DE4006392A1 - Waessrige colloidale dispersion aus in der gasphase hergestelltem siliciumdioxid, aus einer saeure und aus einem stabilisator, sowie ein verfahren zu ihrer hertellung - Google Patents
Waessrige colloidale dispersion aus in der gasphase hergestelltem siliciumdioxid, aus einer saeure und aus einem stabilisator, sowie ein verfahren zu ihrer hertellungInfo
- Publication number
- DE4006392A1 DE4006392A1 DE4006392A DE4006392A DE4006392A1 DE 4006392 A1 DE4006392 A1 DE 4006392A1 DE 4006392 A DE4006392 A DE 4006392A DE 4006392 A DE4006392 A DE 4006392A DE 4006392 A1 DE4006392 A1 DE 4006392A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- acid
- silicon dioxide
- dispersion
- gas phase
- weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
- C01B33/141—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions
- C01B33/1415—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water
- C01B33/1417—Preparation of hydrosols or aqueous dispersions by suspending finely divided silica in water an aqueous dispersion being obtained
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/14—Colloidal silica, e.g. dispersions, gels, sols
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
- Chemical Or Physical Treatment Of Fibers (AREA)
- Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)
- Paper (AREA)
- Curing Cements, Concrete, And Artificial Stone (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine wäßrige,
colloidale Dispersion aus in der Gasphase
hergestelltem (fumed) Siliciumdioxid, aus einer
Säure und einem Stabilisator. Ein Verfahren zur
Herstellung einer derartigen wäßrigen, colloidalen
Dispersion wird ebenso offenbart.
Es gibt viele Anwendungsmöglichkeiten für aus der
Gasphase hergestelltem Siliciumdioxid oder allgemein
Silicamaterial mit extrem feiner Partikelgröße, bei
denen es üblich ist, das Silicamaterial oder
Siliciumdioxid in Form einer wäßrigen colloidalen
Dispersion zu verwenden oder anzuwenden. Derartige
Anwendungen oder Verwendungen schließen folgende
Gebiete mit ein:
Nicht gleitfähige Bodenwachse, geschäumte Kautschuklatices, Papierbeschichtungen, sogenannte Sol-Gel-Prozesse zur Herstellung von optischen Fasern und Quarzglaswaren, und das Gebiet der Wärmeisolierung beziehungsweise Wärmedämmung.
Nicht gleitfähige Bodenwachse, geschäumte Kautschuklatices, Papierbeschichtungen, sogenannte Sol-Gel-Prozesse zur Herstellung von optischen Fasern und Quarzglaswaren, und das Gebiet der Wärmeisolierung beziehungsweise Wärmedämmung.
Außerdem werden wäßrige colloidale Dispersionen von
aus der Gasphase stammendem Siliciumdioxid zum
Friktionieren und zum Polieren verwendet.
Darüber hinaus gibt es manigfaltige Gelegenheiten,
bei denen es üblich ist, das aus der Gasphase
stammende Siliciumdioxid für die Lagerung oder für
den Transport entsprechend zu bearbeiten, wobei man
das diesbezügliche Silicumdioxid mit Wasser in
Verbindung setzt, um eine wäßrige colloidale
Dispersion zu erzeugen.
In der Regel wird das aus der Gasphase stammende
Siliciumdioxid durch sogenannte Gasphasenhydrolyse
(vapor phase hydrolysis) von Chlorsilanen, wie zum
Beispiel Silicumtetrachlorid, in einer
Wasserstoff-Sauerstoff-Flamme erzeugt: Die
Gesamtreaktion lautet:
SiCl4 + 2 H2+O2 → SiO₂ + 4 HCl.
Bei diesem Verfahren werden geschmolzene Kügelchen
in Submicrongröße des Silicamaterials
beziehungsweise des Siliciumdioxids gebildet. Diese
Partikel stoßen zusammen und verschmelzen, um
dreidimensionale, verzweigte, kettenähnliche
Aggregate mit einer ungefähren Länge von 0,1 bis 0,5
Micron zu bilden. Geht die Abkühlung sehr schnell
von statten, wird das Wachstum der Partikelchen
eingeschränkt und dabei sichergestellt, daß das aus
der Gasphase stammende Siliciumdioxid amorph ist:
Diese Aggregate bilden wechselseitig Agglomerate,
deren Größe im Bereich von 0,5 bis 44 Micron
schwankt (325 US mesh). Im allgemeinen besitzt das
aus der Gasphase stammende Siliciumdioxid
beziehungsweise das Silicamaterial eine sehr hohe
Reinheit, mit einem Gesamtverunreinigungsgrad, der
in manchen Fällen unter 100 ppm (parts per million)
beträgt. Ein derartig hoher Reinheitsgrad macht
wäßrige Dispersionen mit aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid besonders vorteilhaft für
mannigfaltige Anwendungen.
Noch eine weitere Bedeutung für viele
Verwendungsmöglichkeiten besteht in der Entfernung
von Grieß oder Schrot aus der wäßrigen Dispersion
des aus der Gasphase stammenden Siliciumdioxid, da
der Schrot oder Grieß eine Hauptquelle für
Verunreinigungen darstellt. Außerdem kann dieser
Grieß oder Schrot viele dieser
Verwendungsmöglichkeiten der Dispersion störend
beeinflussen. Beispielsweise wird der Grieß oder
Schrot bei der Koagulation des Kautschuklatex zum
Entstehen von Defekten in der Struktur des
Kautschuks führen, oder diese Verunreinigungen
können beim Polieren von Halbleitereinzelkristallen
ein Verkratzen bewirken. Infolgedessen ist es im
allgemeinen wünschenswert, daß die wäßrige
Dispersion einen hohen Reinheitsgrad aufweist. Eine
Verfahrensweise zum Steigern des Reinheitsgrades
besteht darin, die wäßrige colloidale Dispersion
durch einen Filter zu schicken, auch als
Filtriervorgang bezeichnet, um den Grieß oder andere
Verunreinigungen zu entfernen. Um nun eine wäßrige
colloidale Dispersion filtrierbar zu machen, muß die
Viskosität der colloidalen Dispersion niedrig genug
sein, und die colloidale Dispersion muß
nicht-dilatant sein, um die colloidale Dispersion zu
befähigen, durch den gewünschten Filter
hindurchzugelangen. Für die Zwecke der vorliegenden
Erfindung ist eine nicht-dilatante Dispersion eine
Dispersion, die durch einen Filter mit einer
Porengröße von 1000 Micron oder kleiner
hindurchgeschickt werden kann.
