JPH04273241A - 画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、支持体上にハロゲン化
銀写真感光材料を用いた画像形成方法に関し、更に詳し
くは高コントラストが得られる画像形成方法に関する。

【０００２】

【発明の背景】写真製版工程には連続調の原稿を網点画
像に変換する工程が含まれる。この工程には、超硬調の
画像再現をなしうる写真技術として、伝染現像による技
術が用いられてきた。

【０００３】伝染現像に用いられるリス型ハロゲン化銀
写真感光材料は、例えば平均粒子径が約０．２μｍで粒
子分布が狭く粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有
率の高い（少なくとも５０モル％以上）塩臭化銀乳剤よ
りなる。このリス型ハロゲン化銀写真感光材料を亜硫酸
イオン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン現像液、い
わゆるリス型現像液で処理することにより、高いコント
ラスト、高鮮鋭度、高解像力の画像が得られる。

【０００４】しかしながら、これらのリス型現像液は空
気酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際において現像品質を一定に保つことは難し
い。上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コン
トラストの画像を得る方法が知られている。例えば特開
昭５６−１０６２４４号等に見られるように、ハロゲン
化銀写真感光材料中にヒドラジン誘導体を含有せしめる
ものである。これらの方法によれば、保恒性が良く、迅
速処理可能な現像液で処理することによっても硬調な画
像が得ることができる。

【０００５】しかしながら、これらヒドラジン化合物を
用いる超硬調な画像形成法は伝染現像を強く促進するた
めに、コントラストの強い文字原稿（特に明朝体の細線
）の撮影時に、細い白地となるべき部分まで黒化してし
まい、文字が黒く潰れて判読できなくなってしまうとい
う問題があった。そのため、明朝体の細線に合わせて露
光を少なめにすると、逆にゴチック文字の潰れが悪化す
るという、露光のラチチュードが狭いという問題があっ
た。同様の問題は網点画撮影においても生じ、網点の白
地として抜ける部分まで黒化しやすく、網階調が非常に
短くなる画質上の欠点をもっている。

【０００６】この原因はヒドラジン化合物による硬調化
現像の伝染現像が強いため、露光された部分に隣接する
低露光または未露光部分が現像されてしまうことによる
もので、これを防止するため、伝染現像による画像拡大
を抑制する方法、及び画像部の隣接部の現像を抑制する
現像効果を起こす方法（以下ミクロな現像抑制という）
の開発が望まれていた。

【０００７】伝染現像性を抑制する方法は、造核剤の添
加量を下げたり、現像液のｐＨを下げたりすればよいが
、これでは階調が軟調になり、画線の鮮鋭度がなくなり
、実用的に問題がある。また造核現像系において、ミク
ロな現像抑制を付与することが種々検討されたが、未だ
満足できる方法が見いだされていない。

【０００８】本発明ではｐＨを１１．０以下にすること
により造核現像のコントロール即ち画像拡大及びミクロ
抑制を行っている。通常ｐＨを１１．０以下にするとガ
ンマ８以上の硬調化が起こらないが、特開平２−１０３
５１６号、特開平２−１０８０４３号、特開平２−１１
３２３８号に開示されているような方法で充分硬調にす
ることができる。しかし、これらのような硬調化剤を含
むハロゲン化銀写真感光材料をｐＨ　１１．０未満の現
像液で処理する画像形成方法の場合、経時によって増感
や軟調化や、現像処理後の未露光部に発生する砂状のカ
ブリ、いわゆる黒ポツが劣化するという問題があり、満
足な性能が得られないのが現状である。

【０００９】

【発明の目的】本発明の第１の目的は、高感度で、未露
光部分に発生する黒ポツの増加が防止され、かつ保存安
定性がよく、迅速処理でも超硬調な画像が得られる画像
形成方法を提供することにある。

【００１０】

【発明の構成】本発明の上記目的は、支持体上に少なく
とも１つのハロゲン化銀乳剤層を有し、該乳剤層または
その他の親水性コロイド層中に下記一般式〔Ｈ〕で表さ
れるヒドラジン誘導体を含有するハロゲン化銀写真感光
材料を画像露光後ｐＨ１１．０以下の現像液で処理し、
ガンマが８以上の黒白画像形成方法において、該ハロゲ
ン化銀乳剤がＢｒ含有率９０％以上の単分散ハロゲン化
銀粒子からなり、かつ該乳剤層またはその他の親水性コ
ロイド層中に現像促進剤とメルカプト化合物を含有する
ことを特徴とする画像形成方法により達成される。

【００１１】

【化２】

【００１２】また本発明における現像時間は１５秒以下
であることが特徴である。以下、本発明について詳細に
説明する。

【００１３】まず、本発明に用いられる一般式〔Ｈ〕で
表されるヒドラジン誘導体について説明する。

【００１４】式中Ａはアリール基、又は硫黄原子又は酸
素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、Ｇは−（
Ｏ（Ｏ））ｎ−、スルホニル基、スルホキシ基、−Ｐ（
Ｏ）（Ｒ）−基、又はイミノメチレン基を表し、ｎは１
又は２の整数を表し、Ａ１，Ａ２はともに水素原子或は
一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキル
スルホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表
し、Ｒは水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、アミノ基、カルバモイル基、
オキシカルボニル基又は−Ｏ−Ｒ３基を表し、Ｒ３はア
ルキル基又は飽和複素環基を表す。

【００１５】更に下記一般式〔Ａ〕〔Ｂ〕であることが
好ましい。

【００１６】

【化３】

【００１７】式中、Ａはアリール基、又は、硫黄原子又
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、ｎは
１又は２の整数を表す。ｎ＝１の時、Ｒ１及びＲ２はそ
れぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリ
ールオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、Ｒ１とＲ
２は窒素原子と共に環を形成してもよい。ｎ＝２の時、
Ｒ１及びＲ２はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複
素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、又はヘ
テロ環オキシ基を表す。ただしｎ＝２の時、Ｒ１及びＲ
２のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキニル基
、飽和複素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケ
ニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基
、又はヘテロ環オキシ基を表すものとする。Ｒ３はアル
キニル基又は飽和複素環基を表す。

【００１８】一般式〔Ａ〕又は〔Ｂ〕で表される化合物
には、式中の−ＮＨＮＨ−の少なくともいずれかのＨが
置換基で置換されたものを含む。

【００１９】Ａ，Ｒ１，Ｒ２については更に詳しくは特
開平２−２２６３８号に記載のものと同義である。

【００２０】一般式〔Ａ〕及び〔Ｂ〕中の−ＮＨＮＨ−
のＨ、即ちヒドラジンの水素原子は、スルホニル基（例
えばメタンスルホニル、トルエンスルホニル等）、アシ
ル基（例えば、アセチル、トリフルオロアセチル、エト
キシカルボニル等）、オキザリル基（例えば、エトキザ
リル、ピルボイル等）等の置換基で置換されていてもよ
く、一般式〔Ａ〕及び〔Ｂ〕で表される化合物はこのよ
うなものをも含む。

【００２１】本発明においてより好ましい化合物は、一
般式〔Ａ〕のｎ＝２の場合の化合物、及び一般式〔Ｂ〕
の化合物である。

【００２２】一般式〔Ａ〕のｎ＝２の化合物において、
Ｒ１及びＲ２が水素原子、アルキル基、アルケニル基、
アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複素環基、
ヒドロキシ基、又はアルコキシ基であり、かつＲ１及び
Ｒ２のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキニル
基、飽和複素環基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基を
表す化合物が更に好ましい。

【００２３】上記一般式〔Ａ〕，〔Ｂ〕で表される代表
的な化合物を下記に挙げる。さらに特願平２−３２７４
０２号第２０頁〜第５８頁記載の下記化合物を除くＨ１
〜Ｈ１８７、特開平２−１７０１５４号第２３頁〜第３
２頁に記載されているＩ−１〜Ｉ−４５が挙げられる。

【００２４】

【化４】

【００２５】

【化５】

【００２６】

【化６】

【００２７】

【化７】

【００２８】

【化８】

【００２９】次に本発明において好ましく用いられる現
像促進剤としては下記一般式〔１〕，〔２〕で表される
化合物である。

【００３０】

【化９】

【００３１】〔式中、Ｙは、ハロゲン化銀に吸着する基
を表す。Ｘは水素原子、炭素原子、窒素原子、酸素原子
から選ばれた原子または原子群よりなる２個の連結基を
表す。Ａは２個の連結基を表す。Ｂはアミノ基、アンモ
ニウム基及び含窒素ヘテロ環を表し、アミノ基は置換さ
れていてもよい。ｍは１，２または３を表し、ｎは０ま
たは１を表す。〕

【００３２】

【化１０】

【００３３】〔式中、Ｒ１、Ｒは各々水素原子または脂
肪族残基を表す。Ｒ１とＲ２は互いに結合して環を形成
してもよい。Ｒ３は２価の脂肪族基を表す。Ｘは窒素、
酸素もしくは硫黄原子を含む２価のヘテロ環を表す。ｎ
は０または１を表し、Ｍは水素原子、アルカリ金属、ア
ルカリ土類金属、４級アンモニウム塩、４級ホスホニウ
ム塩またはアミジノ基を表す。〕以下一般式〔１〕で表
わされる化合物について説明する。

【００３４】Ｙが表わすハロゲン化銀に吸着する基とし
ては含窒素複素環化合物があげられる。

【００３５】Ｙが含窒素複素環化合物を表わす場合は一
般式〔１〕の化合物は下記一般式〔１ａ〕で表わされる
。

【００３６】

【化１１】

【００３７】式中、ｌは０または１を表わし、ｍは１，
２または３を表わし、ｎは０または１を表わす。

【００３８】〔（Ｘ）ｎ−Ａ−Ｂ〕ｍは前記一般式〔２
〕におけるそれと同義であり、Ｑは炭素原子、窒素原子
、酸素原子、硫黄原子の少なくとも一種の原子から構成
される５または６員の複素環を形成するのに必要な原子
群を表わす。またこの複素環は炭素芳香環または複素芳
香環と縮合していてもよい。

【００３９】Ｑによって形成される複素環としては例え
ばそれぞれ置換または無置換のインダゾール類、ベンズ
イミダゾール類、ベンゾトリアゾール類、ベンズオキサ
ゾール類、ベンズチアゾール類、イミダゾール類、チア
ゾール類、オキサゾール類、トリテゾール類、テトラゾ
ール類、アザインデン類、ピラゾール類、インドール類
、トリアジン類、ピリミジン類、キノリン類等があげら
れる。

【００４０】Ｍは水素原子、アルカリ金属原子（例えば
ナトリウム原子、カリウム原子、等）、アンモニウム基
（例えばトリメチルアンモニウム基、ジメチルベンジル
アンモニウム基、等）、アルカリ条件下でＭ＝Ｈまたは
アルカリ金属原子となりうる基（例えばアセチル基、シ
アノエチル基、メタンスルホニルエチル基、等）を表わ
す。

【００４１】また、これらの複素環はニトロ基、ハロゲ
ン原子（例えば塩素原子、臭素原子、等）、メルカプト
基、シアノ基、それぞれ置換もしくは無置換のアルキル
基（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチ
ル基、シアノエチル基、メトキシエチル基、メチルチオ
エチル基、等）、アリール基（例えばフエニル基、４−
メタンスルホンアミドフエニル基、４−メチルフエニル
基、３，４−ジクロルフエニル基、ナフチル基、等）、
アルケニル基（例えばアリル基、等）、アラルキル基（
例えばベンジル基、４−メチルベンジル基、フエネチル
基、等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ
基、等）、アリールオキシ基（例えばフエノキシ基、４
−メトキシフエノキシ基、等）、アルキルチオ基（例え
ばメチルチオ基、エチルチオ基、メトキシエチルチオ基
）、アリールチオ基（例えばフエニルチオ基）、スルホ
ニル基（例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル
基、ｐ−トルエンスルホニル基、等）、カルバモイル基
（例えば無置換カルバモイル基、メチルカルバモイル基
、フエニルカルバモイル基、等）、スルフアモイル基（
例えば無置換スルフアモイル基、メチルスルフアモイル
基、フエニルスルフアモイル基、等）、カルボンアミド
基（例えばアセトアミド基、ベンズアミド基、等）、ス
ルホンアミド基（例えばメタンスルホンアミド基、ベン
ゼンスルホンアミド基、ｐ−トルエンスルホンアミド基
、等）、アシルオキシ基（例えばアセチルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基、等）、スルホニルオキシ基（例えば
メタンスルホニルオキシ基、等）、ウレイド基（例えば
無置換のウレイド基、メチルウレイド基、エチルウレイ
ド基、フエニルウレイド基、等）、チオウレイド基（例
えば無置換のチオウレイド基、メチルチオウレイド基、
等）、アシル基（例えばアセチル基、ベンゾイル基、等
）、ヘテロ環基（例えば１−モルホリノ基、１−ピペリ
ジノ基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−チエニ
ル基、１−ピラゾリル基、１−イミダゾリル基、２−テ
トラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、等）、
オキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、フ
エノキシカルボニル基、等）、オキシカルボニルアミノ
基（例えばメトキシカルボニルアミノ基、フエノキシカ
ルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルオキシカルボニ
ルアミノ基、等）、アミノ基（例えば無置換アミノ基、
ジメチルアミノ基、メトキシエチルアミノ基、アニリノ
基、等）、カルボン酸またはその塩、スルホン酸または
その塩、ヒドロキシ基などで置換されていてもよい。

【００４２】Ｘが表わす２価の連結基としては例えば、

【００４３】

【化１２】

【００４４】等があげられるが、これらの連結基はＱと
の間に直鎖または分岐のアルキレン基（例えばメチレン
基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシレ
ン基、１−メチルエチレン基、等）を介して結合されて
いてもよい。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１
２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５およびＲ１６は水素原子、
それぞれ置換もしくは無置換のアルキル基（例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、等）、置
換もしくは無置換のアリール基（例えばフエニル基、２
−メチルフエニル基、等）、置換もしくは無置換のアル
ケニル基（例えばプロペニル基、１−メチルビニル基、
等）、または置換もしくは無置換のアラルキル基（例え
ばベンジル基、フエネチル基、等）を表わす。

【００４５】Ａは２価の連結基を表わし、２価の連結基
としては直鎖または分岐のアルキレン基（例えばメチレ
ン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ヘキシ
レン基、１−メチルエチレン基、等）、直鎖または分岐
のアルケニレン基（例えばビニレン基、１−メチルビニ
レン基、等）、直鎖または分岐のアラルキレン基（例え
ばベンジリデン基、等）、アリーレン基（例えばフエニ
レン、ナフチレン、等）等が挙げられる。Ａで表わされ
る上記の基はＸとＡは任意の組合せで更に置換されてい
てもよい。

【００４６】Ｂの置換もしくは無置換のアミノ基は一般
式〔１ｂ〕で表わされるものである。

【００４７】

【化１３】

【００４８】（式中、Ｒ１１、Ｒ１２は同一であっても
異なってもよく、各々水素原子、置換もしくは無置換の
炭素数１〜３０のアルキル基、アルケニル基またはアラ
ルキル基を表わし、これらの基は直鎖（例えばメチル基
、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−オク
チル基、アリル基、３−プテニル基、ベンジル基、１−
ナフチルメチル基、等）、分岐（例えばｉｓｏプロピル
基、ｔ−オクチル基、等）または環状（例えばシクロヘ
キシル基、等）、でもよい。

【００４９】又、Ｒ１１とＲ１２は連結して環を形成し
てもよく、その中に１つまたはそれ以上のヘテロ原子（
例えば酸素原子、硫黄原子、窒素原子など）を含んだ飽
和のヘテロ環を形成するように環化されていてもよく、
例えばピロリジル基、ピペリジル基、モルホリノ基など
を挙げることができる。又、Ｒ１１、Ｒ１２の置換基と
しては例えば、カルボキシル基、スルホ基、シアノ基、
ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子
である。）、ヒドロキシ基、炭素数２０以下のアルコキ
シカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキ
シカルボニル基フエノキシカルボニル基、ベンジルオキ
シカルボニル基など）、炭素数２０以下のアルコキシ基
（例えばメトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、
フエネチルオキシ基など）、炭素数２０以下の単環式の
アリールオキシ基（例えばフエノキシ基、ｐ−トリルオ
キシ基など）、炭素数２０以下のアシルオキシ基（例え
ばアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、炭
素数２０以下のアシル基（例えばアセチル基、プロピオ
ニル基、ベンゾイル基、メシル基など）、カルバモイル
基（例えばカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモ
イル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニ
ル基など）、スルフアモイル基（例えばスルフアモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルフアモイル基モルホリノスル
ホニル基、ピペリジノスルホニル基など）、炭素数２０
以下のアシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロ
ピオニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、メシルアミノ
基など）、スルホンアミド基（エチルスルホンアミド基
、ｐ−トルエンスルホンアミド基など）、炭素数２０以
下のカルボンアミド基（例えばメチルカルボンアミド基
、フエニルカルボンアミド基など）、炭素数２０以下の
ウレイド基（例えばメチルウレイド基、フエニルウレイ
ド基など）、アミノ基などが挙げられる。

【００５０】Ｂのアンモニウム基は一般式〔１ｃ〕で表
わされるものである。

【００５１】

【化１４】

【００５２】（式中、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５は上述の
一般式〔２−ｂ〕におけるＲ１１およびＲ１２と同様の
基であり、Ｚ−はアニオンを表わし、例えばハライドイ
オン（例えばＣｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−など）、スルホナー
トイオン（例えばトリフルオロメタンスルホナート、パ
ラトルエンスルホナート、ベンゼンスルホナート、パラ
クロロベンゼンスルホナートなど）、スルフアトイオン
（例えばエチルスルフアート、メチルスルフアートなど
）、パークロラート、テトラフルオロボラートなどが挙
げられる。ｐは０または１を表わし、化合物が分子内塩
を形成する場合は０である。）Ｂの含窒素ヘテロ環は、
少なくとも１つ以上の窒素原子を含んだ５または６員環
であり、それらの環は置換基を有していてもよく、また
他の環と縮合していてもよい。含窒素ヘテロ環としては
例えばイミダゾリル基、ピリジル基、チアゾリル基など
が挙げられる。

【００５３】一般式〔１〕のうち好ましいものとしては
、下記一般式〔１ｍ〕、〔１ｎ〕、〔１ｏ〕または〔１
ｐ〕で表わされる化合物が挙げられる。

【００５４】

【化１５】

【００５５】（式中、−（Ｘ）ｎ−Ａ−Ｂ、Ｍ、ｍは前
記一般式〔１ａ〕のそれと同義である。Ｚ１、Ｚ２およ
びＺ３は前記一般式〔１ａ〕における−（Ｘ）ｎ−Ａ−
Ｂと同義であるか、又はハロゲン原子、炭素数２０以下
のアルコキシ基（例えばメトキシ基）、ヒドロキシ基、
ヒドロキシアミノ基、置換および未置換のアミノ基を表
わし、その置換基としては前記一般式〔１ｂ〕における
Ｒ１１、Ｒ１２の置換基の中から選ぶことができる。但
しＺ１、Ｚ２及びＺ３の内の少なくとも１つは−（Ｘ）
ｎ−Ａ−Ｂと同義である。

【００５６】またこれら複素環は一般式〔１〕の複素環
に適用される置換基で置換されてもよい。

【００５７】一般式〔１〕で表わされる化合物の具体例
を下記に挙げる。尚この他に特開昭２−１０３５３６第
（１２）頁〜第（１３）頁記載のＩＩ−１〜ＩＩ−１９
のうち下記化合物を除くものが使用できる。

【００５８】

【化１６】

【００５９】

【化１７】

【００６０】次に一般式〔２〕においてＲ１、Ｒ２の脂
肪族残基としては、各々炭素１〜１２のアルキル基、ア
ルケニル基およびアルキニル基が好ましくそれぞれ適当
な基で置換されていてもよい。アルキル基としては、例
えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキ
シル基、デシル基、ドデシル基、イソプロピル基、ｓｅ
ｃ−ブチル基、シクロヘキシル基などである。アルケニ
ル基としては例えばアリル基、２−ブテニル基、２−ヘ
キセニル基、２−オクテニル基などである。アルキル基
としては例えばプロパルギル基、２−ペンチニル基など
がある。置換基としては、フエニル基、置換フエニル基
、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ基、カル
ボキシル基。スルホ基、アルキルアミノ基、アミド基等
である。

【００６１】

【化１８】

【００６２】Ｒ１とＲ２として特に好ましいものは炭素
原子数１〜３のアルキル基で更に好ましくはエチル基で
ある。

【００６３】Ｒ３の二価の脂肪族基としては−Ｒ４−又
は−Ｒ４Ｓ−が好ましい。ここでＲ４は二価の脂肪族残
基で、好ましくは炭素数１〜６の飽和及び不飽和のもの
で、例えば−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２
）３−、−（ＣＨ２）４−、−（ＣＨ２）６−、−ＣＨ
２ＣＨ＝ＣＨＣＨ２−、−ＣＨ２Ｃ≡ＣＣＨ２−、−Ｃ
Ｈ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２−などである。

【００６４】Ｒ４の好ましい炭素数としては２〜４のも
ので、Ｒ４としてさらに好ましくは−ＣＨ２ＣＨ２−及
び−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２である。なお（Ｘ）ｎのｎが０
のときのＲ３は−Ｒ４−だけを表わす。

【００６５】Ｘのヘテロ環としては、窒素、酸素又は硫
黄を含む５及び６員のヘテロ環でベンゼン環に縮合して
いてもよい。ヘテロ環として好ましくは芳香族のもので
例えば、テトラゾール、トリアゾール、チアジアゾール
、オキサジアゾール、イミダゾール、チアゾール、オキ
サゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾール、ベ
ンズオキサゾールなどである。このうち特にテトラゾー
ルとチアジアゾールが好ましい。

【００６６】Ｍのアルカリ金属としては、Ｎａ＋、Ｋ＋
、Ｌｉ＋などがある。

【００６７】アルカリ土類金属としては、Ｃａ＋＋、Ｍ
ｇ＋＋、などがある。

【００６８】Ｍの四級アンモニウム塩としては、炭素数
４〜３０からなるもので、例えば（ＣＨ３）４Ｎ＋、（
Ｃ２Ｈ５）４Ｎ＋、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋、Ｃ６Ｈ５ＣＨ
２Ｎ＋（ＣＨ３）３、Ｃ１６Ｈ３３Ｎ＋（ＣＨ３）３な
どである。四級ホスホニウム塩としては、（Ｃ４Ｈ９）
４Ｐ＋、Ｃ１６Ｈ３Ｐ＋（ＣＨ３）３、Ｃ６Ｈ５ＣＨ２
Ｐ＋（ＣＨ３）などである。

【００６９】一般式〔２〕で表わされる化合物の無機酸
塩としては例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩などがあり
、有機酸塩としては酢酸塩、プロピオン酸塩、メタンス
ルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスル
ホン酸塩などがある。

【００７０】一般式〔２〕で表わされる具体例を下記に
挙げる。さらには特開平２−１０３５３６第（１４）頁
〜第（１５）頁記載のＩＩＩ−１〜ＩＩＩ−２２のうち
下記化合物を除くものを用いることができる。

【００７１】

【化１９】

【００７２】次に本発明に用いられるメルカプト化合物
は下記一般式〔３〕で表される化合物が好ましく用いら
れる。

【００７３】

【化２０】

【００７４】式中、Ｍは水素原子、−ＮＨ４基又はアル
カリ金属を表し、Ｒは水素原子、アルキル基又はアリー
ル基を表す。該アルキル基は好ましくは炭素数１〜８の
もの（例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシ
ル基、オクチル基）であり、該アリール基は好ましくは
炭素数６〜１０のもの（例えばフェニル基、ナフチル基
）である。

【００７５】Ｚは置換基を有してもよい５員の複素環を
形成するに必要な原子群又はベンゼン環と縮合した５員
の複素環を形成するに必要な原子群を表す。該５員の複
素環としてはイミダゾール環、トリアゾール環、テトラ
ゾール環などが好ましく、該複素環の置換器としては炭
素数１〜８のアルキル基（例えばメチル基、エチル基、
プロピル基、ヘキシル基、オクチル基など）や炭素数６
〜１０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル基）
が好ましい。前記ベンゼン環に縮合した５員の複素環と
してはベンズイミダゾール基が好ましい。

【００７６】一般式〔３〕で表される化合物は該式中の
少なくとも１個の炭素原子がカルボキシ基若しくはその
塩、カルバモイル基（−ＣＯＮＨ２）、ヒドロキシ基、
スルホ基若しくはその塩、アミノ基（−ＮＨ２）、又は
低級アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３のもの、例
えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基で置換され
ているものが好ましい。この中でも特にカルボキシ基若
しくはその塩、スルホ基若しくはその塩が好ましい。

【００７７】一般式〔３〕で表される化合物の中でも次
の一般式〔４〕又は一般式〔５〕で表される化合物が特
に好ましい。

【００７８】

【化２１】

【００７９】式中Ｒ２は前記したアルキル基（好ましく
は炭素数１〜８のもの）又は前記したアリール基（好ま
しくは炭素数６〜１０のもの）を表し、好ましくは水溶
性基で置換されている。水溶性基としてはカルボキシ基
若しくはその塩、カルバモイル基、ヒドロキシ基、スル
ホ基若しくはその塩又はアミノ基が好ましく、中でもカ
ルボキシ基若しくはその塩、スルホ基若しくはその塩が
特に好ましい。

【００８０】

【化２２】

【００８１】式中Ｒ３、Ｒ４は各々水素原子、ハロゲン
原子又は前記した水溶性基を表す。ただし、Ｒ３とＲ４
の少なくとも一方は水溶性基であることが好ましい。水
溶性基としてはカルボキシ基若しくはその塩、カルバモ
イル基、ヒドロキシ基、スルホ基若しくはその塩、アミ
ノ基又は低級アルコキシ基があり、中でもカルボキシ基
若しくはその塩、スルホ基若しくはその塩が特に好まし
い。

【００８２】一般式〔４〕と〔５〕の中では一般式〔５
〕で表される化合物の効果かより大きい。

【００８３】次に本発明の一般式〔３〕で表される化合
物の具体例としては下記のものが挙げられる。さらに、
特願昭６４−１３５３３２号第１６頁〜第１９頁記載の
（１）〜（２１）のうち下記のものを除く化合物を用い
ることができるが、本発明はこれらに限定されない。

【００８４】

【化２３】

【００８５】これら一般式〔３〕で表される化合物は公
知であり、また例えば特公昭４２−２１８４２号、特開
昭５３−５０１６９号各公報；英国特許第１２７５７０
１号明細書；Ｄ．　Ａ．　Ｂｅｒｇｅｓ　ｅｔａｌ、“
Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ”、第１５巻９８１頁（１９７８年）
；“Ｔｈｅ　Ｃｈｅｍｓｔｒｙ　ｏｆ　Ｈｅｔｅｒｏｃ
ｙｃｌｉｃ　Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ”、Ｉｍｉｄａｚｏｌ
ｅ　ａｎｄＤｅｒｉｖｅｒｔｉｖｅｓ　ｐａｒｔ　Ｉ、
３３６〜３３９頁及び３８４頁；Ｅ．Ｈｏｇｇａｒｔｈ
、“Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃ
ｉｅｔｙ”　１９４９年巻、１１６０〜１１６７頁；な
どに記載の方法及びそれに準じた方法によって容易に合
成できる。　　一般式〔３〕で表される化合物はハロゲ
ン化銀乳剤層又はその隣接層に添加される。添加時期は
好ましくは各層の塗布前であるが塗布後に該化合物の溶
液を塗布層に含浸させるなどの手段をとることもできる
。

【００８６】前記一般式〔３〕で表される化合物は好ま
しくは銀１モル当り１．０×１０−４モル乃至６×１０
−３モル、特に好ましくは５×１０−４モル乃至５．２
×１０−３モルの範囲で使用する。

【００８７】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料に
用いるハロゲン化銀は、臭化銀、沃臭化銀、塩臭化銀、
塩沃臭化銀が好ましく、Ｂｒ含有率が９０モル％以上で
あって、粒子サイズ分布が９５％の粒子が数平均粒子サ
イズの±６０％以内、好ましくは±４０％以内のサイズ
に入る単分散乳剤であることが好ましい。

【００８８】本発明のハロゲン化銀は例えばＴ．Ｈ．Ｊ
ａｍｅｓ著”Ｔｈｅ　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ｐ
ｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃＰｒｏｃｅｓｓ”第４版、Ｍａ
ｃｍｉｌｌａｎ社刊（１９７７年）８８〜１０４頁等の
文献に記載されている公知の方法を用いて調製すること
ができる。その他、本発明の感光材料には当業界公知の
増感法等、各種技術、添加剤を用いることができる。添
加剤については、例えばリサーチディスクロージャー第
１７６巻Ｉｔｅｍ１７６４３（１９７８年１２月）及び
同１８７巻Ｉｔｅｍ１８７１６（１９７９年１１月）に
記載されている。

【００８９】本発明に用いる支持体としては、例えばバ
ライタ紙、ポリエチレン被覆紙、ポリプロピレン合成紙
、ガラス板、セルロースアセテート、セルロースナイト
レート、例えばポリエチレンテレフタレート等のポリエ
ステルフィルム、ポリアミドフィルム、ポリプロピレン
フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレンフ
ィルム等が代表的なものとして包含される。これらの支
持体は、それぞれハロゲン化銀写真感光材料の使用目的
に応じて適宜選択される。

【００９０】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料の
現像に用いられる現像主薬としては特別な制限はないが
、良好な網点品質を得易い点でジヒドロキシベンゼン類
と１−フェニル−３−ピラゾリドン類の組み合わせまた
はジヒドロキシベンゼン類とｐ−アミノフェノール類の
組み合わせが好ましい。詳しくはＴ．Ｈ．ジェームス著
ザ・セオリィ・オブ・ザ・ホトグラフィック・プロセス
第４版（Ｔｈｅ　Ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　Ｐｈｏｔｏｇｒ
ａｐｈｉｃ　Ｐｒｏｃｅｓｓ　Ｆｏｕｒｔｈ　Ｅｄｉｔ
ｉｏｎ）第２９１〜３３４頁及びジャーナル・オブ・ジ
・アメリカン・ケミカル・ソサエティ（Ｊｏｕｒｎａｌ
　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ
　Ｓｏｃｉｅｔｙ）第７３巻、第３，１００頁（１９５
１）に記載されているごとき現像剤が本発明に有効に使
用し得るものである。

【００９１】現像主薬は通常０．０１モル／ｌ〜１．２
モル／ｌの量で用いられるのが好ましい。

【００９２】本発明に用いる亜硫酸塩の保恒剤としては
亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸リチウム、
亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫
酸カリウム、ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウムなど
がある。亜硫酸塩は０．１５モル／ｌ以上特に０．４モ
ル／ｌ以上が好ましい。また、上限は２．５モル／ｌま
でとするのが好ましい。

【００９３】本発明に用いる現像液のｐＨは１１．０以
下、好ましくは１１．０〜９．５である。

【００９４】ｐＨの設定のために用いるアルカリ剤には
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリ
ウムの如きｐＨ調節剤を含む。

【００９５】特開昭６１−２８７０８号（ホウ酸塩）、
特開昭６０−９３４３９号（例えば、サッカロース、ア
セトオキシム、５−スルホサルチル酸）、リン酸塩、炭
酸塩などの緩衡剤を用いてもよい。

【００９６】上記成分以外に用いられる添加剤としては
、臭化ナトリウム、臭化カリウム、沃化カリウムの如き
現像抑制剤：エチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ジメチルホルムアミド、
メチルセロソルブ、ヘキシレングリコール、エチノール
、メタノールの如き有機溶剤：１−フェニル−５−メル
カプトテトラゾール、２−メルカプトベンツイミダゾー
ル−５−スルホン酸ナトリウム塩等のメルカプト系化合
物、５−ニトロインダゾール等のインダゾール系化合物
、５−メチルベンツトリアゾール等のベンツトリアゾー
ル系化合物などのカブリ防止剤を含んでもよく、更に必
要に応じて色調剤、界面活性剤、消泡剤、硬水軟化剤、
特開昭５６−１０６２４４号記載のアミノ化合物などを
含んでもよい。

【００９７】本発明においては現像液に銀汚れ防止剤、
例えば特開昭５６−２４３４７号に記載の化合物を用い
ることができる。

【００９８】本発明の現像液には、特開昭５６−１０６
２４４号に記載のアルカノールアミンなどのアミノ化合
物を用いることができる。

【００９９】この他Ｌ．Ｆ．Ａ．メソン著「フォトグラ
フィック・プロセシン・ケミストリー」、フォーカル・
プレス刊（１９６６年）の２２６〜２２９頁、米国特許
第２，１９３，０１５号、同２，５９２，３６４号、特
開昭４８−６４９３３号などに記載のものを用いてもよ
い。

【０１００】現像温度及び時間は約２５℃〜５０℃で１
５秒以下であるが好ましくは３０℃〜４０℃で６秒〜１
５秒である。 　　定着液はチオ硫酸塩を含む水溶液であり、ｐＨ３．
８以上、好ましくは４．２〜５．５を有する。

【０１０１】定着剤としてはチオ硫酸ナトリウム、チオ
硫酸アンモニウムがあるが、チオ硫酸イオンとアンモニ
ウムイオンとを必須成分とするものであり、定着速度の
点からチオ硫酸アンモニウムが特に好ましい。定着剤の
使用量は適宜変えることができ、一般には約０．１〜約
６モル／ｌである。

【０１０２】定着液には硬膜剤として作用する水溶性ア
ルミニウム塩を含んでも良く、それらには、例えば塩化
アルミニウム、硫酸アンモニウム、カリ明ばんなどがあ
る。定着液には、酒石酸、クエン酸あるいはそれらの誘
導体を単独で、あるいは２種以上、併用することてがで
きる。これらの化合物に定着液１ｌにつき０．００５モ
ル以上含むものが有効で、特に０．０１モル／ｌ〜０．
０３モル／ｌが特に有効である。具体的には、酒石酸、
酒石酸カリウム、酒石酸ナトリウム、酒石酸カリウムナ
トリウム、クエン酸、クエン酸ナトリウム、クエン酸カ
リウム、クエン酸リチウム、クエン酸アンモニウムなど
がある。

【０１０３】定着液には所望により保恒剤（例えば、亜
硫酸塩、重亜硫酸塩）、ｐＨ緩衡剤（例えば、酢酸、硝
酸）、ｐＨ調整剤（例えば硫酸）、硬水軟化能のあるキ
レート剤や特願昭６０−２１３５６２号記載の化合物を
含むことができる。

【０１０４】

【実施例】以下に本発明の具体的実施例を述べるが、本
発明の実施の態様はこれらに限定されるものではない。

【０１０５】実施例１ （ハロゲン化銀写真乳剤Ａの調製）同時混合法を用いて
沃臭化銀乳剤（銀１モル当たり沃化銀２モル％）を調製
した。この混合時にＫ２ＩｒＣｌ６を銀１モル当たり８
×１０−７モル添加した。得られた乳剤は、平均粒径０
．２０μｍの立方体単分散度粒子（変動係数９％）から
なる乳剤であった。変成ゼラチン（特願平１ー１８０７
８７号の例示化合物Ｇ−８）を加え、特願平１ー１８０
７８７号の実施例１と同様の方法で水洗、脱塩した。脱
塩後の４０℃のｐＡｇは８．０であった。 引き続きこの乳剤に銀１モル当たり０．１モル％の沃化
カリウム水溶液を添加して粒子表面のコンバージョンを
行い、その後化合物〔Ａ〕〔Ｂ〕〔Ｃ〕の混合物を添加
して乳剤Ａを得た。

【０１０６】

【化２４】

【０１０７】（ハロゲン化銀写真感光材料の調製）両面
に厚さ０．１μｍの下塗層（特開昭５９−１９９４１号
の実施例１参照）を施した厚さ１００μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの一方の下塗層上に、下記処
方（１）のハロゲン化銀乳剤層をゼラチン量が２．０ｇ
／ｍ２、銀量が３．２ｇ／ｍ２になる様に塗設し、更に
その上に下記処方（２）の乳剤保護層をゼラチン量が１
．０ｇ／ｍ２になる様に塗設し、又反対側のもう一方の
下塗層上には下記処方（３）に従ってバッキング層をゼ
ラチン量が２．４ｇ／ｍ２になる様に塗設し、更にその
上に下記処方（４）のバッキング保護層をゼラチン量が
１ｇ／ｍ２になる様に塗設して試料Ｎｏ．１〜１８を得
た。

【０１０８】 処方（１）（ハロゲン化銀乳剤層組成）　　ゼラチン　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　２．０ｇ／ｍ２　　ハロゲン化銀乳剤Ａ　　銀量　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　３．２ｇ／ｍ２

【０１０９】

【化２５】

【０１１０】 　　安定剤：４−メチル−６−ヒドロキシ−１，３，３
ａ，７−テトラザインデン　　　　３０ｍｇ／ｍ２　　
カブリ防止剤：アデニン　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０
ｍｇ／ｍ２　　　　　　　　　　　　　　　　１−フェ
ニル−５−メルカプトテトラゾール　　　　　　　　　
　　５ｍｇ／ｍ２　　界面活性剤：サポニン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　０．１ｇ／ｍ２

【０１１１】

【化２６】

【０１１２】 　　本発明に係るヒドラジン化合物　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　表１に示す量
　　　　本発明に係る現像促進剤　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　表
１に示す量　　本発明に係るメルカプト化合物　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　表
１に示す量

【０１１３】

【化２７】

【０１１４】処方（３）（バッキング層組成）

【０１１
５】

【化２８】

【０１１６】 　　ゼラチン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　２．４ｇ／ｍ２　　界面活性剤：サポ
ニン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１ｇ／ｍ２　
　　　　　　　　　　　：Ｓ−１　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　６ｍｇ／ｍ２　　コロイダルシリカ
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００ｍｇ／ｍ
２処方　（４）　〔バッキング保護層組成〕　　ゼラチ
ン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　１ｇ／ｍ２　　マット剤：平均粒径５．０μ
ｍの単分散ポリメチルメタアクリート　　　　５０ｍｇ
／ｍ２　　界面活性剤：Ｓ−２　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　１０ｍｇ／ｍ２　　硬膜剤：グリオキザ
ール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　２５ｍｇ／ｍ２　　　
　　　　　：Ｈ−１　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　３５ｍｇ／ｍ２ 　　得られた試料を、ステップウェッジを密着し、３２
００Ｋのタングステン光で５秒間露光した後、下記に示
す組成の現像液及び定着液を投入したコニカ（株）社製
迅速処理用自動現像機ＧＲ−２６ＳＲにて下記条件で処
理を行った。

【０１１７】又得られた試料を、２３℃５０％ＲＨの条
件で２４時間保存後、密閉包装し、経時代用サーモ処理
として５５℃で３日間放置した。このサーモ処理した試
料を同様に露光、現像定着処理を行った。

【０１１８】 現像液処方 　　エチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１ｇ　　亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　６０ｇ　　ホウ酸　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　４０ｇ　　ハイドロキノン　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　３５ｇ　　水酸化ナトリウ
ム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
８ｇ　　臭化ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　３ｇ　　５‐メチルベンゾト
リアゾール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２ｇ　　２
‐メルカブトベンゾチアゾール　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
０．１ｇ　　２−メルカブトベンゾチアゾール−５−ス
ルホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　０．２ｇ　　１−フェニル−４，４−ジメチル−３
−ピラゾリドン　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　０．２ｇ　　水を加えて　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
１ｌ　　水酸化ナトリウムにてｐＨ調整　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　１０．５定着液処方 （組成Ａ） 　　チオ硫酸アンモニウム（７２．５％Ｗ／Ｖ水溶液）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２
４０ｍｌ　　亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１７ｇ　　酢酸ナトリウム
・３水塩　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６．５ｇ 　　硼酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　６．０ｇ 　　クエン酸ナトリウム・２水塩　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　２．０ｇ（組成Ｂ） 　　純水（イオン交換水）　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　１７ｍｌ　　硫酸（５０％Ｗ／Ｖの水溶液
）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　４．７ｇ　　硫酸
アルミニウム（ＡＩ２Ｏ３換算含量が８．１％Ｗ／Ｖの
水溶液）　　　　　　　　　　　　２６．５ｇ 　　定着液の使用時に水５００ｍｌ中に上記組成Ａ、組
成Ｂの順に溶かし、１ｌに仕上げて用いた。この定着液
のｐＨは酢酸で４．８に調整した。

【０１１９】（現像処理条件） （工程）　　　　（温度）　　　　（時間）現像　　　
　　　　　３８℃　　　　　　　　１３秒定着　　　　
　　　　３５℃　　　　　　　　１５秒水洗　　　　　
　　　３０℃　　　　　　　　１５秒乾燥　　　　　　
　　５０℃　　　　　　　　１５秒得られた試料を光学
濃度計コニカＰＤＡ−６５で濃度測定し、試料Ｎｏ．１
の濃度２．５における感度を１００とした相対感度で示
し、更に濃度０．１と２．５との正接をもってガンマを
表示した。６未満のガンマ値では使用不可能であり、６
．０以上１０．０未満のガンマ値ではまだ不十分な硬調
性能である。ガンマ値１０．０以上で超硬調な画像とな
り、十分に実用可能となる。

【０１２０】又、未露光部の黒ポツも４０倍のルーペを
使って評価した。全く黒ポツの発生していないものを最
高ランク「５」とし、発生する黒ポツの発生度に応じて
ランク「４」、「３」、「２」、「１」とそのランクを
順次下げて評価するものとする。ランク「１」及び「２
」では黒ポツも実用上好ましくないレベルである。

【０１２１】この結果を表１に示した。

【０１２２】

【表１】

【０１２３】表１からも明らかなように本発明にかかる
試料は、比較に対して高感度、硬調で黒ポツが良く、ま
た経時による性能変動が少ないことがわかる。

【０１２４】

【発明の効果】本発明により、ｐＨ１１．０未満の現像
液で迅速処理しても経時による感度変動や軟調化や、未
露光部分に発生する黒ポツの増加が防止された超硬調画
像の形成方法を提供することができた。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　支持体上に少なくとも１つのハロゲン
   化銀乳剤層を有し、該乳剤層またはその他の親水性コロ
   イド層中に下記一般式〔Ｈ〕で表されるヒドラジン誘導
   体を含有するハロゲン化銀写真感光材料を画像露光後ｐ
   Ｈ１１．０以下の現像液で処理する黒白画像形成方法に
   おいて、該ハロゲン化銀乳剤がＢｒ含有率９０％以上の
   単分散ハロゲン化銀粒子からなり、かつ該乳剤層または
   その他の親水性コロイド層中に現像促進剤とメルカプト
   化合物を含有することを特徴とする画像形成方法。 【化１】
2. 【請求項２】　　現像時間が１５秒以下であることを特
   徴とする請求項１記載の画像形成方法。