm、横5mm
のベタの走査露光して潜像を形成した。次いで、画像形
成材料をヒートローラー（100℃、20mm／sec.、1.5kg／
cm）で加熱現像処理を行い画像を形成した。
ーザー（東芝社製 ＴＯＬＤ9215、出力10mW、主波長67
0nm）で得られたレーザー光をレンズで集光させて得ら
れたビーム径20μmのレーザービームで、縦5mm、横5mm
のベタの走査露光して潜像を形成した。次いで、画像形
成材料をヒートローラー（100℃、20mm／sec.、1.5kg／
cm）で加熱現像処理を行い画像を形成した。
【０２６４】《感度の評価》カバーシート上に画像を形
成するのに必要な最低の平均露光量Ｅ（Ｅ：単位mＪ／c
m2）をもって、感度を下記の４段階で評価した。
成するのに必要な最低の平均露光量Ｅ（Ｅ：単位mＪ／c
m2）をもって、感度を下記の４段階で評価した。
【０２６５】 ◎・・・Ｅ≦30mJ／cm2 ○・・・30mJ／cm2＜Ｅ≦50mJ／cm2 △・・・50mJ／cm2＜Ｅ≦100mJ／cm2 ×・・・Ｅ＞100mJ／cm2
【０２６６】《保存性の評価》得られた画像形成材料試
料を、遮光下、40℃の条件で４月間保存した後、前記感
度の評価と同様にして、アート紙上に画像を形成するの
に必要な最低の平均露光量Ｅを求め、保存前の感度を１
とする相対感度（Ｎ）を算出し、保存性を下記の４段階
で評価した。
料を、遮光下、40℃の条件で４月間保存した後、前記感
度の評価と同様にして、アート紙上に画像を形成するの
に必要な最低の平均露光量Ｅを求め、保存前の感度を１
とする相対感度（Ｎ）を算出し、保存性を下記の４段階
で評価した。
【０２６７】 ◎・・・Ｎ≦1.25 ○・・・1.25＜Ｎ≦1.5 △・・・1.5＜Ｎ≦2.00 ×・・・Ｎ＞2.00 得られた結果を表６に示す。
【０２６８】
【表６】
【０２６９】
【発明の効果】本発明によれば、半導体レーザー光のよ
うな長波長のレーザー光に対して長波長の光線によって
も画像を形成することができ、かつ、保存性に優れた画
像形成材料を得ることができる。
うな長波長のレーザー光に対して長波長の光線によって
も画像を形成することができ、かつ、保存性に優れた画
像形成材料を得ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 腰塚 国博 東京都日野市さくら町１番地 コニカ株式 会社内
Claims (18)
- 【請求項１】 630〜730nmの範囲にλmaxを有する一般
式（１）〜（４）で表される色素のうちの少なくとも一
種と、有機過酸化物、ジフェニルヨードニウム塩、一般
式（５）及び一般式（６）で示される化合物から選ばれ
た少なくとも一種の化合物とを含有することを特徴とす
る感光性組成物。 【化１】 ［式中、Ｗ1はアルキル基を表し、Ｚ1及びＺ2はそれぞ
れ５〜７員の複素環を形成するのに必要な原子群を表
す。Ｚ1及びＺ2で形成される複素環はそれぞれ他の環を
縮合していてもよい。Ｖ1は窒素原子、硫黄原子、酸素
原子である。Ａは 【化２】 【化３】 【化４】 （上記式において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は水素原子、
ハロゲン原子、アルキル基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及び
Ｒ4はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ5及びＲ
6は水素原子、アルキル基を表す。ｌ、ｍは０または１
以上の整数を表す。ただし、ｌ＋ｍは１以上である。）
Ｙ-は対アニオンを表す。］ 【化５】 ［式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は水素原子、ハロゲン
原子、アルキル基を表し、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13
及びＲ14は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキ
ル基、アルケニル基、アルコキシ基、スルホンアミド
基、アニリノ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド
基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルア
ミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホ
基、カルボキシ基、アリール基、複素環基を表し、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14はそれぞれ同一でも異なって
いてもよい。また、隣接しているＲ11、Ｒ12、Ｒ13及び
Ｒ14は互いに結合して環を形成していてもよい。Ｗ2は
アルキル基を表す。Ｚ3は５〜７員の複素環を形成する
のに必要な原子群を表す。Ｚ3で形成される複素環はそ
れぞれ他の環を縮合していてもよい。Ｙ-は対アニオン
を表す。ｎ、ｏは０または１以上の整数を表す。ただ
し、ｎ＋ｏは１以上である。］ 【化６】 ［式中、Ｗ3は酸素原子、硫黄原子を表し、Ｚ4及びＺ5
はそれぞれ５〜７員の複素環を形成するのに必要な原子
群を表す。Ｚ4及びＺ5で形成される複素環はそれぞれ他
の環を縮合していてもよい。ｐは０または１以上の整数
を表す。］ 【化７】 ［式中、Ａは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル
原子を表す。Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカル
ボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、ア
リール基、複素環基を表し、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及
びＲ19はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、
隣接しているＲ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は互いに
結合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを
表す。］ 【化８】 ［Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はシアノ基、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ 【化９】 ［Ｒ24及びＲ25は水素原子、シアノ基、アルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリ
ノ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコ
キシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カ
ルバモイル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキ
シ基、アリール基、複素環基を表し、Ｒ24及びＲ25はそ
れぞれ同一でも異なっていてもよい。Ｘはハロゲン原子
を表す。Ｚ6は５〜７員の複素環を形成するのに必要な
原子群を表す。Ｚ6で形成される複素環はそれぞれ他の
環を縮合していてもよい。Ｄは窒素原子、酸素原子であ
る。］ - 【請求項２】 430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般
式（７）で表される色素と、ジフェニルヨードニウム塩
及び一般式（５）で示される化合物から選ばれた少なく
とも一種の化合物とを含むことを特徴とする感光性組成
物。 【化１０】 ［式中、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及びＲ30は水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、アリ
ール基、複素環基を表し、Ｒ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及び
Ｒ30はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、隣
接しているＲ26、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29及びＲ30は互いに結
合して環を形成していてもよい。Ｗ4はアルキル基を表
し、Ｚ7は５〜７員の複素環を形成するのに必要な原子
群を表す。Ｚ7で形成される複素環はそれぞれ他の環を
縮合していてもよい。Ｙ-は対アニオンを表す。］ 【化１１】 ［Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はシアノ基、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ - 【請求項３】 430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般
式（８）で表される色素と、一般式（５）で示される化
合物とを含むことを特徴とする感光性組成物。 【化１２】 ［式中、Ｄは酸素原子、硫黄原子、セレン原子、テルル
原子を表す。Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、ア
ミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカル
ボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイ
ル基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、ア
リール基、複素環基を表し、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及
びＲ35はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、
隣接しているＲ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は互いに
結合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを
表す。］ 【化１３】 ［Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はシアノ基、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ - 【請求項４】 430〜550nmの範囲にλmaxを有する一般
式（８Ａ）で表される色素と、一般式（５）で示される
化合物とを含むことを特徴とする感光性組成物。 【化１４】 ［式中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は水素原子、
ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、
アルコキシ基、スルホンアミド基、アニリノ基、アミノ
基、アシルアミノ基、ウレイド基、アルコキシカルボニ
ル基、アルコキシカルボニルアミノ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、スルホ基、カルボキシ基、アリ
ール基、複素環基を表し、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及び
Ｒ35はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。また、隣
接しているＲ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は互いに結
合して環を形成していてもよい。Ｙ-は対アニオンを表
す。］ 【化１５】 ［Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はシアノ基、アルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基を
表し、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23はそれぞれ同一でも異
なっていてもよい。また、Ｒ20、Ｒ21、Ｒ22及びＲ23は
互いに結合して環を形成していてもよい。Ｍ+は対カチ
オンを表す。］ - 【請求項５】 エチレン性不飽和結合を有する重合可能
な化合物及び着色剤を含有することを特徴とする請求項
１〜４のいずれかに記載の感光性組成物。 - 【請求項６】 アンモニアまたはアミンが配位したコバ
ルト（III）錯体及びアンモニアまたはアミンにより発
色または変色する化合物を含有することを特徴とする請
求項１〜４のいずれかに記載の感光性組成物。 - 【請求項７】 支持体上に、請求項５記載の感光性組成
物よりなる感光層を設けたことを特徴とする画像形成材
料。 - 【請求項８】 支持体と請求項５記載の感光性組成物よ
りなる感光層との間に中間層を設けたことを特徴とする
請求項７記載の画像形成材料。 - 【請求項９】 感光層の上にカバーシートを設けたこと
を特徴とする請求項７または８記載の画像形成材料。 - 【請求項１０】 支持体上に請求項６記載の感光性組成
物よりなる感光層を設けたことを特徴とする画像形成材