Wie zuvor beschrieben, hängt die Fähigkeit einer
Dispersion, durch einen Filter hindurchgeschickt zu
werden außerdem von der Viskosität der Dispersion
ab. Je feiner der Filter, das heißt je kleiner die
Porengröße ist, desto niedriger muß die Viskosität
der wäßrigen colloidalen Dispersion sein, wenn
Letztere durch einen Filter geschickt werden soll.
Wie die Fachleute wissen, sollte zur Steigerung des
Reinheitsgrades die colloidale Dispersion durch
einen möglichst feinen Filter hindurchgeschickt
werden. Infolgedessen ist es in der Regel von
Vorteil, wäßrige colloidale Dispersionen mit
niedrigen Viskositäten zu erzeugen. Für die Zwecke
der vorliegenden Erfindung liegen niedrige
Viskositäten unter etwa 1000 Centipoise.
Im Hinblick auf die Zweckdienlichkeit bei den oben
aufgeführten Verwendungsmöglichkeiten und anderen
möglichen Anwendungen kann diese wäßrige colloidale
Dispersion außerdem nicht zu einem Festkörper
erstarren. Die Fähigkeit der wäßrigen colloidalen
Dispersion, sich einem Erstarren zu widersetzen,
wird allgemein als Stabilität der wäßrigen
colloidalen Dispersion bezeichnet. Stabilere
wäßrige colloidale Dispersionen werden schwerer
erstarren als weniger stabile wäßrige colloidale
Diserpersionen.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine
wäßrige colloidale Dispersion von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid, einer Säure und einem
Stabilisator, die zumindest etwa 40 Gewichtsprozent
aus der Gasphase stammendes Siliciumdioxid, eine
Säure in einer Menge zwischen etwa 0,0025 und etwa
0,5 Gewichtsprozent der Menge des aus der Gasphase
stammenden Siliciumdioxids und ausreichend
Stabilisator enthält, um den pH-Wert auf einen
pH-Wert zwischen etwa 7 und etwa 12 ansteigen zu
lassen, wobei die Bestandteile in Wasser dispergiert
sind.
Gemäß der vorliegenden Erfindung ist darüber hinaus
ein Verfahren zur Herstellung wäßriger colloidaler
Dispersionen offenbart, die aus der Gasphase
stammendes Siliciumdioxid, eine Säure und einen
Stabilisator enthalten, insbesondere derartige
Dispersionen, die eine Siliciumdioxid-Konzentration
von mindestens etwa 40 Gewichtsprozent aufweisen.
Erfindungsgemäß wird eine stabile, nicht-dilatante,
niedrigviskose, filtrierbare, wäßrige colloidale
Dispersion von aus der Gasphase stammendem
Siliciumdioxid hergestellt, in dem man
entsprechendes Siliciumdioxid in einer
Säure-Wasser-Lösung in einem Mischer in derartigen
Menge mischt, daß die diesbezügliche
Siliciumdioxid-Konzentration der ersten Dispersion
in Gewichtsprozenten berechnet die Menge des
erwünschten Siliciumdioxid-Gehaltes in der
endgültigen Dispersion übersteigt, wobei die erste
Dispersion in dem Mischer mit einer zusätzlichen
Menge an Wasser in der Weise verdünnt wird, daß die
sich ergebende endgültige Dispersion die erwünschte
Siliciumdioxid-Konzentration enthält, und in dem man
sodann einen Stabilisator hinzugibt, um den pH-Wert
der endgültigen wäßrigen colloidalen Dispersion von
aus der Gasphase stammendem Silicumdioxid, einer
Säure und einem Stabilisator erwünschtermaßen auf
einen Wert zwischen etwa 7 und etwa 12, vorzugsweise
auf einen Wert zwischen etwa 7,5 und etwa 11
einzustellen. Eine derartige endgültige Dispersion
kann, sofern es erwünscht ist, filtriert werden, um
Grieß oder Schrot oder sonstige Agglomerate zu
entfernen.
Das aus der Gasphase stammende Siliciumdioxid
feuchtet sich schneller an und mischt sich schneller
in der Wasser-Säure-Lösung, als in einer reinen
Wasserlösung. Die Zugabe der Säure reduziert darüber
hinaus die Viskosität der wäßrigen colloidalen
Dispersion des aus der Gasphase stammenden
Siliciumdioxids in dem Mischer, sobald der pH-Wert
der Dispersion vom sauren Bereich zu dem alkalischen
Bereich durch Zugabe des Stabilisators eingestellt
wird. Die reduzierte Viskosität verhilft der
Dispersion zu der Fähigkeit, vor dem Erstarren
bewahrt zu werden, sobald der pH-Wert der Dispersion
mit Hilfe des Stabilisators erhöht wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren kann mit aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid mit jeder
wirksamen Oberfläche betrieben werden, um wäßrige
colloidale Dispersionen des diesbezüglichen
Siliciumdioxids zu erzeugen. Um derartige
Siliciumdioxid-Dispersionen mit einer
Siliciumdioxid-Konzentration von mindestens 40
Gewichtsprozent gemäß der Erfindung zu erzeugen,
wird gleichwohl vorzugsweise ein diesbezügliches
Siliciumdioxid mit einer wirksamen Oberfläche unter
etwa 75 qm pro Gramm, noch bevorzugter mit einer
wirksamen Oberfläche zwischen etwa 10 und 75 qm pro
Gramm und besonders bevorzugt mit einer
entsprechenden Oberfläche zwischen etwa 35 und etwa
60 qm pro Gramm eingesetzt.
