JPH0557120B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
- B41M3/00—Printing processes to produce particular kinds of printed work, e.g. patterns
- B41M3/12—Transfer pictures or the like, e.g. decalcomanias
Landscapes
- Decoration By Transfer Pictures (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Printing Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は離型性シートと絵柄層との間に、見か
け上は乾燥しているが紫外線照射又は電子線照射
により架橋硬化しうる保護層を有している転写シ
ート、及び該転写シートを用いた物理的、化学的
性状の優れた保護層の転写方法に関するものであ
る。
け上は乾燥しているが紫外線照射又は電子線照射
により架橋硬化しうる保護層を有している転写シ
ート、及び該転写シートを用いた物理的、化学的
性状の優れた保護層の転写方法に関するものであ
る。
従来の技術
離型性シート上に保護層として熱可塑性樹脂も
しくは加熱により硬化する熱可塑性樹脂からなる
層を設け、更に絵柄層を設けた転写シートは既に
知られている。しかし、この様な転写シートを用
いて転写を行つても、転写された保護層自体がれ
ほど物理的及び化学的性状の優れたものでないの
で、転写によつて得られる製品の表面の物理的及
び化学的性状は充分ではなく、耐擦傷性、耐溶剤
性及び耐汚染性等は不満足なものしか得られてい
ない。
しくは加熱により硬化する熱可塑性樹脂からなる
層を設け、更に絵柄層を設けた転写シートは既に
知られている。しかし、この様な転写シートを用
いて転写を行つても、転写された保護層自体がれ
ほど物理的及び化学的性状の優れたものでないの
で、転写によつて得られる製品の表面の物理的及
び化学的性状は充分ではなく、耐擦傷性、耐溶剤
性及び耐汚染性等は不満足なものしか得られてい
ない。
近年、電離放射線、特に紫外線もしくは電子線
を照射して硬化させるタイプの、アクリレート系
の塗料が、無溶剤で硬化速度が速いこと等により
注目されており、これらの塗料を上記の転写に利
用する事も幾つか試みられた。
を照射して硬化させるタイプの、アクリレート系
の塗料が、無溶剤で硬化速度が速いこと等により
注目されており、これらの塗料を上記の転写に利
用する事も幾つか試みられた。
しかし、これら塗料は塗布後、紫外線もしくは
電子線を照射しない時は、流動性乃至は粘着性が
が残存してしているので転写シート上にこのよう
な塗料の層を形成し、続いて絵柄層を設けること
は付可能であり、従つて保護層を用いない転写シ
ートを用いて転写を行つた後、上記のアクリレー
ト系塗料を塗布し、紫外線照射若しくは電子線照
射により架橋硬化させるしかなかつた。
電子線を照射しない時は、流動性乃至は粘着性が
が残存してしているので転写シート上にこのよう
な塗料の層を形成し、続いて絵柄層を設けること
は付可能であり、従つて保護層を用いない転写シ
ートを用いて転写を行つた後、上記のアクリレー
ト系塗料を塗布し、紫外線照射若しくは電子線照
射により架橋硬化させるしかなかつた。
塗装工程では、塗料の配合、希釈等の準備、塗
装後の残留塗料の処理、清掃等の後始末、更には
塗装中の粘度、塗装量管理、或いは作業者の衣服
の汚れ等の手間を要する為、転写方のみの場合に
比べ、著しく工程時間が増えると云う問題点が生
じる。
装後の残留塗料の処理、清掃等の後始末、更には
塗装中の粘度、塗装量管理、或いは作業者の衣服
の汚れ等の手間を要する為、転写方のみの場合に
比べ、著しく工程時間が増えると云う問題点が生
じる。
よつて、転写後の塗装が省略できて、尚且つ被
転写体表面の耐擦傷性等の性状の優れた方法が望
まれていた。
転写体表面の耐擦傷性等の性状の優れた方法が望
まれていた。
発明が解決しようとする問題点
本発明においては紫外線硬化樹脂または電子線
硬化樹脂を用いながら、未硬化の状態でも見かけ
上乾燥していて流動性乃至粘着性がない保護層を
有した転写シートを提供することを目的としてい
る。
硬化樹脂を用いながら、未硬化の状態でも見かけ
上乾燥していて流動性乃至粘着性がない保護層を
有した転写シートを提供することを目的としてい
る。
更に本発明は、該転写シートを用い転写後、紫
外線又は電子線照射で保護層の架橋硬化を行う事
により、手間と時間のかかる塗装工程がなく、し
かも紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂の優れ
た表面の物理的、化学的性状を有する転写製品を
得る為の方法を提供することを目的としている。
外線又は電子線照射で保護層の架橋硬化を行う事
により、手間と時間のかかる塗装工程がなく、し
かも紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂の優れ
た表面の物理的、化学的性状を有する転写製品を
得る為の方法を提供することを目的としている。
問題点を解決するための手段
(転写シート)
本発明の転写シートは、離型性シートの離型面
に、未硬化の状態では熱可塑性である紫外線硬化
樹脂または電子線硬化樹脂からなる保護層、及び
絵柄層の少なくとも2つの層が順次積層されてい
ることを特徴とし、この転写シートを用いて転写
を行つた後、紫外線照射もしくは電子照射を行う
と、転写された保護層が架橋硬化して物理的及び
化学的性状が向上した表面が得られるものであ
る。
に、未硬化の状態では熱可塑性である紫外線硬化
樹脂または電子線硬化樹脂からなる保護層、及び
絵柄層の少なくとも2つの層が順次積層されてい
ることを特徴とし、この転写シートを用いて転写
を行つた後、紫外線照射もしくは電子照射を行う
と、転写された保護層が架橋硬化して物理的及び
化学的性状が向上した表面が得られるものであ
る。
第1図は本発明の転写シート1の一例を示すも
ので、離型性シート2の離型面に保護層3及び絵
柄層4が順次積層された状態を示す。
ので、離型性シート2の離型面に保護層3及び絵
柄層4が順次積層された状態を示す。
第2図は本発明の転写シートの実施態様の1つ
を示すもので、第1図の構成のものに隠蔽層5を
加えた構造になつており、この形態の転写シート
