JPH058576B2 - - Google Patents

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JPH058576B2
JPH058576B2 JP57079856A JP7985682A JPH058576B2 JP H058576 B2 JPH058576 B2 JP H058576B2 JP 57079856 A JP57079856 A JP 57079856A JP 7985682 A JP7985682 A JP 7985682A JP H058576 B2 JPH058576 B2 JP H058576B2
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JP
Japan
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cell
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semiconductor integrated
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JP57079856A
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JPS58197746A (ja
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Masahiro Iwamura
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/10Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
    • H01L27/118Masterslice integrated circuits
    • H01L27/11898Input and output buffer/driver structures

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体集積回路装置に係り、特にマス
タースライス方式の半導体集積回路装置に関す
る。
コンピユータ、端末装置、その他の一般制御装
置の大規模集積回路(LSI)化が活発に展開され
ている。これらの半導体集積回路装置は多品種少
量生産の傾向が特に強く、製造コストの低減と製
造期間の短縮化のためマスタースライス
(master slice)方式による製造が多用されてい
る。
マスタースライス方式の半導体集積回路装置に
おいては一つの半導体チツプ上にマクロスと呼ば
れる共通素子パターンをあらかじめ例えばマトリ
クス状に作成、配置しておき、開発品種に応じて
専用配線マスクを作成することにより、上記マク
ロス間の相互配線を行つて所望の回路機能を有す
る半導体集積回路装置を完成させるものである。
第1図はマスタースライス方式半導体集積回路
装置の構成を簡略化して示したものである。
図において、10は半導体チツプで、その周辺
に入出力ピンとの接続のための入出力パツド11
が複数個配置され、さらに、入出力パツド11の
内側に中間セルである入出力セル12が配置され
ている。13はマクロスで、半導体チツプ10の
中央にマトリクス状に配置されている。マクロス
13は例えば論理ゲートセルをCMOSで構成す
る場合、複数のNMOSトランジスタとPMOSト
ランジスタがあらかじめ配設されており、マスタ
ースライスの工程で、トランジスタ相互間の接続
が行われ、NANDゲートやフリツプフロツプな
どが実現される。
14はあらかじめ定められた配線用のチヤネル
で、マクロス13の相互間および、マクロス13
と入出力セル12との間に設けられており、この
配線チヤネル14を使つてマクロス13間の相互
配線およびマクロス13と入出力セル12間の相
互配線が行われ、これにより所望の半導体集積回
路が完成される。
ここで、中間セルとなる入出力セル12の機能
を簡単に説明する。入力セルは半導体集積回路の
外部から半導体集積回路の内部、すなわちマクロ
スに信号を導入するためのインタフエース回路で
あり、レベル変換の動作を行う。例えば、半導体
集積回路の外部からの信号がTTL回路から出力
されたものであり、半導体集積回路の内部が
CMOS回路で構成されている場合、TTL信号レ
ベからCMOS信号レベルへのレベル変換を行う。
次に出力セルは半導体集積回路の内部から半導
体集積回路の外部へ信号を導出するためのインタ
ーフエース回路であり、例えば、半導体集積回路
内部のCMOS信号レベルから半導体集積回外部
のTTL信号レベルへのレベル変換を行う。また、
出力セルは外部負荷を直接駆動するため、内部の
マクロス13に比べて、より高い負荷駆動能力を
持たせるのが一般的である。
第2図は従来から多用されているマスタースラ
イス用の中間セルとなる入出力セルの拡大図であ
る。
第2図において100は入出力セル全体を示
し、200は半導体集積回路の外部ピンと半導体
集積回路の内部を接続するための入出力パツドで
ある。101は入力バツフア、102は出力バツ
フアである。入出力セル100を入力用として使
用する場合、端子103と端子108が接続さ
れ、外部信号が入出力パツド200、入力バツフ
ア101、端子104を通つて内部のマクロスに
導入される。
次に入出力セル100を出力用として使用する
場合、端子106と端子108が接続され、内部
回路の出力が端子105、出力バツフア102、
入出力パツド200を通つて半導体集積回路の外
部に出力される。なお、端子107は出力バツフ
ア102をトライステート(高インピーダンス)
状態に切換えるための制御端子である。
また、入出力セル100を入力と出力に兼用す
る場合は端子103と端子108が接続されると
ともに端子106と端子108が接続される。
このような従来の中間セルは、信号の入力と出
力の機能しかないため、中間セルに対応するパツ
ド200は、電源パツド又は接地パツドとして使
うことはできず、配線マスク作成の際に、電源パ
ツド又は接地パツドの位置、及び電源パツド又は
接地パツドの数を、品種ごとに任意に設定するこ
とは不可能であつた。
また、従来の中間セルは信号の入力と出力の機
能しかないため、入出力ピンを不使用の場合、入
出力ピンを有効に利用することができない。
本発明の目的は、電源又は接地パツド及び、電
源又は接地ピンを、チツプ上の任意の位置に任意
の数で設定できる半導体集積回路装置を提供する
ことにある。
本発明の他の目的は不使用の入出力ピンを有効
に使用し得る中間セルを備えた半導体集積回路装
置を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明は、半導体
チツプ上に設けられる複数個のマクロスと、該半
導体チツプの周辺に設けられる複数個の入出力パ
ツドと、該マクロスと該入出力パツドの間に設け
られ、該マクロスと該入出力パツドとを接続する
