JPS63154400A - 転写シ−ト - Google Patents

転写シ−ト

Info

Publication number
JPS63154400A
JPS63154400A JP30340486A JP30340486A JPS63154400A JP S63154400 A JPS63154400 A JP S63154400A JP 30340486 A JP30340486 A JP 30340486A JP 30340486 A JP30340486 A JP 30340486A JP S63154400 A JPS63154400 A JP S63154400A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
layer
meth
acrylate
transfer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30340486A
Other languages
English (en)
Inventor
竹厚 修
塚田 正樹
土井 富雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP30340486A priority Critical patent/JPS63154400A/ja
Publication of JPS63154400A publication Critical patent/JPS63154400A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Impression-Transfer Materials And Handling Thereof (AREA)
  • Decoration By Transfer Pictures (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、転写によって耐擦傷性、耐薬品性、耐溶剤
性の優れた表面を形成し得る転写シートに関するもので
ある。
〔従来の技術〕
従来、表面の強化された製品を転写を利用して作成する
際に用いる転写シートとしては、■基体シート上にその
シートと剥離性を示す、プレポリマーやオリゴマー、反
応性希釈剤、光開始剤などの組成物を塗布して作成した
もので、未硬化のまま転写し、転写後に紫外線や電子線
を照射して硬化させるもの(特開昭56−144994
号)、および■紫外線もしくは電子線の照射で硬化する
ものと、そうでないものとを混合してして塗布し、一旦
紫外線もしくは電子線の照射では硬化しないものを他の
熱などの手段で硬化させたもので、転写させた後、紫外
線や電子線を照射し硬化させるもの(特開昭60−23
9277号、特開昭60− 239278号)の2つのタイプがある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、上記■の転写シートでは、基体シート上に塗布
した組成物が未硬化のままであり、流動性、粘着性を有
しているから、さらに絵柄層を設けることはできないし
、またそうしないとしても、巻き取ることができない、
また、剥離性を有する組成物は実際上限定されるし、こ
のタイプの転写シートを使用すると、転写後に紫外線も
しくは電子線を照射する工程を必要とする。
また、上記■の転写シートでは、紫外線もしくは電子線
で硬化しない部分を有しているので転写によって賦与さ
れる硬化表面の物性は、その分だけ低下する。また、こ
のタイプでも転写後に紫外線もしくは電子線を照射する
工程を必要とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明では、未硬化状態において常温で固体であり、
且つ、熱可塑性である紫外線硬化性または電子線硬化性
の樹脂が硬化した硬化樹脂層を使用することにより、上
記の間d点を解消することができ、また、基体シート上
に離型層を介して硬化樹脂層を設けることにより、転写
時に剥離を安定にすることができた。
従って、この発明は、 「 基体シート上に離型層、および、未硬化状態におい
て常温で固体であり、且つ、熱可塑性である紫外線硬化
性または電子線硬化性の樹脂が硬化した硬化樹脂層、と
を有することを特徴とする転写シートJ をその要旨とするものである。
〔作用〕
この発明によれば、転写後に保護層となる樹脂層は予め
電離放射線の照射により硬化しであるので、流動性や粘
着性は消失しており、転写によりこのような樹脂層を賦
与された表面は、転写後の紫外線や電子線の照射をしな
くても耐擦傷性、耐薬品性、耐溶剤性が優れており、ま
た、この発明では基体シートに離型層を設けてから硬化
樹脂層を設けているから、離型性シートに直接に樹脂層
を設けたものに比べて剥離する際の剥離性が一定化され
、しかも、剥離性を任意に設定することが可能である。
〔実施例〕
この発明で使用する転写シートは、最も単純には、基体
シート、離型層、および硬化樹脂層の3つの層からでき
ているが、転写をより確実にする意味でさらに接着剤層
を有していてもよく、また、硬化樹脂層と接着w1層の
間には模様層を有していても良く、さらに、硬化樹脂層
に接して合成樹脂層を有していてもよい。
1)1之二上 基体シートの素材は、原則として、この種の転写シート
に使用されているものであればよく、その厚みとしては
通常5〜200μmが好ましく、更に好ましくは12〜
50μmである。
具体的に例を示すと、ポリエチレンテレフタレート(い
わゆるポリエステル)、ポリプロピレン、ポリエチレン
、ポリアミド、などの合成樹脂のフィルム、紙、合成紙
などである。これらは必要によりラミネートして使用で
きる。
基体シートには、離型層を設けて、さらに上層に設ける
硬化樹脂層と離型層との間に剥離性を与える。
離型層は適宜なベヒクル(ベヒクルの例は通常のインキ
組成物のベヒクルとして後記するものと同じ)単独もし
くは必要に応じてさらにワックス、シリコーンなどの離
型性物質を添加した塗料もしくはインキを用いて塗布も
しくは印刷することにより形成できるが、より好ましく
は、離型性物質を添加せずに自身が離型性である樹脂、
例えばメラミン樹脂、アクリル樹脂、ビニル樹脂、塩化
オレフィン樹脂などを単独もしくは混合して溶液化して
使用する。このような離型性の樹脂に更に離型性を発揮
させるには架橋剤を添加して架橋させ、離型層の表面密
度を上げ、表面の残留官能基を減らすのが好ましく、架
橋剤としては2価もしくはそれ以上の多価のポリイソシ
アネート化合物が適している。
このようにすることにより、離型層の耐溶剤性、耐熱性