を用いて転写を行うと被転写体の色相を隠蔽し、
隠蔽層5の色相で被転写体を被覆することができ
る。
を示すもので、第1図の構成のものに隠蔽層5を
加えた構造になつており、この形態の転写シート
を用いて転写を行うと被転写体の色相を隠蔽し、
隠蔽層5の色相で被転写体を被覆することができ
る。
第3図及び第4図は、更に接着剤層6を加えた
ものを示し、第3図のものは第1図のものに、又
第4図のものは第2図のものに対応する。
ものを示し、第3図のものは第1図のものに、又
第4図のものは第2図のものに対応する。
離型性シート2は転写によつて転移する各層を
転写の際まで保持するもので、例えば、合成樹脂
フイルム;ポリエチレンテレフタレートフイル
ム、ポリアミドフイルム、ポリプロピレンフイル
ム、ポリエチレンフイルム等、或いは紙や合成紙
を使用する。離型性シート2は上記各材料の積層
体であつてもよい。
転写の際まで保持するもので、例えば、合成樹脂
フイルム;ポリエチレンテレフタレートフイル
ム、ポリアミドフイルム、ポリプロピレンフイル
ム、ポリエチレンフイルム等、或いは紙や合成紙
を使用する。離型性シート2は上記各材料の積層
体であつてもよい。
離型性シート2は上記した各材料の単独若しく
は積層体であり得るが、離型をより一層確実にす
る為に、必要に応じてワツクスもしくはシリコー
ン等の離型性物質を適宜なベヒクル(ベヒクルの
例は、通常のインキ組成物のベヒクルとして後述
するものと同じ)、溶剤等と共に溶解して得られ
る離型性塗料を塗布して離型層を形成したもので
あつてもよい。
は積層体であり得るが、離型をより一層確実にす
る為に、必要に応じてワツクスもしくはシリコー
ン等の離型性物質を適宜なベヒクル(ベヒクルの
例は、通常のインキ組成物のベヒクルとして後述
するものと同じ)、溶剤等と共に溶解して得られ
る離型性塗料を塗布して離型層を形成したもので
あつてもよい。
離型性シートは又、その離型面に、転写後の保
護層の表面の艷を調整する意味で種種の方式によ
りマツト処理を施してもよい。マツト処理として
はマツト剤練り込み、マツト剤を含有する塗料の
塗布、サンドブラスト、ケミカルエツチング等が
あり、これらの方式により適宜にパターン状のマ
ツト処理を行つても良い。
護層の表面の艷を調整する意味で種種の方式によ
りマツト処理を施してもよい。マツト処理として
はマツト剤練り込み、マツト剤を含有する塗料の
塗布、サンドブラスト、ケミカルエツチング等が
あり、これらの方式により適宜にパターン状のマ
ツト処理を行つても良い。
或いは、転写後の保護層の表面に凹部を形成す
るために離型面に印刷等により凸部を形成してお
いてもよい。
るために離型面に印刷等により凸部を形成してお
いてもよい。
保護層3は、本発明の特徴的部分であり、未硬
化の状態では常温で固体であり、かつ、熱可塑
性、溶剤溶解性を有しており、しかしながら塗
布、及び乾燥によつて見掛け上、或いは手で触つ
た際にも非流動性であり、且つ、非粘着性である
塗膜を与える紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹
脂からなる。
化の状態では常温で固体であり、かつ、熱可塑
性、溶剤溶解性を有しており、しかしながら塗
布、及び乾燥によつて見掛け上、或いは手で触つ
た際にも非流動性であり、且つ、非粘着性である
塗膜を与える紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹
脂からなる。
このような樹脂としてはラジカル重合性不飽和
基を有する熱可塑性のものであり、次の2種類の
ものがある (1) ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中に
ラジカル重合性不飽和結基を有するもの。
基を有する熱可塑性のものであり、次の2種類の
ものがある (1) ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中に
ラジカル重合性不飽和結基を有するもの。
更に具体的には、ポリマーとしては以下の化合
物〜を重合、若しくは共重合させたものに対
し後述する方法(イ)〜(ニ)よりラジカル重合性不飽和
基を導入したものを用いることができる。
物〜を重合、若しくは共重合させたものに対
し後述する方法(イ)〜(ニ)よりラジカル重合性不飽和
基を導入したものを用いることができる。
水酸基を有する単量体:N−メチロールアク
リルアミド、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロ
キシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエ
ノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ
−3−フエノキシプロピルメタクリレート等。
リルアミド、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロ
キシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フエ
ノキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ
−3−フエノキシプロピルメタクリレート等。
カルボキシル基を有する単量体:アクリル
酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチル
モノサクシネート等。
酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチル
モノサクシネート等。
エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタ
クリレート等。
クリレート等。
アジリジニル基を有する単量体:2−アジリ
ジニルエチルメタクリレート、2−アジリジニ
ルプロピオン酸アリル等。
ジニルエチルメタクリレート、2−アジリジニ
ルプロピオン酸アリル等。
アミノ基を有する単量体:アクリルアミド、
メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジ
エチルアミノエチルメタクリレート等。
メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジ
エチルアミノエチルメタクリレート等。
スルフオン基を有する単量体:2−アクリル
