JPH0360420A - ヒュームドシリカの水性コロイド分散液 - Google Patents

ヒュームドシリカの水性コロイド分散液

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JPH0360420A
JPH0360420A JP2068568A JP6856890A JPH0360420A JP H0360420 A JPH0360420 A JP H0360420A JP 2068568 A JP2068568 A JP 2068568A JP 6856890 A JP6856890 A JP 6856890A JP H0360420 A JPH0360420 A JP H0360420A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の産業上の利用分野〕 本発明は、ヒユームドシリカ、酸及び安定剤の水性コロ
イド分散液に関する。また、このようなコロイド分散液
の製造方法が開示される。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕極めて
小さい粒径のヒユームドシリカには多くの用途があり、
ここで水性コロイド分散液の形態でヒユームドシリカを
適用することが都合がよい。
このような用途は滑り止め床ワツクス、発泡ゴムラテッ
クス、紙被覆物、光学繊維及び石英ガラス器の製造のた
めのゾル−ゲルプロセス、並びに断熱材を含む。また、
ヒユームドシリカの水性コロイド分散液が、フリクショ
ナイジング(friction−izing)及び研摩
に利用される。また、ヒユームドシリカを水と組合せて
水性コロイド分散液を生成することにより、貯蔵または
輸送のためヒユームドシリカを稠密にすることが都合が
よい場合が多くある。
ヒユームドシリカは、一般に水素、酸素炎中で四塩化ケ
イ素の如きクロロシランの気相加水分解により製造され
る。全反応は、次式で表わされる。
5i14+2H,+O,−−−−−−・→ SiOx 
+ 4 HCi!この方法に於いて、シリカのサブ旦ク
ロンの大きさの溶融球体が生成される。これらの粒子は
、衝突し融合して、長さ0.1〜0.5ミクロンの三次
元の分枝した鎖状の凝集物を形成する。冷却が非常に早
く起こり、粒子の成長を制限し、ヒユームドシリカが無
定形であることを確実にする。これらの凝集物は、順に
0.5〜44ミクロン(325米国メツシュ)の大きさ
の範囲の凝集物を形成する。ヒユームドシリカは、一般
に非常に高い純度を有し、全不純物が多くの場合100
pp11(百万分の−)未満である。この高純度が、ヒ
ユー五ドシリ力水性分散液を多くの用途に特に有利にす
る。
多くの用途に関するその他の考慮事項は、グリッドが不
純物の主な源であることから、グリッドをヒユームドシ
リカの水性分散液から除去することである。また、グリ
ッドは分散液の多くの適用を妨害することがある。例え
ば、ラテックスゴムの凝固に際し、グリッドはゴムの構
造中の欠陥の形成をもたらし、そして半導体の単結晶の
研摩に際し、グリッドは引っかきを生じることがある。
こうして、水性分散液は高純度であることが一般に望ま
しい。純度を上げるための一つの方法は、グリッド及び
その他の不純物を除去するために水性コロイド分散液を
フィルターに通すこと(濾過とも云われる)である。水
性コロイド分散液が濾過可能であるためには、コロイド
分散液は充分低い必要があり、しかもコロイド分散液は
コロイド分散液が所望のフィルターを通過させるために
非グイラタントである必要がある。本発明の目的のため
、非ダイラタン分散液は、1000ミクロン以下の孔径
を有するフィルターを通過する分散液である。
上記の如く、フィルターを通過する分散液の能力は、ま
た分散液の粘度に関係する。フィルターが微細である程
、即ちフィルターの孔径が小さい程、フィルターを通過
するためには、水性コロイド分散液の粘度は低いことが
必要である。当業者に理解されるように、純度を上げる
ためには、コロイド分散液は、出来るだけ微細なフィル
ターを通されるべきである。こうして、低粘度を有する
水性コロイド分散液を製造することが、一般に有利であ
る。本発明の目的には、低粘度は約1000センチボイ
ズ未満の粘度である。
また、上記の用途及びその他の潜在的な用途に有益であ
るためには、水性コロイド分散液は固体にゲル化できな
い。ゲル化に抵抗する水性コロイド分散液の能力は、一