が向上し、より安定した離型性が得られる。耐溶剤性が
向上すると、その上に種々の層を形成するときに用いる
塗料もしくはインキ中の溶剤の影響が少なくなる。また
、耐熱性が向上すると転写時に熱・圧力を受けても離型
層が軟化しにくくなり、その上に設ける届との熱・圧力
下での接着がしにくくなる。特に高熱のかかる使用法に
おいては耐熱性の高いメラミン系樹脂が好ましい。
!±1)1 硬化樹脂層は、未硬化の状態では常温で固体であり、か
つ、熱可塑性、溶剤溶解性を有していながら、塗装及び
乾燥によって見かけ上、あるいは、手で触ったときにも
非流動性であり、かつ非粘着性である塗膜を与える紫外
線硬化性樹脂または電子線硬化性樹脂を材料として形成
され、かつ、紫外線もしくは電子線の照射により硬化し
ているものである。
このような樹脂としてはラジカル重合性不飽和基を有す
る熱可塑性の次の2種類の樹脂がある。
(1)  ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中
にラジカル重合性不飽和基を有するもの。
さらに具体的には以下の化合物Φ〜■を重合、もしくは
共重合させたものに対し後述する方法(al〜fdlに
よりラジカル重合性不飽和基を導入したものを用いるこ
とができる。
■水酸基を有する単量体;N−メチロール(メタ)アク
リルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロ
キシ−3−フェノキシプロビル(メタ)アクリレート等
■カルボキシル基を有する単量体; (メタ)アクリル
酸、(メタ)アクリロイルオキシエチルモノサクシネー
ト等。
■エポキシ基を有する単量体;グリシジル(メタ)アク
リレート等。
■アジリジニル基を有する単量体:2−7ジリジニルエ
チル(メタ)アクリレート、2−アジリジニルプロピオ
ン酸アリル等。
■アミノ基を有する単量体: (メタ)アクリルアミド
、ダイア七トン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート、ジエチル7ミノエチル
(メタ)アクリレート等。
■スルフォン基を有する単量体: 2−(メタ)アクリ
ルアミド−2−メチルプロパンスルフォン酸等。
■イソシアネート基を有する単i:2.4−トルエンジ
イソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートの1モル対1モル付加物等のジイソシアネートと
活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加物等。
■更に、上記の共重合体のガラス転移点を調節したり、
硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合物と
、この化合物と共重合可能な以下のような単量体とを共
重合させることができる。このような共重合可能な単量
体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エ
チル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレ
ート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ
)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、イ
ソアミル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ
)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレ
ート等が挙げられる。
次に上述のようにして得られた重合体を以下に述べる方
法+al〜fdlにより反応させ、ラジカル重合性不飽
和基を導入することによって、紫外線もしくは電子線硬
化性樹脂が得られる。
(al水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の
場合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基を有
する単量体等を縮合反応させる。
[b)カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の
重合体または共重合体の場合には、前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。
(Clエポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリジ
ニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合に
は、前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加させる。
fdl水酸基あるいはカルボキシル基を存する単量体の
重合体または共重合体の場合には、エポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ルit体の1対1モルの付加物を付加反応させる。
上記反応を行なうには、微量のハイドロキノンなどの重
合禁止剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが望まし
い。
(2)  融点が常!(20℃)〜250℃であり、ラ
ジカル重合性不飽和基を有する化合物、具体的にはステ
アリルアクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート
、トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、シクロヘキサンジオールジ(メタ
)アクリレート、スピログリコールジアクリレート、ス
ピログリコール(メタ)アクリレートなどが挙げられる
。 また、この発明においては前記fi+および(2)
をン昆合して用いることもでき、さらにそれらに対して
ラジカル重合性不飽和単量体を加えることもできる。こ
のラジカル重合性不飽和単量体は電離性放射線照射の際
、架橋密度を向上させ、耐熱性を向上させるものであっ
て、前述の単量体の他にエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アク
リレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールプロパントリ (メタ)アクリレ−1〜
、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペン
クエリスリトールトリ (メタ)アクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレ
ート、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテルジ
(メタ)7クリレート、プロピレングリコールジグリシ
ジルエーテルジ(メタ)アクリレート、ポリ7プロピレ
ングリコールジグリシジルエーテルジ(メタ)アクリレ
ート、ソルビトールテトラグリシジルエーテルテトラ(
メタ)アクリレートなどを用いることができ前記した共
重合体混合物の固形分100重量部に対して、0.1〜
100重量部で用いることが好ましい、また、上記のも
のは電子線により充分°に硬化可能であるが、紫外線照
射で硬化させる場合には、増悪剤としてベンゾキノン、
ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ナトのベンゾ
インエーテル類、ハロゲン化アセトフェノン類、ビアセ
チル類などの紫外線照射によりラジカルを発生するもの
も用いることができる。
二」L放」[綴jし吐 上記の樹脂を塗布後、電離放射線を照射して樹脂を硬化
させる0合成樹脂の層を設けるときは、その層と下の電
離放射線硬化性樹脂層との接着性を確保する意味で、合
成樹脂の層を設けた後に照射するとよい。また、照射と
基体シート側から行なっても、塗布面側から行なっても
いずれでもよい。
電離放射線としては代表的には紫外線と電子線がある。
電子線としては、コノクロフトヮルトン型、バンプグラ
フ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイ
ナミドロン型高周波型などの各種電子線加速器から放出
された50〜1゜00KeV、好ましくは100〜30
0 K e Vの範囲のエネルギーを持つ電子線を用い
ることができ、又、紫外線としては超高圧水銀灯高圧水
銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、クセノンアーク、
メタルハライドランプなどの光源を用いた紫外線源から
発するものを用いることができる。
このように、離型層上に硬化樹脂層のみを設けた転写シ
ートは硬化皮膜を転写のみによって適宜な対象に形成で
きる利点があり、必要に応じて着色してもよい。
韮j口賑昼 接着剤層用の接着剤としては、公知のものを使用でき、
例えば、ポリイソプレンゴム、ポリイソブチルゴム、ス
チレンブタジェンゴム、ブタジェンアクリロニトリルゴ
ムなどのゴム系樹脂、(メタ)アクリル酸エステル系樹
脂、ポリビニルエーテル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、化
ビニルー酢酸ビニル共重合体系樹脂、ポリスチレン系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩素化オ
レフィン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂などの任
意の接着剤を使用することができる。
これらの樹脂は、必要により希釈して塗布に適した粘度
とした後、公知のコーティング方法例えば、リバースロ
ールコーティング、ロールコーティング、グラビアコー
ティング、キスコーティング、ブレードコーティング、
スムーズコーチインなどにより、コーティングする。
この発明の転写シートにおいて、他の層を設ける方法も
概ね同じであり、ただし、層を模様状に設けるときには
印刷手法を用いる。
」」1」 模様層は転写により、被転写法に模様を与えるためのも
のであるから、模様を転写することを目的とする模様転
写シートにおいては、必ず必要である。絵柄層の必要で
ない転写シートの例としては、実質的に保護層のみを転
写する保護層転写シートがあり、このものの使用は塗装
の代用となる。
模様層は通常、保護層の上に直接に、あるいは他の層を
介して間接に設け、インキの種類も用途、転写シートの
構造を考慮して決めればよい0通常のインキは、ベヒク
ルに顔料もしくは染料の着色剤、可塑剤、安定剤、その
ほかの添加剤、または、溶剤もしくは希釈剤などを用い
て、混練したものである。
インキの成分のうち、接着性に関連のあるバインダーと
しては、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エ
チル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチルな
どのアクリルもしくはメタクリルモノマーの単独共重合
体もしくはこれら七ツマ−を含む共重合体、ポリスチレ
ン、ポリα−スチレンなどのスチレン樹脂及びスチレン
共重合樹脂、酢酸セル゛ロース、塩化ビニル、ポリエス
テル樹脂などの、好ましくはアルコール不溶性樹脂の一
種もしくは2種以上を選択して使用する。
転写シートの構造は、基本的には以上の通りであるが、
さらに必要により、以下のような各層を設けることがで
きる。
と1渾′l飛の八   の なお、硬化樹脂層に直接に接する層、例えば模様層を設
けるのに先立って、硬化性層との間に、熱可塑性樹脂な
どの溶剤揮散型の合成樹脂の層を設けてもよく、このよ
うにすると、模様層を設ける際には介在するこの層との
接着のみを考慮すればよく、模様層を設ける際のインキ
のバインダーの選択範囲が拡がる利点がある。
皇m 被転写体の表面に、金属調の外観を与えるため、金属薄
膜層を設けることもできる。金IX薄膜層を作る素材と
しては、アルミニウム、クロム、錫、銀、銅、金などで
あり、厚みは通常、400〜600人程度である。金属
薄膜層は必要に応じ、模様状とすることができ、水溶性
のパターンを設けた後に金属薄膜を設け、その後に水を
作用させる方法や、金属薄膜を先に設けた後にレジスト
パターンを設け、その後に酸やアルカリを作用させる方
法がある。
五工宏1 転写方法としては例えば、■加熱により被転写体に模様
層(場合によっては模様層上に更に重ねて設けられてい
る他の層)を熱圧着させて未硬化樹脂層と共に転写を行
なう熱転写法、■転写シートと被転写体との間に、溶剤
もしくは樹脂の溶剤溶液からなる活性化液を介在させて
行なう溶剤活性転写法が例示できる。
この発明で利用する転写方法として興味ある方法は、■
プレス成型、真空成型、圧空成型、真空圧空成型、射出
同時成型、押出成型、カレンダー成型などの成型法であ
り、これらの成型法においては成型と同時に転写を行な