Ein Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht
darin, daß die resultierenden wäßrigen colloidalen
Dispersionen von aus der Gasphase stammendem
Siliciumdioxid, einer Säure und einem Stabilisator
stabil und nicht-dilatant sind. Für die Zwecke der
vorliegenden Erfindung bedeutet "stabil", erst die
Dispersion über eine Zeitspanne von mindestens einem
Tag nicht erstarrt. In der Regel sind die wäßrigen
colloidalen Dispersionen von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid, die gemäß dem Verfahren
der Erfindung hergestellt wurden, über eine
Zeitspanne von mindestens einer Woche, vorzugsweise
von mehreren Wochen und besonders bevorzugt von
mehreren Monaten bis hin zu mehreren Jahren stabil.
Wie zuvor beschrieben, bedeutet der Begriff
"nicht-dilatant" für die Zwecke der vorliegenden
Erfindung, daß eine Dispersion geeignet ist, durch
einen Filter mit einer Porengröße von 1000 Micron
und kleiner hindurchgeschickt werden zu können, ohne
daß sie erstrarrt oder geliert. In der Regel werden
die wäßrigen colloidalen Dispersionen von aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid, hergestellt nach
dem erfindungsgemäßen Verfahren, durch einen Filter
mit einer Porengröße von 25 Micron oder kleiner und
besonders bevorzugt durch einen Filter mit einer
Porengröße von 10 Micron oder kleiner
hindurchgeschickt. In der Regel bedeutet der Begriff
"niedrige Viskosität" bei den wäßrigen colloidalen
erfindungsgemäß erzeugten Dispersionen Werte unter
etwa 1000 Centipoise und bevorzugt unter etwa 250
Centipoise.
Weitere Vorteile der vorliegenden Erfindung sind
darin begründet, daß die wäßrigen colloidalen
Dispersionen von aus der Gasphase stammendem
Siliciumdioxid, einer Säure und einem Stabilisator,
die eine Siliciumdioxid-Konzentration von mindestens
etwa 40 Gewichtsprozent aufweisen, über eine
Zeitspanne von Monaten bis Jahren stabil sind,
niedrige Viskositäten aufweisen und nicht-dilatant
sind. Die Eigenschaften der niedrigen Viskosität und
der Nicht-Dilatanz erlauben den wäßrigen
colloidalen Dispersionen gemäß der Erfindung, durch
einen Fein-Filter hindurchgeschickt werden zu können.
Weitere Vorteile der vorliegenden Erfindung werden
augenscheinlich, beim Studium der folgenden
eingehenderen Beschreibung der Erfindung.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird ein Mischer in
der Regel bis zu etwa 50% mit einer Menge Wasser
beschickt, vorzugsweise mit Wasser, das entionisiert
ist, und es wird sodann eine Säure zu dem Wasser
hinzugegeben. Vorzugsweise wird ein Mischer oder ein
Rührwerk mit hoher Scherkraft eingesetzt, das in der
Lage ist, Dispersionen zu erzeugen, und zwar in der
Weise, wie sie den Fachleuten auf diesen Gebieten
bekannt sind. Dabei kann die Säure eine Mineralsäure
oder eine organische Säure sein, wie zum Beispiel
Salzsäure, Schwefelsäure, Salpetersäure,
Phosphorsäure, Essigsäure oder Maleinsäure. Die
Menge der zum Wasser zugefügten Säure berechnet sich
aus der Menge des aus der Gaphase stammendem
Silicumdioxids, das zu dem Wasser hinzugegeben wird,
um die endgültige wäßrige colloidale Dispersion zu
bilden. In der Regel beträgt die Menge der dem
Wasser zugegebenen Säure in Gewichtsprozent etwa
zwischen 0,0025% und etwa 0,50% und vorzugsweise
zwischen etwa 0,02% und 0,15% der Menge in
Gewichtsprozenten des aus der Gasphase stammenden
Siliciumdioxids, das zu dem Wasser hinzugegeben
werden soll. Nach Zugabe der Säure zum Wasser kann
der Mischer beziehungsweise das Rührwerk in Betrieb
gesetzt werden, um die Säure und das Wasser zu
mischen, um eine Wasser-Säure-Lösung zu erzeugen.