般に水性コロイド分散液の安定性と称される。−層安定
な水性コロイド分散液は、−層安定でない水性コロイド
分散液程早くにはゲル化しない。
〔課題を解決するための手段] 本発明は、ヒユームドシリカ、酸及び安定剤の水性コロ
イド分散液であって、水中に分散された、少なくとも約
40重量%のヒユームドシリカ、ヒユームドシリカの重
量基準で約0.0025重量%〜約0.50重量%の量
の酸、分散液のpl(を約7〜約12に上げるのに充分
な安定剤を含んでなる、上記の水性コロイド分散液であ
る。
また、ヒユームドシリカ、酸及び安定剤の水性コロイド
分散液、特に少なくとも約40重量%のヒユームドシリ
カ濃度を有する水性コロイド分散液が、開示される。本
発明によれば、ヒユームドシリカの安定な非ダイラタン
トの低粘度の濾過可能な水性コロイド分散液は、第一分
散液の重量基準のヒユームドシリカ濃度が最終分散液中
に所望されるシリカの量を越えるような量で、ヒユーム
ドシリカをミキサー中で酸−水溶液中に分散し、ミキサ
ー中の第一分散液を、得られる最終分散液が所望の濃度
のヒユームドシリカを含むように、追加量の水で希釈し
、ついで安定剤を添加してヒユームドシリカ、酸及び安
定剤の最終水性コロイド分散液のpiを約7〜12、好
ましくは約7.5〜約11に調節することにより製造さ
れる。この得られる最終分散液は、必要により濾過され
てグリッド及び凝集物を除去してもよい。
ヒユームドシリカは、水単独中よりも早く水−醋酸液中
に湿潤し混合する。また、分散液は安定剤の添加により
酸性pHからアルカリ性pHに調節されるので、酸の添
加はミキサー中のヒユームドシリカの水性コロイド分散
液の粘度を低下する。低下された粘度は、分散液のpH
が安定剤により上げられるので、分散液がゲル化するこ
とを防止することを助ける。
ヒユームドシリカの水性コロイド分散液を製造するため
、本発明の方法は、如何なる表面積を有するヒユームド
シリカを用いて使用し得る。しかしながら、本発明に従
って少なくとも40重量%のヒユームドシリカ濃度を有
するヒユームドシリカの水性コロイド分散液を製造する
ためには、好ましくは約75rrr/g以下、更に好ま
しくは約10nf/g〜約75rIf/g、最も好まし
くは約35rrf/g〜約60ffl/gの表面積を有
するヒユームドシリカが使用される。
本発明の方法の利点は、ヒユームドシリカ、酸及び安定
剤の得られる水性コロイド分散液が安定であり、しかも
非グイラタントであることである。
本発明の目的のため、“安定な”という用語は、分散液
が少なくとも1日の期間でゲル化しないことを意味する
。典型的には、本発明の方法に従って製造されたヒユー
ムドシリカの水性コロイド分散液は、少なくとも1週間
、好ましくは数週間、更に好ましくは数ケ月〜数年の期
間にわたって安定である。先に説明したように、本発明
の目的のために、“非ダイラタント°′という用語は、
1000ミクロン以下の孔径のフィルター中をゲル化し
ないで通過する分散液の能力を表わす。典型的には、本
発明の方法に従って製造されたヒユームドシリカの水性
コロイド分散液は、250ξクロン以下の孔径のフィル
ター、好ましくは25ミクロン以下の孔径のフィルター
、更に好ましくは10ミクロン以下の孔径のフィルター
中を通過する。典型的には、本発明の方法に従って製造
されたヒユームドシリカの水性コロイド分散液の“低粘
度”は、約1000センチボイズ未満、好ましくは約2
50センチポイズ未満である。
本発明の別の利点は、少なくとも約40重量%のヒユー
ムドシリカ濃度を有する、ヒユームドシリカ、酸及び安
定剤の水性コロイド分散液が数ケ月〜数数の期間にわた
って安定であり、低粘度を有し、しかも非グイラタント
であることである。低粘度及び非ダイラタント性は、水
性コロイド分散液が微細なフィルターを通過することを
可能にする。
本発明の更に別の利点は、以下の本発明の更に詳細な説
明から明らかになる。
〔発明の詳細な説明〕
本発明によれば、ミキサーは、一般に約50%までの量
の水、好ましくは脱イオンされた水が仕込まれ、酸が水
に添加される。使用されるミキサーは、当業界に一般に
知られる高剪断ミキサーのような、分散液を生威し得る
高剪断ミキサーであることが好ましい。酸は塩酸、硫酸
、硝酸、リン酸、酢酸またはマレイン酸の如き、鉱酸ま
たは有機酸であってもよい。水に添加される酸の量は、
水に添加されて最終水性コロイド分散液を生成するヒユ
ームドシリカの量を基準とする。一般に、水に添加され
