JP2012500766A - 疎水性ケイ酸の水分散体 - Google Patents
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Abstract
【選択図】なし
Description
したがって、シリカの水分散体は、特に中性範囲のpHレベルにおいて、高粘度及び本来備わっているコロイド不安定性を示す。
この技術の問題点は、多くの用途で必要とされている中性点領域のpHレベル、即ちpH約7において、前記分散体の制御不能な粘度上昇が生じ、更にはゲル化する場合さえもあるという点であり、これは、例えば非特許文献1に示されている。pHが中性点を超えて更に低下すると、粘度も更に低下する。親水性シリカの水分散体の一部に見られるこの挙動は、例えば、複雑な混合物の配合中に生じ得るようなpHの小さな変化でさえも、配合物の流動性を制御不能に変動させる恐れがあるという問題点を有する。
この技術の問題点は、中性点の領域、即ちpH7において、これら分散体が不安定になる傾向があり、それによって制御不能な粘度上昇が生じ、更にはゲル化する場合さえあるという点である。更に、アルミニウム塩の添加は、例えば、インクジェット紙のコーティング、及び例えば、水系エポキシ樹脂のレオロジー制御等の特定の用途において、悪影響を及ぼす場合もある。
この際、下記の方法により最良の結果が得られることを見出した。
BET比表面積が200m2/gである親水性出発シリカをジメチルジクロロシランで処理することにより得られた、残留シラノール含量が50%であり、炭素含量が1.3%である、疎水性ヒュームドシリカ(ワッカー ケミーAG、ミュンヘンから商品名HDK(登録商標)H20として入手可能)300gを、5,000rpm〜8,000rpmの溶解機で、少しずつ分散させることにより、完全に脱イオン化されたDI水450gに混和させる。H3PO4水溶液を計量供給添加することにより、分散体のpHを2〜2.5に維持する。シリカを全て添加した後、8,000rpm、温度45℃〜50℃で30分間分散を続ける。次いで、得られる低粘度分散体を、ゆっくりと撹拌しながらDI水550gで希釈し、NaOH水溶液を用いてpHを9にする。可動性の高いシリカ分散体が得られ、その分析データを表1に要約する。
BET比表面積が300m2/gである親水性出発シリカをジメチルジクロロシランで処理することにより得られた、残留シラノール含量が50%であり、炭素含量が1.9%である、疎水性ヒュームドシリカ(ワッカー ケミーAG、ミュンヘンから商品名HDK(登録商標)H30として入手可能)300gを、5,000rpm〜8,000rpmの溶解機で、少しずつ分散させることにより、完全に脱イオン化されたDI水450gに混和させる。H3PO4水溶液を計量供給添加することにより、分散体のpHを2〜2.5に維持する。シリカを全て添加した後、8,000rpm、温度45℃〜50℃で30分間分散を続ける。次いで、得られる低粘度分散体を、ゆっくりと撹拌しながらDI水550gで希釈し、NaOH水溶液を用いてpHを9にする。可動性の高いシリカ分散体が得られ、その分析データを表1に要約する。
欧州特許出願公開第1433749 A1号に従って、BET比表面積が200m2/gである親水性出発シリカ(ワッカー ケミーAG、ミュンヘンから商品名HDK(登録商標)N20として入手可能)をジメチルジクロロシランと反応させることにより得られた、残留シラノール含量が72%であり、炭素含量が0.6%である、疎水性ヒュームドシリカ300gを、5,000rpm〜8,000rpmの溶解機で、少しずつ分散させることにより、完全に脱イオン化されたDI水450gに混和させる。H3PO4水溶液を計量供給添加することにより、分散体のpHを2〜2.5に維持する。シリカを全て添加した後、8,000rpm、温度45℃〜50℃で30分間分散を続ける。次いで、得られる低粘度分散体を、ゆっくりと撹拌しながらDI水550gで希釈し、NaOH水溶液を用いてpHを9にする。可動性の高いシリカ分散体が得られ、その分析データを表1に要約する。
BET比表面積が150m2/gである親水性出発シリカをジメチルジクロロシランで処理することにより得られた、残留シラノール含量が50%であり、炭素含量が1.0%である、疎水性ヒュームドシリカ(ワッカー ケミーAG、ミュンヘンから商品名HDK(登録商標)H15として入手可能)750gを、5,000rpm〜8,000rpmの溶解機で、少しずつ分散させることにより、完全に脱イオン化されたDI水1,000gに混和させる。H3PO4水溶液を計量供給添加することにより、分散体のpHを2〜2.5に維持する。シリカを全て添加した後、8,000rpm、温度45℃〜50℃で30分間分散を続ける。次いで、得られる低粘度分散体を、ゆっくりと撹拌しながらDI水800gで希釈し、NaOH水溶液を用いてpHを9にする。可動性の高いシリカ分散体が得られ、その分析データを表1に要約する。
欧州特許出願公開第1433749 A1号に従って、BET比表面積が200m2/gである親水性出発シリカ(ワッカー ケミーAG、ミュンヘンから商品名HDK(登録商標)N20として入手可能)をジメチルジクロロシランと反応させることにより得られた、残留シラノール含量が72%であり、炭素含量が0.6%である、疎水性ヒュームドシリカ750gを、5,000rpm〜8,000rpmの溶解機で、少しずつ分散させることにより、完全に脱イオン化されたDI水1,000gに混和させる。H3PO4水溶液を計量供給添加することにより、分散体のpHを2〜2.5に維持する。シリカを全て添加した後、8,000rpm、温度45℃〜50℃で30分間分散を続ける。次いで、得られる低粘度分散体を、ゆっくりと撹拌しながらDI水800gで希釈し、NaOH水溶液を用いてpHを9にする。可動性の高いシリカ分散体が得られ、その分析データを表1に要約する。