料。 - 【請求項１１】 請求項７または８記載の画像形成材料
を、画像様に露光し、画像形成材料の感光層に受像材料
を重ね、加熱または加圧し、感光層の露光部及び未露光
部に生じた粘着性の差により、感光層を受像材料に転写
し、画像を形成することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項１２】 請求項９記載の画像形成材料を、画像
様に露光し、カバーシートを除去した後、画像形成材料
の感光層に受像材料を重ね、加熱または加圧し、感光層
の露光部及び未露光部に生じた粘着性の差により、感光
層を受像材料に転写し、画像を形成することを特徴とす
る画像形成方法。 - 【請求項１３】 請求項９記載の画像形成材料を、カバ
ーシート側から画像様に露光し、感光層の露光部及び未
露光部に生じた粘着性の差により、カバーシートに接着
している画像を形成し、次いで、カバーシートに形成さ
れた画像とともにカバーシートを剥離することを特徴と
する画像形成方法。 - 【請求項１４】 請求項１０記載の画像形成材料を、画
像様に露光し、次いで、加熱することを特徴とする画像
形成方法。 - 【請求項１５】 露光を、レーザー光により行なうこと
を特徴とする請求項１１〜１４のいずれかに記載の画像
形成方法。 - 【請求項１６】 レーザー光が、固体レーザーより得ら
れたレーザー光であることを特徴とする請求項１５記載
の画像形成方法。 - 【請求項１７】 レーザー光が、アルゴンレーザー、Ｗ
−ＹＡＧレーザーまたは半導体レーザーより得られたレ
ーザー光であることを特徴とする請求項１５記載の画像
形成方法。 - 【請求項１８】 露光を、レーザー光の走査露光により
行なうことを特徴とする請求項１１〜１７のいずれかに
記載の画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31164095A JPH09134008A (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | 感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31164095A JPH09134008A (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | 感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09134008A true JPH09134008A (ja) | 1997-05-20 |
Family
ID=18019710
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31164095A Pending JPH09134008A (ja) | 1995-11-07 | 1995-11-07 | 感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09134008A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112142721A (zh) * | 2020-09-04 | 2020-12-29 | 武汉大学深圳研究院 | 一种可靶向线粒体的近红外二区噻喃盐荧光化合物及其制备方法与应用 |
-
1995
- 1995-11-07 JP JP31164095A patent/JPH09134008A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112142721A (zh) * | 2020-09-04 | 2020-12-29 | 武汉大学深圳研究院 | 一种可靶向线粒体的近红外二区噻喃盐荧光化合物及其制备方法与应用 |
| CN112142721B (zh) * | 2020-09-04 | 2022-02-11 | 武汉大学深圳研究院 | 一种可靶向线粒体的近红外二区噻喃盐荧光化合物及其制备方法与应用 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3369969B2 (ja) | レーザー誘起熱転写プロセス | |
| JPH07306527A (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
| JPH06262861A (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
| JP2001194771A (ja) | アナログおよびデジタルプルーフィング画像 | |
| EP0753415A2 (en) | Image forming method | |
| JPH09134008A (ja) | 感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 | |
| JP3866411B2 (ja) | 熱転写シート | |
| JP3385477B2 (ja) | 色素受像材料及び画像形成方法 | |
| JPH07120915A (ja) | 画像形成材料 | |
| JPH0792693A (ja) | 画像形成方法 | |
| JPH07261400A (ja) | 画像形成材料 | |
| JP3193149B2 (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
| JPH08156413A (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
| JPH06332175A (ja) | 光重合性組成物 | |
| JPH07219218A (ja) | 画像形成材料 | |
| JPH0854706A (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
| JP3191178B2 (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
| JPH0976652A (ja) | 画像形成方法及び画像形成材料 | |
| JPH06130675A (ja) | 画像記録媒体及び画像記録媒体の製造方法 | |
| JPH08194310A (ja) | 画像形成材料 | |
| JPH08262705A (ja) | 剥離現像可能な画像形成材料 | |
| JPH07244373A (ja) | 平版印刷版の作成方法 | |
| JPH07209859A (ja) | 画像形成材料及び画像形成方法 | |
| JPH0664338A (ja) | 画像記録媒体 | |
| JPH06130658A (ja) | 画像形成材料およびその製造方法 |