る酸の量は、水に添加されるヒユームドシリカの重量基
準で約0.0025重量%〜約0.50重量%、好まし
くは約0.02重量%〜約0.15重量%の量である。
水への酸の添加後、ミキサーが運転されて酸及び水を混
合して水−酸溶液を生威し得る。
ミキサー中に初期に仕込まれる水の比率(%)は、明ら
かに変化し得る。しかしながら、以下の説明から明らか
なように、ヒユームドシリカ及び追加の水を添加する余
地が、ミキサー中に残されるべきである。選ばれる水の
初期の量は、通常、添加されるヒユームドシリカの量及
び水性コロイド分散液中のヒユームドシリカの所望の最
終濃度を基準とする。例えば、ヒユームドシリカの水性
コロイド分散液の所望の最終濃度が約50本量%のヒユ
ームドシリカであり、ヒユームドシリカ100ポンド(
45,4kg)がミキサーに添加される場合、水の初期
の量は、ミキサー中に50重量%より大きいヒユームド
シリカの濃度を生じる量である。典型的には、本発明の
方法では、希釈前のミキサー中の分散液は、ヒユームド
シリカの水性コロイド分散液中のヒユームドシリカの所
望の最終濃度よりも少なくとも約5%大きいヒユームド
シリカ濃度を有する。その後、ミキサー中の水性コロイ
ド分散液は、追加量の水の添加により希釈されて、分散
液中のヒユームドシリカの所望の最終濃度約50重量%
を得る。
ミキサーに水が仕込まれ、酸が水に添加された後、ヒユ
ームドシリカがミキサー中の水−酸溶液に添加される。
ヒユームドシリカは、旦キサ−が運転している間に、ヒ
ユームドシリカを水−酸混合物中に混合することにより
添加されてもよく、あるいはヒユームドシリカを水−酸
混合物に添加し、ついでミキサーを運転することにより
添加されてもよい。また、ヒユームドシリカは、ミキサ
ーが各工程間で運転している一連の工程に於いて、漸増
的に添加されてもよい。
前記の如く、本発明の方法は、如何なる表面積を有する
ヒユームドシリカを用いて利用し得る。
少なくとも約401fXI−%のヒユームドシリカ濃度
を有する、ヒユームドシリカの水性コロイド分散液を製
造するためには、約75n(/ g未満の表面積を有す
るヒユームドシリカが使用されることが好ましい。約1
0rrf/g〜約75nf/gの表面積を有するヒユー
ムドシリカが使用されることが更に好ましく、少なくと
も約40重量%のヒユームドシリカ濃度を有するヒユー
ムドシリカの水性コロイド分散液を生成するためには、
約35rrf/g〜約60%/gの表面積を有するヒユ
ームドシリカが使用されることが最も好ましい。
ミキサーへのヒユームドシリカの添加または夫々の添加
の直接の効果は、ミキサー中のヒユームドシリカの水性
コロイド分散液を増粘することである。しかしながら、
ミキサーが運転し続けると、ミキサー中のヒユームドシ
リカの水性分散液は低粘度になる。
ミキサー中のヒユームドシリカの水性コロイド分散液中
のヒユームドシリカの濃度(重量基準)がヒユームドシ
リカの所望の最終濃度(重量基準)より高い点まで上昇
された後、ミキサー中の分散液が低粘度になるまでミキ
サーが運転される。先に説明したように、希釈前の電キ
サー中の分散液は、ヒユームドシリカの水性コロイド分
散液中のヒユームドシリカの所望の最終濃度より少なく
とも約5%大きいヒユームドシリカ濃度を有する。
ついで、追加量の水がミキサーに添加されてミキサー中
の分散液を希釈する。この追加の水は脱イオンされてい
ることが好ましい、ついで、追加の水が、ミキサーを運
転することにより、巣キサー中の水性コロイド分散液に
混合される。添加される水の量は、分散液に添加される
安定剤を考慮して、ミキサー中のヒユームドシリカの水
性コロイド分散液のヒユームドシリカの濃度(重量基4
Iりを所望の最終濃度に低下する量である。
追加の水が添加された後、アルカリまたはアミンの如き
安定剤が、最終分散液のpHを約7〜約12、好ましく
は約7.5〜約11に調節する量でヒユームドシリカの
水性のコロイド分散液に添加される。
最終分散液に選ばれる特別なpHは、ヒユームドシリカ
の水性コロイド分散液が設計される用途に依存する。好
適な安定剤は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化リチウム、水酸化アンモニウム、トリエチルアミン
、及びジメチルエタノ−ルアξンの如き、アルカリまた
はアミンを含むが、これらに限定されない。
安定剤の添加後、ヒユームドシリカの水性コロイド分散
液が、ミキサーから取り出され、当業界で一般に知られ