BET比表面積が200m2/gである親水性出発シリカをジメチルジクロロシランで処理することにより得られた、残留シラノール含量が50%であり、炭素含量が1.3%である、疎水性ヒュームドシリカ(ワッカー ケミーAG、ミュンヘンから商品名HDK(登録商標)H20として入手可能)350gを、5,000rpm〜8,000rpmの溶解機で、少しずつ分散させることにより、完全に脱イオン化されたDI水1,000gに混和させる。H3PO4水溶液を計量供給添加することにより、分散体のpHを2〜2.5に維持する。シリカを全て添加した後、8,000rpm、温度45℃〜50℃で30分間分散を続ける。次いで、得られる低粘度分散体を、ゆっくりと撹拌しながらDI水800gで希釈し、NaOH水溶液を用いてpHを9にする。次いで、45℃で安定化させた低粘度分散体を、連続流超音波セル(Hielscher製、24kHz、400W)を通して、5mL/分〜10mL/分の流速で汲み上げた。可動性の高いシリカ分散体が得られ、その分析データを表1に要約する。
BET比表面積が200m2/gである親水性出発シリカをジメチルジクロロシランで処理することにより得られた、残留シラノール含量が50%であり、炭素含量が1.3%である、疎水性ヒュームドシリカ(ワッカー ケミーAG、ミュンヘンから商品名HDK(登録商標)H20として入手可能)300gを、300rpm〜600rpmの溶解機で、少しずつ分散させることにより、完全に脱イオン化されたDI水1,000gに混和させる。NaOH水溶液を計量供給添加することにより、分散体のpHを9〜9.5に維持する。シリカを全て添加した後、6,000rpmで30分間分散を続け、懸濁液を20℃に冷却する。シリカ分散体が得られ、その分析データを表1に要約する。
固体含量(%)=ms×100/10g
−分散体のゼータ電位は、以下の方法により測定した:分散体と同じpHを有するDI水を用いて、シリカ濃度が約1.5重量%になるように分散体を希釈する。Malvern Instruments製Zetasizer ZSを用いて、9.2〜2のpH範囲に亘ってゼータ電位を測定し、自動滴定装置を用いてpHを1ずつ調整する。
−分散体の粘度は、25℃及び剪断速度D=100s−1で、コーンプレートセンサシステム(測定間隔105μm)を備えるHaake製RS600レオメータを用いて測定した。
−焼結凝集体の平均粒径は、光子相関分光法を用いて以下の方法により測定した:分散体と同じpHを有するDI水を用いて、シリカ濃度が約0.3重量%になるように分散体を希釈する。Malvern Instruments製Zetasizer ZSを用いて、25℃で、後方散乱においてサンプルを測定する。凝集体の平均粒径は、z−平均(キュムラント平均)であり、シリカ凝集体の等価水力直径に一致する。500nm〜5,000nmにおける単峰性分布の相対強度Irelは、以下の式により求められる:Irel=I(500〜5,000)/I(0〜500)+I(500〜5,000)(式中、I(0〜500)及びI(500〜5,000)は、それぞれ0nm〜500nm及び500nm〜5,000nmにおける単峰性分布の絶対シグナル強度である)。PDIは、自己相関関数のキュムラント分析における第2のパルスの比を、キュムラント分析における平均減衰定数で除することにより求められる、多分散指数である。
−pHは、pH電極の組み合わせを用いて測定した。
固体含量が23重量%である、実施例1に記載のシリカ分散体54gを、500mLのステンレス鋼製ビーカーに入れる。塩酸を添加して、pHを約5に設定する。Ultraturraxを用いて10,000rpmで撹拌しながら、且つ水で冷却しながら、約15分間に亘って計量供給することにより、100mPasの粘度を有するポリジメチルシロキサン(ワッカー ケミーGmbH、ミュンヘン(ドイツ)から商品名「AK100」として入手可能)150gと、この時点で高粘度である懸濁液をゆっくりと混合する。この添加中、混合物の温度を60℃超に上昇させてはならない。この時点では高粘度である、得られた硬い塊を、同様に10,000rpmで、15分間に亘って、DI水108gとゆっくりと混合する。この添加中、混合物の温度を60℃超に上昇させてはならない。可動性の高い、白色のO/Wエマルションが得られ、その分析データを表2に要約する。
−pHは、pH電極の組み合わせを用いて測定した。
−エマルションの粘度は、25℃及び剪断速度D=10s−1で、コーンプレートセンサシステム(測定間隔105μm)を備えるHaake製RS600レオメータを用いて測定した。
Claims (12)
- 疎水性シリカを、pH0〜6で水相に分散し、更なる工程において、塩基を添加することにより、シリカ分散体のpHを7〜12に調整することを特徴とする、疎水性シリカの水分散体を調製する方法。
- 分散が、30℃〜90℃の温度で行われる請求項1に記載の方法。
- 酸性分散体中のシリカ濃度が、10重量%〜60重量%である請求項1又は2に記載の方法。
- 酸性分散体を希釈した後、pHを7〜12のレベルに調整する請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- pH調整が、最低剪断力を用いて行われる請求項1から4のいずれかに記載の方法。
- pHが7〜12であり、且つ多分散指数が0.5未満であることを特徴とする疎水性シリカの水分散体。
- 粒径分布が2つ以下の分離された単峰性分布を有し、第1の単峰性分布の最大値が0nm〜500nmに存在し、且つ第2の単峰性分布の最大値が500nm〜5,000nmに存在する請求項6に記載の疎水性シリカの水分散体。
- 請求項6若しくは7に記載の分散体、又は請求項1から5のいずれかに記載の方法で調製された分散体を用いることを特徴とする粒子安定化O/Wエマルション(ピッカリングエマルション)を調製する方法。
- 請求項6若しくは7に記載の分散体、又は請求項1から5のいずれかに記載の方法で調製された分散体を用いることを特徴とする表面コーティングの引っ掻き耐性を改善する方法。
- 請求項6若しくは7に記載の分散体、又は請求項1から5のいずれかに記載の方法で調製された分散体を用いることを特徴とする表面上で使用するための調製品の流動性を改善する方法。
- 請求項6若しくは7に記載の分散体、又は請求項1から5のいずれかに記載の方法で調製された分散体を用いることを特徴とする印刷媒体を調製する方法。
- 請求項6若しくは7に記載の分散体、又は請求項1から5のいずれかに記載の方法で調製された分散体を含むことを特徴とする表面コーティング。
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016521242A (ja) * | 2013-04-17 | 2016-07-21 | シルボンド・コーポレイションSilbond Corporation | コロイドゾルとその製造方法 |
JP2017503643A (ja) * | 2013-12-19 | 2017-02-02 | フイルメニツヒ ソシエテ アノニムFirmenich Sa | ハイブリッドマイクロカプセル |
JP6312234B1 (ja) * | 2017-08-09 | 2018-04-18 | 旭化成ワッカーシリコーン株式会社 | 水分散体および水分散体の製造方法、並びに水中油型エマルジョンおよび水中油型エマルジョンの製造方法、設計方法 |
JP6344878B1 (ja) * | 2017-11-16 | 2018-06-20 | 旭化成ワッカーシリコーン株式会社 | 水分散体および水分散体の製造方法、並びに水中油型エマルジョンおよび水中油型エマルジョンの製造方法。 |
JP2019030866A (ja) * | 2018-05-21 | 2019-02-28 | 旭化成ワッカーシリコーン株式会社 | 水分散体 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9387446B2 (en) * | 2011-09-22 | 2016-07-12 | Ariel-University Research And Development Company Ltd. | Emulsions and methods of making emulsions |
US9670367B2 (en) * | 2012-01-27 | 2017-06-06 | E Ink California, Llc | Electrophoretic dispersion |
CN111450721A (zh) * | 2020-04-01 | 2020-07-28 | 中国石油天然气股份有限公司 | 多功能一体化Pickering乳液的制备方法 |
CN111450770A (zh) * | 2020-04-01 | 2020-07-28 | 中国石油天然气股份有限公司 | 具有CO2响应的稳定Pickering乳液 |
CN113069992B (zh) * | 2021-03-19 | 2022-05-20 | 高安市环瓷达釉料有限公司 | 一种带有可水解外壳的固态分散剂制造工艺 |
CN115784245B (zh) * | 2022-12-29 | 2024-01-16 | 苏州西丽卡电子材料有限公司 | 一种疏水性高纯度微米级球形二氧化硅粉体的制备方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60127216A (ja) * | 1983-12-10 | 1985-07-06 | Nitto Chem Ind Co Ltd | 低アルカリ低アルミナ含量の水性シリカゾルの製造法 |
JPH0360420A (ja) * | 1989-03-21 | 1991-03-15 | Cabot Corp | ヒュームドシリカの水性コロイド分散液 |
JPH0492808A (ja) * | 1990-08-02 | 1992-03-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 疎水化シリカゾルの製造方法 |
JPH10114511A (ja) * | 1996-05-14 | 1998-05-06 | Lucent Technol Inc | ゾルの製造方法 |
JP2001026771A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-01-30 | Fujimi Inc | 研磨用組成物の製造方法 |
JP2008533254A (ja) * | 2005-03-17 | 2008-08-21 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 部分的疎水性ケイ酸水分散体 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2892797A (en) | 1956-02-17 | 1959-06-30 | Du Pont | Process for modifying the properties of a silica sol and product thereof |
DE3835592A1 (de) | 1988-10-19 | 1990-04-26 | Degussa | Insektizide |
US5246624A (en) * | 1989-03-21 | 1993-09-21 | Cabot Corporation | Aqueous colloidal dispersion of fumed silica, acid and stabilizer |
DE4419234A1 (de) * | 1994-06-01 | 1995-12-07 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur Silylierung von anorganischen Oxiden |
FR2732327B1 (fr) | 1995-04-03 | 1997-05-09 | Rhone Poulenc Chimie | Suspension aqueuse de silice et de sulfate d'aluminium ou d'alun, procedes de preparation et utilisations de ladite suspension |
TW498054B (en) * | 1998-09-10 | 2002-08-11 | Nissan Chemical Ind Ltd | Moniliform silica sol and process for producing the same, and coating composition for ink receiving layer and ink jet recording medium having ink receiving layer |
JP4704564B2 (ja) | 1998-10-02 | 2011-06-15 | キャボット コーポレイション | シリカ分散体、コーティング組成物、及び記録媒体 |
DE10145162A1 (de) * | 2001-09-13 | 2003-04-10 | Wacker Chemie Gmbh | Kieselsäure mit geringem Gehalt an Kieselsäure-Silanolgruppen |
JP4587293B2 (ja) * | 2002-08-03 | 2010-11-24 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | 高表面積を有する高分散性の沈降珪酸 |
DE10238463A1 (de) | 2002-08-22 | 2004-03-04 | Degussa Ag | Stabilisierte, wässerige Siliciumdioxid-Dispersion |
US7374787B2 (en) * | 2002-08-22 | 2008-05-20 | Dequssa Ag | Stabilized, aqueous silicon dioxide dispersion |
DE10260323A1 (de) | 2002-12-20 | 2004-07-08 | Wacker-Chemie Gmbh | Wasserbenetzbare silylierte Metalloxide |
DE10316661A1 (de) | 2003-04-11 | 2004-11-04 | Degussa Ag | Dispergiermittel enthaltende wässerige Dispersion von hydrophobiertem Siliciumdioxidpulver |
DE102004014704A1 (de) * | 2004-03-25 | 2005-10-13 | Wacker-Chemie Gmbh | Partikelstabilisierte Emulsionen |
EP1801073B1 (de) * | 2005-12-20 | 2011-05-18 | Evonik Degussa GmbH | Pyrogen hergestelltes Siliciumdioxid |
-
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60127216A (ja) * | 1983-12-10 | 1985-07-06 | Nitto Chem Ind Co Ltd | 低アルカリ低アルミナ含量の水性シリカゾルの製造法 |
JPH0360420A (ja) * | 1989-03-21 | 1991-03-15 | Cabot Corp | ヒュームドシリカの水性コロイド分散液 |
JPH0492808A (ja) * | 1990-08-02 | 1992-03-25 | Idemitsu Kosan Co Ltd | 疎水化シリカゾルの製造方法 |
JPH10114511A (ja) * | 1996-05-14 | 1998-05-06 | Lucent Technol Inc | ゾルの製造方法 |
JP2001026771A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-01-30 | Fujimi Inc | 研磨用組成物の製造方法 |
JP2008533254A (ja) * | 2005-03-17 | 2008-08-21 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 部分的疎水性ケイ酸水分散体 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
""WACKER HDK(R) 高分散シリカ"", [ONLINE], JPN7014001896, ISSN: 0002997646 * |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016521242A (ja) * | 2013-04-17 | 2016-07-21 | シルボンド・コーポレイションSilbond Corporation | コロイドゾルとその製造方法 |
JP2017503643A (ja) * | 2013-12-19 | 2017-02-02 | フイルメニツヒ ソシエテ アノニムFirmenich Sa | ハイブリッドマイクロカプセル |
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