JPH04146987A

JPH04146987A - アルミナ―ジルコニア系ラップ研磨材とその製造方法及び研磨用組成物

Info

Publication number: JPH04146987A
Application number: JP2271168A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Tamamaki; 玉巻　雅弘; Yoshihiro Onoda; 小野田　芳大; Ryuichi Takahashi; 隆一高橋; Koji Tsuda; 津田　幸二
Original assignee: NIPPON KENMAZAI KOGYO KK; Japan Abrasive Co Ltd
Current assignee: NIPPON KENMAZAI KOGYO KK; Japan Abrasive Co Ltd
Priority date: 1990-10-09
Filing date: 1990-10-09
Publication date: 1992-05-20
Anticipated expiration: 2009-12-21
Also published as: CA2052948A1; JPH06104817B2; US5248318A; EP0480678A3; EP0480678A2; AU8572291A; AU641810B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は、一般金属材料、ガラス及び合成樹脂を用いた
メモリーハードディスク、磁気へ・ソド及び光磁気ディ
スク、並びにその表面に施された磁性薄膜をラップ仕上
げするラップ研磨材とその製造方法及び研磨組成物の改
良に関するものである。

［従来の技術］一般金属材料、ガラス及び合成樹脂の表面う・ンピング
用研磨材として、酸化アルミニウム系（アランダムと白
色アランダム）、炭化珪素（カーボランダムと緑色カー
ボランダム）、炭化硼素、酸化セリウム、酸化クロム、
酸化スズ、酸化鉄、酸化チタン及びダイヤモンドが知ら
れている。ラッピング時のこれらの研磨材の使用方法と
しては、一般に研磨材を微粉砕し、目的粒度に分級した
後、水を添加してスラリー状の研磨用組成物として用い
ている。ところが、最近ラッピング用途は多様化し、高
度の加工品質を得ることが望まれており、これらの一般
研磨用組成物では、十分満足のいく結果が得られていな
い。

［発明が解決しようとする課題］従来使用されている研磨材を水でスラリー状にしてラッ
ピングに用いた場合は、研磨表面にマイクロスクラッチ
、ピンホール（ピット）あるいは完全に解明されていな
い各種の要因によって起こると言われている結晶表面の
欠陥であるオレンジピールが発生しやすい。マイクロス
クラッチやオレンジピールが発生しないようにするには
、研磨材中の研磨粒子の濃度、研磨時間、研磨圧力及び
その他の研磨要因を精密に調整する必要があり、高度の
熟練と相当の時間を要し、技術的及び経済的に困難であ
った。

一般にラップ研磨材としての評価は、研磨能率（単位時
間当たりの研磨量）と被加工物の仕上がり表面粗さで決
定される。研磨能率が高いほど、また、表面粗さが目的
とする面粗さに近いほど研磨材として優れている。通常
、粒子径の粗い研磨材を用いれば研磨能率は向上するが
、表面粗さが粗くなる。逆に細かい研磨材を用いると、
表面粗さは小さくなり目的とする面粗度を容易に得るこ
とが出来るが、研磨能率は低くなる関係にある。

従って、従来は加工物を目的の面粗さまでラッピングす
るのに、まず粒度の粗い砥粒でう・ソピングし、徐々に
粒度の細かい砥粒に変えてラッピングを行っていた。と
ころが、このような方法では砥粒を交換する毎に被加工
物を洗浄する必要があるため、砥粒のロスが大きいばか
りでなく、全工程を非常に複雑なものにしており、加工
時間も長く、工業的見地からみても望ましくない。

これらの欠点を改善すべく、次のような研磨用組成物が
提供されている。

■特公昭５３−３５１８号では、水と酸化アルミニウム
、酸化セリウム等の研磨材にポリ塩化アルミニウム、硝
酸アルミニウム、臭化アルミニウム等の研磨促進剤とな
り得る酸性化合物を０．１〜１５重量％添加した研磨用
組成物を提供している。この研磨用組成物で合成樹脂の
ラッピングを行うと研磨速度が著しく増加し、粗い研磨
材粒度を用いる必要もないので、さらに良質の研磨表面
が生成され、研磨欠陥、例えば、スクラッチ及びオレン
ジピール等が殆ど生じないとしている。

しかし、硝酸等は、酸化力が強いので、廃液の処理等公
害面で問題があり、また、研磨機や治具の金属を錆びさ
せる力や作業者の手を荒れさせる力が強い点に難点があ
った。

