JPH05234368A - 半導体集積回路装置およびチップ選別方法 - Google Patents

半導体集積回路装置およびチップ選別方法

Info

Publication number
JPH05234368A
JPH05234368A JP4221694A JP22169492A JPH05234368A JP H05234368 A JPH05234368 A JP H05234368A JP 4221694 A JP4221694 A JP 4221694A JP 22169492 A JP22169492 A JP 22169492A JP H05234368 A JPH05234368 A JP H05234368A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal
address
switching
memory cell
integrated circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4221694A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3776461B2 (ja
Inventor
Kenji Numata
健二 沼田
Masaki Ogiwara
正毅 荻原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Toshiba Electronic Device Solutions Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Microelectronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Microelectronics Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP22169492A priority Critical patent/JP3776461B2/ja
Priority to EP92114765A priority patent/EP0530714B1/en
Priority to DE69229090T priority patent/DE69229090T2/de
Publication of JPH05234368A publication Critical patent/JPH05234368A/ja
Priority to US08/435,661 priority patent/US5633827A/en
Priority to US08/438,656 priority patent/US5559748A/en
Priority to US08/683,780 priority patent/US5812481A/en
Priority to US09/102,627 priority patent/US5970015A/en
Priority to US09/314,028 priority patent/US6141288A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3776461B2 publication Critical patent/JP3776461B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/408Address circuits
    • G11C11/4085Word line control circuits, e.g. word line drivers, - boosters, - pull-up, - pull-down, - precharge
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/406Management or control of the refreshing or charge-regeneration cycles
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/02Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters
    • G11C29/028Detection or location of defective auxiliary circuits, e.g. defective refresh counters with adaption or trimming of parameters
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/44Indication or identification of errors, e.g. for repair
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C29/00Checking stores for correct operation ; Subsequent repair; Testing stores during standby or offline operation
    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/50Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing
    • G11C29/50016Marginal testing, e.g. race, voltage or current testing of retention
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store
    • G11C7/10Input/output [I/O] data interface arrangements, e.g. I/O data control circuits, I/O data buffers
    • G11C7/1015Read-write modes for single port memories, i.e. having either a random port or a serial port
    • G11C7/1018Serial bit line access mode, e.g. using bit line address shift registers, bit line address counters, bit line burst counters
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells

Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明は、製品の多品種化が進展すると開
発効率および生産効率が低下する、という問題を解決
し、多品種化が進展しても開発効率および生産効率が低
下しない半導体集積回路装置を提供しようとするもので
ある。 【構成】 セルアレイMCA0〜MCA7を選択する機能を有し
たX2デコ−ダ7およびI/O センスアンプ群を選択する
機能を有したI/O センスアンプ制御回路31を含む集積回
路部と、この集積回路部に供給する信号X11を生成する
バッファ群3とを有する。さらに製品仕様を決定する決
定信号SDS を受け入れる受入部27と、受入部27に接続さ
れ、決定信号SDS に基いて製品の仕様を切り換える切換
信号φ2/φ4を生成する切換信号生成部29と、切換信
号φ2/φ4に基いて信号X11を、X2デコ−ダ7ある
いは制御回路31のいずれか一方に切り換えて出力するア
ドレス切換部9とを具備している。このような装置であ
ると、決定信号SDS に基いて集積回路部の機能が変えら
れる。従って、1つの装置から複数品種の装置が得られ
るようになり、開発効率および生産効率を向上できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は半導体集積回路装置お
よびチップ選別方法に係わり、特に製品の仕様が変えら
れる半導体集積回路装置および製品の仕様が変えられる
点を利用したチップ選別方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ダイナミック型RAM(以下DRAMと
称す)には、リフレッシュ時間Tとリフレッシュ・サイ
クルRとの間に、T/R=15.6μsecという関係
がある。この関係は、ダイナミック型RAMの各世代毎
で共通である。例えば1メガDRAM世代では8mse
c/512cycle、4メガDRAM世代では16m
sec/1024cycle(以下、1kcycleと
称す)といった具合である。
【0003】ところが16メガDRAM世代以降になる
と、通常、32msec/2048cycle(以下2
kcycleと称す)とされるのであるが、低消費電力
化・発熱防止のため、並びにアクティブ電流を小さくす
る目的で、リフレッシュ・サイクル数を大きくし、一度
に活性化するセルアレイ数を減らすことが必要になって
きた。例えば4096cycle(以下4kcycle
と称す)等である。
【0004】さらに上記の点ばかりではなく、多ビット
構成の対称アドレス品を作るため、リフレッシュ・サイ
クルを小さくする必要性もでてきている。例えば1kc
ycle等である。チップサイズを大きくしないこと
や、センス感度(CB /CS ;CB はビット線容量、C
S はセル容量)の確保という観点から、1ビット線当り
のセル数を現状(例えば128セル/ビット線)より変
えられない事情から考えれば、リフレッシュ・サイクル
数を変えるのが素直である。
【0005】このようにリフレッシュ・サイクル数を変
えるということは、リフレッシュサイクルを変える毎に
チップを設計しなければならないということである。こ
のため、回路設計者に多大な負担がかかり、開発効率が
低下する。また、製品の多品種化が進展すると、生産工
場では、様々な品種の製品を同時に作らなければならな
くなるので、生産効率が低下する。
【0006】さらに、従来のチップ選別試験は、単に不
良品を選別するだけである。チップ選別試験では、各製
品毎に設定されている合格レベルに到達しないチップは
不良とされ、廃棄される。このため、従来のチップ選別
試験は、製品歩留りを低下させる原因となっている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、上
記製品の多品種化が進展すると開発効率および生産効率
が低下する、という問題を解決し、多品種化が進展して
も開発効率および生産効率が低下しない半導体集積回路
装置を提供することにある。さらにこの発明は他の目的
は、製品歩留りを向上できるチップ選別方法を提供する
ことにある。
【0008】上記目的を達成するために、この発明の第
1の態様は、第1の機能を有した第1の回路部および第
2の機能を有した第2の回路部を含む半導体集積回路部
と、前記第1の回路部あるいは第2の回路部を活性化さ
せる活性信号を生成する活性信号生成部とを持つ。そし
て、製品仕様を決定する決定信号を受け入れる受入手段
と、前記受入手段に接続され、前記決定信号に基いて製
品仕様を切り換える切り換え信号を生成する切換信号生
成部と、前記切換信号に基いて前記活性信号を第1の回
路部あるいは第2の回路部のいずれか一方に切り換えて
出力する活性信号切換手段と、をさらに具備することを
特徴としている。
【0009】また、第2の態様は、情報を記憶するメモ
リセル群を含む複数のメモリセルアレイと、アドレス信
号を複数生成するアドレス信号生成手段と、少なくとも
前記情報を読み出す時、前記複数のメモリセルアレイの
うち活性化させるアレイを選択するメモリセルアレイ選
択手段と、前記複数のメモリセルアレイがまとめられて
メモリセルアレイブロックが構成され、少なくとも前記
情報を読み出す時、これらのブロックのうち活性化させ
るブロックを選択するメモリセルアレイブロック選択手
段とを持つ。そして、製品仕様を決定する決定信号を受
け入れる受入手段と、前記受入手段に接続され、前記決
定信号に基いて製品仕様を切り換える切換信号を生成す
る切換信号生成手段と、前記アドレス信号のうち一部の
アドレス信号および前記切り換え信号がそれぞれ供給さ
れ、前記切換信号に基いて供給された前記一部のアドレ
ス信号を前記メモリセルアレイ選択手段あるいは前記メ
モリセルアレイブロック選択手段のいずれか一方に切り
換えて出力するアドレス信号切換手段とを具備すること
を特徴としている。
【0010】また、この発明のチップ選別方法は、半導
体チップが正常か否かを調べる選別試験およびメモリセ
ルの電荷保持特性を調べるポ−ズ試験を含む、半導体チ
ップを選別するチップ選別工程と、前記ポ−ズ試験の結
果に基いて、前記チップの製品仕様を変更する製品仕様
変更工程とを具備することを特徴としている。
【0011】
【作用】この発明の第1の態様の装置では、製品仕様を
決定する決定信号を供給し、製品仕様に応じて前記集積
回路部の機能を変更するようにすることで、1つの装置
から複数品種の装置を得るようにしている。このため、
製品の仕様(品種)に合わせて回路設計者が1つ1つ回
路を設計する必要が無くなり、開発効率が向上する。さ
らに、様々な品種の製品各々で、ほぼ全ての製造工程を
共用でき、生産効率が向上する。
【0012】また、第2の態様の装置では、製品仕様を
決定する決定信号を供給し、製品仕様に応じて一部のア
ドレス信号をメモリセルアレイ選択手段あるいはメモリ
セルアレイブロック選択手段のいずれか一方に切り換え
て出力するアドレス信号切換手段を具備することで、1
つのメモリ装置から、複数品種のメモリ装置を得るよう
にしている。このようなアドレス信号切換手段を具備す
る装置であると、前記決定信号に応じて、一度に活性化
されるメモリセルアレイの数を変えることができ、リフ
レッシュ・サイクル数の異なった製品を得ることができ
る。
【0013】また、チップ選別方法では、選別工程にお
けるポ−ズ試験の結果に基いて、ポ−ズ時間に見合った
チップに製品の仕様を変更するようにすることで、従来
では不良とされていたチップを救済するようにしてい
る。このため、特に選別試験における歩留りの低下を改
善でき、製品の歩留りを向上できる。
【0014】
【実施例】以下、図面を参照してこの発明の実施例につ
いて説明する。なお、この説明において、全図に渡り共
通部分には共通の参照符号を用いることで、重複説明は
避けることにする。
【0015】図1は、この発明の第1の実施例に係わる
DRAMのブロック図である。第1の実施例は、リフレ
ッシュ・サイクル数が2kcycleのDRAMと、4
kcycleのDRAMとが得られる例である。
【0016】図1に示すように、メモリセルアレイ(以
下MCAと称す)1は、MCA0 〜MCA7 に8分割さ
れている。Xアドレス・バッファ群3は、アドレス入力
信号Ainを受けて複数のXアドレス信号を生成する。X
アドレス信号は、MCA0 〜MCA7 をそれぞれ分割動
作させるために、第1XアドレスX0 〜X8 と第2Xア
ドレスX9 ,X10とがそれぞれ設定され、さらに、製品
仕様を切り換えることを可能とするために、第3Xアド
レスX11が設定される。X1デコ−ダ5には第1Xアド
レスX0 〜X8 が供給される。X1デコ−ダ5は第1X
アドレスX0 〜X8 をデコ−ドし、MCAのワ−ド線
(ロウ)を選択する信号を出力する。X2デコ−ダ7に
は第2XアドレスX9 ,X10が供給され、さらに第3X
アドレスX11がアドレス切り換え部9を介してから供給
される。2kcycleのDRAMとされた時、X2デ
コ−ダ7は、第2XアドレスX9 ,X10をデコ−ドし、
MCA0 〜MCA3 のうちの1アレイとMCA4 〜MC
A7 のうちの1アレイとをそれぞれ同時に選択する信
号、およびセンスアンプ110 〜113 を選択する信
号、I/O センスアンプ群130 〜133 を選択する信号
をそれぞれ生成する。また、4kcycleのDRAM
とされた時には、X2デコ−ダ7は、第2XアドレスX
9 ,X10、および第3XアドレスX11をデコ−ドし、お
よびMCA0 〜MCA7 のうち1アレイを選択する信
号、センスアンプ110 〜113 を選択する信号、I/O
センスアンプ群130 〜133 を選択する信号をそれぞ
れ出力する。尚、図1中、参照符号150 〜157 に示
されるブロックはワ−ド線駆動回路であり、参照符号1
0 〜173 に示されるブロックはセンスアンプ駆動回
路である。Yアドレス・バッファ群19は、アドレス入
力信号Ainを受けて複数のYアドレス信号を生成する。
Yアドレス信号は、第1YアドレスY1 〜Y11と第2Y
アドレスY0 とがそれぞれ設定されている。Y1デコ−
ダ21には第1YアドレスY1 〜Y11が供給される。Y
1デコ−ダ21は第1YアドレスY1 〜Y11をデコ−ド
し、MCAのビット線(カラム)を選択する信号を出力
する。Y2デコ−ダ23は第2YアドレスY0 をデコ−
ドし、I/O センスアンプ群13が含むI/O センスアンプ
のうち例えば1つを選択する信号を出力する。
【0017】図1に示すDRAMには、製品の仕様を半
永久的に決定する製品仕様決定部25が設けられてい
る。製品仕様決定部25は、製品仕様を半永久的に決定
するための製品仕様決定信号SDSを受け入れる受入部
27と、この決定信号受入部27に接続され、信号SD
Sに基いて製品仕様を切り換える内部切換信号φ2、φ
4をそれぞれ生成する切換信号生成部29と、信号φ
2、φ4に基いてアドレス信号の行き先を切り換えるア
ドレス信号切換部9とにより、構成されている。次に、
製品仕様決定部25の動作について説明する。
【0018】まず、製品仕様決定信号SDSが2kcy
cleリフレッシュ製品を指定する信号である場合、切
換信号生成部29は、信号SDSに基いて2kcycl
eリフレッシュ製品切り換え信号φ2を生成し、アドレ
ス信号切換部9およびI/O センスアンプ制御回路31に
それぞれ出力する。アドレス信号切換部9は、信号φ2
に基いて第3XアドレスX11をアドレスX11Y に切り換
え、I/O センスアンプ制御回路31に出力する。
【0019】また、製品仕様決定信号SDSが4kcy
cleリフレッシュ製品を指定する信号である場合、切
換信号生成部29は、信号SDSに基いて4kcycl
eリフレッシュ製品切り換え信号φ4を生成し、アドレ
ス信号切換部9およびX2デコ−ダ7に出力する。アド
レス信号切換部9は、信号φ4に基いて第3Xアドレス
X11をアドレスX11X に切り換え、X2デコ−ダ7に出
力する。また、信号φ2と信号φ4とは例えば互いに相
補的な関係を持つ。切換信号生成部29は、信号φ2の
レベルが反転した信号をI/O センスアンプ制御回路31
に出力する。次に、2kcycleリフレッシュ製品と
4kcycleリフレッシュ製品とのデ−タ読み出し動
作についてそれぞれ説明する。まず、2kcycleリ
フレッシュ製品の読み出し動作について説明する。
【0020】2kcycleリフレッシュ製品の場合に
は、I/O センスアンプ制御回路31にアドレスX11Y が
供給される。これにより制御回路31は活性化される。
I/Oセンスアンプ制御回路31は、I/O センスアンプ1
0 、131 のペア、または132 、133 のペアのい
ずれかを選択する信号を生成する。また、X2デコ−ダ
7は、MCA0 〜MCA3 のうちの1アレイとMCA4
〜MCA7 のうちの1アレイとをそれぞれ同時に選択す
る信号を生成する。最終的にデ−タを出力するI/O セン
スアンプ群は、X2デコ−ダ7によって選択され、かつ
制御回路31によって選択されたものとなる。デ−タの
読み出しは、Yアドレス・バッファ群19で生成された
第1YアドレスをY1デコ−ダ21でデコ−ドし、メモ
リセルから出力された情報を上記最終的にデ−タを出力
するI/O センスアンプ群で増幅してデ−タ出力回路33
から出力信号Doutとして出力することで成される。
なお、図1中、参照符号35により示されるブロック
は、入力信号Dinが入力されるデ−タ入力回路であ
る。次に、4kcycleリフレッシュ製品の読み出し
動作について説明する。
【0021】4kcycleリフレッシュ製品の場合に
は、I/O センスアンプ制御回路31に代えてX2デコ−
ダ7にアドレスX11X が供給される。この時、X2デコ
−ダ7は、MCA0 〜MCA7 のうち1アレイのみを活
性化する信号を生成する。制御回路31は、信号φ2の
レベルが反転したことを受けて、この反転信号に基いて
I/O センスアンプ制御回路31は、I/O センスアンプ1
0 、131 のペア、または132 、133 のペアのい
ずれかを選択する信号を生成する。最終的に活性化され
るI/O センスアンプ13は、X2デコ−ダ7によって選
択され、かつ制御回路31によって選択されたものとな
る。
【0022】以上のように、リフレッシュサイクルに応
じて、切換部9で第3XアドレスX11を、X11X 、また
はX11Y のいずれかに切り換えることによって、1つの
チップで異なるリフレッシュサイクルに対応できる半導
体集積回路装置を実現できる。 また、リフレッシュ動
作は、ワ−ド線を選択するとともにセンスアンプ110
〜113 を動作させることによって成される。
【0023】図1に示すDRAMには、カウンタ・リフ
レッシュ回路群37が設けられている。カウンタ・リフ
レッシュ回路群37中にはカウンタ回路39が含まれて
いる。カウンタ回路39には、カウント開始を指示する
信号CTRSおよび切換信号φ2、φ4が供給される。
カウンタ回路39は、信号CTRSに基いて、Xアドレ
スX0 〜X11を順次カウント・アップするカウンタ出力
信号C0 〜C11を出力し、さらに信号φ2、φ4に基い
て、出力信号C0 〜C11の信号数を変化させる。これ
は、2kcycleの製品と4kcycleの製品とで
は、ロウ系のデコ−ダ(X1デコ−ダ5およびX2デコ
−ダ7)に入力されるXアドレスの数が異なるため、X
アドレスの数とカウンタ出力信号の数とを互いに合わせ
るために行なわれる。この実施例では切換信号φ2が供
給された時、カウンタ回路39は信号C11を出力しな
い。これは、2kcycle製品時、第3XアドレスX
11がロウ系のデコ−ダ(X1デコ−ダ5およびX2デコ
−ダ7)に入力されなくなるので、第3XアドレスX11
を無視するためである。また、切換信号φ4が供給され
た時(あるいは切換信号φ2のレベルが反転されて供給
された時)、カウンタ回路39は信号C11を出力する。
【0024】図1に示すDRAMには、ワ−ド線昇圧部
41が設けられている。ワ−ド線昇圧部41には切換信
号φ2、φ4、昇圧信号φWLがそれぞれ供給される。ワ
−ド線昇圧部41は、昇圧信号φWLに基いてワ−ド線の
電位を昇圧させる。図1中参照符号43に示される部分
は、昇圧された電位が供給される昇圧線である。この発
明では、さらに信号φ2、φ4に基いてワ−ド線昇圧容
量を変化させる。これは、2kcycleの製品と4k
cycleの製品とでは、一度に活性化するワ−ド線の
数が異なるため、ワ−ド線の負荷容量の変化に応じて、
ワ−ド線昇圧容量のレベルを最適化するために行なわれ
る。2kcycle製品の時には、MCAが2つ選ばれ
るため、活性化されるワ−ド線の数が増えて負荷容量が
増加する。この増加分を補償するため、2kcycle
製品時、ワ−ド線昇圧部41は、切換信号φ2に基いて
ワ−ド線昇圧容量を増加させる。また、切換信号φ4が
供給された時(あるいは切換信号φ2のレベルが反転さ
れて供給された時;4kcycle製品時)、ワ−ド線
昇圧部41は、2kcycle製品時よりもワ−ド線昇
圧容量を減少させる。
【0025】図1に示すDRAMには、周辺回路として
/RAS(以下“/”は反転信号を示す記号として用い
る)系回路群45、/CAS系回路群47、/WE系回
路群49を含んでいる。これらの回路群の詳細は、本明
細書では省略する。図2は、製品仕様決定部25の具体
的な構成を示す回路図である。
【0026】図2に示すように、受入部27は出力端5
1に接続されたパッドPと、出力端51とパッドPとの
相互接続点に一端を接続し他端を接地GNDに接続した
抵抗Rとにより、構成されている。受入部27は、パッ
ドPに高電位VCCが印加されたワイヤをボンディング
する(決定信号SDSが“H”レベル)か否か(決定信
号SDSが“L”レベル)によって、その出力端51を
“H”レベル、または“L”レベルのいずれかに設定で
きる。出力端51は切換信号生成部29の入力端53に
接続されている。
【0027】切換信号生成部29は、入力端53に入力
を接続した第1のインバ−タ55と、この第1のインバ
−タ55の出力に入力を接続した第2のインバ−タ57
とにより、構成されている。インバ−タ55の出力は第
1のリフレッシュ切換信号φ2として抽出され、インバ
−タ57の出力は第2のリフレッシュ切換信号φ4とし
て抽出される。
【0028】アドレス切換部9は、ゲ−トに切換信号φ
2またはφ4が供給されるNチャネル型MOSFET
(以下NMOSと称す)およびPチャネル型MOSFE
T(以下PMOSと称す)で成るスイッチ(トランスフ
ァ・ゲ−ト)591 〜594 により、構成される。Xア
ドレス・バッファ群3からは、アドレス信号A11R (X
11)、およびその反転信号/A11R (/X11)がそれぞ
れ出力される。アドレス信号A11R (X11)はスイッチ
591 、592 の一端に供給される。スイッチ591
他端はX2デコ−ダ7に、スイッチ592 の他端はI/O
センスアンプ制御回路31にそれぞれ接続されている。
また反転信号/A11R (/X11)はスイッチ593 、5
4 の一端に供給される。スイッチ593 の他端はX2
デコ−ダ7に、スイッチ594 の他端はI/O センスアン
プ制御回路31にそれぞれ接続されている。
【0029】スイッチ591 のPMOS、スイッチ59
2 のNMOS、スイッチ593 のPMOS、スイッチ5
4 のNMOSのゲ−トはそれぞれ、インバ−タ55の
出力に接続される。スイッチ591 のNMOS、スイッ
チ592 のPMOS、スイッチ593 のNMOS、スイ
ッチ594 のPMOSのゲ−トはそれぞれ、インバ−タ
57の出力に接続される。
【0030】このような接続であると、スイッチ591
および593 のペア、およびスイッチ592 および59
4 のペアのいずれかが選択されて動作するようになる。
例えばインバ−タ55の出力が“H”レベル、インバ−
タ57の出力が“L”レベルの時(2kcycleリフ
レッシュ製品)には、スイッチ592 およびスイッチ5
4 がオンし、アドレス信号A11R 、その反転信号/A
11R がそれぞれ、アドレスX11Y 、/X11Y としてI/O
センスアンプ制御回路31に供給される。
【0031】反対にインバ−タ55の出力が“L”レベ
ル、インバ−タ57の出力が“H”レベルの時(4kc
ycleリフレッシュ製品)には、スイッチ591 およ
びスイッチ593 がオンし、アドレス信号A11R 、その
反転信号/A11R がそれぞれ、アドレスX11X 、/X11
X としてX2デコ−ダ7に供給される。
【0032】以上のように、製品仕様決定部25は、パ
ッドPに高電位VCCが印加されたワイヤをボンディン
グするか否かによって、アドレス信号A11R およびその
反転信号/A11R を、X2デコ−ダ7、およびI/O セン
スアンプ制御回路31のいずれかに切り換えて出力す
る。図3は、受入部27のその他の構成を示す回路図で
ある。
【0033】図2に示した受入部27を、図3に示すよ
うな構成としても良い。すなわち、高電位VCCに抵抗
Rの一端を接続し、この抵抗Rの他端をフュ−ズFの一
端に接続し、このフュ−ズFの他端を接地GNDに接続
する。抵抗Rとフュ−ズFとの相互接続点に出力端51
を接続する。
【0034】上記構成の受入部27においては、フュ−
ズFを切断すると出力端51を“H”レベルに設定で
き、フュ−ズFを切断しなければ出力端51を“L”レ
ベルに設定できる。従って、図3に示す受入部27は、
図2に示す受入部27と同様な動作をする。図4は、図
1に示すカウンタ回路39のブロック図である。
【0035】図4に示すように、カウンタ回路39は、
カウンタ610 〜6111により構成されている。最下位
のカウンタ610 には、カウント開始を指示する信号C
TRSおよびその反転信号BCTRSが供給される。カ
ウンタ610 は、信号CTRSおよび反転信号BCTR
Sに基いてカウンタ出力信号C0 およびその反転信号B
C0 を出力する。次段のカウンタ611 には、前段のカ
ウンタ610 の出力(信号C0 および反転信号BC0 )
が供給される。カウンタ611 は、信号C0 および反転
信号BC0 に基いてカウンタ出力信号C1 およびその反
転信号BC1 を出力する。このように、カウンタ611
〜6111はそれぞれ、前段のカウンタの出力を取り込
み、取り込まれた信号に基いて信号C1 〜C11、反転B
C1 〜BC11を順次出力する。最上位のカウンタ6111
には、図示せぬ前段のカウンタ6110の出力(信号C10
および反転信号BC10)、および切換信号φ4が供給さ
れる。カウンタ6111は、切換信号φ4が例えば“H”
レベルで供給された時(4kcycleリフレッシュ製
品)のみ、信号C10および反転信号BC10に基いてカウ
ンタ出力信号C11およびその反転信号BC11を出力す
る。カウンタ6111は、切換信号φ4が例えば“L”レ
ベルで供給された時(2kcycleリフレッシュ製
品)には信号C11および反転信号BC11を出力しない。
従って、2kcycleリフレッシュ製品では、カウン
タ6111の出力は無視されるようになる。図5は、図4
に示すカウンタ回路39の具体的な構成を示す回路図で
ある。
【0036】カウンタ610 〜6110までの回路構成は
同一である。従って、本明細書では、カウンタ610
カウンタ611 、および最上位カウンタ6111のみを説
明することにする。図5(a)および(b)はそれぞ
れ、カウンタ610 、カウンタ611 の回路図である。
【0037】図5(a)に示すように、クロックド・イ
ンバ−タ630 の出力は、インバ−タ650 の入力に接
続されている(ノ−ドa1)。インバ−タ650 の出力
は、PMOS670 、およびNMOS690 のゲ−トに
接続されている。PMOS670 のドレインとNMOS
690 のドレインは、互いに接続されている(ノ−ドa
2)。PMOS670 のソ−スはPMOS710 のドレ
インに接続され、PMOS710 のソ−スは高電位電源
に接続されている。PMOS710 のゲ−トには信号C
TRSが供給される。NMOS690 のソ−スはNMO
S730 のドレインに接続され、NMOS730 のソ−
スは低電位電源(例えば接地)に接続されている。NM
OS730 のゲ−トには反転信号BCTRSが供給され
る。ノ−ドa2は、ノ−ドa1に接続されるとともにク
ロックド・インバ−タ750 の入力に接続されている。
クロックド・インバ−タ750 は、クロックド・インバ
−タ630 とは逆相のクロックで駆動される。クロック
ド・インバ−タ750 の出力は、インバ−タ770 の入
力に接続されている(ノ−ドa3)。インバ−タ770
の出力は、PMOS790 、およびNMOS810 のゲ
−トに接続されている(ノ−ドa4)。PMOS790
のドレインとNMOS810 のドレインは互いに接続さ
れている(ノ−ドa5)。PMOS790 のソ−スはP
MOS830のドレインに接続され、PMOS830
ソ−スは高電位電源に接続されている。PMOS830
のゲ−トには反転信号BCTRSが供給される。NMO
S810 のソ−スはNMOS850 のドレインに接続さ
れ、NMOS850 のソ−スは、低電位電源(例えば接
地)に接続されている。NMOS850 のゲ−トには信
号CTRSが供給される。ノ−ドa5はノ−ドa3に接
続されている。ノ−ドa4は、カウンタ出力信号端子C
j(C0 )に接続されている(ノ−ドa6)。ノ−ドa
6は、インバ−タ870 の入力に接続されている(ノ−
ドa7)。インバ−タ870 の出力は、反転カウンタ出
力信号端子BCj(BC0 )に接続されている。ノ−ド
a7は、インバ−タ630 の入力に接続されている。図
5(b)についての説明は省略する。図5(b)に示す
構成は図5(a)に示す構成と、入力信号(Cj−1、
BCj−1)および出力信号(Cj、BCj)が相違す
るだけで、その他の構成はほぼ同一である。次に、最上
位カウンタ6111について説明する。
【0038】図5(c)に示すように、ノ−ドa2はP
MOS8911のゲ−トに接続されるとともに(ノ−ドa
8)、NMOS9111のゲ−トに接続されている。ノ−
ドa8はノ−ドa1に接続されている。PMOS8911
のドレインは、PMOS9311のソ−スに接続され、そ
のソ−スは高電位電源に接続されている。PMOS93
11のゲ−トには信号Cj−1(C10)が供給される。N
MOS9111のドレインはNMOS9511のソ−スに接
続され、そのソ−スはNMOS9711のドレインに接続
されている。NMOS9511のゲ−トには反転信号BC
j−1(C10)が供給される。PMOS9311のドレイ
ンとNMOS9511とは互いに接続されている(ノ−ド
a9)。ノ−ドa8はPMOS9911のドレインに接続
され、PMOS9911のソ−スは高電位電源に接続され
ている。PMOS9911のゲ−ト、およびNMOS97
11のゲ−トには切換信号φ4が供給される。ノ−ドa8
はノ−ドa3に接続されている。次に、図5に示すカウ
ンタの動作について説明する。
【0039】まず、初段のカウンタ610 に、信号Cj
−1(CTRS)、反転信号BCj−1(BCTRS)
が供給され、クロックド・インバ−タ630 、およびP
MOS790 、830 、NMOS810 、850 により
構成されるクロックド・インバ−タ1010 がオンした
と仮定する。この時、クロックド・インバ−タ750
およびPMOS670 、710 、NMOS690 、73
0 により構成されるクロックド・インバ−タ103
0 は、上記クロックド・インバ−タ630 と逆相のクロ
ックが入力されるのでオフしている。この結果、インバ
−タ770 とクロックド・インバ−タ1010 とで構成
されるラッチ回路に、ノ−ドa4を“H”レベルとする
信号がラッチされる。従って、カウンタ出力信号端子C
jからは、“H”レベルの信号(C0 )が出力され、ま
た、反転カウンタ出力信号端子BCjからは、“L”レ
ベルの信号(BC0 )が出力される。さらに、上記クロ
ックの信号レベルが反転した場合には、クロックド・イ
ンバ−タ630 、1010 はオフし、クロックド・イン
バ−タ750 、1030 がオンする。この結果、インバ
−タ650 とクロックド・インバ−タ1030 とで構成
されるラッチ回路に、ノ−ドa2を“L”レベルとする
信号がラッチされる。ノ−ドa2が“L”レベルである
と、クロックド・インバ−タ750 は“H”レベルの信
号を出力するので、ノ−ドa4は“L”レベルとなる。
従って、カウンタ出力信号端子Cjからは、上記とは信
号レベルが反転した“L”レベルの信号(C0 )が出力
され、反転カウンタ出力信号端子BCjからは、同様に
信号レベルが反転した“H”レベルの信号(BC0 )が
出力される。次段のカウンタ611 は、上記出力信号C
0 、BC0 が供給されることにより、駆動される。カウ
ンタ611 以降のカウンタ612 〜6110の動作も同様
である。そして、第11段目のカウンタ6110が信号C
10、BC10を出力すると、これらの信号に基いて最終段
のカウンタ6111が駆動される。カウンタ6111では、
PMOS8911、9311、NMOS9111、9511で構
成されるクロックド・インバ−タ7511への低電位の供
給が、NMOS9711を介して行われる。NMOS97
11のゲ−トには切換信号φ4が供給される。クロックド
・インバ−タ7511は、切換信号が“L”レベルである
とNMOS9711がオフするので動作しない。従って、
カウンタ6111は、切換信号φ4が“H”レベルの時の
み、有効なカウンタ出力信号Cj(C11)および反転出
力信号BCj(BC11)を出力する。図6(a)〜
(b)は、図1に示すワ−ド線昇圧部41の具体的な構
成を示す回路図である。