アミド−2−メチルプロパンスルフオン酸等。
アミド−2−メチルプロパンスルフオン酸等。
イソシアネート基を有する単量体:2,4−
トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキシエ
チルアクリレートの1モル対1モル付加物等の
ジイソシアネートと活性水素を有するラジカル
重合性単量体の付加物等。
トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキシエ
チルアクリレートの1モル対1モル付加物等の
ジイソシアネートと活性水素を有するラジカル
重合性単量体の付加物等。
更に、上記の共重合体のガラス転移点を調節
したり硬化膜の物性を調節したりする為に、上
記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下
の様な単量体と共重合させることもできる。
したり硬化膜の物性を調節したりする為に、上
記の化合物と、この化合物と共重合可能な以下
の様な単量体と共重合させることもできる。
このような共重合可能な単量体としては例え
ば、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレ
ート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレー
ト、イソブチルアクリレート、イソブチルメタク
リレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチル
メタクリレート、イソアミルアクリレート、イソ
アミルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、2−エチ
ルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメ
タクリレート、等が挙げられる。
ば、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレ
ート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレー
ト、イソブチルアクリレート、イソブチルメタク
リレート、t−ブチルアクリレート、t−ブチル
メタクリレート、イソアミルアクリレート、イソ
アミルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、シクロヘキシルメタクリレート、2−エチ
ルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルメ
タクリレート、等が挙げられる。
次に上述のようにして得られた重合体を以下に
述べる方法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル重合
性不飽和基を導入することによつて、本発明の保
護層に使用する材料を得ることができる。
述べる方法(イ)〜(ニ)により反応させ、ラジカル重合
性不飽和基を導入することによつて、本発明の保
護層に使用する材料を得ることができる。
(イ) 水酸基を有する単量体の重合体又は共重合体
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸等のカ
ルボキシル基を有する単量体等を縮合反応させ
る。
の場合には、アクリル酸、メタクリル酸等のカ
ルボキシル基を有する単量体等を縮合反応させ
る。
(ロ) カルボキシル基、スルフオン基を有する単量
体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水
酸基を有する単量体を縮合反応させる。
体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水
酸基を有する単量体を縮合反応させる。
(ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジ
リジニル基を有する単量体の重合体又は共重合
体の場合には、前述の水酸基を有する単量体若
しくはカルボキシル基を有する単量体をを付加
反応させる。
リジニル基を有する単量体の重合体又は共重合
体の場合には、前述の水酸基を有する単量体若
しくはカルボキシル基を有する単量体をを付加
反応させる。
(ニ) 水酸基或いはカルボキシル基を有する単量体
の重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基
を有する単量体或いはアジリジニル基を有する
単量体或いはイソシアネート化合物と水酸基含
有アクリル酸エステル単量体の1対1モルの付
加物を付加反応させる。
の重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基
を有する単量体或いはアジリジニル基を有する
単量体或いはイソシアネート化合物と水酸基含
有アクリル酸エステル単量体の1対1モルの付
加物を付加反応させる。
上記反応を行うには、微量のハイドロキノン等
の重合禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うこ
とが好ましい。
の重合禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うこ
とが好ましい。
(2) 融点が0〜250℃でありラジカル重合性不飽
和基を有する化合物。具体的にはステアリルア
クリレート、ステアリルメタクリレート、トリ
アクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジ
オールアクリレート、シクロヘキサンジオール
ジメタクリレート、スピログリコールジアクリ
レート、スピログリコールジメタクリレート等
が挙げられる。
和基を有する化合物。具体的にはステアリルア
クリレート、ステアリルメタクリレート、トリ
アクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジ
オールアクリレート、シクロヘキサンジオール
ジメタクリレート、スピログリコールジアクリ
レート、スピログリコールジメタクリレート等
が挙げられる。
又、本発明に於いては、前記(1),(2)を混合して
用いることもできる。更に、それらに対してラジ
カル重合性不飽和単量体を加えることもできる。
用いることもできる。更に、それらに対してラジ
カル重合性不飽和単量体を加えることもできる。