うこともできる利点がある。転写後、所定の形状になる
様、プレス成型、真空成型、圧空成型、真空圧空成型な
どを行なってもよい、転写後に成形を行なうと、転写の
方法が転写と同時に成形が可能な方法であっても、転写
の際には最終の形状を成形する必要はない、このような
場合はむしろ転写の際には、平板形状などの単純な形状
に成型しておき、転写させる層を充分密着させることを
主眼としてのがよい。
1)工生 この発明で転写を行なう対象としては種々のものが使用
できる。例えば、次のような化粧側基材は被転写体とし
て使用できる。
晒クラフト紙、チタン紙、リンター祇、板紙、石膏ボー
ド祇等の紙、ポリエチレンフィルム、ボリブロピレンフ
ィ、ルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリビニルアルコ
ールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、
ポリカーボネートフィルム、ナイロンフィルム、ポリス
チレンフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フィルム
、エチレンビニルアルコール共重合体フィルム、アイオ
ノマー等のプラスチックフィルム、木、合板、バーチク
ルボード等の木質基材、石膏ボード、石膏スラグボード
等の石膏系基材、パルプセメント板、石綿セメント板、
木片セメント板等の繊維セメント板、GRCおよびコン
クリート、鉄、アルミニウム、銅等の金属箔もしくはシ
ート、並びに以上の各基材の複合体など。
あにいは各種の成型品も被転写体として使用でき、成型
品の素材としては上記の化粧剤きざきと重複するが次の
ようなものが例示できる。
AASAs樹脂BS樹脂、AC3樹脂、アミノ樹脂、酢
酸セルロース・酪酸酸セルロース・エチルセルロースな
どのセルロース樹脂、アリル樹脂、エチレン−α−オレ
フィン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合1体、エ
チレン−塩化ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、MB
S樹脂、メタクリル−スチレン共重合体、ニトリル樹脂
、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、ボリアリレート樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリ
ブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ
エチレンテレフタレート樹脂、ポリメチルメタクリレー
ト樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリフェニレンオキシド
樹脂、ポリスチレン樹脂、As樹脂、ポリウレタン樹脂
、ポリ塩化ビニ、ル樹脂、アクリル変性ポリ塩化ビニル
樹脂、不飽和ポリエステル樹脂などのプラスチック成型
品。
鉄、アルミニウム、銅、ステンレスなどの金属の押し出
し成型品。
これら被転写体の被転写面には必要により、被転写体表
面の素材に合わせた前処理を施してもよく、例えば、プ
ライマー処理、コロナ処理などの接着性向上のための前
処理、塗装その他による下地色の調整処理、目止め処理
、セメントなどのアルカリ性基材におけるアルカリ滲出
防止処理などである。
〔発明の効果〕
この発明によれば、転写シート上に既に硬化樹脂層を有
しているので、取り扱い上の支障がなく、単に転写する
のみで、被転写体の表面に物性の優れた保1!層を与え
ることができる。
(実施例〕 基体シートとしてポリエステルフィルム(東し01製、
S−10)を用い、その片面にメラミン系樹脂(大日精
化工業■製)をロールコーティングによりコーティング
し、厚み0.5μmの離型層を形成した。
このフィルムの処理面に紫外線硬化型樹脂(三〇油化フ
ァインn製、ユピマー LZ−075)をメチルエチル
ケトンで固形分40%になるように希釈したものをグラ
ビアコーティングし、厚み5μmの保31層を形成した
この時の乾燥条件は100℃の熱風で1分間行なった。
さらにこの上にアクリル系樹脂(昭和インク工業所側製
、GG)をグラビアコーティングし厚み1μmの皮膜を
形成した。
次いで、出力160W/cmのオゾン有りタイプの高圧
水銀灯の下を、上記のシートの塗布面側から照射される
ように速度5 m/winで通過させ紫外線硬化樹脂を
硬化させた。
更に、得られたもののアクリル樹脂塗布面上に、アクリ
ル樹脂をベヒクルとするインキ(昭和インク工業所■製
、TA CS)で模様をシルクスクリーン印刷方式によ
り印刷し、印刷後、印刷面上にアクリル系感熱接着剤(
昭和インク工業所■製、TAC3−H3)を塗布して接
着剤層とした。
このようにして得られた転写シートの接着剤層側をAS
樹脂板の表面に重ね、200℃の表面温度の加熱ゴムロ
ーラーで圧着し、その後、ポリエステルフィルムを剥が
した。
得られた化粧AS樹脂板は、スチールウール#0OOO
でこすうても傷が付かず、また、メチルエチルケトンを
しみ込ませた綿布で200回ラビングしても、何の変化
も生じることがなくて耐溶剤性が高い、優れたものであ
った。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基体シート上に離型層、および、未硬化状態にお
    いて常温で固体であり、且つ、熱可塑性である紫外線硬
    化性または電子線硬化性の樹脂が硬化した硬化樹脂層、
    とを有することを特徴とする転写シート。
  2. (2)硬化樹脂層上に合成樹脂層を有することを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の転写シート。
  3. (3)合成樹脂層が着色されていることを特徴とする特
    許請求の範囲第2項記載の転写シート。
  4. (4)最上層に接着剤層を有することを特徴とする特許
    請求の範囲第1項もしくは第2項記載の転写シート。
  5. (5)さらに模様層を有することを特徴とする特許請求
    の範囲第1項、第2項もしくは第4項記載の転写シート
JP30340486A 1986-12-19 1986-12-19 転写シ−ト Pending JPS63154400A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30340486A JPS63154400A (ja) 1986-12-19 1986-12-19 転写シ−ト