【0040】図6(a)に示すように、ワ−ド線昇圧部
41は、第1の昇圧用キャパシタ1051 、および第2
の昇圧用キャパシタ1052 を含んでいる。第1、第2
の昇圧用キャパシタ1051 、1052 の一方の電極は
それぞれ、昇圧線43に接続されている。昇圧線43
は、図1に示すワ−ド線駆動回路150 〜157 に接続
される。キャパシタ1051 の他方の電極は、第1のワ
−ド線昇圧回路1071の出力に接続され、キャパシタ
1052 の他方の電極は、第2のワ−ド線昇圧回路10
2 の出力に接続されている。第1のワ−ド線昇圧回路
1071 の入力には昇圧信号φWLが供給される。第2の
ワ−ド線昇圧回路1072 の入力はANDゲ−ト109
の出力に接続されている。ANDゲ−ト109の入力に
は、昇圧信号φWLおよび切換信号φ2がそれぞれ供給さ
れる。昇圧回路1071 および昇圧回路1072 は、入
力と出力との間に直列に接続された2つのインバ−タで
構成されている。
【0041】次に図6に示すワ−ド線昇圧部41の動作
について説明する。昇圧信号φWLおよび切換信号φ2が
ともに“H”レベルの時(2kcycle製品の時)、
昇圧回路1071 、1072 がともに活性化される。ま
た、切換信号φ2が“L”レベルである時(4kcyc
le製品の時)、昇圧回路1071 のみが活性化され
る。従って、昇圧部41は、2kcycle製品の時、
4kcycle製品の時よりもワ−ド線容量を増加させ
る。
【0042】尚、図6(b)に示すように、昇圧部41
は、昇圧回路1072 を入力と出力との間に接続された
もので構成し、その入力にNANDゲ−ト111を接続
するようにして、構成されても良い。図6(b)に示す
昇圧部41は、図6(a)に示す昇圧部41と同様な動
作をする。図7は、ワ−ド線昇圧部41のその他の構成
を示すブロック図である。
【0043】図7に示すように、第2の昇圧用キャパシ
タ1052 に接続される昇圧線43´を、マスク・オプ
ションとしても良い。即ち、製造工程において、昇圧線
43を構成する導電層のパタ−ニングを、第1の昇圧用
キャパシタ1051 のみに接続される昇圧線43のパタ
−ンを有するマスクか、あるいは第2の昇圧用キャパシ
タ1052 にも接続される昇圧線43´のパタ−ンも有
するマスクかを使い分けるようにしても良い。図8は、
図1に示すX2デコ−ダ7の具体的な構成を示す回路図
である。
【0044】図8に示すように、ANDゲ−ト1130
〜1137 がそれぞれ設けられている。ANDゲ−ト1
130 〜1137 の入力にはそれぞれ、第2Xアドレス
X9(/X9 )、X10(/X10)、およびアドレス(第
3Xアドレス)X11X (/X11X )が供給される。AN
Dゲ−ト1130 〜1137 の第3Xアドレス入力に
は、PMOS1150 〜1157 のソ−スまたはドレイ
ンが接続されている。PMOS1150 〜1157 のゲ
−トには切換信号φ4が供給される。ANDゲ−ト11
0 〜1137 の出力CBS0〜CBS7はそれぞれ、
セルアレイブロック選択信号として抽出される。次に、
X2デコ−ダ7の動作について説明する。
【0045】まず、切換信号φ4が“L”レベルの時
(2kcycle製品時)、PMOS1150 〜115
7 がそれぞれオンするので、第3Xアドレス入力は常に
“L”レベルとなる。従って、第3Xアドレス入力(X
11X および/X11X )は無視される。切換信号φ4が
“H”レベルの時(4kcycle製品時)、PMOS
1150 〜1157 はそれぞれオフするので、第3Xア
ドレス入力には活性化する。この結果、ANDゲ−ト1
130 〜1137 には、アドレスX11X および/X11X
が取り込まれるようになる。図9は、図1に示すI/O セ
ンスアンプ群13およびI/O センスアンプ制御回路31
の具体的な構成を示す回路図である。
【0046】図9に示すように、I/O センスアンプ制御
回路31は、ANDゲ−ト1170、1171 を含んで
いる。ANDゲ−ト1170 、1171 それぞれの入力
には、I/O センスタイミング信号φIOS およびアドレス
X11Y が供給される。ANDゲ−ト1170 、1171
の第3Xアドレス入力には、PMOS1190 、119
1 のソ−スまたはドレインが接続されている。PMOS
1190 、1191 のゲ−トには切換信号φ2が供給さ
れる。ANDゲ−ト1170 および1171 の出力φS0
1 、φS23 はそれぞれ、I/O センスアンプ群130 〜1
3 を選択するI/O センスアンプ群選択信号として抽出
される。次に、I/O センスアンプ制御回路31の動作に
ついて説明する。
【0047】まず、切換信号φ2が“L”レベルの時
(4kcycle製品時)、PMOS1190 、119
1 がそれぞれオンするので、第3Xアドレス入力は常に
“L”レベルとなる。従って、第3Xアドレス入力(X
11X および/X11X )は無視される。
【0048】また、切換信号φ2が“H”レベルの時
(2kcycle製品時)、PMOS1190 、119
1 はそれぞれオフするので、第3Xアドレス入力は活性
化する。この結果、ANDゲ−ト1130 〜1137
は、アドレスX11X および/X11X が取り込まれるよう
になる。また、図9にはI/O センスアンプ群130 〜1
3 の主要部が示されている。
【0049】図9に示すように、I/O センスアンプ群1
0 〜133 はおのおの、ORゲ−ト1210 〜121
3 と、ANDゲ−ト1230 〜1233 を含んでいる。
【0050】ORゲ−ト1210 〜1213 の入力には
それぞれ、ブロック選択信号CBS0〜CBS7が供給
される。ANDゲ−ト1230 〜1233 の入力にはそ
れぞれ、ORゲ−ト1210 〜1213 の出力およびI/
O センスアンプ選択信号φS01、φS23 が供給される。
ANDゲ−ト1230 〜1233 の出力は、I/O センス
タイミング信号φIOS0〜φIOS3として抽出される。次
に、この発明の第2の実施例について説明する。
【0051】図10は、この発明の第2の実施例に係わ
るDRAMのブロック図である。図10は、特に製品仕
様決定部25を示している。図1に示したDRAMは、
XアドレスおよびYアドレスそれぞれの割り付け方法が
変わらない装置、例えば×1ビット構成のDRAMであ
る。そして、図1に示した1つのDRAMからは、リフ
レッシュ・サイクルが異なる2種類の製品が実現され
た。
【0052】しかし、リフレッシュ・サイクルが変わる
と、XアドレスおよびYアドレスそれぞれの割り付け方
法も変わる装置もある。例えば×4ビット、×8ビッ
ト、×16ビット等、多ビット構成のDRAMである。
多ビット構成のDRAMでは、リフレッシュ・サイクル
が変わると、Xアドレスの数およびYアドレスの数が変
わる。このため、多ビット構成のDRAMにおいて、リ
フレッシュ・サイクルが異なる複数種類の製品を実現す
る場合には、リフレッシュ・サイクルの違いに応じてX
アドレスおよびYアドレスそれぞれの割り付けも変える
ことが必要となる。第2の実施例に係わるDRAMは、
リフレッシュ・サイクルの違いに応じて上記アドレスの
割り付けを変えられる装置である。
【0053】図10は×4ビットのDRAMを示してい
る。×4ビットでリフレッシュ・サイクルが2kcyc
leのDRAMではXアドレスの数とYアドレスの数と
が同じ、即ち、アドレスが対称である。例えばXアドレ
スがX0 〜X10、YアドレスがY0 〜Y10である。しか
し、×4ビットでリフレッシュ・サイクルが4kcyc
leのDRAMではXアドレスの数とYアドレスの数と
が互いに異なり、アドレスが非対称となる。例えばXア
ドレスがX0 〜X11、YアドレスがY0 〜Y9である。
【0054】図10に示すDRAMでは、リフレッシュ
・サイクルを4kcycleとする場合、XアドレスX
11を、アドレス切換部9でアドレスX11X に切り換え、
X2デコ−ダ7に供給する。この時、YアドレスY10
は、Yアドレス・バッファ群19から出力されないよう
にしておく。この点については、後の実施例において詳
細に説明する。
【0055】また、リフレッシュ・サイクルを2kcy
cleとする時、YアドレスY10を、アドレス切換部9
でアドレスX11Y に切り換え、I/O センスアンプ制御回
路31に供給する。この時、XアドレスX11は、Xアド
レス・バッファ群3から出力されないようにしておく。
この点についても、YアドレスY10と同様、後の実施例
において詳細に説明する。図11は、図10に示す製品
仕様決定部25の回路図である。
【0056】図11に示すように、アドレス切換部9
は、NMOSおよびPMOSで構成されたスイッチ(ト
ランスファ・ゲ−ト)591 〜594 を含んでいる。X
アドレスX11(A11R )、/X11(/A11R )はそれぞ
れスイッチ591 、593 に供給され、YアドレスY10
(A10C )、/Y10(/A10C )はそれぞれスイッチ5
2 、594 に供給される。従って、切換信号φ2が
“H”レベル、切換信号φ4が“L”レベルの時(2k
cycleリフレッシュ製品)、YアドレスY10、/Y
10は、スイッチ592 、594 を介して、アドレスX11
Y 、/X11Y としてI/O センスアンプ制御回路31に供
給される。
【0057】また、切換信号φ2が“L”レベル、切換
信号φ4が“H”レベルの時(4kcycleリフレッ
シュ製品)、XアドレスX11、/X11は、スイッチ59
1 、593 を介して、アドレスX11X 、/X11X として
X2デコ−ダ7に供給される。 尚、×8ビット、×1
6ビット等の装置においても、同様の考え方を適用し
て、実現することができる。次に、この発明の第3の実
施例について説明する。
【0058】図12は、この発明の第3の実施例に係わ
るDRAMのブロック図である。図12は、特に製品仕
様決定部25を示している。第3の実施例に係わるDR
AMは、リフレッシュ・サイクルを変えられ、さらにビ
ット構成をも変えられる装置である。例えば、1つのD
RAMから2kcycleで×1ビット製品、4kcy
cleで×1ビット製品、2kcycleで×4ビット
製品、4kcycleで×4ビット製品の4種類の製品
を実現する場合の実施例である。図12に示すように、
アドレス切換部9は、切換信号φ2、φ4に基いてアド
レスY10Y をカラム系デコ−ダ127に出力する。
【0059】図12に示すDRAMでは、リフレッシュ
・サイクルを2kcycleで×1ビット構成とする場
合、アドレス切換部9は、切換信号φ2、φ4に基いて
Xアドレス信号X11をアドレスY10Y に切り換え、カラ
ム系デコ−ダ127にアドレスY10Y を出力する。
【0060】また、リフレッシュ・サイクルを4kcy
cleで×1ビット構成とする場合、アドレス切換部9
は、切換信号φ2、φ4に基いてYアドレス信号Y10を
アドレスY10Y に切り換え、カラム系デコ−ダ127に
アドレスY10Y を出力する。
【0061】また、リフレッシュ・サイクルを2kcy
cleで×4ビット構成、および4kcycleで×4
ビット構成とする場合、アドレス切換部9を、アドレス
Y10Y が出力されないようにしておく。または、アドレ
ス切換部9とカラム系デコ−ダとの間に、×4ビット構
成を指定する信号に基いて、アドレスY10Y を無視する
ような回路を接続しておく。
【0062】このように、アドレス切換部9を、×1ビ
ット構成の時、切換信号φ2、φ4に基いてXアドレス
またはYアドレスからアドレスY10Y を生成し、×4ビ
ット構成の時、切換信号φ2、φ4に係らずにアドレス
Y10Y を無視するように構成することで、リフレッシュ
・サイクルを変えられ、かつビット構成をも変えられる
DRAMを実現できる。図13は、図12に示す製品仕
様決定部25の回路図である。
【0063】図13に示すように、アドレス切換部9
は、NMOSおよびPMOSで構成されたスイッチ(ト
ランスファ・ゲ−ト)591 〜594 、スイッチ129
1 〜1294 を含んでいる。XアドレスX11(A11R )
は、スイッチ591 およびスイッチ1291 に供給され
る。同様に、反転Xアドレス/X11(/A11R )はスイ
ッチ593 およびスイッチ1293 に、Yアドレス/Y
10は(A10C )はスイッチ592 およびスイッチ129
2 に、反転Yアドレス/Y10は(/A10C )はスイッチ
594 およびスイッチ1294 にそれぞれ供給される。
切換信号φ2は、スイッチ591 のNMOS、スイッチ
592 のPMOS、スイッチ593 のNMOS、スイッ
チ594 のPMOS、スイッチ1291 のPMOS、ス
イッチ1292 のNMOS、スイッチ1293 のPMO
S、スイッチ1294 のNMOSそれぞれのゲ−トに供
給される。また、切換信号φ4は、スイッチ591 のP
MOS、スイッチ592 のNMOS、スイッチ593
PMOS、スイッチ594 のNMOS、スイッチ129
1 のNMOS、スイッチ1292 のPMOS、スイッチ
1293 のNMOS、スイッチ1294 のPMOSそれ
ぞれのゲ−トに供給される。
【0064】上記構成の製品仕様決定部25であると、
切換信号φ2が“H”レベル、切換信号φ4が“L”レ
ベル(2kcycleリフレッシュ製品×1ビット)の
時、スイッチ592 、594 がオンするので、Yアドレ
スY10、/Y10は、スイッチ592 、594 を介して、
センスアンプ制御回路31に供給される。さらに、スイ
ッチ1291 、1293 がオンするので、XアドレスX
11、/X11は、スイッチ1291 、1293 を介して、
カラム系デコ−ダ127に供給される。
【0065】また、切換信号φ2が“L”レベル、切換
信号φ4が“H”レベル(4kcycleリフレッシュ
製品×1ビット)の時、スイッチ591 、593 がオン
するので、XアドレスX11、/X11は、スイッチ5
1 、593 を介して、X2デコ−ダ7に供給される。
さらに、スイッチ1292 、1294 がオンするので、
YアドレスY10、/Y10は、スイッチ1292 、129
4 を介して、カラム系デコ−ダ127に供給される。
【0066】さらに、アドレス切換部9とカラム系デコ
−ダとの間には、×4ビット構成を指定する信号に基い
て、アドレスY10Y 、/Y10Y をそれぞれ無視するよう
な回路が接続される(図示せず)。×4ビット構成とす
る場合にはこの回路を用いて、アドレスY10Y 、/Y10
Y を、カラム系デコ−ダ127に供給されないようにす
る。次に、この発明の第4の実施例について説明する。
【0067】図14は、この発明の第4の実施例に係わ
るDRAMのブロック図である。図14は、特に製品仕
様決定部25を示している。第4の実施例に係わるDR
AMは、リフレッシュ・サイクルを2種類以上、例えば
1kcycle、2kcycle、4kcycleのい
ずれか一つに変えられる装置である。図15は図14に
示す受入部27および切換信号生成部29の回路図であ
る。
【0068】図15に示すように、受入部27には2つ
のパッドP1、P2が含まれている。パッドP1には第
1の製品仕様決定信号VR2Kが供給され、パッドP2
には第2の製品仕様決定信号VR1Kが供給される。パ
ッドP1に接続される第1の出力端200は、NORゲ
−ト202の第1の入力に接続されている。また、パッ
ドP2に接続される第2の出力端204は、NANDゲ
−ト206の第1の入力に接続されている。NANDゲ
−ト206の第2の入力は、ビット構成を決定する信号
×16が供給されるパッドP3に接続されている。ビッ
ト構成を×16ビット構成とする場合には、パッドP3
に“H”レベルの信号を供給する。また、パッドP3に
“L”レベルの信号を供給した場合には、×8ビット構
成に対応する製品となる。NANDゲ−ト206の出力
はインバ−タ208の入力に接続されている。インバ−
タ208の出力は第1の切換信号R1Kとして抽出され
るとともに、NORゲ−ト202の第2の入力に接続さ
れている。NORゲ−ト202の出力はインバ−タ21
0を介して第2の切換信号R2Kとして抽出されるとと
もに、第3の切換信号R4Kとして抽出される。図14
に示すように、切換信号R1K、R2K、R4Kのう
ち、信号R1K、R4Kはアドレス切換部9およびカウ
ンタ回路37に供給され、信号R1K、R2KはXアド
レス・バッファ群3、Yアドレス・バッファ群19およ
びワ−ド線昇圧部41に供給される。
【0069】図21は、×16ビット製品とした場合の
各リフレッシュ・サイクル毎のVR1K、VR2K、R
1K、R2K、R4Kの論理を示す図である。図21に
おいて、Hは“H”レベルの信号を表し、Lは“L”レ
ベルの信号を表している。図16は図14に示すアドレ
ス切換部9の回路図である。
【0070】図16に示すように、アドレス切換部9
は、NMOSおよびPMOSで構成されたスイッチ(ト
ランスファ・ゲ−ト)2121 〜2124 を含んでい
る。スイッチ2121 にはYアドレスY8 (A8C)が供
給される。また、スイッチ2122 にはXアドレスX11
(A11R )が、スイッチ2123 にはYアドレスY9
(A9C)が、スイッチ2124 にはXアドレスX10(X
10R )がそれぞれ供給される。第3の切換信号R4K
は、スイッチ2121 のPMOS、スイッチ2122
NMOSそれぞれのゲ−トに供給される。スイッチ21
1 のNMOS、スイッチ2122 のPMOSそれぞれ
のゲ−トには、切換信号R4Kがインバ−タ2141
介して供給される。第1の切換信号R1Kは、スイッチ
2123 のNMOS、スイッチ2124 のPMOSそれ
ぞれのゲ−トに供給される。スイッチ2123 のPMO
S、スイッチ2124 のNMOSそれぞれのゲ−トに
は、切換信号R1Kがインバ−タ2142 を介して供給
される。なお、図16は、アドレスY8 、Y9 、X10、
X11が供給される部分のみを示し、反転アドレス/Y8
、/Y9 、/X10、/X11が供給される部分は省略し
ている。反転アドレスが供給される部分の回路構成は、
図16に示す回路構成と同様である。
【0071】上記構成のアドレス切換部9であると、切
換信号R1Kが“H”レベル、切換信号R4Kが“L”
レベル(1kcycleリフレッシュ製品)の時、スイ
ッチ2121 、2123 がオンするので、YアドレスY
8 、Y9 がそれぞれ、スイッチ2121 、2123 を介
して、出力信号A、Bとして出力される。
【0072】また、切換信号R1Kが“L”レベル、切
換信号R4Kが“L”レベル(2kcycleリフレッ
シュ製品)の時、スイッチ2121 、2124 がオンす
るので、YアドレスY8 、XアドレスX10がそれぞれ、
スイッチ2121 、2124を介して、出力信号A、B
として出力される。
【0073】また、切換信号R1Kが“L”レベル、切
換信号R4Kが“H”レベル(1kcycleリフレッ
シュ製品)の時、スイッチ2122 、2124 がオンす
るので、XアドレスX10、X11がそれぞれ、スイッチ2
122 、2124 を介して、出力信号A、Bとして出力
される。
【0074】図22は、×16ビット製品とした場合の
各リフレッシュ・サイクル毎の出力A、Bの行き先を示
す図である。図22に示すY8Y、Y9Y、X10X 、および
X11X はそれぞれ、図14に示す参照符号と対応してい
る。
【0075】図17は図14に示すXアドレス・バッフ
ァ群3の回路図で、図17(a)は複数のアドレスA0
〜A11を生成するアドレス生成部の回路図、図17
(b)はXアドレスX0 (A0R)〜X9 (A9R)を生成
するXアドレス生成部の回路図、図17(c)はXアド
レスX10(A10R )〜X11(A11R )を生成するXアド
レス生成部の回路図である。
【0076】まず、図17(a)に示すように、アドレ
ス生成部216には、アドレス入力Ainが供給される。
アドレス生成部216は、ロウアドレス・アクセプト信
号RACPに基いて、アドレス入力AinからアドレスA
j 、反転アドレスBAj を生成する。図17(a)に示
すアドレス生成部216は、この実施例では12組設け
られ、アドレス生成部2160 〜21611はそれぞれ、
アドレスA0 (BA0)〜A11(BA11)を生成する。
図17(a)において、BRHLDはロウアドレス・ホ
−ルド信号(Bは信号レベルが反転していることを示
す)を表し、BRLTCはロウアドレス・ラッチ信号を
(Bは信号レベルが反転していることを示す)表し、V
RADは基準電位を表している。
【0077】アドレス生成部2160 〜21611により
生成されたアドレスA0 (BA0 )〜A11(BA11)は
それぞれ、図17(b)および(c)に示すXアドレス
生成部2180 〜21811に供給される。Xアドレス生
成部2180 〜21811はそれぞれ、ロウアドレス・ト
ランス信号BRTRS(Bは信号レベルが反転している
ことを示す)に基いて、アドレスA0 (BA0 )〜A11
(BA11)からXアドレスX0 (A0R)〜X11(A11R
)を生成する。Xアドレス生成部2180 〜21811
のうち、21810、21811はリフレッシュ・サイクル
変更に伴うXアドレスの数の変化に対応するために、図
17(c)に示す回路構成となっている。即ち、Xアド
レス生成部21810、21811はそれぞれ、NOR回路
220、222を含んでおり、Xアドレスは、NOR回
路220、222を介してから、出力される。NOR回
路220および222のそれぞれの第1の入力には信号
C1、C2が供給される。従って、Xアドレス生成部2
1810、21811は、信号C1、C2に基いてXアドレ
スを出力したり、またはしなかったりする。この実施例
では、信号C1、C2を次のような信号に設定する。即
ち、XアドレスX10(A10R )を生成する生成部218
10では信号C1、C2をそれぞれ第1の切換信号R1K
とする。また、XアドレスX11(A11R )を生成する生
成部21811では、信号C1、C2をそれぞれ第2の切
換信号R2Kとする。図17(b)および(c)におい
て、Cj、BCjはカウンタ出力を表し、CTRSはカ
ウンタ・トランス信号を表している。
【0078】上記構成のXアドレス生成部21810、2
1811であると、切換信号R1Kが“H”レベル、切換
信号R2Kが“H”レベル(1kcycleリフレッシ
ュ製品)の時、生成部21810、21811はそれぞれ、
XアドレスX10、X11を出力しない。図16を参照して
説明したように、1kcycleリフレッシュ製品で
は、XアドレスX10、X11は使用されない(1kcyc
leリフレッシュ製品では、YアドレスY8 、Y9 を使
用する)。このため、Xアドレス・バッファ群3Xにお
いて、無用なXアドレスが生成されなくなるので、消費
電力を低減できる、あるいは誤動作を未然に防げる等の
効果が得られる。
【0079】また、切換信号R1Kが“L”レベル、切
換信号R2Kが“H”レベル(2kcycleリフレッ
シュ製品)の時、生成部21810はXアドレスX10を出
力し、また、生成部21811はXアドレスX11を出力し
ない。従って、1kcycleリフレッシュ製品時と同
様に、Xアドレス・バッファ群3において、無用なXア
ドレスが生成されなくなる。
【0080】また、切換信号R1Kが“L”レベル、切
換信号R2Kが“L”レベル(4kcycleリフレッ
シュ製品)の時、生成部21810、21811は共にXア
ドレスX10、X11を出力する。
【0081】図18は図14に示すYアドレス・バッフ
ァ群19の回路図で、図18(a)はYアドレスY0
(A0C)〜Y7 (A7C)を生成するYアドレス生成部の
回路図、図18(b)は、YアドレスY8 (A8C)〜Y
9 (A9C)を生成するYアドレス生成部の回路図であ
る。
【0082】図18(a)および(b)に示すように、
Yアドレス生成部2240 〜2249 には、アドレス入
力Ainが供給される。Yアドレス生成部2240 〜22
9はそれぞれ、第1のカラムアドレス・ラッチ信号C
LTC、信号CLTCより若干、遅延している第2のカ
ラムアドレス・ラッチ信号CLTDに基いて、アドレス
入力AinからYアドレスY0 (A0C)〜Y9 (A9C)を
生成する。Yアドレス生成部2240 〜2249 のう
ち、2248 、2249 はリフレッシュ・サイクル変更
に伴うYアドレスの数の変化に対応するために、図18
(b)に示す回路構成となっている。即ち、Yアドレス
生成部2248 、2249 はそれぞれ、NOR回路22
6、228を含んでおり、Yアドレスは、NOR回路2
26、228を介してから、出力される。NOR回路2
26および228のそれぞれの第1の入力には信号D
1、D2が供給される。従って、Yアドレス生成部22
8 〜2249 は、信号D1、D2に基いてYアドレス
を出力したり、またはしなかったりする。この実施例で
は、信号D1、D2を次のような信号に設定する。即
ち、YアドレスY8 (A8C)を生成する生成部2248
では、信号D1、D2をそれぞれ第2の切換信号R2K
の信号レベルが反転した切換信号BR2Kとする。ま
た、YアドレスY9 (A9C)を生成する生成部2249
では、信号D1、D2をそれぞれ第1の切換信号R1K
の信号レベルが反転した切換信号BR1Kとする。 上
記構成のYアドレス生成部2248 、2249 である
と、反転切換信号BR1Kが“L”レベル、反転切換信
号BR2Kが“L”レベル(1kcycleリフレッシ
ュ製品)の時、生成部2248 、2249 はそれぞれ、
YアドレスY8 、Y9 を出力する。
【0083】また、反転切換信号BR1Kが“H”レベ
ル、反転切換信号BR2Kが“L”レベル(2kcyc
leリフレッシュ製品)の時、生成部2248 はYアド
レスY8 を出力し、また、生成部2249 はYアドレス
Y9 を出力しない。従って、1kcycleリフレッシ
ュ製品時と同様に、Yアドレス・バッファ群19におい
て、無用なYアドレスが生成されなくなる。
【0084】また、反転切換信号BR1Kが“H”レベ
ル、反転切換信号R2Kが“H”レベル(4kcycl
eリフレッシュ製品)の時、生成部2248 、2249
は共にYアドレスY8 、Y9 を出力しない。
【0085】図19は図14に示すカウンタ回路群37
の回路図で、図19(a)はカウンタ出力C0 〜C9 を
生成するカウンタの回路図、図19(b)はカウンタ出
力C10を生成するカウンタの回路図、図19(c)はカ
ウンタ出力C11を生成するカウンタの回路図である。
【0086】図19(a)に示すように、カウンタ23
0 には、カウンタ・トランス信号CTRS(BCTR
S)が供給される。カウンタ2300 は、信号CTRS
(BCTRS)に基いてカウンタ出力C0 (BC0 )を
出力する。カウンタ2301には、カウンタ出力C0
(BC0 )が供給される。カウンタ2300 は、カウン
タ出力C0 (BC0 )に基いてカウンタ出力C1 (BC
1 )を出力する。このような関係を順次繰り返して、図
19(b)および(c)に示すように、カウンタ230
1 には、カウンタ出力C9 (BC9 )が供給される。カ
ウンタ23010は、カウンタ出力C9 (BC9 )に基い
てカウンタ出力C10(BC10)を出力する。カウンタ2
3011には、カウンタ出力C10(BC10)が供給され
る。カウンタ23011は、カウンタ出力C10(BC10)
に基いてカウンタ出力C11(BC11)を出力する。カウ
ンタ2300 〜23011のうち、23010、23011
リフレッシュ・サイクル変更に伴うXアドレスの数の変
化に対応するために、図19(b)および(c)にに示
す回路構成となっている。即ち、カウンタ23010は、
切換信号R1Kの信号レベルが反転した切換信号BR1
Kに基いてオン/オフが決定されるクロックド・インバ
−タ23210を含み、カウンタ23011は、切換信号R
4Kに基いてオン/オフが決定されるクロックド・イン
バ−タ23211を含んでいる。従って、カウンタ232
10、23211は、切換信号R1K、R4Kに基いてカウ
ンタ出力を出力したり、またはしなかったりする。
【0087】上記構成のカウンタ23210、23211
あると、切換信号R1Kが“H”レベル、切換信号R4
Kが“L”レベル(1kcycleリフレッシュ製品)
の時、カウンタ23210、23211はそれぞれ、カウン
タ出力C10、C11を出力しない。
【0088】また、切換信号R1Kが“L”レベル、切
換信号R4Kが“L”レベル(2kcycleリフレッ
シュ製品)の時、カウンタ23210はカウンタ出力C10
を出力し、カウンタ23211はカウンタ出力C11を出力
しない。
【0089】また、切換信号R1Kが“L”レベル、切
換信号R4Kが“H”レベル(4kcycleリフレッ
シュ製品)の時、カウンタ23210は、23211はそれ
ぞれ、カウンタ出力C10、C11を出力する。図20は、
図14に示すワ−ド線昇圧部41の回路図である。
【0090】図20に示すように、ワ−ド線昇圧部41
には、第1の切換信号R1K、第2の切換信号R2Kが
供給される。昇圧部41は、昇圧開始を指示する信号φ
WLに基いてWKMを出力する。昇圧部41は、NORゲ
−ト234、NANDゲ−ト236、238を含んでい
る。NORゲ−ト234の第1の入力には切換信号23
4が供給され、その第2の入力には切換信号R2Kが供
給される。NANDゲ−ト236の第1の入力には切換
信号R1Kが供給され、その第2の入力には信号φWLが
供給される。NANDゲ−ト238の第1の入力にはN
ORゲ−ト234の出力レベルが反転した信号が供給さ
れ、その第2の入力には信号φWLが供給される。