■特公昭５Ｂ−４４２７３号では、シリカゾルの研磨材
と、過酸化水素水、過酸化ナトリウム、過ホウ酸ナトリ
ウム等の酸化性化合物からなる一般金属材料の研磨用組
成物が提供されている。

しかし、この研磨用組成物も過酸化水素水等を用いるの
で、前記研磨用組成物と同様酸性度が強い。また、シリ
カゾル研磨材は、硬度が酸化アルミニウム研磨材に比べ
て低いので、研磨能率も低下する欠点がある。

■特開昭５３−４１８８６号では、ダイヤモンド、立方
晶ＢＮ、アルミナ（酸化アルミニウム）、炭化珪素の粒
子径が０．１〜０．５μｍの一次粒子を、結合材を用い
て１〜２００μｍの二次粒子とした研磨材を用いること
で、優れた研磨能率と細かい表面粗さを得られるとして
いる。

しかし、−次粒子を二次粒子に造粒・結合させる工程は
非常に複雑で、得られた二次粒子の粒度を一定に保つた
めに更に時間を費やさねばならない欠点がある。

■特開昭６０−１０８４８９号では、メモリーハードデ
ィスクの磁気媒体層形成面の研磨に適した研磨方法とし
て、メモリーハードディスクト研磨パッドの表面を摺動
し、メモリーハードディスクと研磨パッドの間に、第１
段階として、次亜塩素酸ナトリウムのような酸化物を含
む酸化アルミニウムの粉末の水性スラリーを供給して、
メモリーハードディスクの無電解ニッケルめっき表面を
研磨し、次に、第２段階として、メモリーハードディス
クと研磨パッドの間に、上記スラリーと、コロイド状の
酸化アルミニウムのスラリーを供給し、メモリーハード
ディスクの無電解ニッケルめっき表面を仕上げ研磨する
方法が提供されている。

しかし、この２段階研磨方法は、多くの手間が掛かるに
も拘らず研磨量が多くなく、極めて研磨能率が低い。

■特公昭６４−４３６号の研磨用組成物は、これらの各
種欠点を大部分補った研磨用組成物として提供されてい
る。この研磨用組成物は、水と、酸化アルミニウム研磨
材（粒状ヘーマイトを１１５０℃で３時間仮焼したα型
酸化アルミニウム）及び硫酸ニッケルの研磨促進剤を１
〜２０重量％添加してなる中性ないし弱酸性の研磨用組
成物で、プラスチックの被研磨面、又は、メモリーハー
ドディスクの無電解ニッケルめっき、アルマイト又はア
ルミニウムの被研磨面を研磨する際に、メカノケミカル
（研磨材による機械的な加工と研磨促進剤を含んだ加工
液によるエツチングを重畳させた研磨法）により、優れ
た研磨面と研磨能率か得られ、また、中性ないし弱酸性
であるため他の物質を酸化する力が弱いので、研磨機や
治具の金属を錆びさせる力や作業者の手を荒れさせる力
が弱いとしている。

しかし、ここではα型酸化アルミニウムの単一粒子を用
いているため、目的の表面粗さを得るためには、細かい
一次粒子（細かい粒度）を用いる必要があり、研磨能率
か低く、未だ十分に満足の行くものではなかった。

そこで本発明の目的とするところは、上記のような従来
のラップ研磨材およびラップ研磨材用組成物に見られる
欠点、難点をことことく解決し、研磨能率が高く、かつ
高度の加工品質が得られるラップ研磨材並びにその製造
方法およびこのラップ研磨材を用いた研磨用組成物を提
供するところにある。

［課題を解決するだめの手段］本発明者らは鋭意研究の結果、アルミナ−ジルコニア系
研磨材料においてジルコニアの結晶転移点以上の温度で
熱処理を施し、残留正方晶ジルコニア量を３０％以下と
することで、研磨能率が高く、所望する表面粗さを容易
に得ることが出来るラップ研磨材を見いだしたものであ
る。

従来、組成中にＺｒＯ２を１０〜６０重量％含むアルミ
ナ−ジルコニア系研磨材は、耐摩耗性と抗破砕性に優れ
ていることが知られている。また、アルミナとジルコニ
アは固溶体を作ることが無く、製造に当り急速に冷却す
ると、その結晶構造は、小さな切れ刃を多数有する微細
構造を持つので表面粗さの細かい仕上げ面を得ることが
出来る。

しかし、このアルミナ−ジルコニア系研磨材の抗破砕性
は余りにも高すぎるために、その用途は重研削もしくは
粗研削の分野、すなわち砥石もしくは研磨布紙製品の分
野でしか用いられてぃなかった。しかも使用される粒度
は荒目である＃８〜＃２２０の砥粒しか用いられなかっ
た。つまり、本発明の課題とするラッピングの用途、使
用粒度が＃８００〜＃１００００、平均粒径が１５〜１
μｍの分野では、研磨圧か低く、その上、砥粒靭性が高
すぎるためにアルミナ−ジルコニア系砥粒の得意とする
自生発刃作用が発揮されず、ラッピングに使用した場合
、研磨能率が著しく低下し、また、仕上げ面に多くのキ
ズを残すことになるので用いられていなかった。

ところが、本発明者らはこのアルミナ−ジルコニア系研
磨材をジルコニアの結晶転移点以上の温度で熱処理し、
残留正方晶ジルコニア比率を３０％以下とすることによ
って、従来、効果が無く殆ど用いられることが無かった
ラッピングの用途に好適な研磨材が得られることを見い
だしたのである。

このアルミナ−ジルコニア系研磨材におけるジルコニア
の含有量は１０〜６０重量％、好ましくは、３５〜５０
重量％の近共晶組成とする。

さらに、ジルコニアの安定化剤として酸化イツトリウム
、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン及び
その他の希土類酸化物の１種又は２種以上を総量で０．
０５〜７重量％含む組成も目的とする研磨材として好適
である。

ジルコニアの含有量を１０〜６０重量％としたのは、ア
ルミナ−ジルコニアの微細結晶構造を呈する共晶組成物
を体積％で２５％以上とするためである。すなわち、ジ
ルコニア量が１０重量％の場合は、７５体積％のアルミ
ナ初晶と２５体積％のアルミナ−ジルコニアの共晶から
なり、ジルコニアが６０重量％の場合は、３０体積％の
ジルコニア初晶と７０体積％のアルミナ−ジルコニア共
晶組成となるが、これ以上にアルミナやジルコニアの初
晶が多くなると、粗い結晶構造を有する単一結晶の量が
多くなり過ぎ、微細な結晶構造を有するアルミナ−ジル
コニア共晶が少なくなるので好ましくない。

また、０．０５〜７重量％の安定化剤を添加すると、イ
ンゴットの残留正方晶ジルコニアの比率を著しく高める
ことができる。つまり、熱処理により単斜晶ジルコニア
に転移可能な正方晶ジルコニア量の比率を高めることが
できる。しかし、これらの安定化剤の添加量が７重量％
以上になると、熱処理によって転移が難しい立方晶ジル
コニアが現れ、粒強度が目的とする単斜晶ジルコニアに
比べ高くなるので好ましくない。

上記研磨材は、アルミナ−ジルコニア系研磨材原料を溶
融、急冷してインゴットを得、このインゴットを粉砕し
た後、ジルコニアの結晶転移点以上の温度で熱処理を施
し、残留正方晶ジルコニア比率を３０％以下とすること
によって容易に得られる。すなわち、上記組成の研磨材
原料を電気炉を用いて溶融し、特公平１−４８２１９号
に示す冷却方法により急速に冷却することによって得ら
れたインゴットは、残留正方晶ジルコニア比率が、安定
化剤を含まないもので、３０〜８０％、安定化剤を含む
ものは７０〜１００％になる。

冷却が不十分であると、残留正方晶ジルコニア比率がこ
れらの値より低くなり、またジルコニアやアルミナの初
晶が多く析出するばかりかアルミナ−ジルコニア共晶を
構成するアルミナやジルコニアの微細結晶も１μｍ以上
に大きくなるので望ましくない。

ラッピング研磨用に適する粒度を得るためには、ボール
ミル、バイブロミル及びアトライタミル等の粉砕機を用
いて最大粒子径が１００μｍ以下になるように粉砕し、
平均粒子径が０．５〜５０μｍになるよう分級する。こ
の時、残留正方晶ジルコニア比率は、微粉砕による機械
的衝撃の影響により５０％まで低下する。しかし、まだ
この状態では粒強度が強くラップ研磨材としては適さな
い。

従って、本発明では、これらの微粉材料をさらに焼成炉
を用い、ジルコニアの転移点以上の温度、好ましくは、
６５０℃±５０℃で焼成し、残留正方晶ジルコニア比率
を３０％以下としてアルミナ−ジルコニア系ラップ研磨
材を得たのである。

ジルコニアの転移点については、純粋なジルコニアは昇
温時には約１１００℃で、また降温時には約９００℃で
正方晶から単斜晶に転移する。但し、この転移温度は含
まれる不純物等の他の元素により、やや低めになること
が知られている。特に降温時の転移温度は、ジルコニア
に安定化剤となり得る酸化イツトリウム、酸化カルシウ
ム、酸化マグネシウム、酸化チタン及び他の希土類酸化
物を固溶することで大きく引き下げることも可能となる
。この場合、アルミナ−ジルコニア系研磨材の転移温度
は６５０℃付近まで低下していることが、熱膨張率曲線
の測定で判明した。処理温度を６５０℃より高くして、
短時間で転移させることも可能であるが、粒内で急激な
膨張が生じ粒破壊につながる恐れがあり望ましくない。

また、６５０℃より極めて低い温度で熱処理をする場合
非常に長時間を要するので、工程上問題がある。

上記研磨材を酸性化合物および水と適当に配合すれば、
好ましいラップ研磨用組成物が得られる。

例えば、重量割合で５〜５０％の本研磨材に対し、水と
、研磨促進剤として酸性化合物、例えは酸性硫酸塩、硝
酸塩及び塩化アンモニウムの一種もしくは二種以上を総
量で０．０５〜２０％、好ましくは０．１〜０．３％添
加した研磨用組成物は、研磨能率が高く、かつ高度の加
工品質が得られる。

アルミナ−ジルコニア系研磨材の研磨能率が高いため、
研磨促進剤の量を従来に比べ少なくすることができ、研
磨用組成物の酸化力を弱め、研磨機や治具の錆び、及び
作業者の手の荒れを防ぐことができる。

［作用］この研磨材および研磨用組成物は、研磨能率が高く、か
つ高度の加工品質が得られる。その理由は、次のように
推察される。

本発明者らは、ジルコニアの転移現象に着目し、特公昭
４８−３５５９４号ではアルミナ−ジルコニアに酸化チ
タンを添加した超重研削砥粒を、また、特公平２−３６
１５２号では、さらに酸化イツトリウムもしくは酸化イ
ツトリウムを含む希土類元素を添加したアルミナ−シル
コニアーチ９−ア系研磨材を提供している。

本発明では、この転移現象をさらに応用したもので、−
旦正方晶に転移されたジルコニアを熱処理による時効効
果により、再度、単斜晶に転移させることによって、砥
粒強度のみをある一定値まで低下せしめることにより、
ラッピング材として優れた研磨能率と仕上げ面粗さを有
する研磨材となし得たのである。

アルミナ−ジルコニア系研磨材中に含まれた正方晶ジル
コニアは、熱処理を受けることで単斜晶ジルコニアに結
晶転移する。この時体積膨張が生じ、気孔やクラックを
減少せしめ、粒強度は一旦向上する。しかしさらに、熱
処理を続けると、マイクロクラックの数か増加し、粒強
度は低下する。

従って、従来のアルミナ−ジルコニア系研磨材ニ比べて
貫入力はやや弱まり、研磨表面にスクラッチ、ピット及
びオレンジピールが生じなくなる。

一方、アルミナ−ジルコニア系研磨材特有の微細結晶構
造は壊れることなく保持されているので、０．１〜１μ
ｍの微細なアルミナ結晶の切れ刃はそのままである。し
かも、従来強靭さを有する正方晶ジルコニア結晶の大部
分が単斜晶ジルコニアに転移することで、その強靭さが
失われ、ラッピングの研磨圧力下でも十分に自生発刃効
果を生むことができる。また、出発研磨粒の正方晶ジル
コニアが多いほど、単斜晶ジルコニアに転移する比率が
多くなるので、マイクロクラックが多く生じ望ましいも
のと考えられる。したがって、本発明のラップ研磨材を
用いた研磨用組成物は、優れた研磨能率と目的にあった
仕上げ面粗さ並びにスクラッチ、ピット及びオレンジピ
ールの生じない研磨表面を得ることが出来る。さらに、
研磨促進剤として用いた酸性化合物の添加量も少ないの
で研磨機や治具の錆を防ぎ、研磨作業者の手の荒れを防
ぐことも出来る。

また、上記ラップ研磨材の製造方法は通例の方法に従っ
てアルミナ−ジルコニア系研磨材原料を溶融、急冷、粉
砕した後、ジルコニアの結晶転移点以上の温度で熱処理
を施すだけの工程で得られるので製造も容易である。

［実施例コ本発明のアルミナ−ジルコニア研磨材としては、ルコニ
ア含量が２５重量％のもの（Ａ）、４０重量％のもの（
Ｂ）、ジルコニア量が４０重量％で酸化イツトリアを０
．５重量％添加したもの（ｃ）酸化チタンを２．　０重
量％添加したもの（Ｄ）、並びにこの両方を総量で２．
５重量％添加したもの（Ｅ）の５種を用意した。

上記組成の研磨材原料を電気炉で溶融後、前述の方法で
急速冷却を行いインゴットを得た。次いで粉砕・分級し
、粒度＃２０００　（平均粒子径６．７μｍ）と粒度＃
３０００　（平均粒子径５゜５μｍ）の研磨材を得た。

得られた研磨材の各々についてＸ線粉末回折装置を用い
正方晶ジルコニアのＴ（１１１）と単斜晶ジルコニアの
Ｍ（１１１）とＭ　（１１１）のピーク積分強度間べて
残留正方晶ジルコニア量を求めた。その算出式は、Ｔ（
１１１）／　（Ｔ　（１１１）＋Ｍ　（１１１）＋Ｍ（
１１１）　１である。

次いで、焼成炉を用いて５００℃、６５０℃、８００℃
、１０００℃および１２００℃で仮焼した。仮焼時間は
、１時間、３時間及び１０時間の３種類である。

表１に、各研磨材組成におけるインゴ・ソト、このイン
ゴットを粉砕・分級して得た＃２０００（熱処理前：未
焼成品）及びこの＃２０００の前記熱処理品の各残留正
方晶ジルコニア比率を示す。

表１から分かるように、焼成温度が５００℃と低い場合
は、３時間の焼成時間では残留正方晶ジルコニア量は未
焼成品と比べ殆ど変化がなく、１０時間の焼成でもごく
僅かに減少するだけである。

転移温度に近い６５０℃では１時間の焼成で減少が始ま
り、３時間になると著しく減少する。但し、減少割合は
引き続き焼成しても大きく変わらない。

焼成温度が８００℃、１０００℃でも６５０℃の焼成品
と大差が無い。焼成温度が１２００℃になると１時間の
焼成で著しく粒破壊が認められ、研磨材としての用を足
さない。

次いで、研磨材の含有量が２０重量％となるように水を
添加後、研磨促進剤としての硫酸ニッケルの添加量を変
えて各種の研磨用組成物を作成した。

従来の研磨用組成物としては、粒状のベーマイト　　（
Ａ１２０３　　　・　Ｈ２０、Ａｌ０（ＯＨ））　　　
を、１１５０℃で３時間仮焼し、その後粉砕して粒度を
＃２０００　（平均粒子径６．７μｍ）と＃３０００（
平均粒子径５．５μｍ）に整粒したものに水を加え、硫
酸ニッケルの添加量を変えて数種の試料とした。

研磨対象となるメモリーディスクは、アルミニウムの外
径が１３０ｍｍの円輪板状基板の両面にそれぞれ、３０
μｍの厚さで無電前二・ノケルーりん（Ｎｉ−Ｐ）めっ
き層を形成したものを用いた。

めっき層の化学組成は、ニッケルが９０〜９２％、りん
が８〜１０％である。

このディスクを、両面同時研磨装置に装填し、ディスク
の両面めっき層に対し、それぞれスェードクロスの研磨
バットを相対的に摺動して、１０分間研磨した。研磨の
間、ディスクと両研磨パ・ノドの間に、本発明および従
来例の研磨スラリーを０、　　ＩＮ　／ｗｉｎの割合で
供給した。なお、研磨圧は５０ｇ／ｃｍ２である。

研磨の後、ディスク両面のめつき層の研磨表面を検査し
て表面欠陥の有無を調べ、次にディスクの厚さを計測し
、研磨による両面のめつき層の厚さを算出して、研磨量
を求めた。さらに、研磨後の表面粗さを計測し、目標と
する面粗さが得られたかどうかをチエツクした。

これら各種研磨用組成物による研磨試験結果を表２に示
す。

酸化アルミニウム研磨材の＃２０００を用いた試料番号
１は、研磨促進剤を用いない場合、無電解Ｎ１−Ｐめっ
き表面に多数のスクラッチとオレンジピールが生じ、研
磨量も５０ｍｇと少ない。

研磨促進剤として硫酸ニッケルを添加した試料番号２と
３の場合は、研磨量は幾分向上するが、面粗さは試料番
号１０面粗さ（Ｒ）を１００として相対比較した場合、
９５〜１０５と殆ど変わらない。使用研磨材の粒度を１
３０００にした従来品４と５の場合、面粗さの相対比は
６０〜６５と細かくなり、研磨面の品質特性は幾分向上
するが、研磨量は３０〜６０ｍｇと著しく低下する。

比較品として挙げた試料番号１７と１８は未焼成品で、
１９は研磨促進剤を未添加のもの、そして試料番号２０
は焼成温度が低いものである。これらはいずれも従来品
に比べれば研磨特性は向上するが、十分満足いくもので
はない。

本発明品を用いた場合、試料番号６〜１６に示すように
スクラッチ及びオレンジピールのような表面欠陥が認め
られない優れた研磨面を得ることができる。また、＃２
０００を用いても面粗さの相対比が６５〜７５と細かい
ので、従来の＃３０００の酸化アルミニウムに比べ研磨
能力の高い＃２０００の粗い粒子を用いることができる
ので、研磨量も１１０ｍｇ以上と増大し、研磨能率が高
くなる。

また、研磨促進剤である硫酸ニッケルの添加量が０．１
〜０．３％と少なくても効果があるので研磨機や治具を
錆びさせることもなく、作業者の手も荒れない。

（以下余白）［発明の効果］以上詳述したとおり、本発明の研磨材はアルミナ−ジル
コニア研磨材特有の微細な結晶構造をそのまま具備し、
優れた研磨能率を発揮し得るとともに、熱処理による残
留正方晶ジルコニア量の制御により粒強度を適度に低下
させることによって、ラッピングのような低荷重でも自
生発刃性に富むので、一般金属材料、ガラス、及び合成
樹脂のラップ研磨材として優れた性能を発揮するもので
ある。

従って、この研磨材を用いたこの発明の研磨用組成物は
、メモリーハードディスク、磁気ヘッド及び光磁気ディ
スク、並びにその表面に施された磁性薄膜をラップ仕上
げする際、研磨表面にスクラッチ、ピットおよびオレン
ジピールを生じることなく高能率かつ高品質の表面仕上
げを可能としており、また、研磨促進剤としての酸性化
合物の量を低減できるので、研磨機や治具を錆びさせる
こともなく、作業者の手も荒れない利点も有している。

また、本発明の製造方法によれば、微細な結晶構造を有
し、ラッピングのような低い荷重でも自生発刃に富む研
磨材を簡単に得ることが出来る。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）　アルミナ−ジルコニア系研磨材においてジルコ
ニアの結晶転移点以上の温度で熱処理を施し、残留正方
晶ジルコニア比率を３０％以下としたことを特徴とする
ラップ研磨材。
（２）　ジルコニア含有量が１０〜６０重量％であるこ
とを特徴とする請求項１記載のラップ研磨材。
（３）　ジルコニア含有量が３５〜５０重量％の近共晶
組成であることを特徴とする請求項１記載のラップ研磨
材。
（４）　アルミナ−ジルコニア系研磨材が、ジルコニア
と固溶し安定化剤となり得る酸化イットリウム、酸化カ
ルシウム、酸化マグネシウム、酸化チタン及び他の希土
類酸化物の１種又は２種以上を総量で０．０５〜７重量
％含むことを特徴とする請求項１記載のラップ研磨材。
（５）　アルミナ−ジルコニア系研磨材原料を溶融、急
冷してインゴットを得、このインゴットを粉砕した後、
ジルコニアの結晶転移点以上の温度で熱処理を施し、残
留正方晶ジルコニア比率を３０％以下とすることを特徴
とするラップ研磨材の製造方法。
（６）　熱処理を、温度６５０±５０℃、焼成時間３時
間ないし１０時間で施すことを特徴とする請求項５記載
のラップ研磨材の製造方法。
（７）　請求項１記載のアルミナ−ジルコニア系ラップ
研磨材と水および酸性化合物からなり、中性ないし弱酸
性である研磨用組成物。
（８）　アルミナ−ジルコニア系ラップ研磨材の重量割
合が５〜５０％であり、研磨材の平均粒径が０．５〜５
０μｍ、最大粒径が１００μｍ以下であることを特徴と
する請求項７記載の研磨用組成物。
（９）　酸性化合物が酸性硫酸塩、硝酸塩及び塩化アン
モニウムからなることを特徴とする請求項７記載の研磨
用組成物。
（１０）　酸性化合物の濃度が０．０５〜２０重量％で
あることを特徴とする請求項７記載の研磨用組成物。
（１１）　酸性化合物の濃度が０．１〜０．３重量％で
あることを特徴とする請求項７記載の研磨用組成物。