このラジカル重合性不飽和単量体は、電離放射
線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上さ
せるものであつて、前述の単量体の他にエチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジメタクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリメチロールプロパ
ンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルジアクリ
レート、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレ
ート、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリ
シジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレー
ト、等を用いることができ、前記した共重合体混
合物の固型分100重量部に対して、0.1〜100重量
部で用いることが好ましい。
線照射の際、架橋密度を向上させ耐熱性を向上さ
せるものであつて、前述の単量体の他にエチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキ
サンジオールジメタクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリメチロールプロパ
ンジアクリレート、トリメチロールプロパンジメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリ
レート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、エ
チレングリコールジグリシジルエーテルジアクリ
レート、エチレングリコールジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ポリエチレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジメタクリレ
ート、プロピレングリコールジグリシジルエーテ
ルジアクリレート、プロピレングリコールジグリ
シジルエーテルジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ソルビトールテトラグリ
シジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレー
ト、等を用いることができ、前記した共重合体混
合物の固型分100重量部に対して、0.1〜100重量
部で用いることが好ましい。
又、上記のものは電子線により十分に硬化可能
であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、増
感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、等のベンゾインエーテル類、
ハロゲン化アセトフエノン類、ビアセチル類等の
紫外線照射によりラジカルを発生するものも用い
ることができる。
であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、増
感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテル、等のベンゾインエーテル類、
ハロゲン化アセトフエノン類、ビアセチル類等の
紫外線照射によりラジカルを発生するものも用い
ることができる。
離型性シートの離型面に上記素材からなる層の
みを設けた転写シートも、紫外線若しくは電子線
の照射により硬化可能な皮膜を単に転写のみによ
つて適宜な基材に形成出来る利点があり、必要に
応じて着色しても良い。
みを設けた転写シートも、紫外線若しくは電子線
の照射により硬化可能な皮膜を単に転写のみによ
つて適宜な基材に形成出来る利点があり、必要に
応じて着色しても良い。
絵柄層4、隠蔽層5、及び接着剤層6は通常の
転写シートにおけるものと同様な通常のインキ組
成物を用いて構成することができる。
転写シートにおけるものと同様な通常のインキ組
成物を用いて構成することができる。
通常のインキ組成物としてはベヒクルに顔料若
しくは染料の着色剤、可塑剤、安定剤、その他の
添加物、溶剤若しくは希釈剤を混練した物を用
い、ベヒクルとしては例えば、エチルセルロー
ス、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース
等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリαメ
チルスチレン等のスチレン樹脂及びスチレン共重
合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリ
ル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリ
ル酸ブチル等のアクリル又はメタクリル樹脂の単
独又は共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン
酸樹脂、ロジン変性フエーノル樹脂、重合ロジン
等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブ
チラール樹脂、セラツク、アラビアゴム、アカロ
イド、マスチツク等のうち1種乃至は2種以上を
選択して使用する。
しくは染料の着色剤、可塑剤、安定剤、その他の
添加物、溶剤若しくは希釈剤を混練した物を用
い、ベヒクルとしては例えば、エチルセルロー
ス、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロ
ースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース
等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリαメ
チルスチレン等のスチレン樹脂及びスチレン共重
合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリ
ル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリ
ル酸ブチル等のアクリル又はメタクリル樹脂の単