ている方法のいずれかで、貯蔵され、または輸送のため
に包装し得る。また、所望により、ヒユームドシリカの
水性コロイド分散液が、フィルターに通されグリッド及
び凝集したヒユームドシリカ粒子を除去してもよい。
本発明の方法は、あらゆるヒユームドシリカ濃度の、ヒ
ユームドシリカ、酸及び安定剤の安定な非グイラタント
の低粘度の高純度の濾過可能な水性コロイド分散液の製
造を可能にする。少なくとも約40重量%のヒユームド
シリカ濃度、更に好ましくは約40!!1%〜約65重
量%のヒユームドシリカ濃度を有する水性コロイド分散
液が調製し得ることは、特に注目にイ直する。ヒユーム
ドシリカ、酸及び安定剤の得られる水性コロイド分散液
は、非グイラタントであり、低粘度を有し、しかも数ヶ
月〜1年以上の期間にわたって安定である。
本発明の有効性及び利点は、以下の実施例により更に説
明される。以下の実施例は、夫々約40重量%及び約6
5重量%のヒユームドシリカ濃度を有する、ヒユームド
シリカ、酸及び安定剤の水性コロイド分散液の製造を説
明する。しかしながら、これらの実施例に使用されるヒ
ユームドシリカ、酸、安定剤、及び水の量は、45重量
%、5帽1%、55重量%、及び60重景気のような異
なるヒユームドシリカ濃度を有するヒユームドシリカの
水性コロイド分散液を製造するように変え得ることが明
らかである。
実施例1 以下の実施例は、分散液を生威し得る100ガロン(3
79ffi)の容量の高剪断ミキサーを用いる、約40
重量%のヒユームドシリカ濃度を有するヒユームドシリ
カ、酸、及び安定剤の水性コロイド分散液の調製を説明
する。
高剪断ミキサーに40ガロン(1521)の水を最初に
仕込み、約1.35ボンド(0,613kg)の37%
FICf溶液(これはごキサ−に添加されるヒユームド
シリカの重量基準で約0627重量%の量である)を水
に添加する。約50nf/gの表面積を有するヒユーム
ドシリカ約500ボンド(227kg)を、ミキサーが
運転している間に、1回に100ポンド(45,4kg
)ずつミキサーに徐々に添加して、約60重量%のヒユ
ームドシリカ濃度を有するヒユームドシリカの水性コロ
イド分散液をミキサー中に生成する。この時点で、47
ガロン(178f)の追加の水を、ミキサーが運転して
いる間に、ミキサーに徐々に添加して、約41重量%の
ヒユームドシリカ濃度を有するヒユームドシリカの水性
コロイド分散液を生成する。充分な量の水酸化アンモニ
ウム(この場合には、約2.8ガロン(10,6f)の
30%の水酸化アンモニウム溶液である)を、ヒユーム
ドシリカのこの水性コロイド分散液に添加して、分散液
のpnを約10.4に調節する。水酸化アンモニウムの
添加後、得られたヒユームドシリカの水性コロイド分散
液は約40fi量%のヒユームドシリカ濃度を有し、必
要により濾過されてグリッドまたは凝集粒子を除去して
もよい。水性コロイド分散液の濾過は、ヒユームドシリ
カ濃度を約0.5重量%未満だけ変化する。濾過もしく
は未濾過の、ヒユームドシリカ、酸及び安定剤の水性コ
ロイド分散液は、当業界で一般に知られている方法のい
ずれかで、貯蔵され、及び/または輸送のために包装さ
れてもよい。
実施例2 以下の実施例は、分散液を生成し得る100ガロン(3
79f)の容量の高剪断丞キサ−を用いる、約65重量
%のヒユームドシリカ濃度を有する、ヒユームドシリカ
、酸及び安定剤の水性コロイド分散液の調製を説明する
高剪断ミキサーに、水26ガロン(9942)を最初に
仕込み、約1.35ボンド(0,613kg)の37%
Hi溶液(これはミキサーに添加されるヒユームドシリ
カの重量基準で約0.27重量%の量である)を水に添
加する。約50rrf/gの表面積を有するヒユームド
シリカ約500ボンド(227kg)を、ミキサーが運
転している間に、1回に100ボンド(45,4kg)
ずつ、ミキサーに徐々に添加して、約70重量%のヒユ
ームドシリカ濃度を有するヒユームドシリカの水性コロ
イド分散液をごキサ−中に生成する。
この時点で、4.2ガロン(15,9ffi)の追加の
水を、ミキサーが運転している間に、ミキサーに徐々に
添加して、約66.5重量%のヒユームドシリカ濃度を
有するヒユームドシリカの水性コロイド分散液を生成す
る。充分な量の水酸化アンモニウム(この場合には、約
2.8ガロン(10,6N)の30%の水酸化アンモニ
ウム溶液である)を、ヒユームドシリカのこの水性コロ
イド分散液に添加して、分散液のpHを約10.4に調
節する。水酸化アンモニウムの添加後、得られたヒユー
ムドシリカの水性コロイド分散液は、約65重量%のヒ
ユームドシリカ濃度を有し、必要により濾過されてグリ
ッドまたは凝集粒子を除去してもよい。水性コロイド分
散液の濾過は、ヒユームドシリカ濃度を約0.5重量%
未満だけ変化する。濾過もしくは未濾過のヒユームドシ
リカ、酸及び安定剤の水性コロイド分散液は、当業界で
一般に知られた方法のいずれかにより、貯蔵されてもよ
く、及び/または輸送のために包装されてもよい。
同様の結果が、実施例1及2の操作に従うことにより、
かつミキサーに仕込まれる水の初期の量、酸の量、及び
ミキサーに添加される水の量を変えて45重量%、50
重量%、55重量%、及び6帽1%のヒユームドシリカ
濃度を有する、ヒユームドシリカ、酸及び安定剤の水性
コロイド分散液を製造することにより、得られた。
多くの改良及び変化が、本発明から逸脱しないで、上記
の実施例になし得ることが明らかである。
従って、本明細書に記載された本発明の形態は例示であ
るにすぎず、本発明の範囲を限定することを目的とする
ものではないことが明らかに理解されるべきである。本
発明は、特許請求の範囲に入る全ての改良を含む。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、コロイド分散液であって、  水中に分散された、少なくとも約40重量%のヒュー
    ムドシリカ、ヒュームドシリカの重量基準で約0.00
    25重量%〜約0.50重量%の量の酸、分散液のpH
    を約7.0〜約12.0に上げる重量の安定剤を含んで
    なるコロイド分散液。 2、酸が鉱酸及び有機酸からなる群から選ばれる、請求
    項1記載のコロイド分散液。 3、酸が塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸及びマレイン
    酸からなる群から選ばれる、請求項1記載のコロイド分
    散液。 4、酸が塩酸である、請求項1記載のコロイド分散液。 5、酸がヒュームドシリカの重量基準で0.02重量%
    〜約0.15重量%の量で存在する、請求項1記載のコ
    ロイド分散液。 6、安定剤がアルカリ及びアミンからなる群から選ばれ
    る、請求項1記載のコロイド分散液。 7、安定剤が水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
    化リチウム、水酸化アンモニウム、トリエチルアミン、
    及びジメチルエタノールアミンからなる群から選ばれる
    、請求項1記載のコロイド分散液。 8、安定剤が水酸化アンモニウムである、請求項1また
    は4記載のコロイド分散液。 9、ヒュームドシリカが約75m^2/g未満の表面積
    を有する、請求項1記載のコロイド分散液。
JP2068568A 1989-03-21 1990-03-20 ヒュームドシリカの水性コロイド分散液 Expired - Lifetime JP2949633B2 (ja)

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BR (1) BR9001302A (ja)
CA (1) CA2012719C (ja)
DE (1) DE4006392A1 (ja)
FR (1) FR2644768B1 (ja)
GB (1) GB2229432B (ja)
IT (1) IT1239546B (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0773270A2 (en) 1995-11-10 1997-05-14 Tokuyama Corporation Polishing slurries and a process for the production thereof
US6248144B1 (en) 1999-07-15 2001-06-19 Fujimi Incorporated Process for producing polishing composition
JP2004514027A (ja) * 2000-11-15 2004-05-13 キャボット コーポレイション フュームド金属酸化物分散体の製造方法
KR100472862B1 (ko) * 1999-08-03 2005-03-07 데구사 아게 소결체 및 이의 제조방법
JP2007534856A (ja) * 2004-04-29 2007-11-29 デグサ ゲーエムベーハー 織物仕上剤としてのカチオン性二酸化珪素分散液の使用
JP2008037689A (ja) * 2006-08-04 2008-02-21 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 高強度コンクリート用シリカフュームスラリー
JP2008533254A (ja) * 2005-03-17 2008-08-21 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト 部分的疎水性ケイ酸水分散体
US7512216B2 (en) 2004-03-30 2009-03-31 British Telecommunications Plc Joint fault detection
US7611552B2 (en) 2004-03-29 2009-11-03 Nitta Haas Incorporated Semiconductor polishing composition
JP2012500766A (ja) * 2008-08-22 2012-01-12 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト 疎水性ケイ酸の水分散体
JP2013515670A (ja) * 2009-12-29 2013-05-09 ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー−コーン 複合無機粒子及びそれを製造及び使用する方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2816076B2 (ja) * 1993-01-21 1998-10-27 日本ペイント株式会社 コロイダル粒子の分散体および水性塗料組成物
KR19990023544A (ko) * 1997-08-19 1999-03-25 마쯔모또 에이찌 무기 입자의 수성 분산체와 그의 제조 방법
US5944866A (en) * 1997-09-26 1999-08-31 Lucent Technologies Inc. Fabrication including sol-gel processing
US6132298A (en) * 1998-11-25 2000-10-17 Applied Materials, Inc. Carrier head with edge control for chemical mechanical polishing
CN1089077C (zh) * 1998-11-04 2002-08-14 中国科学院山西煤炭化学研究所 一种二氧化硅溶胶胶粒表面修饰方法
JP4428473B2 (ja) * 1999-01-18 2010-03-10 株式会社東芝 気相法無機酸化物粒子の含水固体状物質及び研磨用スラリーの製造方法
JP4426192B2 (ja) * 2003-02-14 2010-03-03 ニッタ・ハース株式会社 研磨用組成物の製造方法
JP5164129B2 (ja) * 2004-03-29 2013-03-13 ニッタ・ハース株式会社 半導体研磨用組成物
NO342672B1 (en) * 2016-09-13 2018-06-25 Elkem As Microsilica slurry and method for producing such slurry
KR20200027549A (ko) * 2017-08-09 2020-03-12 와커 헤미 아게 수성 분산액, 수성 분산액의 제조 방법, 수-중-유 유형 에멀젼, 수-중-유 유형 에멀젼의 제조 방법, 및 디자인 방법

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2984629A (en) * 1957-11-04 1961-05-16 Cabot Corp Aqueous dispersions of pyrogenic silica
US3291626A (en) * 1962-12-26 1966-12-13 Huber Corp J M Stabilized pigment slurries
DE1442656C3 (de) * 1964-09-25 1975-07-17 Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt Verfahren zur Herstellung einer stabilen Dispersion pyrogen gewonnenen feinteiligen Sillciumdioxids
GB1326574A (en) * 1970-10-30 1973-08-15 Degussa Production of stabilised dispersions of pyrogenic silica
FR2094790A5 (fr) * 1970-11-24 1972-02-04 Degussa Procede pour la preparation de dispersions aqueuses stables de dioxydes de silicium par voie ignee
US4042361A (en) * 1976-04-26 1977-08-16 Corning Glass Works Method of densifying metal oxides
DE2844052A1 (de) * 1978-10-10 1980-04-30 Degussa Waessrige dispersion einer hydrophoben kieselsaeure
US4321243A (en) * 1980-08-05 1982-03-23 Cornwell Charles E Method of producing stabilized aqueous dispersions of silica fume

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0773270A2 (en) 1995-11-10 1997-05-14 Tokuyama Corporation Polishing slurries and a process for the production thereof
US6248144B1 (en) 1999-07-15 2001-06-19 Fujimi Incorporated Process for producing polishing composition
KR100472862B1 (ko) * 1999-08-03 2005-03-07 데구사 아게 소결체 및 이의 제조방법
JP2004514027A (ja) * 2000-11-15 2004-05-13 キャボット コーポレイション フュームド金属酸化物分散体の製造方法
JP2013049620A (ja) * 2000-11-15 2013-03-14 Cabot Corp フュームド金属酸化物分散体の製造方法
US7611552B2 (en) 2004-03-29 2009-11-03 Nitta Haas Incorporated Semiconductor polishing composition
US7512216B2 (en) 2004-03-30 2009-03-31 British Telecommunications Plc Joint fault detection
JP2007534856A (ja) * 2004-04-29 2007-11-29 デグサ ゲーエムベーハー 織物仕上剤としてのカチオン性二酸化珪素分散液の使用
JP2008533254A (ja) * 2005-03-17 2008-08-21 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト 部分的疎水性ケイ酸水分散体
JP2008037689A (ja) * 2006-08-04 2008-02-21 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 高強度コンクリート用シリカフュームスラリー
JP2012500766A (ja) * 2008-08-22 2012-01-12 ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト 疎水性ケイ酸の水分散体
JP2013515670A (ja) * 2009-12-29 2013-05-09 ダブリュー・アール・グレース・アンド・カンパニー−コーン 複合無機粒子及びそれを製造及び使用する方法

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