セルであつて、少なくとも入力バツフア及び出力
バツフアのいずれか一方を有する中間セルとを備
えた半導体集積回路装置において、上記中間セル
の少なくとも1つは、入出力パツドを電源線に接
続する手段、及び、入出力パツドを接地線に接続
する手段の少なくともいずれか一方を備えたこと
を特徴とする。
以下、本発明を図面に従つて説明する。以下の
図面で第2図と同一番号は同一物または相当物を
示す。
第3図において、210は例えば金属配線によ
るスルーチヤネルで、211はマクロスからなる
内部回路と接続するための接続端子、212は入
出力パツド接続端子108と接続するための接続
端子である。220は金属配線によりマクロスか
らなる内部回路に基準電位を与える内部接地バ
ス、230は金属配線による接地引出線、231
は接地引出線230を端子108に接続するため
の接続端子である。240は金属配線によりマク
ロスからなる内部回路に電源電位を供給する電源
バス、250は属配線による電源引出線、251
は電源引出線を端子108に接続するための接続
端子である。第3図に示した本実施例の中間セル
となる入出力セル100では従来の論理レベルの
入出力機能に加えて、端子212と端子108を
接続することにより、非論論理レベルの入出力を
行うことができる。
また、端子231と端子108を接続すること
により、信号の入出力に使用されない不使用ピン
を付加的な接地ピンとして使用することができ
る。
さらにまた、端子251と端子108を接続す
ることにより信号の入出力に使用されない不使用
ピンを付加的な電源ピンとして使用することがで
きる。
尚、中間セルとなる入出力セル100に上記の
いずれの機能を持たせるかは品種毎に配線マスク
を作成する際に、同時に入出力セル用の配線マス
クを作成することにより自由に決定できる。
また、本実施例の構成要素の一つであるスルー
チヤネル210は端子211と212を結ぶ単な
る配線であつてもよいし、第4図に示すように、
端子211と212間に設けられた抵抗、ダイオ
ード、トランジスタなどから構成された直列回路
あるいは並列回路215を含むものであつても入
力または、出力としてのスルー機能を損わないも
のであればよい。
第5図に本実施例を接地強化セルとして用いる
場合の配線例を示す。
第5図において、内部接地パス220は接地引
出線230、端子231、端子108を経て入出
力パツド200に接続されている。したがつて、
第5図では入出力セル100は接地強化セルとし
て機能する。
第6図に本実施例を電源強化セルとして用いる
場合の配線例を示す。
第6図において内部電源パス240は電源引出
線250、端子251、端子108を経て入出力
パツド200に接続されている。したがつて、第
6図では入出力セル100は電源強化セルとして
機能する。
なお、本発明の実施例ではスルーチヤネルが1
本の場合を示したが、必要に応じて入力専用のス
ルーチヤネル、出力専用のスルーチヤネルに分け
るなど、複数のスルーチヤネルを設けてもよい。
また、接地引出線、電源引出線についても、2系
統以上の内部接地パス、電源パスがある場合、複
数の接地引出線、電源引出線を設けてもよい。ま
た、スルーチヤネル210、接地引出線230、
電源引出線250はその長さが零であつてもよ
い。すなわち、接続端子211と212は同一端
子であつてもよいし、接続端子231は内部接地
パス220上の任意の点に設けられていてもよ
い。同様に接続端子251は内部電源パス240
上の任意の点に設けられていてもよい。
さらにまた、本発明による中間セルではスルー
チヤネル、接地引出線、電源引出線のすべてを設
ける必要はなく、必要なものだけ設けておけばよ
い。
以上のように、本発明によれば、電源又は接地
パツド及び、電源又は接地ピンを、チツプ上の任
意の位置に任意の数で設定できる半導体集積回路
装置を得ることができる。
さらに、本発明によれば、中間セルは信号の入
出力に使用しない外部ピンを接地強化ピンまたは
電源強化ピンとして利用できるため、内部回路の
接地レベルや電源レベルの変動を低減でき、より
安定した回路動作の半導体集積回路装置を得るこ
とができ。
【図面の簡単な説明】
第1図はマスタースライス方式半導体集積回路
の概略を示す平面図、第2図は第1図に於ける従
来例である入出力セルの回路図、第3図は本発明
の一実施例による入出力セルの回路図、第4図は
本発明の他の実施例によるスルーチヤネルを示す
図、第5図は本発明の一実施例による入出力セル
を接地強化セルとして用いる場合の回路図、第6
図は本発明の一実施例による入出力セルを電源強
化セルとして用いる場合の回路図である。 11,200…入出力パツド、12,100…
入出力セル、13…マクロス、210…スルーチ
ヤネル、220…内部接地バス、230…接地引
出線、240…電源バス、250…電源引出線。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 半導体チツプ上に設けられる複数個のマクロ
    スと、該半導体チツプの周辺に設けられる複数個
    の入出力パツドと、該マクロスと該入出力パツド
    の間に設けられ、該マクロスと該入出力パツドと
    を接続するセルであつて、少なくとも入力バツフ
    ア及び出力バツフアのいずれか一方を有する中間
    セルとを備えた半導体集積回路装置において、上
    記中間セルの少なくとも1つは、入出力パツドを
    電源線に接続する手段、及び、入出力パツドを接
    地線に接続する手段の少なくともいずれか一方を
    備えたことを特徴とする半導体集積回路装置。
JP7985682A 1982-05-14 1982-05-14 半導体集積回路装置 Granted JPS58197746A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58209158A (ja) * 1982-05-31 1983-12-06 Nec Corp マスタスライス半導体装置
JPS5984547A (ja) * 1982-11-08 1984-05-16 Seiko Epson Corp 半導体装置
JP3349123B2 (ja) 1999-11-01 2002-11-20 株式会社半導体理工学研究センター 集積回路及びその集積回路の回路設計方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5561054A (en) * 1978-10-30 1980-05-08 Mitsubishi Electric Corp Large scale integrated circuit
JPS561545A (en) * 1979-06-15 1981-01-09 Mitsubishi Electric Corp Input/output buffer cell for semiconductor integrated circuit

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