Der Wasserprozentgehalt, der zu Beginn dem Rührwerk
oder Mischer zugeführt wird, kann
einleuchtenderweise variieren. Wie es aus der
folgenden Beschreibung ersichtlich wird, muß
gleichwohl Platz in dem Mischer gelassen werden, um
das aus der Gasphase stammende Silicumdioxid und
zusätzliches Wasser aufzunehmen. Die gewählte
Startmenge an Wasser wird in der Regel von der Menge
des hinzuzugebenden Siliciumdioxids und der
endgültigen erwünschten Konzentration an aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid in der wäßrigen
colloidalen Dispersion abhängig sein. Zum Beispiel,
wenn die erwünschte endgültige Konzentration der
wäßrigen colloidalen Dispersion von aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid bei etwa 50
Gewichtsprozent diesbezüglichen Siliciumdioxids und
100 lbs. diesbezügliches Siliciumdioxid liegt, die
zu dem Mischer hinzugegeben werden sollen, so macht
die Startmenge an eingesetztem Wasser eine Menge
aus, die zur Folge hat, daß die Konzentration an aus
der Gasphase stammendem Siliciumdioxid in dem
Mischer größer ist als 50 Gewichtsprozent. In der
Regel hat die erfindungsgemäße Dispersion in dem
Mischer vor der Verdünnung eine Konzentration an aus
der Gasphase stammendem Siliciumdioxid von
mindestens etwa 5 prozentigem Überschuß (mindestens
etwa 5% größer) als die endgültige erwünschte
Konzentration an diesbezüglichem Siliciumdioxid in
der wäßrigen colloidalen Dispersion des
Siliciumdioxids. Danach wird die wäßrige colloidale
Dispersion in dem Mischer durch Zugabe von einer
weiteren Menge Wassers verdünnt, um die erwünschte
endgültige Konzentration an aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid in der Dispersion von etwa
50 Gewichtsprozent zu erreichen.
Nachdem der Mischer mit Wasser beschickt worden ist,
und eine Säure hinzugegeben worden ist, wird das aus
der Gasphase stammende Siliciumdioxid zu der
Wasser-Säure-Lösung in den Mischer beigegeben. Das
aus der Gasphase stammende Siliciumdioxid kann
dadurch zugegeben werden, daß man das diesbezügliche
Siliciumdioxid in der Wasser-Säure-Mischung
aufmischt, währenddessen das Rührwerk in Betrieb
ist, oder man kann das Siliciumdioxid zu der
Wasser-Säure-Mischung hinzugeben und sodann den
Mischer in Betrieb setzen. Außerdem kann das aus der
Gasphase stammende Silicumdioxid inkremental, das
heißt mit schrittweisem Zuwachs, hinzugegeben
werden, wobei der Mischer zwischen jeder Stufe in
Betrieb gesetzt wird.
Wie zuvor erörtert, kann das erfindungsgemäße
Verfahren mit aus der Gasphase stammendem
Silicumdioxid beziehungsweise Silica mit jeglicher
wirksamen Oberfläche betrieben werden. Um nun
wäßrige colloidale Dispersionen von aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid mit einer
Siliciumdioxid-Konzentration von mindestens etwa 40
Gewichtsprozent zu erzeugen, wird vorzugsweise ein
aus der Gasphase stammendes Siliciumdioxid mit einer
wirksamen Oberfläche von weniger als etwa 75 qm pro
Gramm eingesetzt. Noch bevorzugter verwendet man ein
aus der Gasphase stammendes Siliciumdioxid mit einer
wirksamen Oberfläche zwischen etwa 10 qm pro Gramm
und etwa 75 qm pro Gramm und besonders bevorzugt ein
derartiges Siliciumdioxid mit einer wirksamen
Oberfläche zwischen etwa 35 qm pro Gramm und etwa 60 qm
pro Gramm, um die wäßrigen colloidalen
Dispersionen von aus der Gasphase stammendem
Siliciumdioxid mit einer diesbezüglichen
Siliciumdioxid-Konzentration von mindestens etwa 40
Gewichtsprozent zu erzeugen.
Die unmittelbare Wirkung der Zugabe oder jeder
Zugabe des aus der Gasphase stammendem
Siliciumdioxids zu dem Mischer besteht darin, daß
die wäßrige colloidale Dispersion von aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid in dem Mischer
eindickt. Sobald der Mischer trotz dieses Eindickens
mit seiner Tätigkeit fortfährt, wird die wäßrige
colloidale Dispersion des aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxids in dem Mischer dünn.
Nachdem die gewichtsbezogene Konzentration von aus
der Gasphase stammendem Siliciumdioxid in der
wäßrigen colloidalen Dispersion von diesbezüglichem
Siliciumdioxid in dem Mischer einen Wert über der
endgültigen Gewichtskonzentration an aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid erreicht hat,
läßt man den Mischer in Betrieb, bis die Dispersion
in dem Mischer dünn wird. Wie zuvor beschrieben und
üblicherweise in dem erfindungsgemäßen Verfahren,
wird die Dispersion in dem Mischer vor der
Verdünnung eine Konzentration an aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid von mindestens etwa 5
%igem Überschuß (5% größer) gegenüber der
erwünschten endgültigen Konzentration an aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid in der wäßrigen
colloidalen Dispersion des diesbezüglichen
Siliciumdioxids aufweisen. Sodann wird eine
zusätzliche Menge an Wasser zu dem Mischer
hinzugegeben, um die Dispersion in dem Mischer zu
verdünnen. Vorzugsweise ist das eingesetzte
zusätzliche Wasser ebenfalls entionisiert. Das
zusätzliche Wasser wird sodann in der wäßrigen
colloidalen Dispersion im Mischer unter Betriebnahme
des Rührwerks aufgemischt. Die Menge an zugegebenem
Wasser ist die Menge, welche die
Gewichtskonzentration an aus der Gasphase stammendem
Siliciumdioxid der wäßrigen colloidalen Dispersion
an diesbezüglichem Siliciumdioxid in dem Mischer zu
der enddültigen erwünschten Konzentration
herabsetzt, wobei der Stabilisator berücksichtigt
wird, welcher der Dispersion zugegeben wird.
Nachdem das zusätzliche Wasser zugegeben worden ist,
wird ein Stabilisator, wie zum Beispiel ein Alkali
oder Amin, zu der wäßrigen colloidalen Dispersion
von aus der Gasphase stammendem Siliciumdioxid in
einer Menge hinzugegeben, die den pH-Wert der
endgültigen Dispersion auf ein Wert zwischen etwa 7
und etwa 12 einstellt. Bevorzugt ist ein pH-Wert
zwischen etwa 7,5 und etwa 11. Der spezielle, für
die endgültige Dispersion ausgewählte pH-Wert wird
von der Verwendung derselben abhängen, für die die
wäßrige colloidale Dispersion von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid vorgesehen ist.