【0091】上記構成のワ−ド線昇圧部41であると、
切換信号R1Kが“H”レベル、切換信号R2Kが
“H”レベル(1kcycleリフレッシュ製品)の
時、信号φWLが“H”レベルとなると、第1のキャパシ
タ2401 の一方の電極が“H”レベルとなる。同様
に、第2のキャパシタ2402 、第3のキャパシタ24
3 それぞれの一方の電極も“H”レベルとなる。従っ
て、1kcycleリフレッシュ製品の時にはWKM
が、キャパシタ2401 〜2403 の3つのキャパシタ
を用いて生成される。
【0092】また、切換信号R1Kが“L”レベル、切
換信号R2Kが“H”レベル(2kcycleリフレッ
シュ製品)の時、信号φWLが“H”レベルとなると、第
1のキャパシタ2401 の一方の電極が“L”レベルと
なり、第2のキャパシタ2402 、第3のキャパシタ2
403 それぞれの一方の電極は“H”レベルとなる。従
って、2kcycleリフレッシュ製品の時にはWKM
が、キャパシタ2402 、2403 の2つのキャパシタ
を用いて生成される。
【0093】また、切換信号R1Kが“L”レベル、切
換信号R2Kが“L”レベル(4kcycleリフレッ
シュ製品)の時、信号φWLが“H”レベルとなると、第
1のキャパシタ2401 、第2のキャパシタ2402
れぞれの一方の電極が“L”レベルとなり、第3のキャ
パシタ2403 の一方の電極のみ“H”レベルとなる。
従って、4kcycleリフレッシュ製品の時にはWK
Mが、キャパシタ2403 のみを用いて生成される。
【0094】図23はアドレスの割り付けを示す図で、
図23(a)は1kcycleリフレッシュ製品の場
合、図23(b)は2kcycleリフレッシュ製品の
場合、図23(c)は4kcycleリフレッシュ製品
の場合をそれぞれ示している。図24は図1に示すI/O
センスアンプ群130 〜133 の構成を示すブロック図
である。
【0095】図24に示すように、I/O センスアンプ群
130 〜133 はそれぞれ、複数のセンス回路S、およ
びセンス回路Sを選択する選択回路30000〜30031
を含んでいる。複数のセンス回路Sにはそれぞれ、セン
スアンプ110 〜113 からの出力I/O 00〜I/O 31が供
給される。選択回路30000〜30031にはそれぞれ、
信号E、Fが供給される。選択回路30000〜30031
は、信号E、Fに基いて所望のセンス回路Sを選択する
信号を出力する。ここで、信号EはY2デコ−ダ23か
らの出力であり、また、信号FはI/O センスアンプ制御
回路31からの出力である。選択回路30000〜300
31によって選択されたセンス回路Sの出力が、例えば出
力デ−タDOUT となる。
【0096】上記構成のI/O センスアンプ群130 〜1
3 であると、デ−タの出力線302の数を少なくで
き、デ−タの入/出力系の回路構成が簡単となる、とい
う効果が得られる。図25は図1に示すI/O センスアン
プ群130 〜133 のその他の構成を示すブロック図で
ある。
【0097】図25に示すように、I/O センスアンプ群
130 〜133 はそれぞれ、複数のセンス回路S、およ
びI/O センスアンプ群130 〜133 を選択する選択回
路3000 〜3003 を含んでいる。複数のセンス回路
Sにはそれぞれ、センスアンプ110 〜113 からの出
力I/O 00〜I/O 31が供給される。選択回路3000 〜3
003 にはそれぞれ、信号Fが供給される。選択回路3
000 〜3003 は、信号Fに基いて所望のI/O センス
アンプ群130 〜133 を選択する信号を出力する。こ
こで、信号FはI/O センスアンプ制御回路31からの出
力である。選択回路3000 〜3003 によって選択さ
れたI/O センスアンプ群Sからの出力信号は、マルチプ
レクス回路304に供給される。マルチプレクス回路3
04は、信号Eに基いて、例えば所望のセンス回路Sを
選択する。ここで、信号EはY2デコ−ダ23からの出
力である。マルチプレクス回路304によって選択され
たセンス回路Sの出力が、例えば出力デ−タDOUT とな
る。上記構成のI/O センスアンプ群130 〜133 であ
ると、I/O センスアンプ群130 〜133 の回路構成が
簡単となる、という効果が得られる。図26はこの発明
に係わるチップ選別方法のフロ−チャ−トである。この
例は、製品仕様を、図2に示すボンディング・オプショ
ンにより決定する装置で適用されるフロ−である。
【0098】図26に示すように、ステップ(以下s
t.と略す)1において、前工程ウェ−ハ・プロセスを
行う。これにより、ウェ−ハ内には、DRAMチップ
(集積回路チップ)が形成される。DRAMチップが形
成された後、st.2において、チップ選別試験を行
う。これは、形成されたDRAMチップが良品であるか
否かを調べる試験である。この後、さらにポ−ズ試験
(デ−タ保持特性試験)を行う。これにより、DRAM
チップが含むメモリセルが、どの程度の時間、デ−タを
保持できるかが調べられる。次いで、st.3におい
て、リダンダンシ・フュ−ズ・カットを行う。これによ
り、st.2におけるチップ選別試験で不良品とされた
チップがある程度救済される(リダンダンシ技術)。次
いで、st.4においてウェ−ハをダイシングする。こ
れにより、ウェ−ハが、複数のDRAMチップに分割さ
れる。次いで、st.5において、チップをアセンブリ
する。これにより、チップはベッド上に載せられ、チッ
プのパッドとリ−ドとが互いにボンディングされる。こ
の時、st.2におけるポ−ズ試験の結果に基いて、リ
フレッシュ・サイクルを選択するボンディングを行う。
これは、図2に示した受入部27のパッドPへワイヤを
ボンディングするか否かの工程である。このボンディン
グにより、例えば2kcycleリフレッシュ製品か、
4kcycleリフレッシュ製品かが半永久的に決定さ
れる。この後、パッケ−ジング工程等を経て、最終形状
の製品となる。この後、st.6において、ファイナル
試験を行い、この試験に合格した製品が市場に供給され
る。図27は、この発明に係わるチップ選別方法のその
他の例のフロ−チャ−トである。この例は、製品仕様
を、図3に示すフュ−ズ・オプションにより決定する装
置で適用されるフロ−である。
【0099】図27に示すように、st.3において、
リダンダンシ・フュ−ズ・カットを行う。この時、さら
にリフレッシュ・サイクルを選択するフュ−ズ・カット
を行う。これは、図3に示した受入部27のフュ−ズF
をブロ−するか否かの工程である。このフュ−ズ・カッ
トにより、図26に示す方法と同様、例えば2kcyc
leリフレッシュ製品か、4kcycleリフレッシュ
製品かが半永久的に決定される。
【0100】上記チップ選別方法であると、ポ−ズ試験
の結果に基いて、2kcycleリフレッシュ製品とす
るか、4kcycleリフレッシュ製品とするかを決定
するので、例えばプロセスのゆらぎによってポ−ズ時間
が設計当初の時間より短くなったメモリセルを持つチッ
プでも、例えば4kcycleリフレッシュ製品として
救済することができ、製品の歩留りを向上できる。
【0101】さらに、製造工程中においても、2kcy
cleリフレッシュ製品とするか、4kcycleリフ
レッシュ製品とするかを、簡単に変更でき、製品の生産
に関して自由度を得ることができる。図28は、図26
および図27に示すst.2の内容を詳細に表した図で
ある。
【0102】図28に示すように、st.2では、大き
く別けてチップ選別試験およびポ−ズ試験の2種類があ
る。これら試験のうち、チップ選別試験はさらに小さな
幾つかの試験項目に分割される。例えば動作電流試験、
ティピカル電圧試験、セル間干渉試験等である。これら
各試験ではそれぞれ、試験を行うのに最適なリフレッシ
ュ・サイクルがある。そこで、各試験毎に、試験を行う
のに最適なリフレッシュ・サイクルを設定して各試験を
行う。このようにすれば、試験時間の短縮、選別能力の
向上を図ることができ、チップ選別試験効率を向上でき
る。
【0103】例えば試験項目TEST Aに記載されている動
作電流試験は、2kcycleリフレッシュで行う。動
作電流試験を2kcycleリフレッシュで行うと、チ
ップの選別条件を4kcycleリフレッシュよりも厳
しくでき、信頼性が非常に高いチップだけを選び出すこ
とができる。
【0104】また、試験項目TEST Bに記載されているテ
ィピカル電圧試験は、4kcycleリフレッシュで行
う。ティピカル電圧試験を4kcycleリフレッシュ
で行うと、2kcycleリフレッシュ製品では不良品
となるようなワ−ド線どうしの短絡(例えば隣接するワ
−ド線どうし)が、4kcycleリフレッシュ製品で
は不良品とならなくなるので、良品の取得数を向上させ
ることができる。ただし、この試験を行ったロットより
2kcycleリフレッシュ製品を得ようとする時に
は、不良品も含まれてしまう恐れがあるので、2kcy
cleリフレッシュでのティピカル電圧試験も行ってお
く。4kcycleリフレッシュ製品だけを得ようとす
る時には、2kcycleリフレッシュでのティピカル
電圧試験は行わなくて良い。このように必要に応じて、
2kcycleリフレッシュ、4kcycleリフレッ
シュで試験を行っても良い。
【0105】また、試験項目TEST Cに記載されているセ
ル間干渉試験は、2kcycleリフレッシュ製品で行
う。セル間干渉試験を2kcycleリフレッシュで行
うと、4kcycleリフレッシュよりも短時間で全て
のメモリセルに電流を流せるので、試験時間を短縮でき
る。その他、図28には記載されない様々な試験がある
が、これらの試験においてもそれぞれ最適なリフレッシ
ュ・サイクルを設定し、試験を行う。図29は、図2に
示すパッドPの断面図である。
【0106】以上のような各試験毎に最適なリフレッシ
ュ・サイクルを設定する、という試みは、図29に示す
ように、ウェ−ハ・プロ−バのプロ−ブ28をパッドP
に接触させ、受入部27に電圧を供給するか否かだけで
できる。
【0107】尚、この発明は、上記実施例に限られるも
のではなく、その主旨を逸脱しない範囲で種々の変形が
可能である。例えば上記実施例では受入部27に、パッ
ドPへのワイヤ・ボンディングや、フュ−ズFのカット
により、製品仕様を決定する決定信号SDSを供給し
た。これを、例えばフュ−ズFの代わりに不揮発性メモ
リセルを用いて、このセルがオンするか否かによって製
品仕様を決定する決定信号SDSを供給するようにして
も良い。
【0108】また、パッケ−ジに新たにピンを付加し、
このピンに決定信号SDSを供給するようにしても良
い。この場合には、ユ−ザが、付加されたピンに決定信
号SDSを供給するか否かにより、2つのリフレッシュ
・サイクルのうちの一つを選択することができる。ま
た、パッケ−ジに新たに2本以上のピンを付加した場合
には、2つ以上のリフレッシュ・サイクルのうちから一
つのを選択することができる。このようにユ−ザが製品
の仕様を決定するように構成することも可能である。そ
の他、様々な変形が可能であることはもちろんである。
【0109】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、製品の多品種化が進展すると開発効率および生産効
率が低下する、という問題が解決され、多品種化が進展
しても開発効率および生産効率が低下しない半導体集積
回路装置を提供できる。さらに、製品歩留りを向上でき
るチップ選別方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1はこの発明の第1の実施例に係わるDRA
Mのブロック図。
【図2】図2は図1に示す製品仕様決定部の回路図。
【図3】図3は図2に示す受入部のその他の例の回路
図。
【図4】図4は図1に示すカウンタ回路のブロック図。
【図5】図5(a)〜(c)はそれぞれ図4に示すカウ
ンタ回路の回路図。
【図6】図6(a)は図1に示すワ−ド線昇圧部の回路
図、図6(b)は図1に示すワ−ド線昇圧部のその他の
例の回路図。
【図7】図7は図1に示すワ−ド線昇圧部の変形例に係
わる回路図。
【図8】図8は図1に示すX2デコ−ダの回路図。
【図9】図9は図1に示すI/O センスアンプ群およびI/
O センスアンプ制御回路の回路図。
【図10】図10はこの発明の第2の実施例に係わるDR
AMのブロック図。
【図11】図11は図10に示す製品仕様決定部の回路図。
【図12】図12はこの発明の第3の実施例に係わるDR
AMのブロック図。
【図13】図13は図12に示す製品仕様決定部の回路図。
【図14】図14はこの発明の第4の実施例に係わるDR
AMのブロック図。
【図15】図15は図14に示す受入部および切換信号生成
部の回路図。
【図16】図16は図14に示すアドレス切換部の回路図。
【図17】図17(a)〜(c)はそれぞれ図14に示すX
アドレス・バッファ群の回路図。
【図18】図18(a)〜(b)はそれぞれ図14に示すY
アドレス・バッファ群の回路図。
【図19】図19(a)〜(c)はそれぞれ図14に示すカ
ウンタ回路群の回路図。
【図20】図20は図14に示すワ−ド線昇圧部の回路図。
【図21】図21はリフレッシュ・サイクル毎のVR1
K、VR2K、R1K、R2K、R4Kの論理を示す
図。
【図22】図22はリフレッシュ・サイクル毎の出力A、
Bの行き先を示す図。
【図23】図23(a)〜(c)はそれぞれリフレッシュ
・サイクル毎のアドレスの割り付けを示す図。
【図24】図24は図1に示すI/O センスアンプ群のブロ
ック図。
【図25】図25は図1に示すI/O センスアンプ群のその
他の例のブロック図。
【図26】図26はこの発明に係わるチップ選別方法のフ
ロ−チャ−ト。
【図27】図27はこの発明に係わるチップ選別方法のそ
の他の例のフロ−チャ−ト。
【図28】図28は図26および図27に示すステップ2の内
容を示す図。
【図29】図29は図2に示すパッドの断面図。
【符号の説明】
MCA0 〜MCA7 …メモリセルアレイ、3…Xアドレ
ス・バッファ群、5…X1デコ−ダ、7…X2デコ−
ダ、9…アドレス切換部、110 〜113 …センスアン
プ、130 〜133 …I/O センスアンプ群、19…Yア
ドレス・バッファ群、21…Y1デコ−ダ、23…Y2
デコ−ダ、25…製品仕様決定部、27…決定信号受入
部、29…切換信号生成部、31…I/O センスアンプ制
御回路、37…カウンタ・リフレッシュ回路群、39…
カウンタ回路、41…ワ−ド線昇圧部、610 〜6111
〜カウンタ、127…カラム系デコ−ダ、2180 〜2
1811…Xアドレス生成部、2240 〜2249 …Yア
ドレス生成部、2300 〜23011…カウンタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/10 481 8728−4M

