JPH05224349A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Abstract
写真感光材料を提供する。 【構成】ポリエステル上に順次、疎水性ポリマー、固体
状に分散された染料と特定の可塑剤を含有する親水性コ
ロイドを塗設してなる下塗層上に少なくとも1層のハロ
ゲン化銀乳剤層を塗布したハロゲン化銀写真感光材料。
Description
料、特に現像処理後の乾燥性及び鮮鋭度の改良されたハ
ロゲン化銀写真感光材料に関する。
定の波長域の光を吸収させる目的で、写真乳剤層または
その他の層を着色することがしばしば行なわれる。入射
光が写真乳剤層を通過する際あるいは透過後に散乱され
た光が、乳剤層と支持体の界面、あるいは乳剤層と反射
側の感光材料の表面で反射されて再び写真乳剤層中に入
射することにもとづく画像のボケ、すなわちハレーショ
ンを防止することを目的として、写真乳剤層と支持体の
間、あるいは支持体の写真乳剤層とは反対の面に着色層
を設けることが行なわれる。このような着色層はハレー
ション防止層と呼ばれる。さらにX線感光材料において
は、クロスオーバー光を減少させるようなクロスオーバ
ーカットフィルターとして、鮮鋭度向上のための着色層
を設けることもある。
から成る場合が多くしたがってその着色のためには通
常、染料を層中に含有させる。この染料は下記のような
条件を満足することが必要である。 (1) 使用目的に応じた適正な分光吸収を有すること。 (2) 写真化学的に不活性であること。つまりハロゲン化
銀写真乳剤層の性能に化学的な意味での悪影響、たとえ
ば感度の低下、潜像退行、あるいはカブリを与えないこ
と。 (3) 写真処理過程において脱色されるが、溶解除去され
て、処理後の写真感光材料上に有害な着色を残さないこ
と。
ト層のような着色層を親水性コロイドにより形成する
と、結果として水透過性層の嵩を増すことになり、その
ために現像処理後時の乾燥性が悪くなる欠点があった。
そのような欠点をなくすために、親水性コロイド層と支
持体との接着性を向上する目的で使われている層中に染
料を固定することが行なわれる。(支持体と親水性コロ
イド層を接着させる役割を果たしている層をここでは下
塗層と呼ぶ。)下塗層中に染料を固定するには、染料を
媒染剤に吸着せしめる方法(特願昭62−224447
号)、オイルに溶解した染料を油滴状に乳化分散する方
法(特願平1−142688号)、染料を無機物表面に
吸着せしめる方法(特願平1−139691号)、染料
をポリマーに吸着せしめる方法(特願平1−11985
1号)、染料を固体のまま分散する方法(特願平1−8
7367号)などがある。これらの方法の中で染料を固
体のまま分散する方法が染料を特定層中に固定するある
いは処理後の残色が少ないという観点から優れている。
は、通常0.5g/m2以下と少ない。このような親水性
コロイド層に固体微粒子状に分散された染料を導入する
と、膜自体をさらに脆くし、下塗塗布物の表面が傷つき
やすくなる。削りとられた部分の染料による光学濃度
は、正常部に比較し染料の光学濃度が下がる。光学濃度
が下がった部分だけクロスオーバー光が増えることにな
り、それは写真性能上悪影響を及ばす、また、削り落と
されたくずが、ベースに付着すると、その部分のクロス
オーバー光が減少することになり、これもまた写真性能
上に悪影響を及ばす。以上のごとく耐傷性の悪化は重要
な問題である。
性を改善した下塗塗物を提供し、残色の少ないハレーシ
ョン防止層あるいはクロスオーバーカット層を設け画質
を良化せしめた迅速処理可能なハロゲン化銀写真感光材
料を提供することである。
ポリエステル上に順次、少なくとも一層の疎水性ポリマ
ー層、少なくとも一層の非感光性親水性コロイド層を塗
設した下塗層上に少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層
を有するハロゲン化銀写真感光材料において、該非感光
性親水性コロイド層中にpH6以下で実質的に水不溶性
でpH8以上で実質的に水溶性である固体微粒子状に分
散された染料と一般式(A)〜(D)のうち少なくとも
一つを含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光
材料を用いることで達成された。一般式(A)で示され
る化合物について述べる。式中、R1 、R2 、R3 はそ
れぞれ独立に水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数
10以下の置換基を有していても良いアルキル基、例え
ば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、ヒドロキシ
メチル基、ヒドロキシエチル基など)又は、フェニル基
(置換基を有していてもよいフェニル基、例えば、メト
キシフェニル基、p−クロルフェニル基など)表わす。
更にR2 とR3 は互いに連結して環を形成していてもよ
い。添加量しては、該親水性コロイドに対し2wt%か
ら40wt%が望ましく、より好ましくは2wt%から
15wt%、さらに好ましくは5wt%から10wt%
である。化合物(A)の具体例を以下に示す。ただし、
本発明はこれに限定されるものではない。 (A−1) 2・5−ジメチル−3−ヘキシン−2・5
−ジオール (A−2) 3・6−ジメチル−4−オクチン−3・6
−ジオール (A−3) 2・4・7・9−テトラメチル−5−デシ
ン−4・7−ジオール (A−4) 2・5−ジメチル−3−ヘプチン−2・5
−ジオール (A−5) 3・6−ジメチル−4−ノニン−3・6−
ジオール これらの化合物は可塑剤として特開昭50−40660
等で知られているものである。次に一般式(B)につい
て述べる。一般式(B)中のR4 、R5 はそれぞれ水酸
基あるいは、少なくとも1つの水酸基を有するアルコキ
シ基を表わす。アルコキシ基において炭素数は1から1
0が好ましく、さらに好ましくは4から7が好ましい。
添加量としては、親水性コロイドに対し、2wt%から
30wt%が好ましく、5wt%から20wt%がさら
に好ましい。好ましい化合物例を以下に示す。ただし本
発明は、これに限定されるものでない。
411913で知られているものである。一般式(C)
で示される化合物について述べる。一般式(C)中のR
6 、R7 はアルキル基、アリール基、アラルキル基を表
わす。n1 、n2 は2から20の整数を表わす。添加量
としては、親水性コロイドに対し、2wt%から40w
t%が好ましく、より好ましくは2wt%から15wt
%である。化合物(C)の具体例を以下に示す。ただ
し、本発明はこれに限定されるものではない。
許636304号にて知られているものである。一般式
(D)で示される化合物について述べる。一般式(D)
中のR8 は水素あるいは炭素数10以下のアルキル基を
表す。添加量としては、親水性コロイドに対し、2wt
%から40wt%が好ましく、より好ましくは2wt%
から15wt%である。化合物(D)の具体例を以下に
示す。ただし、本発明はこれに限定されるものではな
い。
許691333号に記載されている。その他、特公昭4
1−11905,ベルギー特許677961,ドイツ特
許1447585記載の可塑剤も好ましく用いることが
できる。
は、ポリエチレンテレフタレートが望ましく、写真感光
材料用として用いられる場合、フィルム状に加工したポ
リエチレンテレフタレート(これ以降PETと略記す
る)を使うことが好ましい。
上せしめるために、その表面をコロナ放電処理、あるい
はグロー放電処理あるいは紫外線照射処理する方法が好
ましくあるいは、スチレンブタジエン系ラテックス、塩
化ビニリデン系ラテックス等からなる下塗層を設けても
よい(下塗第一層)。上記下塗第一層中に用いられる疎
水性ポリマーとしては、スチレン−ブタジエン共重合
体、塩化ビニリデン共重合体、水溶性ポリエステル、ポ
リアクリル酸エステル等が用いられるが、好ましくはス
チレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン共重合体
がよく、より好ましくはスチレン−ブタジエン共重合体
である。スチレン−ブタジエン共重合体として、スチレ
ンとブタジエンの9/1〜1/9の共重合体でもよく、
さらに第3のコモノマーとしてアクリル酸等を有してい
てもよい。下塗層の疎水性ポリマーの塗布量としては、
100〜500mg/m2であることが好ましい。
イド・ホッパー(extrusion slidehopper)型(米国特
許2761417、同2761418、同276179
1)、カーテン塗布装置(米国特許3206323)等
があるが、本発明においては、下塗組成物の塗布量が少
なく、このような場合においてはバーコーターで塗布す
ることが好ましい。下塗第一層の乾燥温度は低くすぎる
と、PETと下塗第一層との密着が保てない。したがっ
て下塗第一層の乾燥温度は80〜200℃であることが
好ましい。
液(ラテックス)とし、さらに必要により該水性分散液
中に架橋剤、界面活性剤、膨潤剤、マット剤、帯電防止
剤等を添加することが好ましい。架橋剤としては例え
ば、米国特許3,325,287号、同3,288,7
75号、同3,549,377号、ベルギー特許6,6
02,226号等に記載のトリアジン系化合物;米国特
許3,291,624号、同3,232,764号、フ
ランス特許1,543,694号、英国特許1,27
0,578号に記載のジアルデヒド系化合物;米国特許
3,091,537号、特公昭49−26580号等に
記載のエポキシ系化合物;米国特許3,642,486
号等に記載のビニル系化合物;米国特許3,392,0
24号に記載のアジリジン系化合物;3,549,37
8号等に記載のエチレンイミン系化合物;及びメチロー
ル系化合物がある。これらの化合物のうち、ジクロロト
リアジン誘導体が好ましい。
る非感光性の親水性コロイド層は上記の下塗第一層上に
下塗第二層として塗布することが望ましく、下塗第一層
との密着を強化する目的から下塗第二層の乾燥温度は8
0〜200℃であることが好ましい。乾燥温度が高すぎ
ると、下塗第一層のポリマー層中に染料が取り込まれる
場合があるので乾燥温度として特に好ましくは80〜1
55℃である。下塗第一層と下塗第二層との密着を強化
する目的で下塗第一層表面をコロナ放電処理あるいはグ
ロー放電処理あるいは紫外線照射処理してもよい。
的に水に溶けず、そしてpH8以上で実質的に水溶性で
ある固体微粒子の形で分散された染料と親水性コロイド
及び一般式(A)〜(D)の化合物の少なくとも1つを
含むことが必要である。固体微粒子状に分散される染料
は国際公開WO88/04794号の表I〜表X、以下
に示す(I)〜(VII)、及びその他が用いられる。一般
式(I)
てもよく、各々酸性核を表し、Bは塩基性核を表し、X
及びYは同じでも異なっていてもよく、各々電子吸引性
基を表す。Rは水素原子又はアルキル基を表し、R1 及
びR2 は各々アルキル基、アリール基、アシル基又はス
ルホニル基を表し、R1 とR2 が連結して5又は6員環
を形成してもよい。R3 及びR6 は各々水素原子、ヒド
ロキシ基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシ基
又はハロゲン原子を表し、R4 及びR5 は各々水素原子
又はR1 とR4 もしくはR2 とR5 が連結して5又は6
員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。L1 、
L2 及びL3 は各々メチン基を表す。mは0又は1を表
し、n及びqは0、1又は2を表し、pは0又は1を表
し、pが0のとき、R3 はヒドロキシ基又はカルボキシ
ル基を表し且つR4 及びR5 は水素原子を表す。B′は
カルボキシル基、スルファモイル基、又はスルホンアミ
ド基を有するヘテロ環基を表す。Qはヘテロ環基を表
す。但し、一般式(I)ないし(VII )で表される化合
物は、1分子中に水とエタノールの容積比が1対1の混
合溶液中に於けるpKaが4〜11の範囲にある解離性
基を少なくとも1個有する。
れる化合物について詳しく説明する。AはA′で表され
る酸性核は、好ましくは2−ピラゾリン−5−オン、ロ
ダニン、ヒダントイン、チオヒダントイン、2,4−オ
キサゾリジンジオン、イソオキサゾリジノン、バルビツ
ール酸、チオバルビツール酸、インダンジオン、ピラゾ
ロピリジン又はヒドロキシピリドンを表す。Bで表され
る塩基性核は、好ましくはピリジン、キノリン、インド
レニン、オキサゾール、ベンズオキサゾール、ナフトオ
キサゾール又はピロールを表す。B′のヘテロ環の例と
しては、ピロール、インドール、チオフェン、フラン、
イミダゾール、ピラゾール、インドリジン、キノリン、
カルバゾール、フェノチアジン、フェノキサジン、イン
ドリン、チアゾール、ピリジン、ピリダジン、チアジア
ジン、ピラン、チオピラン、オキサジアゾール、ベンゾ
キノリジン、チアジアゾール、ピロロチアゾール、ピロ
ロピリダジン、テトラゾールなどがある。Qで表わされ
るヘテロ環は、好ましくはベンゾ縮環していてもよい5
員のヘテロ環であり、より好ましくはベンゾ縮環してい
てもよい5員の含窒素ヘテロ環である。Qのヘテロ環の
例としては、ピロール、インドール、ピラゾール、ピラ
ゾロピリミドン、ベンゾインドールなどがある。
液中におけるpKa(酸解離定数)が4〜11の範囲に
ある解離性プロトンを有する基は、pH6又はpH6以
下で実質的に色素分子を水不溶性にし、pH8又はpH
8以上で実質的に色素分子を水溶性にするものであれ
ば、種類及び色素分子への置換位置に特に制限はない
が、好ましくは、カルボキシル基、スルファモイル基、
スルホンアミド基、ヒドロキシ基であり、より好ましい
ものはカルボキシル基である。解離性基は色素分子に直
接置換するだけでなく、2価の連結基(例えばアルキレ
ン基、フェニレン基)を介して置換していてもよい。2
価の連結基を介した例としては、4−カルボキシフェニ
ル、2−メチル−3−カルボキシフェニル、2,4−ジ
カルボキシフェニル、3,5−ジカルボキシフェニル、
3−カルボキシフェニル、2,5−ジカルボキシフェニ
ル、3−エチルスルファモイルフェニル、4−フェニル
スルファモイルフェニル、2−カルボキシフェニル、
2,4,6−トリヒドロキシフェニル、3−ベンゼンス
ルホンアミドフェニル、4−(p−シアノベンゼンスル
ホンアミド)フェニル、3−ヒドロキシフェニル、2−
ヒドロキシフェニル、4ヒドロキシフェニル、2−ヒド
ロキシ−4−カルボキシフェニル、3−メトキシ−4−
カルボキシフェニル、2−メチル−4−フェニルスルフ
ァモイルフェニル、4−カルボキシベンジル、2−カル
ボキシベンジル、3−スルファモイルフェニル、4−ス
ルファモイルフェニル、2,5−ジスルファモイルフェ
ニル、カルボキシメチル、2−カルボキシエチル、3−
カルボキシプロピル、4−カルボキシブチル、8−カル
ボキシオクチル等を挙げることができる。
は炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、例えば、メ
チル、エチル、n−プロピル、イソアミル、n−オクチ
ル等の基を挙げることができる。R1 、R2 で表される
アルキル基は炭素数1〜20のアルキル基(例えば、メ
チル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−オクチ
ル、n−オクタデシル、イソブチル、イソプロピル)が
好ましく、置換基〔例えば、塩素臭素等のハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ
基、アルコキシ基(例えば、メトキシ、エトキシ)、ア
ルコキシカルボニル基(例えば、メトキシカルボニル、
i−プロポキシカルボニル)、アリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基)、フェニル基、アミド基(例えば、
アセチルアミノ、メタンスルホンアミド)、カルバモイ
ル基(例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイ
ル)、スルファモイル基(例えば、メチルスルファモイ
ル、フェニルスルファモイル)〕を有していても良い。
ェニル基、ナフチル基が好ましく、置換基〔置換基とし
ては上記のR1 及びR2 で表わされるアルキル基が有す
る置換基として挙げた基及びアルキル基(例えば、メチ
ル、エチル)が含まれる。〕を有していても良い。R1
又はR2 で表わされるアシル基は炭素数2〜10のアシ
ル基が好ましく、例えば、アセチル、プロピオニル、n
−オクタノイル、n−デカノイル、イソブタノイ ル、ベ
ンゾイル等の基を挙げることができる。R1 又はR2 で
表わされるアルキルスルホニル基もしくはアリールスル
ホニル基としては、メタンスルホニル、エタンスルホニ
ル、n−ブタンスルホニル、n−オクタンスルホニル、
ベンゼンスルホニル、p−トルエンスルホニル、o−カ
ルボキシベンゼンスルホニル等の基を挙げることができ
る。R3 又はR4 で表わされるアルコキシ基は炭素数1
〜10のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ、
エトキシ、n−ブトキシ、n−オクトキシ、2−エチル
ヘキシルオキシ、イソブトキシ、イソプロポキシ等の基
を挙げることができる。R3 又はR6 で表わされるハロ
ゲン原子としては塩素、臭素、フッ素を挙げることがで
きる。R1 とR4 又はR2 とR5 が連結して形成される
環としては、例えば、ジュロリジン環を挙げることがで
きる。R1 とR2 が連結して形成される5又は6員環と
しては、例えば、ピペリジン環、モルホリン環、ピロリ
ジン環を挙げることができる。
は、置換基(例えば、メチル、エチル、シアノ、フェニ
ル、塩素原子、ヒドロキシプロピル)を有していても良
い。X1 又はY1 で表わされる電子吸引性基は同じでも
異っていてもよく、シアノ基、カルボキシ基、アルキル
カルボニル基(置換されてよきアルキルカルボニル基で
あり、例えば、アセチル、プロピオニル、ヘプタノイ
ル、ドデカノイル、ヘキサデカノイル、1−オキソ−7
−クロロヘプチル)、アリールカルボニル基(置換され
てよいアリールカルボニル基であり、例えば、ベンゾイ
ル、4−エトキシカルボニルベンゾイル、3−クロロベ
ンゾイル)、アルコキシカルボニル基(置換されてよい
アルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカル
ボニル、エトキシカルボニル、ブトキシカルボニル、t
−アミルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニ
ル、2−エチルヘキシルオキシカルボニル、オクチルオ
キシカルボニル、デシルオキシカルボニル、ドデシルオ
キシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニル、オク
タデシルオキシカルボニル、2−ブトキシエトキシカル
ボニル、2−メチルスルホニルエトキシカルボニル、2
−シアノエトキシカルボニル、2−(2−クロロエトキ
シ)エトキシカルボニル、2−〔2−(2−クロロエト
キシ)エトキシカルボニル)、アリールオキシカルボニ
ル基(置換されてよいアリールオキシカルボニル基であ
り、例えば、フェノキシカルボニル、3−エチルフェノ
キシカルボニル、4−エチルフェノキシカルボニル、4
−フルオロフェノキシカルボニル、4−ニトロフェノキ
シカルボニル、4−メトキシフェノキシカルボニル、
2,4−ジ−(t−アミル)フェノキシカルボニル)、
カルバモイル基(置換されてよいカルバモイル基であ
り、例えば、カルバモイル基エチルカルバモイル、ドデ
シルカルバモイル、フェニルカルバモイル、4−メトキ
シフェニルカルバモイル、2−ブロモフェニルカルバモ
イル、4−クロロフェニルカルバモイル、4−エトキシ
カルボニルフェニルカルバモイル、4−プロピルスルホ
ニルフェニルカルバモイル、4−シアノフェニルカルバ
モイル、3−メチルフェニルカルバモイル、4−ヘキシ
ルオキシフェニルカルバモイル、2,4−ジ−(t−ア
ミル)フェニルカルバモイル、2−クロロ−3−(ドデ
シルオキシカルバモイル)フェニルカルバモイル、3−
(ヘキシルオキシカルボニル)フェニルカルバモイ
ル)、スルホニル基(例えば、メチルスルホニル、フェ
ニルスルホニル)、スルファモイル基(置換されてよい
スルファモイル基であり、例えば、スルファモイル、メ
チルスルファモイル)を表わす。
げる。
8/04794号、ヨーロッパ特許公開EP02747
23A1号、同276,566号、同299,435
号、特開昭52−92716号、同55−155350
号、同55−155351号、同61−205934
号、同48−68623号、米国特許2527583
号、同3486897号、同3746539号、同39
33798号、同4130429号、同4040841
号、特願平1−50874号、同1−103751号、
同1−307363号等に記載された方法およびその方
法に準じて容易に合成することができる。本発明におけ
る固体微粒子状に分散された染料とは染料自体の溶解度
が不足であるため、目的とする着色層中で分子状態で存
在することができず、実質的に層中の拡散が不可能なサ
イズの固体として存在状態を意味する。
/04794、ヨーロッパ特許公開(EP)02765
66A1、特開昭63−197943等に記載されてい
るが、ボールミル粉砕し、界面活性剤とゼラチンにより
安定化するのが一般的である。本発明での調整方法は特
開昭63−197943号の方法に準じた。すなわち、
水(434ミリリットル)及び Triton X−200R界
面活性剤(TX−200R)(53g)( Rohn & Haa
s 社から販売)の6.7%溶液とを、1.5リットルネ
ジ蓋ビンに入れた。これに、染料の20gと酸化ジルコ
ニュウム(ZrO2 )のビーズ(800ミリリットル)
(2mm径)を添加し、このビンの蓋をしっかりしめて、
ミル内に置き、内容物を4日間粉砕した。内容物を1
2.5%のゼラチン水溶液(160g)に添加し、ロー
ルミルに10分間置いて泡を減少させた。得られた混合
物をろ過して、ZrOビーズを除去した。このままだと
平均粒径が約0.3μmの微細粒子なので、この後遠心
分離法によって分級し、粒子サイズが1μm以下になる
ようにした。本発明で用いる固体微粒子状に分散された
染料の粒子サイズは1.0μm以下が好ましく、さらに
0.5μm以下が好ましい。染料の使用量としては、5
mg/m2〜300mg/m2、特に10mg/m2〜150mg/m2
であることが好ましい。また、上記調整時に用いるゼラ
チン量は、本発明で用いるゼラチン量、すなわち0.5
g/m2以下とするために必要な量、適宜用いることがで
きる。本発明の上記調整の染料層(下塗層中の非感光性
親水性コロイド層)のゼラチン被覆量は0.5g/m2以
下であり、好ましくは0.05g/m2〜0.3g/m2で
ある。
合、全親水性コロイドの塗布量が多いと、現像処理工程
で膜中に含まれる水分が多くなり乾燥工程に負荷をかけ
好ましくない。したがって本発明において全親水性コロ
イドの塗布量は片面あたり、3g/m2以下が好ましく、
さらに好ましくは2.8g/m2以下である。本発明に用
いられる感光性ハロゲン化銀乳剤のハロゲン化銀として
は塩臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀を用いるこ
とができるが好ましくは沃臭化銀が用いられる。ここで
沃化銀の含量は好ましくは30モル%以下、特に10モ
ル%以下の範囲であることが好ましい。沃臭化銀粒子中
の沃素の分布は均一でもよく又、内部と表面とで異なっ
ていてもよい。平均粒子サイズは0.4μm以上である
ことが好ましい。特に0.5〜2.0μmであることが
好ましい。粒子サイズ分布は狭くても広くてもいずれで
もよい。乳剤中のハロゲン化銀粒子は立方体、8面体、
14面体、菱12面体のような規則的(regular)な結晶
形を有するものでもよく、また球状、板状、じゃがいも
状などのような変則的(irregular) な結晶形を有するも
のでも或いはこれらの結晶形の複合形を有するものでも
よい。種々の結晶形の粒子の混合から成っていてもよ
い。5:1より大きい平均アスペクト比を有する平板粒
子はカバーリングパワーがregular 粒子に比較し大きく
塗布銀量を低減化するには好ましい粒子である。本発明
においては、ハロゲン化銀乳剤層に含まれる全ハロゲン
化銀乳剤粒子の投影面積の総和の50%以上が5:1よ
り大きい平均アスペクト比を有する平板粒子であること
が望ましく、さらに70wt%〜100wt%であるこ
とが望ましい。(詳しくは、リサーチ・ディスクロージ
ャー(RESEARCH DISCLOSURE)225巻Item 22534
P.20〜P.58、1月号、1983年、及び特開
昭58−127921号、同58−113926号公報
に記載されている)。
は、2種類以上のハロゲン化銀乳剤を混合して用いても
よい。混合する乳剤の粒子サイズ・ハロゲン組成・感度
・等が異なっていてもよい。感光性乳剤に実質的に非感
光性の乳剤(表面あるいは内部がかぶっていてもよい
し、いなくてもよい)を混合して用いてもよいし、別の
層に分けてもよい(詳しくは米国特許2,996,38
2号、同3,397,987号などに記載されてい
る)。例えば、球状もしくはじゃがいも状の感光性乳剤
と粒子径が粒子厚みの5倍以上の平板粒子からなる感光
性ハロゲン化銀乳剤と同一層もしくは特開昭58−12
7921号公報に記載の如く異なった層に用いてもよ
い。異なった層に用いる時、平板粒子からなる感光性ハ
ロゲン化銀乳剤は支持体に近い側にあってもよいし、逆
に遠い側にあってもよい。
des 著 Chimie et Phisique Photograpique (Paul Mont
el社刊、1967年)、 G. F. Duffin 著 Photographi
c Emulsion Chemistry (The Focal Press 刊、1966
年)、 V. L. Zelikman et al 著 Making and Coating
Photographic Emulsion (The Focal Press刊、1964
年)、特開昭58−127921号及び同58−113
926号公報などに記載された方法を用いて調整するこ
とができる。すなわち、酸性法、中性法、アンモニア法
等のいずれでもよく、また可溶性銀塩と可溶性ハロゲン
塩を反応させる形式としては片側混合法、同時混合法、
それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。
いて形成させる方法(いわゆる逆混合法)を用いること
もできる。同時混合法の一つの形式としてハロゲン化銀
の生成される液相中のpAgを一定に保つ方法、すなわ
ちいわゆるコントロールド・ダブルジェット法を用いる
こともできる。この方法によると、結晶形が規則的で粒
子サイズが均一に近いハロゲン化銀粒子よりなるハロゲ
ン化銀乳剤がえられる。ハロゲン化銀粒子の結晶構造は
内部まで一様なものであっても、また内部と外部が異質
の層状構造をしたものや、英国特許635,841号、
米国特許3,622,318号に記載されているよう
な、いわゆるコンバージョン型のものであってもよい。
ハロゲン化銀製造時のハロゲン化銀粒子形成または物理
熟成の過程において、カドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タ
リウム塩、イリジウム塩またはその錯塩、ロジウム塩ま
たはその錯塩、鉄塩または鉄錯塩などを共存させてもよ
い。また、粒子形成時にはアンモニア、チオエーテル化
合物、チアゾリジン−2−チオン、四置換チオ尿素、ロ
ダンカリ、ロダンアンモン、アミン化合物の如きいわゆ
るハロゲン化銀溶剤を存在せしめ粒子成長をコントロー
ルしてもよい。
学増感されていても、されていなくてもよい。化学増感
の方法としては硫黄増感法、セレン増感法、還元増感
法、金増感法などの知られている方法を用いることがで
き、単独または組合せで用いられる。貴金属増感法のう
ち金増感法はその代表的なもので金化合物、主として金
錯塩を用いる。金以外の貴金属、たとえば白金、パラジ
ウム、イリジウム等の錯塩を含有しても差支えない。そ
の具体例は米国特許2,448,060号、英国特許6
18,061号などに記載されている。硫黄増感剤とし
ては、ゼラチン中に含まれる硫黄化合物のほか、種々の
硫黄化合物、たとえばチオ硫酸塩、チオ尿素類、チアゾ
ール類、ローダニン類等を用いることができる。還元増
感剤としては第一すず塩、アミン類、ホルムアミジンス
ルフィン酸、シラン化合物などを用いることができる。
料の製造工程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防
止し、あるいは写真性能を安定化させる目的で、種々の
化合物を含有させることができる。用いられる化合物
は、特開平2−264936号10頁右下欄7行〜11
頁左上欄17行目のものを用いることができる。界面活
性剤は、特開平2−264936号11頁右上欄4行〜
11頁右下欄2行目記載のものを用いることができる。
帯電防止剤は、特開平2−264936号11頁右下欄
3行〜19行目記載のものを用いることができる。
メタクリレートのホモポリマー又はメチルメタクリレー
トとメタクリル酸とのポリマー、デンプンなどの有機化
合物、シリカ、二酸化チタン、等の無機化合物の微粒子
を用いることができる。粒子サイズとしては1.0〜1
0μm、特に2〜5μmであることが好ましい。
として米国特許3,489,576号、同4,047,
958号等に記載のシリコーン化合物、特公昭56−2
3139号公報に記載のコロイダルシリカの他に、パラ
フィンワックス、高級脂肪酸エステル、デン粉誘導体等
を用いることができる。
を含む親水性コロイド層及び該乳剤層の表面保護層に
は、トリメチロールプロパン、ペンタンジオール、ブタ
ンジオール、エチレングリコール、グリセリン等のポリ
オール類を可塑剤として用いることができる。さらに、
本発明の写真感光材料のハロゲン化銀乳剤を含む親水性
コロイド層および該乳剤層の表面保護層には、耐圧力性
改良の目的でポリマーラテックスを含有せしめることが
好ましい。ポリマーとしてはアクリル酸のアルキルエス
テルのホモポリマー又はアクリル酸とのコポリマー、ス
チレン−ブタジエンコポリマー、活性メチレン基を有す
るモノマーからなるポリマー又はコポリマーを好ましく
用いることができる。
ロイドには無機または有機の硬膜剤を含有してよい。例
えばクロム塩、アルデヒド類(ホルムアルデヒド、クリ
タールアルデヒドなど)、N−メチロール化合物(ジメ
チロール尿素など)、活性ビニル化合物(1,3,5−
トリアクリロイル−ヘキサヒドロ−s−トリアジン、ビ
ス(ビニルスルホニル)メチルエーテル、N,N’−メ
チレンビス−〔β−(ビニルスルホニル)プロピオンア
ミド〕など)、活性ハロゲン化合物(2,4−ジクロル
−6−ヒドロキシ−s−トリアジンなど)、ムコハロゲ
ン酸類(ムコクロル酸など)、N−カルバモイルピリジ
ニウム塩類((1−モルホリノカルボニル−3−ピリジ
ニオ)メタンスルホナートなど)、ハロアミジニウム塩
類(1−(1−クロロ−1−ピリジノメチレン)ピロリ
ジニウム、2−ナフタレンスルホナートなど)を単独ま
たは組合せて用いることができる。なかでも、特公昭5
3−41220、同53−57257、同59−162
546、同60−80846に記載の活性ビニル化合物
および米国特許3,325,287号に記載の活性ハロ
ゲン化物が好ましい。
れらの硬膜剤により水中での膨潤率が300%以下、特
に250%以下になるように硬膜されていることが好ま
しい。
ることのできる結合剤または保護コロイドとしては、ゼ
ラチンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コ
ロイドも用いることができる。例えばデキストラン、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルアルコール部分アセタ
ール、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル酸、
ポリアクリルアミド、ポリビニルイミダゾールの単一あ
るいは共重合体の如き多種の合成親水性高分子物質を用
いることができる。ゼラチンとしては石灰処理ゼラチン
のほか、酸処理ゼラチンや酵素処理ゼラチンを用いても
よく、また、ゼラチンの加水分解物も用いることができ
る。これらの中でもゼラチンとともにデキストラン及び
ポリアクリルアミドを併用することが好ましい。
あり、かつ塗布銀量が5g/m2以下であるハロゲン化銀
写真感光材料である。またより好ましくは1g/m2〜3
g/m2である。
リサーチ・ディスクロージャー176号第28〜30頁
(RD−17643)に記載されているような、黒白写
真処理の公知の方法及び公知の処理液のいずれをも適用
することができる。処理温度は普通18℃から50℃の
間に選ばれるが、18℃より低い温度または50℃を越
える温度としてもよいが本発明には20℃〜40℃まで
の自動現像機による処理が好ましい。この場合の処理時
間(感材の投入から乾燥して出て来るまでの時間)は1
0秒から3分30秒までが好ましい。15秒から90秒
までが特に好ましい。さらに好ましくは、15秒から4
5秒である。黒白写真処理する場合に用いる現像液は、
知られている現像主薬を含むことができる。現像主薬と
しては、ジヒドロキシベンゼン類(たとえばハイドロキ
ノン)、3−ピラゾリドン類(たとえば1−フェニル−
3−ピラゾリドン)、アミノフェノール類(たとえばN
−メチロール−p−アミノフェノールなど)を単独もし
くは組合せて用いることができる。現像液には一般にこ
の他公知の保恒剤、アルカリ剤、pH緩衝剤、カブリ防
止剤などを含み、さらに必要に応じ溶媒助剤、色調剤、
現像促進剤(例えば、4級塩、ヒドラジン、ベンジルア
ルコール)、現像抑制剤(例えば沃化物、臭化物、メル
カプト化合物、トリアゾール類など)、界面活性剤、消
泡剤、硬水軟化剤、硬膜剤(例えば、グルタルアルデヒ
ド)、粘性付与剤などを含んでもよい。
感光材料中、たとえば乳剤層中に含み、感光材料をアル
カリ水溶液中で処理して現像を行なわせる方法を用いて
もよい。現像主薬のうち、疎水性のものは、リサーチデ
ィスクロージャ169号(RD−16928)、米国特
許2,739,890号、英国特許813,253号又
は西独国特許1,547,763号などに記載の種々の
方法で乳剤層中に含ませることができる。このような現
像処理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組合
せてもよい。定着剤としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着剤としてはチオ硫酸塩、
チオシアン酸塩のほか、定着剤としての効果が知られて
いる有機硫黄化合物を用いることができる。定着剤には
硬膜剤として水溶液アルミニウム塩を含んでもよい。ま
た、特開昭61−230135や同63−25653に
記載されているような、現像時に抑制剤を放出するよう
な化合物を併用すると本発明の効果はさらに好ましいも
のとなる。
テレフタレートフィルム(*) 上にコロナ放電処理をおこ
ない、疎水性ポリマー層が下記の塗布量になるようにワ
イヤーバーコーターにより両面塗布し、185℃にて1
分間乾燥した。 (疎水性ポリマー層) ・ブタジエン−スチレン共重合体ラテックス ブタジエン /スチレン重量比/31/69 0.322g/m2 ・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジン ナトリウム塩 8.4mg/m2 ※ラテックス溶液中には、乳化分散剤(a)をラテック
ス固形分に対し0.4wt%含有。
は1,4−ビス(2,6−ジエチルアニリノ)アントラ
キノンを含有する。次に親水性コロイド層が下記の塗布
量になるようにワイヤーバーコーターにより両面塗布
し、150℃にて1分間乾燥した。 (下塗第二層(非感光性親水性コロイド層)) ・ゼラチン 80mg/m2 ・化合物 表−1記載の化合物及び塗布量 ・染料(AH−15) 10.5mg/m2
00g、H2 O287gを混合し、直径2mmの酸化ジル
コニウム(ZrO2 )のビーズを用いたアイガーミル
(アイガージャパン(株))にて5000rpm の条件で
8時間処理した。
ーが下記の薬品及び塗布量になるように塗布した。その
他は下塗塗布物2と同様に作成した。 (下塗第一層) ・塩化ビニリデンラテックス 0.9g/m2 塩化ビニリデン/メタクリル酸/メチルアクリレート/メチルメタクリレ ート/アクリロニトリルの重量比=90/0.3/4/4/1.7 ・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩 4.4mg/m2
薬品及び塗布量になるよう塗布した。その他は下塗塗布
物2と同様に作成した。 (疎水性ポリマー層) ・水性ポリエステルWD−SIZE(イーストマン・コダック社製) 0.16g/m2 ・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩 3.8mg/m2 ・ジイソオクチルスルホコハク酸ナトリウム 0.04mg/m2
薬品及び塗布量になるように塗布した。その他は下塗塗
布物2と同様に作成した。 (下塗第一層) ・ポリアクリル酸エステル:ジュリマーET410(日本純薬社製) 0.16g/m2 ・2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−s−トリアジンナトリウム塩 6.5mg/m2
同様にして行なった。 2)乳剤塗布液の調製 特開平2−264936号、実施例1の乳剤塗布液の調
製と同様にして行なった。
同じように塗布し写真材料1〜8を得た。この時、乳剤
層、表面保護層の片面側あたりの塗布量は下記の量とな
った。 <乳剤層> ・塗布銀量 1.9g/m2 ・塗布ゼラチン量 1.2g/m2 <表面保護層> ・ゼラチン 0.61g/m2 ・デキストラン(平均分子量3.9万) 0.61g/m2 ・ポリアクリル酸ナトリウム(平均分子量4.1万) 70mg/m2 硬膜剤は1,2−ビス(スルホニルアセトアミド)エタ
ンを片面当り56mg/m2となるように塗布した。 ・マット剤(平均粒径3.5μm) ポリメチルメタアクリレート/メタアクリル酸=9/1の共重合体 0.06g/m2
白紙に3kgのおもりをのせ、5回こすった。1cmあたり
の傷の本数を数え結果を表−1に示した。 写真性能の評価 露光には、スクリーンとして富士写真フイルム株式会社
HR−4スクリーンを使用した。常法にしたがい、HR
−4スクリーン2枚の間に写真材料を密着するように挟
み込み、水ファントーム10cmを通してX線露光を行な
った。 現 像 35℃×6.3秒 定 着 31℃×6.7秒 スクイズ 15℃×4秒 乾 燥 60℃×8秒 Dry to Dry 処理時間29秒 使用した現像液、定着液は下記の組成とした。
耐傷性の改善された下塗塗布物が得られることがわか
る。また、疎水性ポリマーとして、本発明のスチレン−
ブタジエン、塩化ビニリデンを用いることで残色の優れ
たハロゲン化銀写真感光材料が得られることがわかる。
子,アルキル基又はフェニル基を表わす。またR2とR
3は互いに連結して環を形成しても良い。一般式(B)
くとも1つの水酸基を有するアルコキシル基を表わす。
一般式(C)
基、アラルキル基を表わす。n1、n2はそれぞれ2〜
20の整数を表わす。一般式(D)
下のアルキル基を表わす。
/04794、ヨーロッパ特許公開(EP)02765
66A1、特開昭63−197943等に記載されてい
るが、ボールミル粉砕し、界面活性剤とゼラチンにより
安定化するのが一般的である。本発明での調整方法は特
開昭63−197943号の方法に準じた。水434m
lおよびTriton X−200R界面活性剤(TX
−200R)の6.7%水溶液791mlとを2リット
ルのボールミルに入れた。染料の20gをこの溶液に添
加した。酸化ジルコニウム(ZrO2)のビーズ400
ml(2mm径)を添加し内容物を4日間粉砕した。こ
の後、12.5%ゼラチン160gを添加した。脱泡し
たしたのち、濾過によりZrO2ビーズを除去した。こ
のままだと平均粒径が約0.3μmの微細粒子なので、
この後遠心分離法によって分級し、粒子サイズが1μm
以下になるようにした。本発明で用いる固体微粒子状に
分散された染料の粒子サイズは1.0μm以下が好まし
く、さらに0.5μm以下が好ましい。染料の使用量と
しては、5mg/m2〜300mg/m2、特に10m
g/m2〜150mg/m2であることが好ましい。ま
た、上記調整時に用いるゼラチン量は、本発明で用いる
ゼラチン量、すなわち0.5g/m2以下とするために
必要な量、適宜用いることができる。本発明の上記調整
の染料層(下塗層中の非感光性親水性コロイド層)のゼ
ラチン被覆量は0.5g/m2以下であり、好ましくは
0.05g/m2〜0.3g/m2である。
Claims (2)
- 【請求項1】 ポリエステル上に順次、少なくとも一層
の疎水性ポリマー層、少なくとも一層の非感光性親水性
コロイド層を塗設してなる下塗層上に少なくとも一層の
ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料
において、該非感光性親水性コロイド層中にpH6以下
で実質的に水不溶性でpH8以上で実質的に水溶性であ
る固体微粒子状に分散された染料と一般式(A)〜
(D)のうち少なくとも一つを含有し該非感光性親水性
コロイドの塗布量が0.5g/m2以下であることを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。一般式(A) 【化1】 一般式(A)中のR1 、R、,R3 はそれぞれ、水素原
子,アルキル基又はフェニル基を表わす。またR2 とR
3 は互いに連結して環を形成しても良い。一般式(B) 【化2】 一般式(B)中のR4 、R5 はそれ水酸基あるいは少な
くとも1つの水酸基を有するアルコキシル基を表わす。
一般式(C) 【化3】 一般式(C)中のR6 、R7 はアルキル基、アリール
基、アラルキル基を表わす。n1 、n2 はそれぞれ2〜
20の整数を表わす。一般式(D) 【化4】 一般式(D)中のR8 は水素原子あるいは炭素数10以
下のアルキル基を表わす。 - 【請求項2】 疎水性ポリマー層がスチレン−ブタジエ
ン共重合体、塩化ビニリデン共重合体からなることを特
徴とする請求項1記載のハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4059109A JP2880604B2 (ja) | 1992-02-14 | 1992-02-14 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
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JPH05224349A true JPH05224349A (ja) | 1993-09-03 |
JP2880604B2 JP2880604B2 (ja) | 1999-04-12 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012058735A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Felix Schoeller Jr Foto & Spezialpapiere Gmbh & Co Kg | 両面をハロゲン化銀処理された写真用印画紙のための支持体材料 |
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JPH0236A (ja) * | 1987-11-17 | 1990-01-05 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
JPH02100044A (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-12 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JPH03109535A (ja) * | 1989-06-05 | 1991-05-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | X―レイ用写真感光材料 |
JPH03138640A (ja) * | 1989-10-25 | 1991-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料及びその位置検出方法 |
-
1992
- 1992-02-14 JP JP4059109A patent/JP2880604B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH0236A (ja) * | 1987-11-17 | 1990-01-05 | Konica Corp | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 |
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