Erfindungsgemäß geeignete Stabilisatoren schließen
mit ein: Alkalien oder Amine, wie zum Beispiel
Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid,
Ammoniumhydroxid, Triethylamin und
Trimethylethanolamin, was jedoch keine Beschränkung
auf die vorgenannten Verbindungen bedeuten soll.
Nach Zugabe des Stabilisators, kann die wäßrige
colloidale Dispersion von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid aus dem Mischer entfernt
werden und gelagert oder für den Transport verpackt
werden, in jeglicher dem Fachmann im allgemeinen
bekannten Art. Sofern es erwünscht ist, kann die
wäßrige colloidale Dispersion von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid außerdem durch ein
Filtersystem hindurchgeschickt werden, um den Grieß
oder Schrot oder sonstige mit dem Siliciumdioxid
agglomerierte Partikelchen zu entfernen.
Das erfindungsgemäße Verfahren erlaubt die
Herstellung einer stabilen, nicht-dilatanten,
niedrigviskosen, sich durch einen hohen
Reinheitsgrad auszeichnende, filtrierbare wäßrige
colloidale Dispersion von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid, einer Säure und einem
Stabilisator jeglicher Konzentration an
diesbezüglichem Siliciumdioxid. Es ist besonders
bemerkenswert, daß wäßrige colloidale Dispersionen
mit einer Siliciumdioxid-Konzentration von
mindestens etwa 40 Gewichtsprozent, und noch
bevorzugter solche Dispersionen mit einer
Siliciumdioxid-Konzentration zwischen etwa 40
Gewichtsprozent und etwa 65 Gewichtsprozent
hergestellt werden können. Die resultierenden
wäßrigen colloidalen Dispersionen von aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid, einer Säure und
einem Stabilisator sind nicht-dilatant, haben
niedrige Viskositäten und sind über eine Zeitspanne
zwischen mehreren Monaten bis hin zu mehr als einem
Jahr stabil beziehungsweise haltbar.
Die Effektivität und die Vorteile der vorliegenden
Erfindung werden nunmehr noch weiter mit Hilfe der
folgenden Beispiele erläutert. Letztere illustrieren
die Herstellung von wäßrigen colloidalen
Dispersionen von aus der Gasphase stammendem
Siliciumdioxid, einer Säure und einem Stabilisator,
wobei diese Dispersionen
Siliciumdioxid-Konzentrationen mit Werten zwischen
etwa 40 Gewichtsprozent und etwa 65 Gewichtsprozent
aufweisen. Dennoch ist es klar, daß die Mengen an
aus der Gasphase stammendem Siliciumdioxid, an Säure
und an Stabilisator sowie an Wasser, wie sie in
diesen Beispielen Verwendung finden, variiert werden
können, um wäßrige colloidale Dispersionen von aus
der Gasphase stammendem Siliciumdioxid mit
verschiedenen Konzentrationen wie zum Beispiel 45
Gewichtsprozent, 50 Gewichtsprozent, 55
Gewichtsprozent und 60 Gewichtsprozent herzustellen.
Das folgende Beispiel erläutert die Herstellung
einer wäßrigen colloidalen Dispersion von aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid, einer Säure und
einem Stabilisator, mit einer diesbezüglichen
Siliciumdioxid-Konzentration von etwa 40
Gewichtsprozent, unter Verwendung eines Mischers mit
hoher Scherkraft und einer Kapazität von 378 Liter
(100 Gallons), der in der Lage ist, Dispersionen zu
erzeugen.
Zu Beginn wird der Mischer mit hoher Scherkraft mit
151,2 Litern (40 Gallons) Wasser beschickt, und es
werden zu dem Wasser etwa 1,35 lbs. einer 37%igen
Salzsäurelösung hinzugegeben, was etwa 0,27
Gewichtsprozent der Menge an aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid ausmacht, das zu dem
Mischer hinzugegeben werden soll. Etwa 500 lbs. aus
der Gasphase stammenden Siliciumdioxids, mit einer
wirksamen Oberfläche von etwa 50 qm pro Gramm wird
langsam zu dem Mischer hinzugegeben, 100 lbs. zu
einem Zeitpunkt, währenddessen der Mischer in
Betrieb ist, um eine wäßrige colloidale Dispersion
von aus der Gasphase stammendem Siliciumdioxid in
dem Mischer zu erzeugen, wobei eine
Siliciumdioxid-Konzentration von etwa 60
Gewichtsprozent vorliegt. Zu diesem Zeitpunkt werden
zusätzliche 177,66 Liter (47 Gallons) Wasser langsam
zu dem Mischer hinzugegeben, währenddessen der
Mischer in Betrieb ist, um eine wäßrige colloidale
Dispersion von aus der Gasphase stammendem
Siliciumdioxid mit einer diesbezüglichen
Siliciumdioxid-Konzentration von etwa 41
Gewichtsprozent herzustellen. Eine ausreichende
Menge an Ammoniumhydroxid, die zu diesem Zeitpunkt
etwa 10,58 Liter (2,8 Gallons) einer 30%igen
Ammoniumhydroxidlösung ausmachen, wird zu dieser
wäßrigen colloidalen Dispersion von diesbezüglichem
Siliciumdioxid zugegeben, um den pH-Wert der
Dispersion auf etwa 10,4 einzustellen. Nach der
Zugabe des Ammoniumhydroxids hat die resultierende,
wäßrige colloidale Dispersion von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid eine diesbezügliche
Siliciumdioxid-Konzentration von etwa 40
Gewichtsprozent und kann, sofern es erwünscht ist,
filtriert werden, um jeglichen Schrot oder Grieß
oder agglomerierte Partikelchen zu entfernen. Der
Filtriervorgang der wäßrigen colloidalen Dispersion
wird die Konzentration an aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid um weniger als etwa 0,5
Gewichtsprozent verändern. Die filtrierte oder
unfiltrierte, wäßrige colloidale Dispersion von aus
der Gasphase stammendem Siliciumdioxid, einer Säure
und einem Stabilisator kann gelagert werden und/oder
für den Transport verpackt werden, auf jegliche, dem
Fachmann allgemein bekannte Art und Weise.
Das folgende Beispiel erläutert die Herstellung
einer wäßrigen colloidalen Dispersion von aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid, einer Säure und
einem Stabilisator, mit einer diesbezüglichen
Siliciumdioxid-Konzentration von etwa 65
Gewichtsprozent, unter Verwendung eines Mischers mit
hoher Scherkraft und einer Kapazität von 378 Liter
(100 Gallons), wobei der Mischer in der Lage ist,
die erfindungsgemäßen Dispersionen zu bilden.
Der Mischer mit hoher Scherkraft wird zu Beginn mit
98,28 Liter (26 Gallons) Wasser beschickt, und es
werden etwa 1,35 lbs. einer 37%igen Salzsäurelösung
zu dem Wasser hinzugegeben, was etwa 0,27
Gesichtsprozent der Menge an aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid entspricht, welch
letzteres zu dem Mischer hinzugegeben werden soll.
Etwa 500 lbs. aus der Gasphase stammendes
Siliciumdioxid, mit einer wirksamen Oberfläche von
etwa 50 qm pro Gramm werden langsam zu dem Mischer
hinzugegeben, 100 lbs. zu einem Zeitpunkt, während
dessen der Mischer in Betrieb ist, um eine wäßrige
colloidale Dispersion von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid in dem Mischer zu
erzeugen, wobei eine diesbezügliche
Siliciumdioxid-Konzentration von etwa 70
Gewichtsprozent vorliegt. Zu diesem Zeitpunkt werden
15,88 Liter (4,2 Gallons) zusätzliches Wasser
langsam zu dem Mischer hinzugegeben, währenddessen
der Mischer in Betrieb ist, um eine wäßrige
colloidale Dispersion von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid zu erzeugen, wobei eine
diesbezügliche Siliciumdioxid-Konzentration von etwa
66,5 Gewichtsprozent vorliegt. Eine ausreichende
Menge an Ammoniumhydroxid, die zu diesem Zeitpunkt
etwa 10,58 Liter (2,8 Gallons) einer 30%igen
Ammoniumhydroxidlösung ausmachen, wird zu dieser
wäßrigen colloidalen Dispersion von aus der
Gasphase stammendem Siliciumdioxid hinzugegeben, um
den pH-Wert der Dispersion auf etwa 10,4
einzustellen. Nach Zugabe des Ammoniumhydroxids hat
die resultierende, wäßrige, colloidale Dispersion
von aus der Gasphase stammendem Siliciumdioxid eine
diesbezügliche Siliciumdioxid-Konzentration von etwa
65 Gewichtsprozent und kann, sofern es erwünscht
ist, filtriert werden, um jeglichen Schrot oder
Grieß oder agglomerierte Partikelchen zu entfernen.
Der Filtriervorgang der wäßrigen colloidalen
Dispersion wird die diesbezügliche
Siliciumdioxid-Konzentration um weniger als etwa 0,5
Gewichtsprozent verändern. Die filtrierte oder
unfiltrierte, wäßrige, colloidale Dispersion aus
diesbezüglichem Siliciumdioxid, Säure und
Stabilisator kann gelagert werden, und/oder für den
Transport verpackt werden, in jeder, dem Fachmann
allgemein bekannten Art und Weise.
Es werden vergleichbare Resultate erhalten, wenn man
der Arbeitsweise aus den Beispielen 1 und 2 folgt
und die dem Mischer zugeführten Mengen an Wasser
beim Start der Reaktion, Mengen an Säure und Mengen
an zusätzlichem Wasser verändert, um wäßrige
colloidale Dispersionen von aus der Gasphase
stammendem Siliciumdioxid, einer Säure und einem
Stabilisator mit diesbezüglichen
Siliciumdioxid-Konzentrationen von etwa 45
Gewichtsprozent, 50 Gewichtsprozent, 55
Gewichtsprozent und 60 Gewichtsprozent zu erzeugen.
Zahllose Modifikationen und Variationen können
erklärtermaßen in den zuvor beschriebenen Beispielen
bewerkstelligt werden, ohne von dem
Erfindungsgedanken abzuweichen. Demgemäß ist es
eindeutig, daß die Beschreibung und die Beispiele
die vorliegende Erfindung nur illustrieren und in
keiner Weise den Umfang der Erfindung einschränken
sollen. Die vorliegende Erfindung schließt alle
Modifikationen mit ein, die innerhalb des Umfangs
der nachfolgenden Ansprüche liegen.
Claims (19)
1. Wäßrige colloidale Dispersion enthaltend:
Mindestens etwa 40 Gewichtsprozent aus der Gasphase abgeschiedenen Siliciumdioxids, eine Säure in einer Menge zwischen etwa 0,0025% und etwa 0,50% der Menge, bezogen auf das Gewicht, des aus der Gasphase abgeschiedenen Siliciumdioxids,
eine Menge, bezogen auf das Gewicht, eines Stabilisators, der den pH-Wert der Dispersion auf einen Wert zwischen etwa 7,0 und 12,0 ansteigen läßt.