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 情報を記憶するメモリセル群を含む複数
    のメモリセルアレイと、 アドレス信号を複数生成するアドレス信号生成手段と、 少なくとも前記情報を読み出す時、前記複数のメモリセ
    ルアレイのうち活性化させるアレイを選択するメモリセ
    ルアレイ選択手段と、 前記複数のメモリセルアレイがまとめられてメモリセル
    アレイブロックが構成され、少なくとも前記情報を読み
    出す時、これらのブロックのうち活性化させるブロック
    を選択するメモリセルアレイブロック選択手段と、 製品仕様を決定する決定信号を受け入れる受入手段と、 前記受入手段に接続され、前記決定信号に基いて製品仕
    様を切り換える切換信号を生成する切換信号生成手段
    と、 前記アドレス信号のうち一部のアドレス信号および前記
    切り換え信号がそれぞれ供給され、前記切換信号に基い
    て供給された前記一部のアドレス信号を前記メモリセル
    アレイ選択手段あるいは前記メモリセルアレイブロック
    選択手段のいずれか一方に切り換えて出力するアドレス
    信号切換手段とを具備することを特徴とする半導体集積
    回路装置。
  2. 【請求項2】 前記アドレス信号発生手段は、Xアドレ
    ス信号を複数発生させるXアドレス信号発生手段と、Y
    アドレス信号を複数発生させるYアドレス信号発生手段
    とを含み、 前記アドレス信号切換手段には、前記Xアドレス信号の
    うち一部のXアドレス信号および前記切換信号がそれぞ
    れ供給され、前記アドレス信号切換手段は、前記切換信
    号に基いて供給された前記一部のXアドレス信号を前記
    メモリセルアレイ選択手段あるいは前記メモリセルアレ
    イブロック選択手段のいずれか一方に切り換えて出力す
    るように構成されていることを特徴とする請求項1に記
    載の半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 少なくとも前記複数のアドレス信号を順
    次カウントする複数のカウント信号を出力するカウンタ
    をさらに具備し、 前記カウンタには前記切換信号が供給され、前記カウン
    タは、この切換信号に基いて前記複数のカウント信号の
    数を変更するように構成されていることを特徴とする請
    求項1もしくは請求項2いずれかに記載の半導体集積回
    路装置。
  4. 【請求項4】 ワ−ド線の電位を昇圧する昇圧手段をさ
    らに具備し、 前記昇圧手段には前記切換信号が供給され、前記昇圧手
    段は、この切換信号に基いてワ−ド線昇圧容量を変更す
    るように構成されていることを特徴とする請求項1乃至
    請求項3いずれかに記載の半導体集積回路装置。
  5. 【請求項5】 情報を記憶するメモリセル群を含む複数
    のメモリセルアレイと、 Xアドレス信号を複数発生させるXアドレス信号発生手
    段と、 Yアドレス信号を複数発生させるYアドレス信号発生手
    段と、 製品仕様を決定する決定信号を受け入れる受入手段と、 前記受入手段に接続され、前記決定信号に基いて製品仕
    様を切り換える切換信号を生成する切換信号生成手段
    と、 前記Xアドレス信号の一部、前記Yアドレス信号の一
    部、および前記切換信号の供給がそれぞれ供給され、前
    記切換信号に基いて前記Xアドレス信号および前記Yア
    ドレス信号を新たなXアドレス信号および新たなYアド
    レス信号に切り換えるアドレス信号切換手段とを具備す
    ることを特徴とする半導体集積回路装置。
  6. 【請求項6】 少なくとも前記情報を読み出す時、前記
    複数のメモリセルアレイのうち活性化させるアレイを選
    択するメモリセルアレイ選択手段と、 前記複数のメモリセルアレイがまとめられてメモリセル
    アレイブロックが構成され、少なくとも前記情報を読み
    出す時、これらのブロックのうち活性化させるブロック
    を選択するメモリセルアレイブロック選択手段とをさら
    に具備し、 前記アドレス信号切換手段は、前記新たなXアドレス信
    号を前記メモリセルアレイ選択手段あるいは前記メモリ
    セルアレイブロック選択手段のいずれか一方に切り換え
    て出力するように構成されていることを特徴とする請求
    項5に記載の半導体集積回路装置。
  7. 【請求項7】 前記Xアドレス信号発生手段には前記切
    換信号が供給され、前記Xアドレス信号発生手段は、こ
    の切換信号に基いて前記Xアドレス信号の数を変更する
    ように構成された変更部を含み、 前記Yアドレス信号発生手段には前記切換信号が供給さ
    れ、前記Yアドレス信号発生手段は、この切換信号に基
    いて前記Yアドレス信号の数を変更するように構成され
    た変更部を含むことを特徴とする請求項5もしくは請求
    項6いずれかに記載の半導体集積回路装置。
  8. 【請求項8】 少なくとも前記複数のアドレス信号を順
    次カウントする複数のカウント信号を出力するカウンタ
    をさらに具備し、 前記カウンタには前記切換信号が供給され、前記カウン
    タは、この切換信号に基いて前記複数のカウント信号の
    数を変更するように構成されていることを特徴とする請
    求項5もしくは請求項7いずれかに記載の半導体集積回
    路装置。
  9. 【請求項9】 ワ−ド線の電位を昇圧する昇圧手段をさ
    らに具備し、 前記昇圧手段には前記切換信号が供給され、前記昇圧手
    段は、この切換信号に基いてワ−ド線昇圧容量を変更す
    るように構成されていることを特徴とする請求項5乃至
    請求項8いずれかに記載の半導体集積回路装置。
  10. 【請求項10】 情報を記憶するメモリセル群を含む複
    数のメモリセルアレイと、 Xアドレス信号を複数発生させるXアドレス信号発生手
    段と、 Yアドレス信号を複数発生させるYアドレス信号発生手
    段と、 少なくとも前記情報を読み出す時、前記複数のメモリセ
    ルアレイのうち活性化させるアレイを選択するメモリセ
    ルアレイ選択手段と、 前記複数のメモリセルアレイがまとめられてメモリセル
    アレイブロックが構成され、少なくとも前記情報を読み
    出す時、これらのブロックのうち活性化させるブロック
    を選択するメモリセルアレイブロック選択手段と、 カラム系デコ−ダと、 製品仕様を決定する決定信号を受け入れる受入手段と、 前記受入手段に接続され、前記決定信号に基いて製品仕
    様を切り換える切換信号を生成する切換信号生成手段
    と、 前記Xアドレス信号の一部、前記Yアドレス信号の一
    部、および前記切換信号の供給がそれぞれ供給され、前
    記切換信号に基いて前記Xアドレス信号および前記Yア
    ドレス信号を新たなXアドレス信号および新たなYアド
    レス信号に切り換え、前記新たなXアドレス信号を前記
    メモリセルアレイ選択手段あるいは前記メモリセルアレ
    イブロック選択手段のいずれか一方に切り換えて出力
    し、前記新たなYアドレス信号を前記カラム系デコ−ダ
    に出力するアドレス信号切換手段とを具備することを特
    徴とする半導体集積回路装置。
  11. 【請求項11】 少なくとも前記複数のアドレス信号を
    順次カウントする複数のカウント信号を出力するカウン
    タをさらに具備し、 前記カウンタには前記切換信号が供給され、前記カウン
    タは、この切換信号に基いて前記複数のカウント信号の
    数を変更するように構成されていることを特徴とする請
    求項10に記載の半導体集積回路装置。
  12. 【請求項12】 ワ−ド線の電位を昇圧する昇圧手段を
    さらに具備し、 前記昇圧手段には前記切換信号が供給され、前記昇圧手
    段は、この切換信号に基いてワ−ド線昇圧容量を変更す
    るように構成されていることを特徴とする請求項10も
    しくは請求項11いずれかに記載の半導体集積回路装
    置。
  13. 【請求項13】 第1の機能を有した第1の回路部およ
    び第2の機能を有した第2の回路部を含む集積回路部
    と、 前記第1の回路部あるいは第2の回路部を活性化させる
    活性信号を発生させる活性信号発生手段と、 製品仕様を決定する決定信号を受け入れる受入手段と、 前記受入手段に接続され、前記決定信号に基いて製品仕
    様を切り換える切換信号を生成する切換信号生成手段
    と、 前記活性信号および前記切換信号の供給を受け、前記切
    換信号に基いて前記活性信号を第1の回路部あるいは第
    2の回路部のいずれか一方に切り換えて出力する切換手
    段とを具備することを特徴とする半導体集積回路装置。
  14. 【請求項14】 半導体チップが正常か否かを調べる選
    別試験と、メモリセルの電荷保持特性を調べるポ−ズ試
    験とを含む、半導体チップを選別するチップ選別工程
    と、 前記ポ−ズ試験の結果に基いて、前記チップの製品仕様
    を変更する製品仕様変更工程とを具備することを特徴と
    するチップ選別方法。
  15. 【請求項15】前記選別試験は複数の試験項目を含み、
    リフレッシュ・サイクルを、各試験項目毎に最適化して
    行うことを特徴とする請求項14に記載のチップ選別方
    法。
JP22169492A 1991-08-30 1992-08-20 半導体集積回路装置およびチップ選別方法 Expired - Fee Related JP3776461B2 (ja)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22169492A JP3776461B2 (ja) 1991-08-30 1992-08-20 半導体集積回路装置およびチップ選別方法
EP92114765A EP0530714B1 (en) 1991-08-30 1992-08-28 Semiconducteur integrated circuit device allowing change of product specification
DE69229090T DE69229090T2 (de) 1991-08-30 1992-08-28 Integrierte Halbleiterschaltungsanordnung mit Möglichkeit, die Produktspezifikation zu ändern
US08/435,661 US5633827A (en) 1991-08-30 1995-05-05 Semiconductor integrated circuit device allowing change of product specification and chip screening method therewith
US08/438,656 US5559748A (en) 1991-08-30 1995-05-09 Semiconductor integrated circuit allowing change of product specification and chip screening method therewith
US08/683,780 US5812481A (en) 1991-08-30 1996-07-16 Semiconductor integrated circuit device allowing change of product specification and chip screening method therewith
US09/102,627 US5970015A (en) 1991-08-30 1998-06-23 Semiconductor integrated circuit device allowing change of product specification and chip screening method therewith
US09/314,028 US6141288A (en) 1991-08-30 1999-05-19 Semiconductor memory device allowing change of refresh mode and address switching method therewith