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30340486A JPS63154400A (ja) 1986-12-19 1986-12-19 転写シ−ト

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63154400A true JPS63154400A (ja) 1988-06-27

Family

ID=17920617

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30340486A Pending JPS63154400A (ja) 1986-12-19 1986-12-19 転写シ−ト

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63154400A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0250398U (ja) * 1988-10-03 1990-04-09

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0250398U (ja) * 1988-10-03 1990-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0557120B2 (ja)
KR20000068748A (ko) 전사재, 표면보호시트 및 성형품의 제조방법
JP3153349B2 (ja) 化粧シート及び該化粧シートの製造方法
JPS6059878B2 (ja) 転写絵付方法
JP2989837B2 (ja) ハードコート転写箔
JPH0729084B2 (ja) 水圧転写用シ−トおよびその使用方法
JP2632343B2 (ja) 硬化性保護層を有する転写シートおよび転写方法
JPS63154400A (ja) 転写シ−ト
JPS63132096A (ja) 転写シ−ト
JPS63126797A (ja) 硬化性保護層を有する転写シ−トおよび転写方法
JPH0419924B2 (ja)
JPS61114898A (ja) 転写シ−ト及びこれを用いる表面硬化層の形成方法
JP2548938B2 (ja) 転写シ−ト
JP2609871B2 (ja) 転写シート
JPS63153200A (ja) 転写シ−ト及び転写方法
JP2607092B2 (ja) 転写シート及び転写シートを用いた転写方法
JP4601769B2 (ja) フォトマスク用保護膜転写シート及び保護膜転写方法
JPS63132095A (ja) 転写シ−トおよび転写方法
JPS6277999A (ja) 転写シ−ト及び転写シ−トを用いてなるプラスチツクミラ−の製造方法
JP2556315B2 (ja) 耐擦傷性艶消材の製造方法
JP3998739B2 (ja) 化粧材及びその製造方法
JP2524564B2 (ja) 化粧板の製造方法
JPS6198599A (ja) 転写シ−トおよびこれを用いた模様付け方法
JP2603497B2 (ja) 電離放射線硬化性積層体及びそれを用いた化粧材の製造方法
JP4212660B2 (ja) 化粧板の製造方法