JP2995360B2 - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は超硬調なハロゲン化銀写
真感光材料に関し、詳しくは経時安定性に優れ、かつ黒
ポツ発生も抑制されたハロゲン化銀写真感光材料に関す
る。
真感光材料に関し、詳しくは経時安定性に優れ、かつ黒
ポツ発生も抑制されたハロゲン化銀写真感光材料に関す
る。
【０００２】
【発明の背景】写真製版工程には連続調の原稿を網点画
像に変換する工程が含まれる。この工程には、超硬調の
画像再現をなしうる写真技術として、伝染現像による技
術が用いられてきた。
像に変換する工程が含まれる。この工程には、超硬調の
画像再現をなしうる写真技術として、伝染現像による技
術が用いられてきた。
【０００３】伝染現像に用いられるリス型ハロゲン化銀
写真感光材料は、例えば平均粒子径が約0.2μmで粒子分
布が狭く粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有率の
高い（少なくとも50モル％以上）塩臭化銀乳剤よりな
る。このリス型ハロゲン化銀写真感光材料を亜硫酸イオ
ン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン現像液、いわゆ
るリス型現像液で処理することにより、高いコントラス
ト、高鮮鋭度、高解像力の画像が得られる。
写真感光材料は、例えば平均粒子径が約0.2μmで粒子分
布が狭く粒子の形も整っていて、かつ塩化銀の含有率の
高い（少なくとも50モル％以上）塩臭化銀乳剤よりな
る。このリス型ハロゲン化銀写真感光材料を亜硫酸イオ
ン濃度が低いアルカリ性ハイドロキノン現像液、いわゆ
るリス型現像液で処理することにより、高いコントラス
ト、高鮮鋭度、高解像力の画像が得られる。
【０００４】しかしながら、これらのリス型現像液は空
気酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際において現像品質を一定に保つことは難し
い。上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コン
トラストの画像を得る方法が知られている。例えば特開
昭56-106244号等に見られるように、ハロゲン化銀写真
感光材料中にヒドラジン誘導体を含有せしめるものであ
る。これらの方法によれば、保恒性が良く、迅速処理可
能な現像液で処理することによっても硬調な画像が得る
ことができる。
気酸化を受けやすいことから保恒性が極めて悪いため、
連続使用の際において現像品質を一定に保つことは難し
い。上記のリス型現像液を使わずに迅速に、かつ高コン
トラストの画像を得る方法が知られている。例えば特開
昭56-106244号等に見られるように、ハロゲン化銀写真
感光材料中にヒドラジン誘導体を含有せしめるものであ
る。これらの方法によれば、保恒性が良く、迅速処理可
能な現像液で処理することによっても硬調な画像が得る
ことができる。
【０００５】さらに網点品質向上のために、特開平2-28
5340号のようにレドックス化合物を感光材料中に含有さ
せる技術が開示されている。また、網階調を広くするた
め特開平3-174143号ではレドックス化合物を含む層とヒ
ドラジン誘導体を含む感光性乳剤層とを有する感光材料
が開示されている。
5340号のようにレドックス化合物を感光材料中に含有さ
せる技術が開示されている。また、網階調を広くするた
め特開平3-174143号ではレドックス化合物を含む層とヒ
ドラジン誘導体を含む感光性乳剤層とを有する感光材料
が開示されている。
【０００６】しかしこのようなレドックス化合物を用い
ると経時によって軟調化や、現像処理後の未露光部に発
生する砂状のカブリ、いわゆる黒ポツが劣化するという
問題があり、満足な性能が得られないのが現状である。
ると経時によって軟調化や、現像処理後の未露光部に発
生する砂状のカブリ、いわゆる黒ポツが劣化するという
問題があり、満足な性能が得られないのが現状である。
【０００７】
【発明の目的】本発明の目的は、経時による軟調化や、
未露光部分に発生する黒ポツの増加が防止された超硬調
画像の形成方法を提供することにある。
未露光部分に発生する黒ポツの増加が防止された超硬調
画像の形成方法を提供することにある。
【０００８】
【発明の構成】本発明の上記目的は、支持体上に、酸化
されることにより現像抑制化合物を放出し得るレドック
ス化合物を含む親水性コロイド層と、ヒドラジン誘導体
を含む少なくとも１層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有
するハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤層側の
ゼラチンの総和が0.5〜3.3g/m 2 であることを特徴とする
ハロゲン化銀写真感光材料により達成される。
されることにより現像抑制化合物を放出し得るレドック
ス化合物を含む親水性コロイド層と、ヒドラジン誘導体
を含む少なくとも１層の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有
するハロゲン化銀写真感光材料において、該乳剤層側の
ゼラチンの総和が0.5〜3.3g/m 2 であることを特徴とする
ハロゲン化銀写真感光材料により達成される。
【０００９】尚本発明においては感光性ハロゲン化銀乳
剤層は、支持体と親水性コロイド層との間にあることが
好ましい。
剤層は、支持体と親水性コロイド層との間にあることが
好ましい。
【００１０】以下、本発明について具体的に説明する。
【００１１】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては下記一般式〔Ｈ〕で表される化合物であることが好
ましい。
ては下記一般式〔Ｈ〕で表される化合物であることが好
ましい。
【００１２】
【化１】
【００１３】本発明においてはこれらのうち更に下記一
般式〔Ｈ−ａ〕、〔Ｈ−ｂ〕、〔Ｈ−ｃ〕又は〔Ｈ−
ｄ〕で表される化合物が好ましい。
般式〔Ｈ−ａ〕、〔Ｈ−ｂ〕、〔Ｈ−ｃ〕又は〔Ｈ−
ｄ〕で表される化合物が好ましい。
【００１４】
【化２】
【００１５】上記一般式〔Ｈ−ａ〕中、Ｒ3およびＲ4そ
れぞれ水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基、2-ヒ
ドロキシプロピル基、2-シアノエチル基、2-クロロエチ
ル基）、置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル
基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジル基（例
えばフェニル基、p-メチルフェニル基、ナフチル基、α
-ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基、p-メチル
シクロヘキシル基、ピリジル基、4-プロピル-2-ピリジ
ル基、ピロリジル基、4-メチル-2-ピロリジル基）など
を表し、Ｒ5は水素原子、置換もしくは無置換のベンジ
ル基、アルコキシ基またはアルキル基（例えばベンジル
基、p-メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エ
チル基、ブチル基）を表し、Ｒ6およびＲ7はそれぞれ２
価の芳香族基（例えばフェニレン基またはナフチレン
基）を表し、Ｙはイオウ原子または酸素原子を表し、Ｌ
は２価の結合基（例えば−SO2CH2CH2NH−、−SO2NH−、
−OCH2SO2NH−、−O−、−CH＝N−）を表し、Ｒ8は−N
R′R″または−OR9を表し、Ｒ′、Ｒ″およびＲ9はそれ
ぞれ水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（例え
ばメチル基、エチル基、ドデシル基）、フェニル基（例
えばフェニル基、p-メチルフェニル基、p-メトキシフェ
ニル基）、ナフチル基（例えばα-ナフチル基、β-ナフ
チル基）または複素環基（例えばピリジン、チオフェ
ン、フランの様な不飽和複素環基またはテトラヒドロフ
ラン、スルホランの様な飽和複素環基）を表し、Ｒ′と
Ｒ″は窒素原子と共に環（例えばピペリジン、ピペラジ
ン、モルホリン等）を形成しても良い。
れぞれ水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（例
えばメチル基、エチル基、ブチル基、ドデシル基、2-ヒ
ドロキシプロピル基、2-シアノエチル基、2-クロロエチ
ル基）、置換もしくは無置換のフェニル基、ナフチル
基、シクロヘキシル基、ピリジル基、ピロリジル基（例
えばフェニル基、p-メチルフェニル基、ナフチル基、α
-ヒドロキシナフチル基、シクロヘキシル基、p-メチル
シクロヘキシル基、ピリジル基、4-プロピル-2-ピリジ
ル基、ピロリジル基、4-メチル-2-ピロリジル基）など
を表し、Ｒ5は水素原子、置換もしくは無置換のベンジ
ル基、アルコキシ基またはアルキル基（例えばベンジル
基、p-メチルベンジル基、メトキシ基、エトキシ基、エ
チル基、ブチル基）を表し、Ｒ6およびＲ7はそれぞれ２
価の芳香族基（例えばフェニレン基またはナフチレン
基）を表し、Ｙはイオウ原子または酸素原子を表し、Ｌ
は２価の結合基（例えば−SO2CH2CH2NH−、−SO2NH−、
−OCH2SO2NH−、−O−、−CH＝N−）を表し、Ｒ8は−N
R′R″または−OR9を表し、Ｒ′、Ｒ″およびＲ9はそれ
ぞれ水素原子、置換もしくは無置換のアルキル基（例え
ばメチル基、エチル基、ドデシル基）、フェニル基（例
えばフェニル基、p-メチルフェニル基、p-メトキシフェ
ニル基）、ナフチル基（例えばα-ナフチル基、β-ナフ
チル基）または複素環基（例えばピリジン、チオフェ
ン、フランの様な不飽和複素環基またはテトラヒドロフ
ラン、スルホランの様な飽和複素環基）を表し、Ｒ′と
Ｒ″は窒素原子と共に環（例えばピペリジン、ピペラジ
ン、モルホリン等）を形成しても良い。
【００１６】ｍおよびｎはそれぞれ０または１を表す。
Ｒ8が−OR9を表すときＹはイオウ原子を表すことが好ま
しい。
Ｒ8が−OR9を表すときＹはイオウ原子を表すことが好ま
しい。
【００１７】
【化３】
【００１８】式中、Ｒ10、Ｒ11およびＲ12はそれぞれ水
素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ブチ
ル基、3-アリールオキシプロピル基）、置換もしくは無
置換のフェニル基、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピ
リジル基、ピロリジル基、置換もしくは無置換のアルコ
キシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基）
または置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えば
フェノキシ基、4-メチルフェノキシ基）を表わす。
素原子、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、ブチ
ル基、3-アリールオキシプロピル基）、置換もしくは無
置換のフェニル基、ナフチル基、シクロヘキシル基、ピ
リジル基、ピロリジル基、置換もしくは無置換のアルコ
キシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基）
または置換もしくは無置換のアリールオキシ基（例えば
フェノキシ基、4-メチルフェノキシ基）を表わす。
【００１９】本発明においてはＲ12は水素原子またはア
ルキル基であることが好ましい。
ルキル基であることが好ましい。
【００２０】Ｒ13は２価の芳香族基（例えばフェニレン
基、ナフチレン基）を表わし、Ｚはイオウ原子または酸
素原子を表わす。
基、ナフチレン基）を表わし、Ｚはイオウ原子または酸
素原子を表わす。
【００２１】Ｒ14は置換もしくは無置換のアルキル基、
アルコキシ基またはアミノ基を表わし、置換基としては
アルコキシ基、シアノ基、アリール基などが挙げられ
る。
アルコキシ基またはアミノ基を表わし、置換基としては
アルコキシ基、シアノ基、アリール基などが挙げられ
る。
【００２２】前記ヒドラジン誘導体は公知の方法により
簡単に合成することができるが、例えば特開平2-214850
号、同2-47646号、同2-12237号等の記載に準じて合成す
ることができる。
簡単に合成することができるが、例えば特開平2-214850
号、同2-47646号、同2-12237号等の記載に準じて合成す
ることができる。
【００２３】上記一般式〔Ｈ−ａ〕，〔Ｈ−ｂ〕で表さ
れる代表的な化合物を以下に示す。
れる代表的な化合物を以下に示す。
【００２４】
【化４】
【００２５】
【化５】
【００２６】
【化６】
【００２７】
【化７】
【００２８】
【化８】
【００２９】
【化９】
【００３０】
【化１０】
【００３１】
【化１１】
【００３２】式中、Ａはアリール基、又は、硫黄原子又
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、ｎは
１又は２の整数を表す。ｎ＝１の時、Ｒ15及びＲ16はそ
れぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリ
ールオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、Ｒ15とＲ
16は窒素原子と共に環を形成してもよい。ｎ＝２の時、
Ｒ15及びＲ16はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複
素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、又はヘ
テロ環オキシ基を表す。ただしｎ＝２の時、Ｒ15及びＲ
16のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキニル
基、飽和複素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ
基、又はヘテロ環オキシ基を表すものとする。Ｒ17はア
ルキニル基又は飽和複素環基を表す。
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基を表し、ｎは
１又は２の整数を表す。ｎ＝１の時、Ｒ15及びＲ16はそ
れぞれ水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリール基、複素環基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリ
ールオキシ基、又はヘテロ環オキシ基を表し、Ｒ15とＲ
16は窒素原子と共に環を形成してもよい。ｎ＝２の時、
Ｒ15及びＲ16はそれぞれ水素原子、アルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複
素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキ
シ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基、又はヘ
テロ環オキシ基を表す。ただしｎ＝２の時、Ｒ15及びＲ
16のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキニル
基、飽和複素環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アル
ケニルオキシ基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ
基、又はヘテロ環オキシ基を表すものとする。Ｒ17はア
ルキニル基又は飽和複素環基を表す。
【００３３】一般式〔Ｈ−ｃ〕又は〔Ｈ−ｄ〕で表され
る化合物には、式中の−NHNH−の少なくともいずれかの
Ｈが置換基で置換されたものを含む。
る化合物には、式中の−NHNH−の少なくともいずれかの
Ｈが置換基で置換されたものを含む。
【００３４】更に詳しく説明すると、Ａはアリール基
（例えば、フェニル、ナフチル等）、又は、硫黄原子又
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基（例えば、チ
オフェン、フラン、ベンゾチオフェン、ピラン、等）を
表す。
（例えば、フェニル、ナフチル等）、又は、硫黄原子又
は酸素原子を少なくとも一つ含む複素環基（例えば、チ
オフェン、フラン、ベンゾチオフェン、ピラン、等）を
表す。
【００３５】Ｒ15及びＲ16はそれぞれ水素原子、アルキ
ル基（例えば、メチル、エチル、メトキシエチル、シア
ノエチル、ヒドロキシエチル、ベンジル、トリフルオロ
エチル等）、アルケニル基（例えば、アリル、ブテニ
ル、ペンテニル、ペンタジエニル等）、アルキニル基
（例えば、プロパルギル、ブチニル、ペンチニル等）、
アリール基（例えば、フェニル、ナフチル、シアノフェ
ニル、メトキシフェニル等）、複素環基（例えば、ピリ
ジン、チオフェン、フランの様な不飽和複素環基及びテ
トラヒドロフラン、スルホランの様な飽和複素環基）、
ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エト
キシ、ベンジルオキシ、シアノメトキシ等）、アルケニ
ルオキシ基（例えば、アリルオキシ、ブテニルオキシ
等）、アルキニルオキシ基（例えば、プロパルギルオキ
シ、ブチニルオキシ等）、アリールオキシ基（例えば、
フェノキシ、ナフチルオキシ等）、又はヘテロ環オキシ
基（例えば、ピリジルオキシ、ピリミジルオキシ等）を
表し、ｎ＝１の時、Ｒ15とＲ16は窒素原子と共に環（例
えば、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン等）を形成
してもよい。
ル基（例えば、メチル、エチル、メトキシエチル、シア
ノエチル、ヒドロキシエチル、ベンジル、トリフルオロ
エチル等）、アルケニル基（例えば、アリル、ブテニ
ル、ペンテニル、ペンタジエニル等）、アルキニル基
（例えば、プロパルギル、ブチニル、ペンチニル等）、
アリール基（例えば、フェニル、ナフチル、シアノフェ
ニル、メトキシフェニル等）、複素環基（例えば、ピリ
ジン、チオフェン、フランの様な不飽和複素環基及びテ
トラヒドロフラン、スルホランの様な飽和複素環基）、
ヒドロキシ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エト
キシ、ベンジルオキシ、シアノメトキシ等）、アルケニ
ルオキシ基（例えば、アリルオキシ、ブテニルオキシ
等）、アルキニルオキシ基（例えば、プロパルギルオキ
シ、ブチニルオキシ等）、アリールオキシ基（例えば、
フェノキシ、ナフチルオキシ等）、又はヘテロ環オキシ
基（例えば、ピリジルオキシ、ピリミジルオキシ等）を
表し、ｎ＝１の時、Ｒ15とＲ16は窒素原子と共に環（例
えば、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン等）を形成
してもよい。
【００３６】ただしｎ＝２の時、Ｒ15及びＲ16のうち少
なくとも一方はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素
環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基又はヘテロ
環オキシ基を表すものとする。
なくとも一方はアルケニル基、アルキニル基、飽和複素
環基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基、アリールオキシ基又はヘテロ
環オキシ基を表すものとする。
【００３７】Ｒ17で表されるアルキニル基及び飽和複素
環基の具体例としては、上述したようなものが挙げられ
る。
環基の具体例としては、上述したようなものが挙げられ
る。
【００３８】Ａで表されるアリール基、又は、硫黄原子
又は酸素原子を少なくとも一つ有する複素環基に、種々
の置換基が導入できる。導入できる置換基としては例え
ばハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホニル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アシル基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、アリールアミノチオカルボニルアミノ基、
ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基などが挙げられる。これらの置換基のうちスルホ
ンアミド基が好ましい。
又は酸素原子を少なくとも一つ有する複素環基に、種々
の置換基が導入できる。導入できる置換基としては例え
ばハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホニル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル
基、スルファモイル基、アシル基、アミノ基、アルキル
アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、アリールアミノチオカルボニルアミノ基、
ヒドロキシ基、カルボキシ基、スルホ基、ニトロ基、シ
アノ基などが挙げられる。これらの置換基のうちスルホ
ンアミド基が好ましい。
【００３９】各一般式中、Ａは耐拡散基又はハロゲン化
銀吸着促進基を少なくとも一つ含むことが好ましい。耐
拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤におい
て常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基は
８以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な
基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル
基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェ
ノキシ基などの中から選ぶことができる。
銀吸着促進基を少なくとも一つ含むことが好ましい。耐
拡散基としてはカプラー等の不動性写真用添加剤におい
て常用されているバラスト基が好ましい。バラスト基は
８以上の炭素数を有する写真性に対して比較的不活性な
基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、フェニル
基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェ
ノキシ基などの中から選ぶことができる。
【００４０】ハロゲン化銀吸着促進基としてはチオ尿素
基、チオウレタン基、複素環チオアミド基、メルカプト
複素環基、トリアゾール基などの米国特許4,385,108号
に記載された基が挙げられる。
基、チオウレタン基、複素環チオアミド基、メルカプト
複素環基、トリアゾール基などの米国特許4,385,108号
に記載された基が挙げられる。
【００４１】一般式〔Ｈ−ｃ〕及び〔Ｈ−ｄ〕中の−NH
NH−のＨ、即ちヒドラジンの水素原子は、スルホニル基
（例えばメタンスルホニル、トルエンスルホニル等）、
アシル基（例えば、アセチル、トリフルオロアセチル、
エトキシカルボニル等）、オキザリル基（例えば、エト
キザリル、ピルボイル等）等の置換基で置換されていて
もよく、一般式〔Ｈ−ｃ〕及び〔Ｈ−ｄ〕で表される化
合物はこのようなものをも含む。
NH−のＨ、即ちヒドラジンの水素原子は、スルホニル基
（例えばメタンスルホニル、トルエンスルホニル等）、
アシル基（例えば、アセチル、トリフルオロアセチル、
エトキシカルボニル等）、オキザリル基（例えば、エト
キザリル、ピルボイル等）等の置換基で置換されていて
もよく、一般式〔Ｈ−ｃ〕及び〔Ｈ−ｄ〕で表される化
合物はこのようなものをも含む。
【００４２】本発明においてより好ましい化合物は、一
般式〔Ｈ−ｃ〕のｎ＝２の場合の化合物、及び一般式
〔Ｈ−ｄ〕の化合物である。
般式〔Ｈ−ｃ〕のｎ＝２の場合の化合物、及び一般式
〔Ｈ−ｄ〕の化合物である。
【００４３】一般式〔Ｈ−ｃ〕のｎ＝２の化合物におい
て、Ｒ15及びＲ16が水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複素環
基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基であり、かつＲ31
及びＲ32のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキ
ニル基、飽和複素環基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ
基を表す化合物が更に好ましい。
て、Ｒ15及びＲ16が水素原子、アルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、飽和又は不飽和複素環
基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ基であり、かつＲ31
及びＲ32のうち少なくとも一方はアルケニル基、アルキ
ニル基、飽和複素環基、ヒドロキシ基、又はアルコキシ
基を表す化合物が更に好ましい。
【００４４】上記一般式〔Ｈ−ｃ〕，〔Ｈ−ｄ〕で表さ
れる代表的な化合物としては、以下に示すものがある。
但し当然のことであるが、本発明において用い得る一般
式〔Ｈ−ｃ〕，〔Ｈ−ｄ〕の具体的化合物は、これらの
化合物に限定されるものではない。
れる代表的な化合物としては、以下に示すものがある。
但し当然のことであるが、本発明において用い得る一般
式〔Ｈ−ｃ〕，〔Ｈ−ｄ〕の具体的化合物は、これらの
化合物に限定されるものではない。
【００４５】具体的化合物例
【００４６】
【化１２】
【００４７】
【化１３】
【００４８】
【化１４】
【００４９】
【化１５】
【００５０】上記以外の具体的化合物としては、特開平
2-841号542(4)頁〜546(8)頁に記載されている化合物例
(１)〜(61)及び(65)〜(75)がある。
2-841号542(4)頁〜546(8)頁に記載されている化合物例
(１)〜(61)及び(65)〜(75)がある。
【００５１】本発明におけるヒドラジン誘導体は特開平
2-841号546(8)頁〜550(12)頁に記載されている方法で合
成することができる。本発明のヒドラジン誘導体の添加
位置はハロゲン化銀乳剤層及び／又は隣接層である。添
加量は銀１モル当たり１×10-6〜１×10-1モルが好まし
く、さらに好ましくは銀１モル当たり１×10-5モル〜１
×10-2モルである。
2-841号546(8)頁〜550(12)頁に記載されている方法で合
成することができる。本発明のヒドラジン誘導体の添加
位置はハロゲン化銀乳剤層及び／又は隣接層である。添
加量は銀１モル当たり１×10-6〜１×10-1モルが好まし
く、さらに好ましくは銀１モル当たり１×10-5モル〜１
×10-2モルである。
【００５２】またヒドラジン誘導体として〔Ｈ−ｃ〕又
は〔Ｈ−ｄ〕を含有する場合は、特願平2-234203号68頁
１行〜144頁12行に記載されている造核促進化合物の少
なくとも１種を、ハロゲン化銀乳剤層及び／又は支持体
上のハロゲン化銀乳剤層側にある非感光性層に含むこと
が好ましい。
は〔Ｈ−ｄ〕を含有する場合は、特願平2-234203号68頁
１行〜144頁12行に記載されている造核促進化合物の少
なくとも１種を、ハロゲン化銀乳剤層及び／又は支持体
上のハロゲン化銀乳剤層側にある非感光性層に含むこと
が好ましい。
【００５３】造核促進剤の代表的具体例として以下に示
すものが挙げられる。
すものが挙げられる。
【００５４】
【化１６】
【００５５】
【化１７】
【００５６】更に他の具体例としては、特願平2-234203
号69頁〜72頁に記載されている化合物I-１〜I-26、73頁
〜78頁に記載されている化合物II-１〜II-29、80頁〜83
頁に記載されている化合物III-１〜III-25、84頁〜90頁
に記載されている化合物IV-1〜IV-41、92頁〜96頁に記
載されている化合物V-I-１〜V-I-27、98頁〜103頁に記
載されている化合物V-II-１〜V-II-30、105頁〜111頁に
記載されている化合物V-III-１〜113頁〜121頁に記載さ
れている化合物VI-I-１〜VI-I-44、123頁〜135頁に記載
されている化合物VI-II-１〜VI-II-68及び137頁〜143頁
に記載されている化合物VI-III-１〜VI-III-35の中の上
述の代表的具体例以外のものがある。
号69頁〜72頁に記載されている化合物I-１〜I-26、73頁
〜78頁に記載されている化合物II-１〜II-29、80頁〜83
頁に記載されている化合物III-１〜III-25、84頁〜90頁
に記載されている化合物IV-1〜IV-41、92頁〜96頁に記
載されている化合物V-I-１〜V-I-27、98頁〜103頁に記
載されている化合物V-II-１〜V-II-30、105頁〜111頁に
記載されている化合物V-III-１〜113頁〜121頁に記載さ
れている化合物VI-I-１〜VI-I-44、123頁〜135頁に記載
されている化合物VI-II-１〜VI-II-68及び137頁〜143頁
に記載されている化合物VI-III-１〜VI-III-35の中の上
述の代表的具体例以外のものがある。
【００５７】次に本発明に用いる酸化されることによ
り、現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物のレドッ
クス基の例としては、ハイドロキノン類、カテコール
類、ナフトハイドロキノン類、アミノフェノール類、ピ
ラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒロキシルアミン類、レ
ダクトン類などが挙げられる。レドックス基としてはヒ
ドラジン類が好ましく、レドックス化合物としては下記
一般式〔Ｒ〕で表される化合物が特に好ましい。
り、現像抑制剤を放出しうるレドックス化合物のレドッ
クス基の例としては、ハイドロキノン類、カテコール
類、ナフトハイドロキノン類、アミノフェノール類、ピ
ラゾリドン類、ヒドラジン類、ヒロキシルアミン類、レ
ダクトン類などが挙げられる。レドックス基としてはヒ
ドラジン類が好ましく、レドックス化合物としては下記
一般式〔Ｒ〕で表される化合物が特に好ましい。
【００５８】
【化１８】
【００５９】一般式〔Ｒ〕においてＢ1，Ｂ2は水素原
子、ともに水素原子又はスルホン酸残基、一方が水素原
子で他方はスルフィン酸残基例えば炭素数20以下のアル
キルスルホニル基及びアリールスルホニル基（好ましく
はフェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和
が−0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基）もしくは、−[C(O)]l−R0〔Ｒ0として好ましくは
炭素数30以下の直鎖、分岐状又は環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基（好ましくはフェニル基、又は
ハメットの置換基定数の和が−0.5以上となるように置
換されたフェニル基）、アルコキシ基（例えばエトキシ
基など）、アリールオキシ基（好ましくは単環のも
の）〕などであり、これらの基は置換基を有していても
よく置換基としては、例えば以下のものがあげられる。
これらの基は更に置換されていてもよい。例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ
基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
フィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、
スルホ基やカルボキシル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、などである。Ｂ1，
Ｂ2で表されるスルフィン酸残基は具体的には米国特許
4,478,928号に記載されているものを表す。
子、ともに水素原子又はスルホン酸残基、一方が水素原
子で他方はスルフィン酸残基例えば炭素数20以下のアル
キルスルホニル基及びアリールスルホニル基（好ましく
はフェニルスルホニル基又はハメットの置換基定数の和
が−0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基）もしくは、−[C(O)]l−R0〔Ｒ0として好ましくは
炭素数30以下の直鎖、分岐状又は環状のアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基（好ましくはフェニル基、又は
ハメットの置換基定数の和が−0.5以上となるように置
換されたフェニル基）、アルコキシ基（例えばエトキシ
基など）、アリールオキシ基（好ましくは単環のも
の）〕などであり、これらの基は置換基を有していても
よく置換基としては、例えば以下のものがあげられる。
これらの基は更に置換されていてもよい。例えばアルキ
ル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
ルコキシ基、アリール基、置換アミノ基、アシルアミノ
基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、ウレタン基、ア
リールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、スルホニル基、スル
フィニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、
スルホ基やカルボキシル基、アリールオキシカルボニル
基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ニトロ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、などである。Ｂ1，
Ｂ2で表されるスルフィン酸残基は具体的には米国特許
4,478,928号に記載されているものを表す。
【００６０】又、Ｂ1は後述の−(Time)t−と連結して環
を形成してもよい。
を形成してもよい。
【００６１】Ｂ1，Ｂ2としては水素原子が最も好まし
い。
い。
【００６２】Timeは二価の連結基を表し、タイミング調
節機能を有していてもよい。ｔは０又１を表し、ｔ＝０
の場合はPUGが直接Ｖに結合していることを意味する。
節機能を有していてもよい。ｔは０又１を表し、ｔ＝０
の場合はPUGが直接Ｖに結合していることを意味する。
【００６３】Timeで表される二価の連結基は酸化還元母
核の酸化体から放出されるTime−PUGから一段階或は、
それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる基を表
す。
核の酸化体から放出されるTime−PUGから一段階或は、
それ以上の段階の反応を経てPUGを放出せしめる基を表
す。
【００６４】Timeで表される二価の連結基としては、例
えば米国特許2,248,962号（特開昭54-145135号）等に記
載のp-ニトロフェノキシ誘導体の分子内閉環反応によっ
て写真的有用基（PUG）を放出するもの；米国特許4,31
0,612号（特開昭55-53330号）及び同4,358,252号等に記
載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放出する
もの；米国特許4,330,617号、同4,446,216号、同4,483,
919号、特開昭59-121328号等に記載のコハク酸モノエス
テル又はその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応
による酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの；
米国特許４，４０９，３２３号、同４，４２１，８４５
号、リサーチ・ディスクロージャー誌No.21,228（1981
年12月）、米国特許4,416,977号（特開昭57-135944
号）、特開昭58-209736号、同58-209738号等に記載のア
リールオキシ基又はヘテロ環オキシ基が共役した二重結
合を介した電子移動によりキノモノメタン、又はその類
縁体を生成してPUGを放出するもの；米国特許4,420,554
号（特開昭57-136640号）、特開昭57-135945号、同57-1
88035号、同58-98728号及び同58-209737号等に記載の含
窒素ヘテロ環のエナミン構造を有する部分の電子移動に
よりエナミンのγ位よりPUGを放出するもの；特開昭57-
56837号に記載の含窒素ヘテロ環の窒素原子と共役した
カルボニル基への電子移動により生成したオキシ基の分
子内閉環反応によりPUGを放出するもの；米国特許4,14
6,396号（特開昭52-90932号）、特開昭59-93442号、特
開昭59-75475号等に記載のアルデヒド類の生成を伴って
PUGを放出するもの；特開昭51-146828号、同57-179842
号、同59-104641号に記載のカルボキシル基の脱炭素を
伴ってPUGを放出するもの；−O−COOCR2R6−PUGの構造
を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴って
PUGを放出するもの；特開昭60-7429号に記載のイソシア
ナートの生成を伴ってPUGを放出するもの、米国特許4,4
38,193号等に記載のカラー現像薬の酸化体とのカップリ
ング反応によりPUGを放出するものなどを挙げることが
できる。
えば米国特許2,248,962号（特開昭54-145135号）等に記
載のp-ニトロフェノキシ誘導体の分子内閉環反応によっ
て写真的有用基（PUG）を放出するもの；米国特許4,31
0,612号（特開昭55-53330号）及び同4,358,252号等に記
載の環開裂後の分子内閉環反応によってPUGを放出する
もの；米国特許4,330,617号、同4,446,216号、同4,483,
919号、特開昭59-121328号等に記載のコハク酸モノエス
テル又はその類縁体のカルボキシル基の分子内閉環反応
による酸無水物の生成を伴って、PUGを放出するもの；
米国特許４，４０９，３２３号、同４，４２１，８４５
号、リサーチ・ディスクロージャー誌No.21,228（1981
年12月）、米国特許4,416,977号（特開昭57-135944
号）、特開昭58-209736号、同58-209738号等に記載のア
リールオキシ基又はヘテロ環オキシ基が共役した二重結
合を介した電子移動によりキノモノメタン、又はその類
縁体を生成してPUGを放出するもの；米国特許4,420,554
号（特開昭57-136640号）、特開昭57-135945号、同57-1
88035号、同58-98728号及び同58-209737号等に記載の含
窒素ヘテロ環のエナミン構造を有する部分の電子移動に
よりエナミンのγ位よりPUGを放出するもの；特開昭57-
56837号に記載の含窒素ヘテロ環の窒素原子と共役した
カルボニル基への電子移動により生成したオキシ基の分
子内閉環反応によりPUGを放出するもの；米国特許4,14
6,396号（特開昭52-90932号）、特開昭59-93442号、特
開昭59-75475号等に記載のアルデヒド類の生成を伴って
PUGを放出するもの；特開昭51-146828号、同57-179842
号、同59-104641号に記載のカルボキシル基の脱炭素を
伴ってPUGを放出するもの；−O−COOCR2R6−PUGの構造
を有し、脱炭酸と引き続くアルデヒド類の生成を伴って
PUGを放出するもの；特開昭60-7429号に記載のイソシア
ナートの生成を伴ってPUGを放出するもの、米国特許4,4
38,193号等に記載のカラー現像薬の酸化体とのカップリ
ング反応によりPUGを放出するものなどを挙げることが
できる。
【００６５】これら、Timeで表される二価の連結基の具
体例については特開昭61-236549号、特願昭63-98803号
等にも詳細に記載されている。
体例については特開昭61-236549号、特願昭63-98803号
等にも詳細に記載されている。
【００６６】主な現像抑制剤としてはメルカプトテトラ
ゾール誘導体、メルカプトトリアゾール誘導体、メルカ
プトイミダゾール誘導体、メルカプトピリミジン誘導
体、メルカプトベンズイミダゾール誘導体、メルカプト
チアジアゾール誘導体、メルカプトベンズチアゾール誘
導体、メルカプトベンズオキサゾール誘導体、ベンズト
リアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、インダ
ゾール誘導体、テトラゾール誘導体、テトラザインデン
誘導体、メルカプトアリール誘導体等が挙げられる。
ゾール誘導体、メルカプトトリアゾール誘導体、メルカ
プトイミダゾール誘導体、メルカプトピリミジン誘導
体、メルカプトベンズイミダゾール誘導体、メルカプト
チアジアゾール誘導体、メルカプトベンズチアゾール誘
導体、メルカプトベンズオキサゾール誘導体、ベンズト
リアゾール誘導体、ベンズイミダゾール誘導体、インダ
ゾール誘導体、テトラゾール誘導体、テトラザインデン
誘導体、メルカプトアリール誘導体等が挙げられる。
【００６７】Ｖはカルボニル基、−C(O)C(O)−、スルホ
ニル基、スルホキシ基、−P(O)(R14)−R1（Ｒ1はアルコ
キシ基又はアリールオキシ基を表す。）、イミノメチレ
ン基、チオカルボニル基を表し、Ｖとしてはカルボニル
基が好ましい。
ニル基、スルホキシ基、−P(O)(R14)−R1（Ｒ1はアルコ
キシ基又はアリールオキシ基を表す。）、イミノメチレ
ン基、チオカルボニル基を表し、Ｖとしてはカルボニル
基が好ましい。
【００６８】Ｒで表される脂肪族基は直鎖、分岐又は環
状のアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基であ
り、好ましい炭素数は１〜30のものであって、特に炭素
数１〜20のものである。ここで分岐アルキル基はその中
に１つ又はそれ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
状のアルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基であ
り、好ましい炭素数は１〜30のものであって、特に炭素
数１〜20のものである。ここで分岐アルキル基はその中
に１つ又はそれ以上のヘテロ原子を含んだ飽和のヘテロ
環を形成するように環化されていてもよい。
【００６９】例えばメチル基、t-ブチル基、n-オクチル
基、t-オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、
ピロリジル基、テトラヒドロフリル基、n-ドデシル基な
どが挙げられる。
基、t-オクチル基、シクロヘキシル基、ヘキセニル基、
ピロリジル基、テトラヒドロフリル基、n-ドデシル基な
どが挙げられる。
【００７０】芳香族基は単環又は２環のアリール基であ
り、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
り、例えばフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
【００７１】ヘテロ環基は、Ｎ，Ｏ又はＳ原子のうち少
なくともひとつを含む３〜10員の飽和もしくは不飽和の
ヘテロ環であり、これらは単環でもよいし、更に他の芳
香環もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましいものは、５ないし６員環の芳香族ヘ
テロ環であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル基、
キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニル
基、ピラゾリル基、イソキノリニル基、ベンズチアゾリ
ル基、チアゾリル基などが挙げられる。Ｒは置換基で置
換されていてもよい。置換基としては、例えば以下のも
のが挙げられる。これらの基は更に置換されていてもよ
い。
なくともひとつを含む３〜10員の飽和もしくは不飽和の
ヘテロ環であり、これらは単環でもよいし、更に他の芳
香環もしくはヘテロ環と縮合環を形成してもよい。ヘテ
ロ環として好ましいものは、５ないし６員環の芳香族ヘ
テロ環であり、例えば、ピリジン環、イミダゾリル基、
キノリニル基、ベンズイミダゾリル基、ピリミジニル
基、ピラゾリル基、イソキノリニル基、ベンズチアゾリ
ル基、チアゾリル基などが挙げられる。Ｒは置換基で置
換されていてもよい。置換基としては、例えば以下のも
のが挙げられる。これらの基は更に置換されていてもよ
い。
【００７２】例えばアルキル基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置
換アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウ
レイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモ
イル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホチオ基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミ
ド基などである。
ニル基、アルキニル基、アルコキシ基、アリール基、置
換アミノ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、ウ
レイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモ
イル基、カルバモイル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、スルホチオ基、スルフィニル基、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、アルキルオキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基やカルボキシ基、リン酸アミ
ド基などである。
【００７３】また一般式〔Ｒ〕において、Ｒ、又は−(T
ime)t−PUGは、その中にカプラー等の不動性写真用添加
剤において常用されているバラスト基や一般式〔Ｒ〕で
表される化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進す
る基が組み込まれていてもよい。
ime)t−PUGは、その中にカプラー等の不動性写真用添加
剤において常用されているバラスト基や一般式〔Ｒ〕で
表される化合物がハロゲン化銀に吸着することを促進す
る基が組み込まれていてもよい。
【００７４】バラスト基は一般式〔Ｒ〕で表される化合
物が実質的に他層又は処理液中へ拡散できないようにす
るのに十分な分子量を与える有機基であり、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテ
ル基、アミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンア
ミド基などの一以上の組み合わせからなるものである。
バラスト基として好ましくは置換ベンゼン環を有するバ
ラスト基であり、特に分岐状アルキル基で置換されたベ
ンゼン環を有するバラスト基が好ましい。
物が実質的に他層又は処理液中へ拡散できないようにす
るのに十分な分子量を与える有機基であり、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基、エーテル基、チオエーテ
ル基、アミド基、ウレイド基、ウレタン基、スルホンア
ミド基などの一以上の組み合わせからなるものである。
バラスト基として好ましくは置換ベンゼン環を有するバ
ラスト基であり、特に分岐状アルキル基で置換されたベ
ンゼン環を有するバラスト基が好ましい。
【００７５】ハロゲン化銀への吸着促進基としては、具
体的には4-チアゾリン-2-チオン、4-イミダゾリン-2-チ
オン、2-チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビツ
ール酸、テトラゾリン-5-チオン、1,2,4-トリアゾリン-
3-チオン、1,3,4-オキサゾリン-2-チオン、ベンズイミ
ダゾリン-2-チオン、ベンズオキサゾリン-2-チオン、ベ
ンゾチアゾリン-2-チオン、チオトリアジン、1,3-イミ
ダゾリン-2-チオンのような環状チオアミド基、鎖状チ
オアミド基、脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト
基、ヘテロ環メルカプト基（−SH基が結合した炭素原子
の隣が窒素原子の場合はこれと互変異性体の関係にある
環状チオアミド基と同義であり、この基の具体例は上に
列挙したものと同じである。）、ジスルフィド結合を有
する基、ベンゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾ
ール、インダゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾー
ル、ベンゾチアゾール、チアゾール、チアゾリン、ベン
ゾオキサゾール、オキサゾール、オキサゾリン、チアジ
アゾール、オキサチアゾール、トリアジン、アザインデ
ンのような窒素、酸素、硫黄及び炭素の組み合わせから
なる５員ないし６員の含窒素ヘテロ環基、及びベンズイ
ミダゾリニウムのような複素環四級塩などが挙げられ
る。
体的には4-チアゾリン-2-チオン、4-イミダゾリン-2-チ
オン、2-チオヒダントイン、ローダニン、チオバルビツ
ール酸、テトラゾリン-5-チオン、1,2,4-トリアゾリン-
3-チオン、1,3,4-オキサゾリン-2-チオン、ベンズイミ
ダゾリン-2-チオン、ベンズオキサゾリン-2-チオン、ベ
ンゾチアゾリン-2-チオン、チオトリアジン、1,3-イミ
ダゾリン-2-チオンのような環状チオアミド基、鎖状チ
オアミド基、脂肪族メルカプト基、芳香族メルカプト
基、ヘテロ環メルカプト基（−SH基が結合した炭素原子
の隣が窒素原子の場合はこれと互変異性体の関係にある
環状チオアミド基と同義であり、この基の具体例は上に
列挙したものと同じである。）、ジスルフィド結合を有
する基、ベンゾトリアゾール、トリアゾール、テトラゾ
ール、インダゾール、ベンズイミダゾール、イミダゾー
ル、ベンゾチアゾール、チアゾール、チアゾリン、ベン
ゾオキサゾール、オキサゾール、オキサゾリン、チアジ
アゾール、オキサチアゾール、トリアジン、アザインデ
ンのような窒素、酸素、硫黄及び炭素の組み合わせから
なる５員ないし６員の含窒素ヘテロ環基、及びベンズイ
ミダゾリニウムのような複素環四級塩などが挙げられ
る。
【００７６】これらは更に適当な置換基で置換されてい
てもよい。置換基としては、例えばＲの置換基として述
べたものが挙げられる。
てもよい。置換基としては、例えばＲの置換基として述
べたものが挙げられる。
【００７７】以下に本発明に用いられる化合物の具体例
を列記するが本発明はこれに限定されるものではない。
を列記するが本発明はこれに限定されるものではない。
【００７８】
【化１９】
【００７９】
【化２０】
【００８０】
【化２１】
【００８１】
【化２２】
【００８２】
【化２３】
【００８３】
【化２４】
【００８４】
【化２５】
【００８５】
【化２６】
【００８６】
【化２７】
【００８７】
【化２８】
【００８８】
【化２９】
【００８９】
【化３０】
【００９０】
【化３１】
【００９１】
【化３２】
【００９２】
【化３３】
【００９３】
【化３４】
【００９４】本発明に用いられるレドックス化合物の合
成法は例えば特開昭61-213847号、同62-260153号、米国
特許4,684,604号、特願昭63-98803号、米国特許3,379,5
29号、同3,620,746号、同4,377,634号、同4,332,878
号、特開昭49-129536号、同56-153336号、同56-153342
号、などに記載されている。
成法は例えば特開昭61-213847号、同62-260153号、米国
特許4,684,604号、特願昭63-98803号、米国特許3,379,5
29号、同3,620,746号、同4,377,634号、同4,332,878
号、特開昭49-129536号、同56-153336号、同56-153342
号、などに記載されている。
【００９５】本発明のレドックス化合物は、ハロゲン化
銀１モル当たり1.0×10-4モル〜5.0×10-2モル、好まし
くは1.0×10-5〜1.0×10-2モルの範囲内で用いられる。
本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶
媒、例えば、アルコール類（メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセ
トン、メチルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。
銀１モル当たり1.0×10-4モル〜5.0×10-2モル、好まし
くは1.0×10-5〜1.0×10-2モルの範囲内で用いられる。
本発明のレドックス化合物は、適当な水混和性有機溶
媒、例えば、アルコール類（メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール）、ケトン類（アセ
トン、メチルエチルケトン）、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。
【００９６】又、既に、良く知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテート或はジエチルフタレー
トなどのオイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなど
の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成
して用いることもできる。或は、固体分散法として知ら
れている方法によって、レドックス化合物の粉末を水の
中に、ボールミル、コロイドミル、或は超音波によって
分散して用いることもできる。
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテート或はジエチルフタレー
トなどのオイルに、酢酸エチルやシクロヘキサノンなど
の補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作成
して用いることもできる。或は、固体分散法として知ら
れている方法によって、レドックス化合物の粉末を水の
中に、ボールミル、コロイドミル、或は超音波によって
分散して用いることもできる。
【００９７】本発明のレドックス化合物を含む層は、ヒ
ドラジン造核剤を含む感光乳剤層の上層に設けられるの
が好ましい。本発明のレドックス化合物を含む層は、さ
らに感光性もしくは非感光性ハロゲン化銀乳剤粒子を含
んでもよい。あるいは隣接してヒドラジン造核剤を含ま
ない補助の感光乳剤層を有していてもよい。本発明のレ
ドックス化合物を含む層と、ヒドラジン造核剤を含む感
光乳剤層との間にゼラチンまたは合成ポリマー（ポリ酢
酸ビニル、ポリビニルアルコールなど）を含む中間層を
設けてもよい。
ドラジン造核剤を含む感光乳剤層の上層に設けられるの
が好ましい。本発明のレドックス化合物を含む層は、さ
らに感光性もしくは非感光性ハロゲン化銀乳剤粒子を含
んでもよい。あるいは隣接してヒドラジン造核剤を含ま
ない補助の感光乳剤層を有していてもよい。本発明のレ
ドックス化合物を含む層と、ヒドラジン造核剤を含む感
光乳剤層との間にゼラチンまたは合成ポリマー（ポリ酢
酸ビニル、ポリビニルアルコールなど）を含む中間層を
設けてもよい。
【００９８】本発明の感光材料は、支持体上に少なくと
も１層の導電性層を設けることが好ましい。導電性層を
形成する代表的方法としては、水溶性導電性ポリマー、
疎水性ポリマー、硬化剤を用いて形成する方法と金属酸
化物を用いて形成する方法がある。これらの方法につい
ては例えば特開平3-265842号第(5)頁〜第(15)頁記載の
方法を用いることができる。本発明に使用されるハロゲ
ン化銀乳剤（以下ハロゲン化銀乳剤乃至単に乳剤などと
称する。）には、ハロゲン化銀として例えば臭化銀、沃
臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハ
ロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用いることが
できるが、好ましくは、塩臭化銀、臭化銀又は４モル％
以下の沃化銀を含む沃臭化銀又は塩沃臭化銀である。
も１層の導電性層を設けることが好ましい。導電性層を
形成する代表的方法としては、水溶性導電性ポリマー、
疎水性ポリマー、硬化剤を用いて形成する方法と金属酸
化物を用いて形成する方法がある。これらの方法につい
ては例えば特開平3-265842号第(5)頁〜第(15)頁記載の
方法を用いることができる。本発明に使用されるハロゲ
ン化銀乳剤（以下ハロゲン化銀乳剤乃至単に乳剤などと
称する。）には、ハロゲン化銀として例えば臭化銀、沃
臭化銀、沃塩化銀、塩臭化銀、及び塩化銀等の通常のハ
ロゲン化銀乳剤に使用される任意のものを用いることが
できるが、好ましくは、塩臭化銀、臭化銀又は４モル％
以下の沃化銀を含む沃臭化銀又は塩沃臭化銀である。
【００９９】また（粒径の標準偏差)／(粒径の平均値)
×100で表される変動係数15％以下である単分散粒子が
好ましい。
×100で表される変動係数15％以下である単分散粒子が
好ましい。
【０１００】本発明の感光材料は、乳剤層側のゼラチン
量の総和が0.5〜3.3g/m 2 であることが特徴である。乳剤
層側とは、支持体に対してハロゲン化銀乳剤を有する層
の側を言い、ハロゲン化銀乳剤層、酸化されることによ
り現像抑制化合物を放出しうるレドックス化合物を含む
親水性コロイド層及びその他の層を含む。その他の層と
しては、例えば乳剤保護層、アンチハレーション層、Ｕ
Ｖ吸収層、中間層、導電層等が挙げられる。
量の総和が0.5〜3.3g/m 2 であることが特徴である。乳剤
層側とは、支持体に対してハロゲン化銀乳剤を有する層
の側を言い、ハロゲン化銀乳剤層、酸化されることによ
り現像抑制化合物を放出しうるレドックス化合物を含む
親水性コロイド層及びその他の層を含む。その他の層と
しては、例えば乳剤保護層、アンチハレーション層、Ｕ
Ｖ吸収層、中間層、導電層等が挙げられる。
【０１０１】本発明のハロゲン化銀乳剤には当業界公知
の各種技術、添加剤等を用いることができる。例えば、
本発明で用いるハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層
には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界面活性
剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫外線吸
収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マット剤
等を各種の方法で更に含有させることができる。又、本
発明ハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層中にはポリ
マーラテックスを含有させることができる。
の各種技術、添加剤等を用いることができる。例えば、
本発明で用いるハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層
には、各種の化学増感剤、色調剤、硬膜剤、界面活性
剤、増粘剤、可塑剤、スベリ剤、現像抑制剤、紫外線吸
収剤、イラジェーション防止剤染料、重金属、マット剤
等を各種の方法で更に含有させることができる。又、本
発明ハロゲン化銀写真乳剤及びバッキング層中にはポリ
マーラテックスを含有させることができる。
【０１０２】これらの添加剤は、より詳しくは、リサー
チディスクロージャ第176巻Item/7643（1978年12月）お
よび同187巻Item/8716（1979年11月）に記載されてお
り、その該当個所を下記にまとめて示した。
チディスクロージャ第176巻Item/7643（1978年12月）お
よび同187巻Item/8716（1979年11月）に記載されてお
り、その該当個所を下記にまとめて示した。
【０１０３】 添加剤種類 ＲＤ／7643 ＲＤ／8716 １．化学増感剤 23頁 648頁右欄 ２．感度上昇剤 同上 ３．分光増感剤 23〜24頁 648頁右欄〜 強色増感剤 649頁右欄 ４．増白剤 24頁 ５．かぶり防止剤および安定剤 24〜25頁 649頁右欄 ６．光吸収剤、フイルター染料 25〜26頁 649頁右欄〜 紫外線吸収剤 650頁左欄 ７．ステイン防止剤 25頁右欄 650頁左〜右欄 ８．色素画像安定剤 25頁 ９．硬膜剤 26頁 651頁左欄 10．バインダー 26頁 同上 11．可塑剤、潤滑剤 27頁 650頁右欄 12．塗布助剤、表面活性剤 26〜27頁 同上 13．スタチック防止剤 27頁 同上 本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いることができ
る支持体としては、酢酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リエチレンのようなポリオレフィン、ポリスチレン、バ
ライタ紙、ポリオレフィンを塗布した紙、ガラス、金属
等を挙げることができる。これらの支持体は必要に応じ
て下地加工が施される。
る支持体としては、酢酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレートのようなポリエステル、ポ
リエチレンのようなポリオレフィン、ポリスチレン、バ
ライタ紙、ポリオレフィンを塗布した紙、ガラス、金属
等を挙げることができる。これらの支持体は必要に応じ
て下地加工が施される。
【０１０４】本発明に係るハロゲン化銀写真感光材料は
露光後種々の方法、例えば通常用いられる方法により現
像処理することができる。
露光後種々の方法、例えば通常用いられる方法により現
像処理することができる。
【０１０５】黒白現像液は、ヒドロキシベンゼン類、ア
ミノフェノール類、アミノベンゼン類等の現像主薬を含
むアルカリ溶液であり、その他のアルカリ金属塩の亜硫
酸塩、炭酸塩、重亜硫酸塩、特開昭56-106244号に記載
されているようなアミノ化合物、臭化物及び沃化物等を
含むことができる。現像液のpＨは9.5〜12.0であること
が好ましい。
ミノフェノール類、アミノベンゼン類等の現像主薬を含
むアルカリ溶液であり、その他のアルカリ金属塩の亜硫
酸塩、炭酸塩、重亜硫酸塩、特開昭56-106244号に記載
されているようなアミノ化合物、臭化物及び沃化物等を
含むことができる。現像液のpＨは9.5〜12.0であること
が好ましい。
【０１０６】
【実施例】以下実施例によって本発明を具体的に説明す
る。尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実
施例に限定されるものではない。
る。尚、当然のことではあるが、本発明は以下述べる実
施例に限定されるものではない。
【０１０７】比較例１ （導電性層を有する支持体の調製）下引き処理した厚さ
100μmのポリエチレンテレフタレートに８Ｗ／(m2・min)
のエネルギーでコロナ放電した後、下記構成の帯電防止
液を、下記の付量になる様に70m/minの速さでロールフ
ィットコーティングパン及びエアーナイフを使用して塗
布した。
100μmのポリエチレンテレフタレートに８Ｗ／(m2・min)
のエネルギーでコロナ放電した後、下記構成の帯電防止
液を、下記の付量になる様に70m/minの速さでロールフ
ィットコーティングパン及びエアーナイフを使用して塗
布した。
【０１０８】 水溶性導電性ポリマー Ｐ 0.6g/m2 疎水性ポリマー粒子 Ｌ 0.4g/m2 ポリエチレンオキサイド化合物 Ａｏ 0.06g/m2 硬化剤Ｅ 0.2g/m2 これを90℃、２分間乾燥し、140℃、90秒間熱処理し
た。この導電性層を支持体の片側に塗布したものを調製
した。
た。この導電性層を支持体の片側に塗布したものを調製
した。
【０１０９】
【化３５】
【０１１０】（ハロゲン化銀写真乳剤Ａの調製）同時混
合法を用いて沃臭化銀乳剤（銀１モル当たり沃化銀２モ
ル％）を調製した。この混合時にK2IrCl6を銀１モル当
たり8×10-7モル添加した。得られた乳剤は、平均粒径
0.20μmの立方体単分散度粒子（変動係数９％）からな
る乳剤であった。常法で水洗、脱塩した。脱塩後の40℃
のpAgは8.0であった。引き続き銀１モル当り増感色素Ｄ
−１を200mgとＤ−２を10mg添加し、さらに化合物
〔Ａ〕〔Ｂ〕〔Ｃ〕の混合物を添加して乳剤Ａを得た。
その後硫黄増感を施した。
合法を用いて沃臭化銀乳剤（銀１モル当たり沃化銀２モ
ル％）を調製した。この混合時にK2IrCl6を銀１モル当
たり8×10-7モル添加した。得られた乳剤は、平均粒径
0.20μmの立方体単分散度粒子（変動係数９％）からな
る乳剤であった。常法で水洗、脱塩した。脱塩後の40℃
のpAgは8.0であった。引き続き銀１モル当り増感色素Ｄ
−１を200mgとＤ−２を10mg添加し、さらに化合物
〔Ａ〕〔Ｂ〕〔Ｃ〕の混合物を添加して乳剤Ａを得た。
その後硫黄増感を施した。
【０１１１】
【化３６】
【０１１２】 処方（１）（感光性ハロゲン化銀乳剤層組成） ゼラチン 表１に示す量 ハロゲン化銀乳剤Ａ 銀量 3.2g／m2 安定剤：4-メチル-6-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザインデン 30mg／ｍ２ カブリ防止剤：５−ニトロインダゾール 10mg／m2 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 5mg／m2 界面活性剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.1g／m2
【０１１３】
【化３７】
【０１１４】 本発明のヒドラジン誘導体 ７×10-5モル／ｍ
２
２
【０１１５】
【化３８】
【０１１６】
【化３９】
【０１１７】 ゼラチン ２．４ｇ／
m2 界面活性剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.1g／m2 ：Ｓ-１ 6mg／m2 コロイダルシリカ 100mg／m2 硬膜剤 ：Ｅ 55mg/m2 処方 (６) 〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン 1g／ｍ２ マット剤：平均粒径５．０μmの単分散ポリメチルメタアクリート 50mg／m
2 界面活性剤：Ｓ-２ 10mg／m2 硬膜剤：グリオキザール 25mg／m2 ：Ｈ-１ 35mg／m2 処方（３） 親水性コロイド層１ ゼラチン 表１に示す量 界面活性剤：Ｓ−１ 9mg／m2 処方（４）親水性コロイド層 ゼラチン 1.0g/m2 ハロゲン化銀乳剤Ａ 0.3g/m2 安定剤：4-メチル-6-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザインデン 30mg/m2 カブリ防止剤：5-ニトロインダゾール 10mg/m2 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 5mg/m2 界面活性剤：Ｓ−１ 8mg/m2 本発明のレドックス化合物 3.0×10-5モル/m2 導電性層を有する支持体上の導電層とは反対側に順に次
の層を塗布した。導電層側には順次処方(５）のバッキン
グ層、処方（６）のバッキング保護層を塗布した。
m2 界面活性剤：ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.1g／m2 ：Ｓ-１ 6mg／m2 コロイダルシリカ 100mg／m2 硬膜剤 ：Ｅ 55mg/m2 処方 (６) 〔バッキング保護層組成〕 ゼラチン 1g／ｍ２ マット剤：平均粒径５．０μmの単分散ポリメチルメタアクリート 50mg／m
2 界面活性剤：Ｓ-２ 10mg／m2 硬膜剤：グリオキザール 25mg／m2 ：Ｈ-１ 35mg／m2 処方（３） 親水性コロイド層１ ゼラチン 表１に示す量 界面活性剤：Ｓ−１ 9mg／m2 処方（４）親水性コロイド層 ゼラチン 1.0g/m2 ハロゲン化銀乳剤Ａ 0.3g/m2 安定剤：4-メチル-6-ヒドロキシ-1,3,3a,7-テトラザインデン 30mg/m2 カブリ防止剤：5-ニトロインダゾール 10mg/m2 1-フェニル-5-メルカプトテトラゾール 5mg/m2 界面活性剤：Ｓ−１ 8mg/m2 本発明のレドックス化合物 3.0×10-5モル/m2 導電性層を有する支持体上の導電層とは反対側に順に次
の層を塗布した。導電層側には順次処方(５）のバッキン
グ層、処方（６）のバッキング保護層を塗布した。
【０１１８】 （第１層）処方（１）の感光性乳剤層 （第２層）処方（３）の親水性コロイド層１ （第３層）処方（４）の親水性コロイド層２ （第４層）処方（２）の乳剤保護層 得られた試料を、ステップウェッジを密着し、3200Ｋの
タングステン光で５秒間露光した後、下記に示す組成の
現像液及び定着液を投入したコニカ(株)社製迅速処理用
自動現像機GR-26SRにて下記条件で処理を行った。
タングステン光で５秒間露光した後、下記に示す組成の
現像液及び定着液を投入したコニカ(株)社製迅速処理用
自動現像機GR-26SRにて下記条件で処理を行った。
【０１１９】又得られた試料を、23℃50％RHの条件で24
時間保存後、密閉包装し（保存I）、経時代用サーモ処
理として55℃で３日間放置した（保存II）。このサーモ
処理した試料を同様に露光、現像定着処理を行った。
時間保存後、密閉包装し（保存I）、経時代用サーモ処
理として55℃で３日間放置した（保存II）。このサーモ
処理した試料を同様に露光、現像定着処理を行った。
【０１２０】〈処理条件〉処理条件は以下の通りであ
る。
る。
【０１２１】現像液処方１ 重亜硫酸ナトリウム 40g N-メチル-P-アモノフェノール硫酸塩 350mg エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1g 塩化ナトリウム 5g 臭化カリウム 1.2g リン酸三ナトリウム 75g 5-メチルベンズトリアゾール 250mg 2-メルカプトベンズチアゾール 23mg ベンズトリアゾール 83mg ハイドロキノン 29g ジイソプロピルアミノエタノール 2.3ml アミン化合物Ａｍ−１ 0.5ml 水酸化カリウム 使用液のpＨを11.6にする量 使用時に水を加えて１リットルに仕上げた。
【０１２２】定着液処方 チオ硫酸アンモニウム（59.5％ Ｗ／Ｖ水溶液） 830ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 515mg 亜硫酸ナトリウム 63g ホウ酸 22.5g 酢酸（90％ Ｗ／Ｖ水溶液) 82g クエン酸（50％ Ｗ／Ｖ水溶液） 15.7g グルコン酸（50％ Ｗ／Ｗ水溶液）
８．５５ｇ 硫酸アルミニウム（４８％ Ｗ／Ｗ水溶液） 13ml グルタルアルデヒド 3g 硫酸 使用液のpＨを4.6にする量 使用時に水を加えて１リットルに仕上げた。
８．５５ｇ 硫酸アルミニウム（４８％ Ｗ／Ｗ水溶液） 13ml グルタルアルデヒド 3g 硫酸 使用液のpＨを4.6にする量 使用時に水を加えて１リットルに仕上げた。
【０１２３】現像処理条件 工 程 温度 時間 現 像 38℃ 20秒 定 着 38℃ 20秒 水 洗 常温 15秒 乾 燥 40℃ 15秒 各工程時間は次工程までのワタリ搬送時間を含む。
【０１２４】得られた試料を光学濃度計コニカPDA-65で
濃度測定し、試料No.１の濃度2.5における感度を100と
した相対感度で示し、更に濃度0.1と2.5との正接をもっ
てガンマを表示した。６未満のガンマ値では使用不可能
であり、6.0以上9.5未満のガンマ値ではまだ不十分な硬
調性能である。ガンマ値9.5以上で超硬調な画像とな
り、十分に実用可能となる。
濃度測定し、試料No.１の濃度2.5における感度を100と
した相対感度で示し、更に濃度0.1と2.5との正接をもっ
てガンマを表示した。６未満のガンマ値では使用不可能
であり、6.0以上9.5未満のガンマ値ではまだ不十分な硬
調性能である。ガンマ値9.5以上で超硬調な画像とな
り、十分に実用可能となる。
【０１２５】又、未露光部の黒ポツも40倍のルーペを使
って評価した。全く黒ポツの発生していないものを最高
ランク「５」とし、発生する黒ポツの発生度に応じてラ
ンク「４」、「３」、「２」、「１」とそのランクを順次下げ
て評価するものとする。ランク「１」及び「２」では黒
ポツも実用上好ましくないレベルである。
って評価した。全く黒ポツの発生していないものを最高
ランク「５」とし、発生する黒ポツの発生度に応じてラ
ンク「４」、「３」、「２」、「１」とそのランクを順次下げ
て評価するものとする。ランク「１」及び「２」では黒
ポツも実用上好ましくないレベルである。
【０１２６】この結果を表１に示した。
【０１２７】
【表１】
【０１２８】表１の結果から経時性能が安定し、かつ黒
ポツの発生も抑制されていることがわかる。
ポツの発生も抑制されていることがわかる。
【０１２９】実施例２ ハロゲン化銀写真乳剤Ａの増感色素Ｄ−１とＤ−２の代
わりにＤ−３を銀１モル当たり150mg添加し、処方１の
感光性乳剤層に造核促進剤Ｎ−11を３×10-5モル/m2添
加した以外は実施例１と同様の方法で試料を得た。
わりにＤ−３を銀１モル当たり150mg添加し、処方１の
感光性乳剤層に造核促進剤Ｎ−11を３×10-5モル/m2添
加した以外は実施例１と同様の方法で試料を得た。
【０１３０】
【化４０】
【０１３１】ただし、露光は、光学ウエッジと633nmの干
渉フィルターを介して10-5秒で行った。現像処理は下記
現像液処方２を用いた。
渉フィルターを介して10-5秒で行った。現像処理は下記
現像液処方２を用いた。
【０１３２】現像液処方２ （組成Ａ） 純水（イオン交換水） 150ml エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 2g ジエチレングリコール 50g 亜硫酸カリウム（55％W/V水溶液） 100ml 炭酸カリウム 50g ハイドロキノン 15g 5─メチルベンゾトリアゾール 200mg 1-フエニル-5-メルカプトテトラゾ−ル 30mg 水酸化カリウム 使用液のpHを10.5にする量 臭化カリウム 4.5g （組成Ｂ） 純水（イオン交換水） 3ml ジエチレングリコ−ル 50g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 25mg 酢酸（90％水溶液） 0.3ml 5-ニトロインダゾ−ル 110mg 1-フェニル-３-ピラゾリドン 500mg 現像液の使用時に水500ml中に上記組成物Ａ、組成物Ｂ
の順に溶かし、１リットルに仕上げて用いた。定着液は実施
例1と同じ処方のものを用いた。
の順に溶かし、１リットルに仕上げて用いた。定着液は実施
例1と同じ処方のものを用いた。
【０１３３】結果を表２に示す。
【０１３４】
【表２】
【０１３５】表２の結果から実施例１と同様経時性能は
安定し黒ポツも抑制されていることがわかる。
安定し黒ポツも抑制されていることがわかる。
【０１３６】実施例３ （導電性層を有する支持体の調製）厚さ100μの下引処
理したポリエチレンテレフタレート支持体上にコロナ放
電した後、下記構成の導電性層を塗布した。
理したポリエチレンテレフタレート支持体上にコロナ放
電した後、下記構成の導電性層を塗布した。
【０１３７】 ゼラチン 35mg/m2 SnO2/Sb(8/2)（粒径0.3μm） 250mg/m2
【０１３８】
【化４１】
【０１３９】これを90℃、２分間乾燥し、140℃で90秒
間熱処理した。この導電層を支持体の片側のみに塗布し
たものをそれぞれ調製した。
間熱処理した。この導電層を支持体の片側のみに塗布し
たものをそれぞれ調製した。
【０１４０】実施例２と全く同様にして、試料を作成し
た。得られた試料を用いて実施例２と同様なテストを行
った。
た。得られた試料を用いて実施例２と同様なテストを行
った。
【０１４１】その結果、本発明のレドックス化合物を添
加した試料は添加しない試料に比べて経時による軟調化
や黒ポツ劣化が少なく、良好な結果が得られることが判
った。
加した試料は添加しない試料に比べて経時による軟調化
や黒ポツ劣化が少なく、良好な結果が得られることが判
った。
【０１４２】
【発明の効果】本発明により、経時による軟調化さらに
現像処理後の未露光部に発生する砂状のカブリ、いわゆ
る黒ポツの発生が抑制されたハロゲン化銀写真感光材料
を提供することができた。
現像処理後の未露光部に発生する砂状のカブリ、いわゆ
る黒ポツの発生が抑制されたハロゲン化銀写真感光材料
を提供することができた。
Claims (2)
- 【請求項１】 支持体上に、酸化されることにより現像
抑制化合物を放出し得るレドックス化合物を含む親水性
コロイド層と、ヒドラジン誘導体を含む少なくとも１層
の感光性ハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真
感光材料において、該乳剤層側のゼラチンの総和が0.5
〜3.3g/m 2 であることを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 - 【請求項２】 請求項１において、支持体と酸化される
ことにより現像抑制化合物を放出し得るレドックス化合
物を含む親水性コロイド層との間に、ヒドラジン誘導体
を含む少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有するこ
とを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4039673A JP2995360B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4039673A JP2995360B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05241264A JPH05241264A (ja) | 1993-09-21 |
| JP2995360B2 true JP2995360B2 (ja) | 1999-12-27 |
Family
ID=12559623
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4039673A Expired - Fee Related JP2995360B2 (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2995360B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69515939T2 (de) | 1994-08-11 | 2000-07-20 | Konishiroku Photo Ind | Verfahren zur Verarbeitung eines photographischen lichtempfindlichen Silberhalogenidmaterials |
| WO2009079797A1 (en) | 2007-12-26 | 2009-07-02 | Critical Outcome Technologies, Inc. | Compounds and method for treatment of cancer |
| CA2999321A1 (en) | 2008-07-17 | 2010-01-21 | Critical Outcome Technologies Inc. | Thiosemicarbazone inhibitor compounds and cancer treatment methods |
| US8987272B2 (en) | 2010-04-01 | 2015-03-24 | Critical Outcome Technologies Inc. | Compounds and method for treatment of HIV |
| CN104610157A (zh) * | 2015-02-13 | 2015-05-13 | 佛山市赛维斯医药科技有限公司 | 一类环丙基酰肼和卤代苯类结构的gpr119激动剂及其用途 |
-
1992
- 1992-02-26 JP JP4039673A patent/JP2995360B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05241264A (ja) | 1993-09-21 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |