JPH0477715A

JPH0477715A - 液晶表示素子

Info

Publication number: JPH0477715A
Application number: JP2192326A
Authority: JP
Inventors: Kesao Noguchi; 野口　今朝男
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1990-07-19
Filing date: 1990-07-19
Publication date: 1992-03-11
Anticipated expiration: 2013-03-30
Also published as: JP2734183B2; US5361150A

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は液晶表示素子に利用され、特に、ガラス基板上
に認識マークが設けられた液晶表示素子に関する。

〔概要〕

本発明は、ガラス基板上に形成された表示パターン部を
備えたアクティブマトリックス型の液晶表示素子におい
て、表示パターン部の表示領域および端子領域を除（余白部
分に、認識マークが設けられた認識マーク付不透明薄膜
を形成し、この認識マーク付不透明薄膜領域の上部は他
の不透明薄膜は形成しないで透明薄膜で覆うようにする
ことにより、認識マークを素子表面から確認できるよう
にし、製品の管理を容易にしたものである。

〔従来の技術〕

従来の液晶表示素子には、製品型番をその製品の固定パ
ターンとともに、定められた固定の型番として採番され
て設けられていた。一方、液晶表示素子は、従来のセグ
メント型や単純ドツトマトリックス型からアクティブマ
トリックス型モ市場に多量に出荷されるようになった。

このアクティブマ）　ＩＪソックスは表示容量が大きい
ため、広いニーズに答えるものであり、同一製品型番が
多量に出回り、各種の表示素子付応用製品として利用さ
れ始めている。これはアクティブマトリックス型は生産
形態として受注生産より見込生産が可能である製品とい
える。

従って、従来の製品型番のみでは製品が市場にａでから
のトレーサビリティが困難であり、かつ生産品保証の立
場からの製造工程中の製品管理が困難であった。なぜな
ら、アクティブマ）　ＩＪソックスは今市基に出回り始
めているとはいえ、生産性は未だ低く、同一製品型番の
製品は特件仕様が均一だけでなく、信頼性仕様まで均一
にすることはなかなか困難である。さらに市場トレーサ
ビリティを高めてクレーム処理を活用し、製造工程中の
製品管理能力を高めて歩留向上に生ずことが工業的に求
められている。

このような課題の解決策の一つとして、製造工程中で何
らかの認識マークを設け、生産管理に役立てることが考
えられる。その−例を第６図、第７図および第８図を用
いて説明する。

第６図は従来のアクティブマ）　ＩＪックス型液晶表示
素子！ｌ！造工程途中のアクティブ素子基板の裏面を示
す模式的平面図である。ガラス基板１の表面にはアクテ
ィブ素子を設けるために各種薄膜がパターン化されて設
けろれており、第６図のように裏面から見ても透けてそ
の表面のパターン状態が見える。ガラス基板ｌには各種
薄膜を多層に積層して設けるが、基板周辺には素子とし
て利用されない薄膜積層部２が存在する。薄膜積層部２
は素子パターン部３をパターニングする際にホトレジス
トが感光されずに残ってしまう領域に対応している。従
って、使用しているほとんどの薄膜がそのまま成膜順に
積層されて残ることになる。

製品個別認識マークはこの薄膜積層部２を利用して認識
マークを設けることが考えられる。第７図は認識マーク
部４の部分拡大平面図である。第７図において、’９Ｂ
１２Ｊの文字の意味するきころは製品型番ではなく、製
造ロット番号である。

このような文字列が記載された透光性フィルムを用い、
ハンディスポット露光器により、最下層の不透明膜をホ
トレジストを用いてパターニングする際、文字列を反転
させて付加工程として露光を行う。すると、素子パター
ン部３のエツチング時に認識マーク部４も同時にエツチ
ングされ、各アクティブ素子用ガラス基板ごとに採番す
ることができる。ガラス基板１の裏面のスポット露光部
５を見ると文字列６が目視でき、その文字列６を認識マ
ークとして利用できる。

〔発明が解決しようとする課題〕

前述した従来の液晶表示素子における認識マーク部４の
構造では、下記のような種々の欠点かあ第８図は、スポ
ット露光部５のマーキング−文字部分のガラス基板１の
模式的断面図である。ガラス基板１の表面に設けられる
薄膜トランジスタ用のゲート配線となる下層金属膜７は
第７図に示したような文字列パターンが設けられている
。しかし、その上層には薄膜トランジスタアレーを設け
るために次々に成膜された下層絶縁膜８、半導体膜９、
上層金属膜１０、および上層絶縁膜１１などがそのまま
積層された形で残る。従って、認識マーク部４の文字列
６を見るためには、常にガラス基板１の裏面が直視側１
２となる不都合な問題があった。ガラス基板１の表裏反
転を頻繁に行うことは生産性が悪いだけでなく、塵埃に
よる歩留低下すら引き起こす原因となる欠点があった。

また、スポット露光部５は半導体膜９が見えるため、下
層金属膜７との認識コントラストが悪く、人間の目では
判るもののセンサー機器を用いることは困難がある欠点
があった。

さらに、致命的欠点はマニアルスポット露光を行ってい
るため、認識マーク部４を素子パターン部３に設けるこ
とは、寸法的にも、精度的にも、塵埃的にもてきない。

よって、ガラス基板１に多数個の素子パターン部３が設
けられているのを、製造過程で個別に切り離し、不要部
分である薄膜積層部２を切り離すと全く認識マークは存
在しなくなる問題があった。マークと切り離された製品
との対応付けをマニアル処理で管理することが困難な欠
点があった。

本発明の目的は、前記の欠点を除去することにより、認
識マークが表面から容易に見えるどころに付加され、工
程管理および信頼性管理などの製品の管理が十分にてき
るところの液晶表示素子を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕・本発明は、ガラス基板上に形成された表示パターン部を
備えたアクティブマトリックス型の液晶表示素子におい
て、前記表示パターン部の表示領域および端子領域を除
く余白部分に形成された認識マーク部を備え、この認識
マーク部は、前記ガラス基板上に形成され認識マークが
設けられた認識マーク付不透明薄膜を含み、この認識マ
ーク付不透明薄膜領域の上は透明薄膜で覆われた構成で
あることを特徴とする。

また、本発明は、前記認識マーク部は、前記ガラス基板
に設けられた個々の素子を分離する切断線の内側に形成
することができる。

また、本発明は、前記認識マーク付不透明薄膜は、前記
ガラス基板の直上に形成された下層金属膜であることが
できる。

また、本発明は、前記認識マークは、認識文字のほかに
バーコードを含むことができる。

Ｓ作用〕認識マーク部は、表示パターン部の表示領域および端子
領域を除く余白部分に、例えば、ガラス基板の直上に形
成される下層金属線の一部を用いて認識マークが設けら
れた認識マーク付不透明薄膜により構成される。そして
、この認識マーク付不透明薄膜領域上には透明薄膜しか
形成されない。

従って、認識マークは素子の表面から確認できることに
なり、素子の管理が容易となる。

また、認識マーク部を、素子の切取り線の内側に形成す
ることにより、切り離された各素子ごとに認識マークを
付加でき、素子の信頼性管理も容易となる。

さらに、ＪＷ＆マークとして文字パターンのほかにバー
コードを併記することにより、素子の管理を一層容易に
することができる。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。

第１図は本発明の第一実施例の液晶表示素子製造工程途
中のアクティブマトリックス用ガラス基板の表面を示す
模式的平面図である。ガラス基板１の表面には従来と全
く同じようにアクティブ素子を設けるために各種薄膜が
パターン化されて設けられており、従来の直視側１２と
反対の直視側１５すなわち表面から見れば当然第１図の
ようにパターン状態が判る。ガラス基板１上の基板周辺
の薄膜積層部２は同様に存在するが、製品個別認識マー
クを設ける部分としては用いない。素子パターン部３の
通常の製造工程中でホトレジストワークが行われる領域
を用い、表示領域（マトリックスアレー領域）と端子領
域とを除いた余白部分に認識マーク部４を設ける。

第２図はこの認識マーク部４の部分拡大平面図である。

積層される最初の不透明薄膜を用いて、素子パターン部
３中の前記余白部分に文字用パッド１３を設けるため、
付加パターンをその最初の不透明薄膜のパターン形成用
露光マスク内に設ける。

第２図では文字用パッド１３は長方形となっているが、
認識マークに必要な面積を有していれば形状は任意であ
る。ここでは文字用パッド１３は薄膜トランジスタ用の
ゲート配線用のクロム金属膜が下層金属膜７であり、最
初の不透明薄膜である。文字用パッド１３周辺は余白部
分とし、薄膜積層部２や他の不透明膜は設けない。

文字用パッド１３に文字列６のような認識マークとなる
文字の刻印は、最初の不透明薄膜のパターユング前でも
後でも可能であるが、製造工程管理上からは、より上流
である成膜後直ちに所定位置に刻印するのが望ましい。

刻印の方法はレーザマーキング装置を用い、マーキング
文字１４をレーザでクロム膜を飛ばすことにより、ヌキ
文字となった文字列６とした。レーザマーキング装置は
マーキング位置を定めるステージ系とマーク種を定める
ビームスキャン系とからなり、それぞれコンピュータ制
御されている。従って、認識マークの大きさや種類、お
よび位置精度も高い。また、レーザにより飛ばされるク
ロムはガス状となるため、ガラス基板１を洗浄しても除
去できない塵埃を付着させることはない。なお、レーザ
マーキング装置を用いず、ナンバリング機能の有する露
光器を用い、最初の不透明薄膜のパターニング用マスク
にオーバラップさせたナンバーリングブレードを利用し
、同時にパターニングする方法でもよい。

第３図は第２図のマーキング文字１４の模式的部分断面
図である。マーキングする下層金属膜７からなる文字用
パッド１３には、マーキング文字が穴状に刻印されてお
り、その上層は最初の不透明薄膜である下層金属膜７以
外の不透明薄膜は積層されてなく、下層絶縁膜８、上層
絶縁膜１１が積層されているのみである。この下層絶縁
膜８および上層絶縁膜１１は一般的にフィールド絶縁膜
や素子全体のパッシベーション膜をも兼ねる場合が多く
、パターン余白部分とはいえ残されている。しかし、こ
れらの絶縁膜は酸化ンリコン膜や窒化シリコン膜などの
透明な膜が用いられるため、従来の直視側１２である裏
面のみならず、表面も直視側１５とすることができる。

本発明の特徴は、第１図、第２図および第３図において
、素子パターン部３の表示領域および端子領域を除く余
白部分に形成された認識マーク部４を備え、この認識マ
ーク部４は、ガラス基板１上に形成され認識マークが設
けられた認識マーク付不透明薄膜としての下層金属膜７
を含み、この認識マーク付不透胡薄膜領域の上は透明薄
膜としての下層絶縁膜８および上層絶縁膜１１のみて覆
われた構成であることである。

本第二実施例はこのように透光性の認識マークとするこ
とにより、コントラストを高められ人間目視ばかりでな
く、センサ機器を用いることも可能となった。これらの
センサ機器は赤色可視光や近赤外光の約６００ｎｍから
約１１０００ｎまでの光を用いているものが多いが、ガ
ラス基板１もボロシリケートガラス製であり、酸化シリ
コン膜や窒化シリコン膜なども光の透過域は３５０ｎｍ
以上の波長の光に対して透過率約９０％程度得られる。

一方、ゲート配線に用いられるようなりロムの膜厚が約
１５００人程度であり、はとんどこれらの光は透過しな
い。

また、半導体膜として用いられているポリシリコンやア
モルファスシリコンなどの透過率も小さい。

従って、前記光学センサを用いれば、コントラストよく
、表面および裏面から反射方式および透過方式いずれで
も読取ることができる。

第４図は本発明の第二実施例を示す模式的平面図で、文
字バット部の拡大図である。他は第一実施例と同じであ
るが、認識マークをヌキではなく残しくネガとポジの関
係）とした場合である。この場合でもレーザマーキング
装置を用いることができる。さらに、本第二実施例は、
人間目視用の文字列６だけでなく、センサ機器としてバ
ーコードリーグを用いるた杓に、本発明の特徴とすると
ころの、バーコード１６を設けたものである。

第４図のバーコード１６は、「コード３９Σでマークし
たが文字列６はスタート、ストップマーク＊（アスタリ
スク）を略している。また、他のバーコード体系でマー
クしてもよい。また、バーコードはポジとなる残しパタ
ーン限定されるものでなく、いずれも信号処理によって
読み取ることができる。さらに文字列６の文字寸法をこ
のように大きくすると、文字用パッドの幅が必要となる
が、文字をＯＣＲで読み取ることや、文字はバーコード
の補助的なものと考えれば、文字高さを２ｍｍまで小さ
くでき、素子パターン部３の余白に設けるのには部会長
（なる。

第一実施例では下層金属膜７はゲート配線用クロムであ
り、それを文字用パッド１３としたが、薄膜トランジス
タのタイプやアクティブスイッチング素子の種類によっ
て、ゲート配線用クロムに文字用パッド１３が限定され
るものでなく、いずれのタイプや素子の場合でも不透明
な薄膜を１層用いればよく、（連続している積層不透明
薄膜の２層は機能上１層と同じと考える）不透明な膜で
あれ何でもよい。

第５図は本発明の第三実施例を示す模式的平面図で、文
字用パッド１３を表示領域１７と端子領域１８とを除く
素子パターン部３の余白部分とするばかりでなく、本発
明の特徴とするところの、切断マーク１９に囲まれた切
断線より内側に設けた場合である。文字用パッド１３は
ＯＣＲ文字を２　ｍｍ文字高にレーザマーキングにより
ヌキモードにより形成した。バーコードの場合もそうで
あるがＯＣＲの場合もセンサ機器を用いることを考える
と、マークの桁数は人間目視で手入力管理よりも多くで
きる。従って、すべての製品１個ごとの個別ナンバーす
ら設けることができる。また、製品型番と製造シリアル
ナンバーとの併用すらできる。

文字用パッド１３を切断マーク１９より内側に設けたこ
とにより、単品になってもその採番された認識マークは
その製品内に残ることになり、市場に出荷された後でも
その認識マークを元にフィールドトレースが可能となり
、その認識マークを用いて工場内、外の一元管理するこ
とができる。

〔発明の効果〕

以上説明したように、本発明は、認識マークを設ける文
字用パッドを素子パターン部内に素子形成に用いられる
下層の不透明薄膜で形成し、認識マークを刻印し、その
部分には他の不透明薄膜を設けないため、ガラス基板の
表面からでもマークを識別することが可能となり、基板
の表裏反転が不要となった。その結果、作業繁雑さが解
消され、塵埃発生による歩留低下を引き起こさない。ま
た、目視のみならず、センサー機器の読取りコントラス
トを向上させることができ、センサー機器を用いた工程
管理が可能となるなどの効果がある。さらに、同一ガラ
ス基板内に複数設けられた表示素子を個別に切り離すた
めの切断マークより内側（素子側）に文字用パッドを設
けたため、認識マークを製品内に残すことができ、製品
ロット管理、製品シリアル管理、および製品型番管理等
が容易に行うことができるた杓、工場内外のトレーサビ
リティが向上する効果がある。

なお、文字用パッドは素子製造過程の一薄膜をそのまま
利用し、文字用パッドパターンも同時に行えるため、付
加工数は全く発生しない利点を有する。従来のスポット
露光による採番工程に比べ、レーザマーキング装置によ
る採番や、素子パターン露光器のナンバリングブレード
を用いた採番は工数削減はあっても、増加はせず、マニ
アルより、よりオートマチックに適した認識マーク位置
であり、生産性が高い効果もある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の第一実施例の液晶表示素子製造工程途
中のアクティブマトリックス用ガラス基板の表面を示す
模式的平面図。第２図は第１図中の認識マーク部の部分拡大平面図。第３図は第２図のマーキング文字部分の模式的断面図。第４図は本発明の第二実施例の液晶表示素子の認識マー
ク部の部分拡大平面図。第５図は本発明の第三実施例の液晶表示素子のアクティ
ブマ）　ＩＪフックスガラス基板の表面の認識マーク部
を含む部分拡大平面図。第６図は従来例の液晶表示素子製造工程途中のアクティ
ブマトリックス用ガラス基板の裏面を示す模式的平面図
。第７図は第６図中の認識マーク部の部分拡大平面図。第８図は第７図のマーキング文字部分の模式的断面図。１・・・ガラス基板、２・・・薄膜積層部、３・・・素
子パターン部、４・・・認識マーク部、５・・・スポッ
ト露光部、６・・・文字列、７・・・下層金属膜、８・
・・下層絶縁膜、９・・・半導体膜、１０・・・上層金
属膜、１１・・・上層絶縁膜、１２．１５・・・直視側
、１３・・・文字用パッド、１４・・・マーキング文字
、１６・・・バーコード、１７・・・表示領域、】８・
・・端子領域、１９・・・切断マーク、２ｏ・・・基準コーナ。

Claims

【特許請求の範囲】１、ガラス基板上に形成された表示パターン部を備えた
アクティブマトリックス型の液晶表示素子において、前記表示パターン部の表示領域および端子領域を除く余
白部分に形成された認識マーク部を備え、この認識マー
ク部は、前記ガラス基板上に形成され認識マークが設け
られた認識マーク付不透明薄膜を含み、この認識マーク
付不透明薄膜領域の上は透明薄膜で覆われた構成であることを特徴とする液晶表示素子。２、前記認識マーク部は、前記ガラス基板に設けられた
個々の素子を分離する切断線の内側に形成された請求項
１記載の液晶表示素子。３、前記認識マーク付不透明薄膜は、前記ガラス基板の
直上に形成された下層金属膜である請求項１また請求項
２に記載の液晶表示素子。４、前記認識マークは、認識文字のほかにバーコードを
含む請求項１、請求項２または請求項３に記載の液晶表
示素子。