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3-219926 1991-08-30
JP21992691 1991-08-30
JP22169492A JP3776461B2 (ja) 1991-08-30 1992-08-20 半導体集積回路装置およびチップ選別方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05234368A true JPH05234368A (ja) 1993-09-10
JP3776461B2 JP3776461B2 (ja) 2006-05-17

Family

ID=26523412

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22169492A Expired - Fee Related JP3776461B2 (ja) 1991-08-30 1992-08-20 半導体集積回路装置およびチップ選別方法

Country Status (4)

Country Link
US (5) US5633827A (ja)
EP (1) EP0530714B1 (ja)
JP (1) JP3776461B2 (ja)
DE (1) DE69229090T2 (ja)

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3776461B2 (ja) * 1991-08-30 2006-05-17 株式会社東芝 半導体集積回路装置およびチップ選別方法
JP3090833B2 (ja) * 1993-12-28 2000-09-25 株式会社東芝 半導体記憶装置
JP3723615B2 (ja) * 1995-01-06 2005-12-07 株式会社ルネサステクノロジ ダイナミック型半導体記憶装置
KR0145888B1 (ko) * 1995-04-13 1998-11-02 김광호 반도체 메모리장치의 동작 모드 전환회로
US6947100B1 (en) 1996-08-09 2005-09-20 Robert J. Proebsting High speed video frame buffer
US6031783A (en) * 1996-08-09 2000-02-29 Townsend And Townsend And Crew Llp High speed video frame buffer
US6026044A (en) * 1997-06-30 2000-02-15 Townsend & Townsend & Crew Llp High speed video frame buffer
TW419828B (en) * 1997-02-26 2001-01-21 Toshiba Corp Semiconductor integrated circuit
US5995437A (en) * 1997-06-02 1999-11-30 Townsend And Townsend And Crew Llp Semiconductor memory and method of accessing memory arrays
US6167544A (en) * 1998-08-19 2000-12-26 Stmicroelectronics, Inc. Method and apparatus for testing dynamic random access memory
JP3184156B2 (ja) * 1998-09-02 2001-07-09 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 半導体集積回路およびその製品仕様制御方法
KR100336838B1 (ko) * 1999-06-17 2002-05-16 윤종용 리프레시 주기 선택 회로 및 입/출력 비트 폭 선택 회로를 구비한 다이내믹 랜덤 액세스 메모리 장치
JP3821621B2 (ja) 1999-11-09 2006-09-13 株式会社東芝 半導体集積回路
US8164362B2 (en) * 2000-02-02 2012-04-24 Broadcom Corporation Single-ended sense amplifier with sample-and-hold reference
US7173867B2 (en) * 2001-02-02 2007-02-06 Broadcom Corporation Memory redundancy circuit techniques
JP2002157880A (ja) * 2000-11-15 2002-05-31 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体記憶装置
US6728156B2 (en) * 2002-03-11 2004-04-27 International Business Machines Corporation Memory array system
JP4534141B2 (ja) * 2005-02-09 2010-09-01 エルピーダメモリ株式会社 半導体記憶装置
US7443735B2 (en) * 2006-12-22 2008-10-28 Sandisk Corporation Method of reducing wordline recovery time
US7495992B2 (en) * 2006-12-22 2009-02-24 Sandisk Corporation System for reducing wordline recovery time
KR100956783B1 (ko) * 2008-10-14 2010-05-12 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치
US8300489B2 (en) * 2010-01-12 2012-10-30 International Business Machines Corporation Charge pump system and method utilizing adjustable output charge and compilation system and method for use by the charge pump
KR101861647B1 (ko) 2011-05-24 2018-05-28 삼성전자주식회사 메모리 시스템 및 그 리프레시 제어 방법
KR20210006616A (ko) 2019-07-09 2021-01-19 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 반도체 메모리 장치의 동작 방법

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0612609B2 (ja) * 1987-03-27 1994-02-16 株式会社東芝 半導体メモリ
JPH0793003B2 (ja) * 1988-09-01 1995-10-09 三菱電機株式会社 ダイナミックランダムアクセスメモリ装置およびその動作方法
US4933907A (en) * 1987-12-03 1990-06-12 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Dynamic random access memory device and operating method therefor
KR910003593B1 (ko) * 1987-12-30 1991-06-07 삼성전자 주식회사 고집적도 메모리용 모드 선택회로
US5023843A (en) * 1988-10-27 1991-06-11 Texas Instruments Incorporated Bonding pad programmable integrated circuit
JPH02247892A (ja) * 1989-03-20 1990-10-03 Fujitsu Ltd ダイナミックランダムアクセスメモリ
JP2928263B2 (ja) * 1989-03-20 1999-08-03 株式会社日立製作所 半導体装置
JPH0760413B2 (ja) * 1989-05-12 1995-06-28 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション メモリ・システム
EP0476282A3 (en) * 1990-07-31 1992-06-24 Texas Instruments Incorporated Improvements in or relating to integrated circuits
JP2794138B2 (ja) * 1991-08-13 1998-09-03 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JP3776461B2 (ja) * 1991-08-30 2006-05-17 株式会社東芝 半導体集積回路装置およびチップ選別方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5559748A (en) 1996-09-24
US5812481A (en) 1998-09-22
US5970015A (en) 1999-10-19
DE69229090T2 (de) 1999-10-14
US6141288A (en) 2000-10-31
EP0530714A2 (en) 1993-03-10
EP0530714B1 (en) 1999-05-06
JP3776461B2 (ja) 2006-05-17
EP0530714A3 (en) 1994-12-28
US5633827A (en) 1997-05-27
DE69229090D1 (de) 1999-06-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH05234368A (ja) 半導体集積回路装置およびチップ選別方法
US6611466B2 (en) Semiconductor memory device capable of adjusting the number of banks and method for adjusting the number of banks
US5943285A (en) Arrangement of memory blocks and pads
US5550394A (en) Semiconductor memory device and defective memory cell correction circuit
US5732029A (en) Method and circuit for testing memory cells in semiconductor memory device
KR0141495B1 (ko) 반도체 기억장치 및 그 결함구제방법
KR950009229B1 (ko) 반도체 기억장치
US6823485B1 (en) Semiconductor storage device and test system
JP2000011639A (ja) 半導体記憶装置
JP2829135B2 (ja) 半導体記憶装置
JPH0689596A (ja) 並列試験回路
JPH05249196A (ja) 半導体記憶装置
US20010050871A1 (en) Semiconductor memory integrated circuit
JPH0696598A (ja) 半導体メモリ装置及び欠陥メモリセル救済回路
US4876671A (en) Semiconductor dynamic memory device with metal-level selection of page mode or nibble mode
JPH1092177A (ja) 半導体記憶装置
JPH0417349A (ja) ダイナミック記憶装置およびそのバーンイン方法
US6330198B1 (en) Semiconductor storage device
US20010045570A1 (en) Semiconductor storage device having burn-in mode
US6791896B2 (en) Semiconductor memory device capable of changing an address space thereof
KR960005352B1 (ko) 반도체 집적회로 장치 및 이를 이용한 칩선별 방법
US20010017380A1 (en) Semiconductor integrated circuit
TW454186B (en) Memory device having redundancy array
JP2004355720A (ja) 半導体メモリ装置
KR0169417B1 (ko) 반도체 메모리장치의 리던던트셀 테스트방법

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20011113

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060223

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100303

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100303

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110303

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees