KR100885316B1 - 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법에 관한 것으로, 절연기판상에 게이트전극을 형성하는 단계; 상기 게이트전극상에 절연층 및 활성층을 차례로 형성하는 단계; 상기 활성층 상에 데이타전극을 형성하는 단계; 및 상기 데이타전극상에 보호막 및 화소전극을 차례로 형성하는 단계를 포함하여 구성되며, 상기 게이트전극, 데이타전극 및 화소전극의 메탈층을 이용하여 글래스 아이디마크와 판넬 아이디마크를 형성하는 단계를 포함하여 구성된다.

Description

액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법{Method for forming ID mark of array substrate in liquid crystal display}
도 1은 종래기술에 따른 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법을 도시한 공정흐름도.
도 2는 종래기술에 따른 액정표시소자용 판넬을 개략적으로 도시한 평면도.
도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법을 도시한 구조도.
본 발명은 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 판넬의 아이디마크를 패턴의 노광공정과 동시에 형성함으로써 셀 및 모듈공정까지의 이력관리와 판넬 불량구분이 가능하여 생산성을 향상시킬 수 있는 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시소자의 액정셀 공정은 박막트랜지스터 공정이나 컬러필 터공정에 비해 상대적으로 반복되는 공정이 거의 없다.
액정표시소자의 전체공정은 액정분자의 배향을 위한 배향막 형성공정과 셀 갭 형성공정, 액정주입공정, 셀 컷팅공정, 검사공정으로 크게 나눌 수 있다.
이러한 액정표시소자의 전체 공정의 자동화에 따른 공정의 효율을 위해 액정표시소자용 판넬상에 아이디 마크를 형성하는 타이틀링 공정이 수반되는데, 이를 간략히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 종래기술에 따른 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법을 도시한 공정흐름도이다.
먼저 도 1 에 도시한 바와 같이, ST1 단계는 어레이공정에서 메탈층상에 글래스 아이디마크를 형성하는 단계로서, 투명기판상에 어레이 셀을 형성하는 공정중 게이트전극 또는 데이타전극을 형성하는 단계에서 글래스 아이디마크를 형성한다.
이때, 상기 글래스 아이디마크는 추후 광학적 문자판독기를 통해 빛이 반/투과되는 차이를 이용하여 아이디를 인식한다.
한편, 어레이 공정중에 마스크공정의 추가없이 아이디마크를 형성하기 위해, 어레이 셀 별로 서로 다른 아이디를 가지는 기판 아이디마크는 추후 액정셀 공정에서 형성된다.
이어서, ST2 단계에서는 상기 ST1단계를 거쳐 액정 셀 공정동안 단위 셀 별로 판넬 아이디마크를 형성하는 단계이다.
상기 판넬 아이디마크 형성공정은 어레이공정을 통해 형성된 글래스 아이디마크의 판독공정을 거쳐 수행되며, 액정 셀 공정의 배향막 처리공정과 셀 갭 형성 공정 사이에 이루어진다.
한편, 컬러러필터 기판인 상부기판은 하부기판을 이루는 어레이 기판을 기준으로 합착되므로, 별도의 아이디마킹 작업이 포함되지 않는다.
즉, 기판 아이디마크는 글래스 아이디마크의 판독에 의존하여 형성되므로, 상기 글래스 아이디마크의 형성공정은 전 공정의 효율성을 좌우하는 매우 중요한 공정이 된다.
도 2는 종래기술에 따른 액정표시소자용 판넬을 개략적으로 도시한 평면도로서, 하나의 투명기판에 2개의 어레이 셀을 제작하는 경우를 일예로 하여 나타낸 것이다.
이하에서는, 도 2를 참조하여 상기 액정표시소자용 판넬 아이디마크에 대해 상세히 설명한다.
먼저, 투명기판(1)상에 표시영역(I)과 비표시영역(II)을 가지는 어레이 셀이 형성된다. 이때, 상기 비표시영역(II)에는 기판 아이디마크(16)가 형성되어 있고, 상기 어레이 셀(12)과 이격된 기판의 일측에는 글래스 아이디마크(14)가 형성되어 있다.
또한, 상기 글래스 아이디마크(14)는 어레이 셀(12)의 미도시한 게이트전극 또는 데이타전극의 형성공정과 동시에 메탈층으로 이루어진다.
상기 글래스 아이디마크(14)에서 아이디(10)가 새겨진 부분은 메탈층을 제거하고, 투명성을 띠는 물질로 이루어져, 상기 아이디(10)의 주변부(18)만 불투명성을 띠는 메탈층을 이룸으로써, 추후 광학적 문자 판독공정에서 빛이 아이디(10)가 새겨진 부분에서만 투과됨으로써, 아이디(10)를 판독하게 된다.
현재 노트북 또는 모니터의 경우 하나의 글래스에 1∼6장 정도의 액정표시소자용 판넬을 만들고 있으며, 액정표시소자용 판넬 아이디 마크는 일반적으로 어레이 기준공정에서 타이틀러를 이용하여 게이트패터닝 공정과 동시에 형성되고 있다.
그러나 소형제품의 경우 하나의 글래스안에 수십개의 액정표시소자용 판넬이 들어가 있으므로 각각의 액정표시소자용 판넬(제품 한개)에 대한 아이디마크를 형성하기 어렵고, 따라서 판넬 이력관리를 충분히 수행할 수 없다는 문제점이 있다.
이러한 문제를 해결하기 위하여 현재 일반적으로 사용되고 있는 타이틀러를 이용할 경우 공정시간이 길어져서 인-라인(in-line) 시스템으로 되어 있는 포토라인의 생산성이 저하되며, 그렇지 않을 경우 레이저 마킹장비 또는 노광장비가 별도로 필요하게 되어 추가투자가 요구된다는 문제점이 있다.
또한, 휴대용전화기, PDA등 소형제품의 경우 하나의 글래스에서 수십개의 액정표시소자용 판넬이 만들어지므로 타이틀러의 공정시간이 길어지게 되어 마스킹공정 전체가 생산성 저하를 초래하는 문제점이 있다.
따라서, 본 발명은 상기 종래기술의 제반문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 반사형 모드를 사용하는 판넬 제조공정에 사용함으로써 특별히 추가장비 및 공정 없이도 판넬 아이디마크를 형성해주어 셀 및 모듈공정까지의 이력관리가 가능해지고, 양·불량 판넬 구분이 가능하여 생산성을 향상시킬 수 있는 액정표시 소자용 판넬 아이디마크 형성방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 절연기판상에 게이트전극을 형성하는 단계; 상기 게이트전극상에 절연층 및 활성층을 차례로 형성하는 단계; 상기 활성층 상에 데이타전극을 형성하는 단계; 및 상기 데이타전극상에 보호막 및 화소전극을 차례로 형성하는 단계를 포함하여 구성되며, 상기 게이트전극, 데이타전극 및 화소전극의 메탈층을 이용하여 동시에 글래스 아이디마크와 판넬 아이디마크를 형성하는 단계를 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
(실시예)
이하, 첨부된 도면에 의거하여 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하도록 한다.
도 3은 본 발명에 따른 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법을 도시한 구조도이다.
여기서는 설명의 편의상, 1세대 액정표시소자에 가장 많이 사용되고 있는 니콘 스테퍼 501장비의 경우를 예로 설명한다.
먼저, 도 3에 도시된 바와 같이, 니콘 스테퍼 501장비에서 노광유효면적을 고려할 경우 2인치 제품에서는 1∼4개의 판넬을 하나의 마스크로 형성할 수 있으며(a1∼b2), 상기 하나의 마스크에 이용되는 레티클은 레이어별 최대 4매까지 사용할 수 있다.
그리고, 반사형 액정표시소자의 경우 판넬 아이디마크로 사용될 수 있는 레이어로는 게이트전극, 데이타전극 및 화소전극의 메탈이 사용가능하므로, 레이어별 최대 4매까지의 레티클을 사용하여 판넬 아이디마크를 구분하여 형성하면 다음과 같이 48개까지의 아이디마크를 형성할 수 있다.
즉, 2인치 제품의 경우 약 60개의 판넬 아이디마크가 형성되므로 나머지 12개의 아이디마크는 종래의 타이틀러를 이용하여 형성할 수 있다.
먼저, 게이트전극 마스크를 형성하는 방법을 설명하면, 레티클 1의 a1, a2, b1 및 b2 아이디마크를 이용하여 a1∼h2까지의 아이디마크를 노광한다.
그 다음, 타이틀러에 의해서 글래스 아이디마크와 판넬 아이디마크를 i1∼l6까지 노광한다.
결과적으로, 현상공정, 에칭공정 및 스트립공정을 거치면 a1∼l6 까지의 판넬 아이디마크가 완성된다.
또한, 소오스/드레인전극 (데이타전극) 마스크는, 레티클 1의 a3, a4, b3 및 b4 아이디마크를 이용하여 a3∼h4 까지의 아이디마크를 노광/현상/식각 스트립하여 완성한다.
그리고, 반사판 화소전극 마스크는, 레티클 1의 a5, a6, b5 및 b6 아이디마크를 이용하여 a5∼h6 까지의 아이디마크를 노광/현상/식각 스트립하여 완성한다.
이때, 다른 아이디마크가 형성될 자리에 노광형성된 아이디마크는 이후공정에서 아이디마크 형성시 방해가 되는데, 이를 해결하는 방법은 다음과 같다.
즉, 다른 아이디마크가 형성될 자리에 노광형성된 아이디마크를 그대로 남겨서 이후 공정에서 조합하여 아이디마크를 형성하는 방법, 둘째, 노광기의 블레이드(가림막)값을 샷(shot)별로 조절하여 아이디마크를 형성하지 않는 방법, 셋째 노광후 블랭크 마스크영역을 이용하여 이중노광함으로써 아이디마크를 제거하는 방법, 넷째 판넬 아이디마크 위치를 서로 달리 하는 방법등을 사용하여 아이디마크 형성에 방해가 되는 문제를 해결할 수 있다.
또한, 상술한 첫 번째 방법으로 조합식(또는 바코드식등)으로 아이디마크를 형성하는 경우에는 사용되는 레티클의 수를 최소화시킬 수 있다는 장점이 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명은 소형제품 특히 반사형(또는 반투과형)모드를 사용하는 판넬 제조공정에서 특별히 추가되는 장비 및 공정 없이도 판넬 아이디마크를 형성해줌으로써 이후의 셀 및 모듈공정까지의 이력관리가 가능해지고 판넬 불량구분이 가능하여, 생산성을 향상시킬 수 있다는 효과가 있다.
한편, 본 발명은 상술한 특정의 바람직한 실시예에 한정되지 아니하며, 청구범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.

Claims (7)

  1. 삭제
  2. 절연기판상에 게이트전극을 형성하는 단계;
    상기 게이트전극상에 절연층 및 활성층을 차례로 형성하는 단계;
    상기 활성층 상에 데이타전극을 형성하는 단계;
    상기 데이타전극상에 보호막 및 화소전극을 차례로 형성하는 단계;
    상기 게이트전극, 데이타전극 및 화소전극의 메탈층을 이용하여 글래스 아이디마크와 판넬 아이디마크를 형성하며,
    상기 판넬 아이디마크는 어레이 패터닝공정과 동시에 포토마스크를 이용한 메탈공정에서 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 판넬 아이디마크는 게이트전극, 데이타전극 및 화소전극 중 2개 이상의 전극을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 판넬 아이디마크는 게이트전극, 데이타전극 및 화소전극 중 적어도 2층 이상의 전극을 이용하여 분할형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법.
  5. 제 2 항에 있어서, 상기 판넬 아이디마크의 일부는 게이트전극, 데이타전극 및 화소전극의 메탈층을 이용하여 형성하고, 그 나머지는 별도의 타이틀러를 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 판넬 아이디마크는, 다른 층에서 형성된 아이디마크를 이중노광하여 제거함으로써 분할형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법.
  7. 제 4 항에 있어서, 상기 판넬 아이디마크는, 상기 판넬 아이디마크 위치를 서로 달리 하여 다른 층에서 이미 형성된 아이디마크에 의한 방해를 제거함으로써 분할형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시소자용 판넬 아이디마크 형성방법.
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