独又は共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン
酸樹脂、ロジン変性フエーノル樹脂、重合ロジン
等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、
クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブ
チラール樹脂、セラツク、アラビアゴム、アカロ
イド、マスチツク等のうち1種乃至は2種以上を
選択して使用する。
隠蔽層5を構成するのに用いるインキ組成物と
しては上記の通常のインキ組成物に特に隠蔽性の
高いチタン白、弁柄等を添加して混練してなるも
のを用いるとよい。
しては上記の通常のインキ組成物に特に隠蔽性の
高いチタン白、弁柄等を添加して混練してなるも
のを用いるとよい。
層3,4,5及び6は上記のようなインキ組成
物、又は紫外線硬化樹脂もしくは電子線硬化樹脂
の溶剤溶液を、グラビア、オフセツトグラビア、
シルクスクリーン等の印刷方式、又はロールコー
ト、グラビアコート等の塗布方式により適宜に設
けることができる。
物、又は紫外線硬化樹脂もしくは電子線硬化樹脂
の溶剤溶液を、グラビア、オフセツトグラビア、
シルクスクリーン等の印刷方式、又はロールコー
ト、グラビアコート等の塗布方式により適宜に設
けることができる。
(転写方法)
以上の本発明の転写シートは被転写体の被転写
面に転写シートの絵柄層(転写シートによつては
隠蔽層もしくは接着剤層)が接するように重ね合
わせて転写を行い、離型性シートを剥離する。而
る後、紫外線又は電子線を照射して転写された保
護層を架橋硬化させる。
面に転写シートの絵柄層(転写シートによつては
隠蔽層もしくは接着剤層)が接するように重ね合
わせて転写を行い、離型性シートを剥離する。而
る後、紫外線又は電子線を照射して転写された保
護層を架橋硬化させる。
転写の方法自体は公知の種種の方法を適宜に選
択し使用できる。転写方法の例としては、 (イ) 加熱により被転写体に絵柄層(場合によつて
は隠蔽層、接着剤層)を被転写体に熱圧着させ、
保護層と共に転写を行う熱転写方。
択し使用できる。転写方法の例としては、 (イ) 加熱により被転写体に絵柄層(場合によつて
は隠蔽層、接着剤層)を被転写体に熱圧着させ、
保護層と共に転写を行う熱転写方。
(ロ) 転写シートと被転写体との間に、溶剤若しく
は樹脂の溶剤からなる活性化液を介在させて行う
溶剤活性転写法。
は樹脂の溶剤からなる活性化液を介在させて行う
溶剤活性転写法。
が例示できる。
本発明の転写シートを使用して転写を行う際の
被転写体としては種種の物が使用できる。例え
ば、次のような化粧材基材は被転写体として使用
できる; 晒クラフト紙、チタン紙、リンター紙、板紙、
石膏ボード紙等の紙、ポリエチレンフイルム、ポ
リプロピレンフイルム、ポリ塩化ビニルフイル
ム、ポリ塩化ビニリデンフイルム、ポリビニルア
ルコールフイルム、ポリエチレンテルフタレート
フイルム、ポリカーボネートフイルム、ナイロン
フイルム、ポリスチレンフイルム、エチレン酢酸
ビニル共重合体フイルム、エチレンビニルアルコ
ール共重合体フイルム、アイオノマー等のプラス
チツクフイルム、木、合板、パーチクルボード等
の木質基材、石膏ボード、石膏スラグボード等の
石膏系基材、パルプセメント板、石綿セメント
板、木片セメント板等の繊維セメント板、GRC、
及びコンクリート、鉄、アルミニウム、銅等の金
属箔若しくはシート、並びに以上の各基材の複合
体等。
被転写体としては種種の物が使用できる。例え
ば、次のような化粧材基材は被転写体として使用
できる; 晒クラフト紙、チタン紙、リンター紙、板紙、
石膏ボード紙等の紙、ポリエチレンフイルム、ポ
リプロピレンフイルム、ポリ塩化ビニルフイル
ム、ポリ塩化ビニリデンフイルム、ポリビニルア
ルコールフイルム、ポリエチレンテルフタレート
フイルム、ポリカーボネートフイルム、ナイロン
フイルム、ポリスチレンフイルム、エチレン酢酸
ビニル共重合体フイルム、エチレンビニルアルコ
ール共重合体フイルム、アイオノマー等のプラス
チツクフイルム、木、合板、パーチクルボード等
の木質基材、石膏ボード、石膏スラグボード等の
石膏系基材、パルプセメント板、石綿セメント
板、木片セメント板等の繊維セメント板、GRC、
及びコンクリート、鉄、アルミニウム、銅等の金
属箔若しくはシート、並びに以上の各基材の複合
体等。
或いは各種の成形品も被転写体として使用で
き、成形品の素材としては上記の化粧材基材と重
複するが次のようなものが例示できる: 酢酸セルロース、酪酢酸セルロース、エチルセ
ルロース等のセルロース樹脂、ポリスチレン樹
脂、AS樹脂、AAS樹脂、ABS樹脂、ACS樹脂、
メタクリル−スチレン共重合体、ボリ塩化ビニル
樹脂、アクリル変性ポリ塩化ビニル樹脂、エチレ
ン−酢ビ−塩ビ共重合体、エチレン−塩化ビニル
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−α−オレフイン共重合体、ポリエチレンテ
レフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリプロピレン
樹脂、ポリエチレン樹脂、アイオノマー、MBS
樹脂、ニトリル樹脂、フエノール樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリフエニレンオキシド樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、アミノ樹脂、アリル樹脂、等のプ
ラスチツク成形品、鉄、アルミニウム、銅、ステ
ンレス等の金属の押出成形品。
き、成形品の素材としては上記の化粧材基材と重
複するが次のようなものが例示できる: 酢酸セルロース、酪酢酸セルロース、エチルセ
ルロース等のセルロース樹脂、ポリスチレン樹
脂、AS樹脂、AAS樹脂、ABS樹脂、ACS樹脂、
メタクリル−スチレン共重合体、ボリ塩化ビニル
樹脂、アクリル変性ポリ塩化ビニル樹脂、エチレ
ン−酢ビ−塩ビ共重合体、エチレン−塩化ビニル
共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチ
レン−α−オレフイン共重合体、ポリエチレンテ
レフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリプロピレン
樹脂、ポリエチレン樹脂、アイオノマー、MBS
樹脂、ニトリル樹脂、フエノール樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート
樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリメチルメタクリ
レート樹脂、ポリフエニレンオキシド樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、アミノ樹脂、アリル樹脂、等のプ
ラスチツク成形品、鉄、アルミニウム、銅、ステ
ンレス等の金属の押出成形品。
これら被転写体表面には必要により、被転写体
表面の素材に応じた前処理等を施してもよく、例
えばプライマー処理、コロナ放電処理等の接着性
向上の為の前処理、塗装その他による下地色の調
整処理、目止め処理、セメント等のアルカリ性基
材に於けるアルカリ滲出防止処理等である。
表面の素材に応じた前処理等を施してもよく、例
えばプライマー処理、コロナ放電処理等の接着性
向上の為の前処理、塗装その他による下地色の調
整処理、目止め処理、セメント等のアルカリ性基
材に於けるアルカリ滲出防止処理等である。
転写後、必要によつては保護層の表面に型ロー
ル等を用いて凹凸を付与したり、艷を調整する工
程を付与してもよい。
ル等を用いて凹凸を付与したり、艷を調整する工
程を付与してもよい。
本発明の転写シートの保護層は通常の熱可塑性
樹脂と同様に熱成型性をも有しているので、この
ような賦型は容易であり、賦型後も凹凸や艷が元
に戻ることはない。
樹脂と同様に熱成型性をも有しているので、この
ような賦型は容易であり、賦型後も凹凸や艷が元
に戻ることはない。
転写後、被転写体上の保護層を架橋硬化させる
のに使用する電子線としては、コツクロフトワル
トン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コ
ア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波
型等の各種電子線加速器から放出され、50〜
1000keV、好ましくは100〜300keVの範囲のエネ
ルギーを持つ電子線が用いられ、 又紫外線としては、超高圧水銀燈、高圧水銀
燈、低圧水銀燈、カーボンアーク、クセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光源を用いた紫外
線源から発するものを用いる。
のに使用する電子線としては、コツクロフトワル
トン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コ
ア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波
型等の各種電子線加速器から放出され、50〜
1000keV、好ましくは100〜300keVの範囲のエネ
ルギーを持つ電子線が用いられ、 又紫外線としては、超高圧水銀燈、高圧水銀
燈、低圧水銀燈、カーボンアーク、クセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光源を用いた紫外
線源から発するものを用いる。
尚、紫外線を照射して保護層を架橋硬化させる
際には離型性シート自体が紫外線透過性であれば
離型性シートを剥離せずに紫外線照射してもよ
く、又電子線を照射して保護層を架橋硬化させる
際には離型性シートが電子線透性であれば離型性
シートを剥離せずに行つてもよい。
際には離型性シート自体が紫外線透過性であれば
離型性シートを剥離せずに紫外線照射してもよ
く、又電子線を照射して保護層を架橋硬化させる
際には離型性シートが電子線透性であれば離型性
シートを剥離せずに行つてもよい。
作用・効果
本発明の転写シートは、転写後、被転写体上の
絵柄層を保護する保護層が、未硬化の状態でも見
掛け状乾燥していて流動性若しくは粘着性を有し
ておらず、又熱成形性を有している。、しかも、
紫外線や電子線の照射によつて架橋硬化する性能
を有している為に、該保護層の上に絵柄層を印刷
する等の転写シート製造上に支障がない。
絵柄層を保護する保護層が、未硬化の状態でも見
掛け状乾燥していて流動性若しくは粘着性を有し
ておらず、又熱成形性を有している。、しかも、
紫外線や電子線の照射によつて架橋硬化する性能
を有している為に、該保護層の上に絵柄層を印刷
する等の転写シート製造上に支障がない。
又転写後、架橋硬化前であれば、保護層及び絵
柄層に賦型する事もできる。
柄層に賦型する事もできる。
その上、転写後の架橋硬化により耐擦傷性、耐
溶剤性及び耐汚染性等の物理的及び化学的性状の
優れた保護層が形成できる。
溶剤性及び耐汚染性等の物理的及び化学的性状の
優れた保護層が形成できる。
本発明の転写方法は、前記転写シートを用い
て、未硬化状態の保護層及び絵柄層を被転写体に
転写し、而る後に紫外線又は電子線によつて保護
層を架橋硬化させる為、転写後の手間と時間のか
かる塗装工程が不要である。
て、未硬化状態の保護層及び絵柄層を被転写体に
転写し、而る後に紫外線又は電子線によつて保護
層を架橋硬化させる為、転写後の手間と時間のか
かる塗装工程が不要である。
実施例 1
厚み25μmのポリエチレンテレフタレートフイ
ルム(東レ製、ルミラーT60)にシリコーン処理
したものを離型性フイルムとして使用し、 フイルムの処理面に紫外線硬化樹脂(三菱油化
フアイン製、トリアジン系アクリレート、LZ−
075)のMEK/シクロヘキサノン=2/1溶液を
グラビアコーテイングし、厚み5μmの保護層を形
成した。
ルム(東レ製、ルミラーT60)にシリコーン処理
したものを離型性フイルムとして使用し、 フイルムの処理面に紫外線硬化樹脂(三菱油化
フアイン製、トリアジン系アクリレート、LZ−
075)のMEK/シクロヘキサノン=2/1溶液を
グラビアコーテイングし、厚み5μmの保護層を形
成した。
次に塩ビ/酢ビ共重合体樹脂をベヒクルとする
塩ビ印刷用グラビアインキを用いて絵柄層をグラ
ビア印刷し、 更に同様の白インキ(チタン白入り)を主に用
いて隠蔽層を形成し、隠蔽層上に、塩ビ/酢ビ共
重合体樹脂のMEK/トルエン=1/1の溶液を
全面塗布して転写シートとした。
塩ビ印刷用グラビアインキを用いて絵柄層をグラ
ビア印刷し、 更に同様の白インキ(チタン白入り)を主に用
いて隠蔽層を形成し、隠蔽層上に、塩ビ/酢ビ共
重合体樹脂のMEK/トルエン=1/1の溶液を
全面塗布して転写シートとした。
上記で得られた転写シートを用い、ABS板に
熱ロールを用いて転写し、転写後、離型性シート
を剥離した。
熱ロールを用いて転写し、転写後、離型性シート
を剥離した。
転写済みのABS板の転写面に、高圧水銀燈
(80W/cm)を用いて2秒間、紫外線を照射し、
保護層を架橋硬化させ、化粧ABS板を得た。
(80W/cm)を用いて2秒間、紫外線を照射し、
保護層を架橋硬化させ、化粧ABS板を得た。
かくして得られた化粧ABS板は絵柄層上の耐
擦傷性、耐溶剤性、及び耐汚染性が優れていた。
擦傷性、耐溶剤性、及び耐汚染性が優れていた。
実施例 2
薄葉紙(坪量30g/m2)の片面にポリエチレン
樹脂を厚みが30μmになる様にエクストルージヨ
ンコーテイングし離型シートを得た。
樹脂を厚みが30μmになる様にエクストルージヨ
ンコーテイングし離型シートを得た。
上記の離型シートの離型面に紫外線硬化樹脂
(三菱油化フアイン製、トリアジン系アクリレー
ト、LZ−075)のMEK/シクロヘキサノン=
2/1溶液をグラビアコーテングし、厚み5μmの
保護層を形成した。
(三菱油化フアイン製、トリアジン系アクリレー
ト、LZ−075)のMEK/シクロヘキサノン=
2/1溶液をグラビアコーテングし、厚み5μmの
保護層を形成した。
次に塩ビ/酢ビ共重合体樹脂をベヒクルとする
塩ビ印刷用グラビアインキを用いて絵柄層をグラ
ビア印刷し、目地付タイルの模様を印刷して転写
シートとした。
塩ビ印刷用グラビアインキを用いて絵柄層をグラ
ビア印刷し、目地付タイルの模様を印刷して転写
シートとした。
一方基材としてはタイルの目地相当部を予め金
型を用いたプレスにより表面に形成した石綿スレ
ート板を用意し、表面にポリウレタン系シーラー
を施してアルカリ滲出防止処理及び下地隠蔽処理
を行つた。
型を用いたプレスにより表面に形成した石綿スレ
ート板を用意し、表面にポリウレタン系シーラー
を施してアルカリ滲出防止処理及び下地隠蔽処理
を行つた。
上記の処理済石綿スレート板の処理面に上記で
得られた転写シートの絵柄層を接触させ、温度
140℃、圧力20Kg/cm2、加圧時間2分の条件で平
台プレスによりプレスし、絵柄層及び保護層を転
写し、離型シートを剥離除去した。
得られた転写シートの絵柄層を接触させ、温度
140℃、圧力20Kg/cm2、加圧時間2分の条件で平
台プレスによりプレスし、絵柄層及び保護層を転
写し、離型シートを剥離除去した。
その後、高圧水銀燈(80W/cm)を使用して2
秒間、紫外線を照射し、保護層を架橋硬化させ
た。
秒間、紫外線を照射し、保護層を架橋硬化させ
た。
かくして得られた化粧石綿スレート板は絵柄層
表面の耐擦傷性、耐溶剤性及び耐汚染性が優れて
いる上、目地の部分はマツト、タイル部分はグロ
スの表面状態を有するものであつた。
表面の耐擦傷性、耐溶剤性及び耐汚染性が優れて
いる上、目地の部分はマツト、タイル部分はグロ
スの表面状態を有するものであつた。
実施例 3
転写シートとしては実施例2で用いたものと同
じ転写シートを準備した。
じ転写シートを準備した。
被転写体としては空〓に発泡ポリウレタン樹脂
を充填した無可塑ポリ塩化ビニル押出成形物を準
備し、前記の転写シートの印刷面に下記組成の活
性化液をロールコート法により、湿潤時の塗布量
が5g/m2になるよう塗布し、塗布後直ちに転写
シートの活性化液塗布面を前記成形物の表面に合
わせてゴムロールにより線圧2Kg/cmの条件で加
圧し、加圧後転写シートの離型シートを剥離除去
した。
を充填した無可塑ポリ塩化ビニル押出成形物を準
備し、前記の転写シートの印刷面に下記組成の活
性化液をロールコート法により、湿潤時の塗布量
が5g/m2になるよう塗布し、塗布後直ちに転写
シートの活性化液塗布面を前記成形物の表面に合
わせてゴムロールにより線圧2Kg/cmの条件で加
圧し、加圧後転写シートの離型シートを剥離除去
した。
活性化液組成
ポリ塩化ビニル樹脂 15重量部
アクリル樹脂 5重量部
酢酸エチル 60重量部
トルエン 10重量部
メチルエチルケトン 10重量部
その後、高圧水銀燈(80W/cm)を使用して2
秒間、紫外線を照射し、保護層の架橋硬化させ
た。
秒間、紫外線を照射し、保護層の架橋硬化させ
た。
かくして得られた化粧成形物は表面の耐擦傷
性、耐溶剤性及び耐汚染性が優れていた。
性、耐溶剤性及び耐汚染性が優れていた。
第1図〜第4図はいづれも本発明の転写シート
を示す断面図である。 1…転写シート、2…離型性シート、3…保護
層、4…絵柄層、5…隠蔽層、6…接着剤層。
を示す断面図である。 1…転写シート、2…離型性シート、3…保護
層、4…絵柄層、5…隠蔽層、6…接着剤層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 離型性シートの離型面に、未硬化の状態では
常温で固体であり、かつ、熱可塑性である紫外線
硬化樹脂または電子線硬化樹脂からなる保護層、
及び絵柄層の少くとも2つの層が順次積層されて
いることを特徴とする転写シート。 2 絵柄層上に隠蔽層を更に有していることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の転写シー
ト。 3 更に接着剤層を有することを特徴とする特許
請求の範囲第1項又は第2項記載の転写シート。 4 離型性シートの離型面に、未硬化の状態では
常温で固体であり、かつ、熱可塑性である紫外線
硬化樹脂または電子線硬化樹脂からなる保護層、
及び絵柄層の少くとも2つの層が順次積層されて
いる転写シートを被転写体に転写し、その後、紫
外線または電子線を照射して転写された保護層を
架橋硬化させることを特徴とする転写方法。 5 転写シートの絵柄層上に更に隠蔽層を有して
いることを特徴とする特許請求の範囲第4項記載
の転写方法。 6 転写シートが更に接着剤層を有することを特
徴とする特許請求の範囲第4項又は5項記載の転
写方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19319484A JPS6169487A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 転写シート及びそれを用いた転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19319484A JPS6169487A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 転写シート及びそれを用いた転写方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6169487A JPS6169487A (ja) | 1986-04-10 |
JPH0557120B2 true JPH0557120B2 (ja) | 1993-08-23 |
Family
ID=16303867
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19319484A Granted JPS6169487A (ja) | 1984-09-14 | 1984-09-14 | 転写シート及びそれを用いた転写方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6169487A (ja) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61205197A (ja) * | 1985-03-08 | 1986-09-11 | 日本写真印刷株式会社 | 転写箔 |
JPS6283177A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-16 | Nissha Printing Co Ltd | オ−バ−コ−トが不要な紫外線又は電子線照射用転写材及びその転写材を用いた絵付物の製造方法 |
JPH07102585B2 (ja) * | 1986-05-09 | 1995-11-08 | 大日本印刷株式会社 | 絵柄付き射出成形体の製造方法 |
JPS62292500A (ja) * | 1986-06-13 | 1987-12-19 | 凸版印刷株式会社 | 転写箔の製造法 |
JPS63110480A (ja) * | 1986-10-29 | 1988-05-14 | Mitsubishi Kasei Corp | 転写画像形成方法 |
JPS63114700A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-19 | 日本写真印刷株式会社 | 艶消し転写材および艶消し成型品の製造方法 |
JPH082716B2 (ja) * | 1986-11-17 | 1996-01-17 | 大日本印刷株式会社 | 硬化性保護層を有する転写シ−トおよび転写方法 |
JPH082717B2 (ja) * | 1986-11-22 | 1996-01-17 | 大日本印刷株式会社 | 転写シ−ト |
JPS63153200A (ja) * | 1986-12-17 | 1988-06-25 | 大日本印刷株式会社 | 転写シ−ト及び転写方法 |
JP2532226B2 (ja) * | 1987-01-28 | 1996-09-11 | 日本写真印刷株式会社 | 転写成型品の製造方法 |
JP2548938B2 (ja) * | 1987-04-21 | 1996-10-30 | 大日本印刷株式会社 | 転写シ−ト |
JPH0696331B2 (ja) * | 1987-04-22 | 1994-11-30 | 株式会社ニュ−トン | 転写用印刷物の製造法 |
JPH0725190B2 (ja) * | 1988-04-05 | 1995-03-22 | 五洋紙工株式会社 | 転写用積層材及びその製造方法 |
JP2764131B2 (ja) * | 1988-06-20 | 1998-06-11 | 大日本印刷株式会社 | 凹凸模様を転写する方法 |
JPH0466903A (ja) * | 1990-07-04 | 1992-03-03 | Fuji Photo Film Co Ltd | カラーフィルターの製造方法 |
JP2005212103A (ja) * | 2004-01-27 | 2005-08-11 | Nissha Printing Co Ltd | 微細凹凸転写材、微細凹凸成形品の製造方法 |
GB0517931D0 (en) * | 2005-09-02 | 2005-10-12 | Xaar Technology Ltd | Method of printing |
FR2905630B1 (fr) | 2006-09-12 | 2010-01-22 | Impika | Dispositif d'impression par transfert sur un support d'impression cylindrique |
ES2340456B1 (es) * | 2008-03-18 | 2011-02-02 | Jesus Fco. Barberan Latorre | Procedimiento de impresion por inyeccion de tinta sobre substrato humedo. |
JP5974614B2 (ja) * | 2012-04-27 | 2016-08-23 | 凸版印刷株式会社 | 転写箔、加飾成形品製造方法および加飾成形品 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56144994A (en) * | 1980-04-14 | 1981-11-11 | Nissha Printing Co Ltd | Transfer agent and printing method using it |
JPS5749591A (en) * | 1980-09-09 | 1982-03-23 | Dainippon Printing Co Ltd | Transfering method of pattern |
-
1984
- 1984-09-14 JP JP19319484A patent/JPS6169487A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56144994A (en) * | 1980-04-14 | 1981-11-11 | Nissha Printing Co Ltd | Transfer agent and printing method using it |
JPS5749591A (en) * | 1980-09-09 | 1982-03-23 | Dainippon Printing Co Ltd | Transfering method of pattern |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6169487A (ja) | 1986-04-10 |
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