Mindestens etwa 40 Gewichtsprozent aus der Gasphase abgeschiedenen Siliciumdioxids, eine Säure in einer Menge zwischen etwa 0,0025% und etwa 0,50% der Menge, bezogen auf das Gewicht, des aus der Gasphase abgeschiedenen Siliciumdioxids,
eine Menge, bezogen auf das Gewicht, eines Stabilisators, der den pH-Wert der Dispersion auf einen Wert zwischen etwa 7,0 und 12,0 ansteigen läßt.
2. Dispersion nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus der
Gasphase stammende Siliciumdioxid in einer Menge
zwischen etwa 40 Gewichtsprozent und etwa 65
Gewichtsprozent vorliegt.
3. Dispersion nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus der
Gasphase stammende Siliciumdioxid in einer Menge
von etwa 40 Gewichtsprozent vorliegt.
4. Dispersion nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus der
Gasphase stammende Siliciumdioxid in einer Menge
von etwa 45 Gewichtsprozent vorliegt.
5. Dispersion nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus der
Gasphase stammende Siliciumdioxid in einer Menge
von etwa 50 Gewichtsprozent vorliegt.
6. Dispersion nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus der
Gasphase stammende Siliciumdioxid in einer Menge
von etwa 55 Gewichtsprozent vorliegt.
7. Dispersion nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus der
Gasphase stammende Siliciumdioxid in einer Menge
von etwa 60 Gewichtsprozent vorliegt.
8. Dispersion nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus der
Gasphase stammende Siliciumdioxid in einer Menge
von etwa 65 Gewichtsprozent vorliegt.
9. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß die eingesetzte
Säure eine Säure aus der Verbindungsklasse der
Mineralsäuren oder der organischen Säuren
darstellt.
10. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß die eingesetzte
Säure Salzsäure, Schwefelsäure, Salpetersäure,
Phosphorsäure, Essigsäure oder Maleinsäure ist.
11. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 10,
dadurch gekennzeichnet, daß die eingesetzte
Säure in einer Menge zwischen etwa 0,02% und
etwa 0,15% der Menge, bezogen auf das Gewicht
des eingesetzten, aus der Gasphase stammenden
Siliciumdioxids vorhanden ist.
12. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 11,
dadurch gekennzeichnet, daß der eingesetzte
Stabilisator aus den Verbindungsklassen der
Alkalien oder der Amine stammt.
13. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 12,
dadurch gekennzeichnet, daß der eingesetzte
Stabilisator Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid,
Lithiumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Triethylamin-
oder Dimethylethanolamin ist.
14. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 13,
dadurch gekennzeichnet, daß der Stabilisator in
einer Menge zugegeben wird, die den pH-Wert der
Dispersion auf einen Wert zwischen etwa 7,5 und
etwa 11 ansteigen läßt.
15. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 14,
dadurch gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus
der Gasphase stammende Siliciumdioxid eine
wirksame Oberfläche von weniger als etwa 75 qm
pro Gramm hat.
16. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 15,
dadurch gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus
der Gasphase stammende Siliciumdioxid eine
wirksame Oberfläche zwischen etwa 10 qm pro
Gramm und etwa 75 qm pro Gramm hat.
17. Dispersion nach einem der Ansprüche 1 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß das eingesetzte, aus
der Gasphase stammende Siliciumdioxid eine
wirksame Oberfläche von etwa 50 qm pro Gramm
aufweist.
18. Verfahren zum Herstellen einer wäßrigen,
kolloidalen, stabilen, nicht-delantanten,
niedrigviskosen und filtrierbaren Dispersion
nach einem der Ansprüche 1 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß man das aus der Gasphase
stammende Siliciumdioxid in einer
Säure-Wasserlösung in einem Mischer in einem
Mengenverhältnis in der Weise dispergiert, daß
die diesbezügliche Siliciumdioxidkonzentration
der ersten Dispersion die
Siliciumdioxidkonzentration in der endgültigen
Dispersion übersteigt,
daß man die erste Dispersion in dem Mischer mit zusätzlichem Wasser verdünnt, so daß die resultierende endgültige Dispersion die gewünschte Konzentration an aus der Gasphase stammenden Siliciumdioxid aufweist und
daß man einen Stabilisator hinzugibt, um den pH-Wert der endgültigen Dispersion mit aus der Gasphase stammenden Siliciumdioxid, einer Säure und einem Stabilisator auf einen pH-Wert zwischen etwa 7 und etwa 12 einstellt.
daß man die erste Dispersion in dem Mischer mit zusätzlichem Wasser verdünnt, so daß die resultierende endgültige Dispersion die gewünschte Konzentration an aus der Gasphase stammenden Siliciumdioxid aufweist und
daß man einen Stabilisator hinzugibt, um den pH-Wert der endgültigen Dispersion mit aus der Gasphase stammenden Siliciumdioxid, einer Säure und einem Stabilisator auf einen pH-Wert zwischen etwa 7 und etwa 12 einstellt.
19. Verfahren nach Anspruch 18, dadurch
gekennzeichnet, daß man den Stabilisator auf
einen pH-Wert zwischen etwa 7,5 und etwa 11
einstellt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US32689089A | 1989-03-21 | 1989-03-21 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4006392A1 true DE4006392A1 (de) | 1990-09-27 |
Family
ID=23274175
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4006392A Ceased DE4006392A1 (de) | 1989-03-21 | 1990-03-01 | Waessrige colloidale dispersion aus in der gasphase hergestelltem siliciumdioxid, aus einer saeure und aus einem stabilisator, sowie ein verfahren zu ihrer hertellung |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2949633B2 (de) |
KR (1) | KR0148692B1 (de) |
CN (1) | CN1027162C (de) |
AU (1) | AU625980B2 (de) |
BE (1) | BE1002854A3 (de) |
BR (1) | BR9001302A (de) |
CA (1) | CA2012719C (de) |
DE (1) | DE4006392A1 (de) |
FR (1) | FR2644768B1 (de) |
GB (1) | GB2229432B (de) |
IT (1) | IT1239546B (de) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0899005A1 (de) * | 1997-08-19 | 1999-03-03 | JSR Corporation | Wässerige Dispersionsaufschlämmung anorganischer Partikel und dessen Herstellung |
WO2000030807A2 (en) * | 1998-11-25 | 2000-06-02 | Applied Materials, Inc. | A carrier head with edge control for chemical mechanical polishing |
DE102008041466A1 (de) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | Wacker Chemie Ag | Wäßrige Dispersionen hydrophober Kieselsäuren |
US7951848B2 (en) | 2005-03-17 | 2011-05-31 | Wacker Chemie Ag | Aqueous dispersions of partially hydrophobic silicas |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2816076B2 (ja) * | 1993-01-21 | 1998-10-27 | 日本ペイント株式会社 | コロイダル粒子の分散体および水性塗料組成物 |
EP0773270B1 (de) | 1995-11-10 | 2001-01-24 | Tokuyama Corporation | Poliersuspensionen und Verfahren zu ihrer Herstellung |
US5944866A (en) * | 1997-09-26 | 1999-08-31 | Lucent Technologies Inc. | Fabrication including sol-gel processing |
CN1089077C (zh) * | 1998-11-04 | 2002-08-14 | 中国科学院山西煤炭化学研究所 | 一种二氧化硅溶胶胶粒表面修饰方法 |
JP4428473B2 (ja) | 1999-01-18 | 2010-03-10 | 株式会社東芝 | 気相法無機酸化物粒子の含水固体状物質及び研磨用スラリーの製造方法 |
JP3721497B2 (ja) * | 1999-07-15 | 2005-11-30 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物の製造方法 |
DE19936478A1 (de) * | 1999-08-03 | 2001-02-15 | Degussa | Sinterwerkstoffe |
EP1349809B1 (de) * | 2000-11-15 | 2008-03-26 | Cabot Corporation | Verfahren zur herstellung einer dispersion pyrogener metalloxide |
JP4426192B2 (ja) * | 2003-02-14 | 2010-03-03 | ニッタ・ハース株式会社 | 研磨用組成物の製造方法 |
JP2005286047A (ja) | 2004-03-29 | 2005-10-13 | Nitta Haas Inc | 半導体研磨用組成物 |
JP5164129B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2013-03-13 | ニッタ・ハース株式会社 | 半導体研磨用組成物 |
GB0407198D0 (en) | 2004-03-30 | 2004-05-05 | British Telecomm | Joint fault detection |
DE102004021092A1 (de) * | 2004-04-29 | 2005-11-24 | Degussa Ag | Verwendung einer kationischen Siliciumdioxid-Dispersion als Textilveredlungsmittel |
JP4837483B2 (ja) * | 2006-08-04 | 2011-12-14 | 住友大阪セメント株式会社 | 高強度コンクリート用シリカフュームスラリー |
KR101823170B1 (ko) * | 2009-12-29 | 2018-01-29 | 더블유.알. 그레이스 앤드 캄파니-콘. | 복합 무기 입자 및 이의 제조 방법 및 사용 방법 |
NO342672B1 (en) * | 2016-09-13 | 2018-06-25 | Elkem As | Microsilica slurry and method for producing such slurry |
CN110891901A (zh) * | 2017-08-09 | 2020-03-17 | 瓦克化学股份公司 | 水性分散体、水性分散体的制造方法、水包油型乳液、水包油型乳液的制造方法、和设计方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2984629A (en) * | 1957-11-04 | 1961-05-16 | Cabot Corp | Aqueous dispersions of pyrogenic silica |
US3291626A (en) * | 1962-12-26 | 1966-12-13 | Huber Corp J M | Stabilized pigment slurries |
DE1442656C3 (de) * | 1964-09-25 | 1975-07-17 | Deutsche Gold- Und Silber-Scheideanstalt Vormals Roessler, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung einer stabilen Dispersion pyrogen gewonnenen feinteiligen Sillciumdioxids |
GB1326574A (en) * | 1970-10-30 | 1973-08-15 | Degussa | Production of stabilised dispersions of pyrogenic silica |
FR2094790A5 (fr) * | 1970-11-24 | 1972-02-04 | Degussa | Procede pour la preparation de dispersions aqueuses stables de dioxydes de silicium par voie ignee |
US4042361A (en) * | 1976-04-26 | 1977-08-16 | Corning Glass Works | Method of densifying metal oxides |
DE2844052A1 (de) * | 1978-10-10 | 1980-04-30 | Degussa | Waessrige dispersion einer hydrophoben kieselsaeure |
US4321243A (en) * | 1980-08-05 | 1982-03-23 | Cornwell Charles E | Method of producing stabilized aqueous dispersions of silica fume |
-
1990
- 1990-03-01 DE DE4006392A patent/DE4006392A1/de not_active Ceased
- 1990-03-19 GB GB9006122A patent/GB2229432B/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-20 FR FR9003557A patent/FR2644768B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1990-03-20 KR KR1019900003705A patent/KR0148692B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-03-20 JP JP2068568A patent/JP2949633B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-21 CA CA002012719A patent/CA2012719C/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-21 AU AU52010/90A patent/AU625980B2/en not_active Ceased
- 1990-03-21 BE BE9000319A patent/BE1002854A3/fr not_active IP Right Cessation
- 1990-03-21 CN CN90101525A patent/CN1027162C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1990-03-21 BR BR909001302A patent/BR9001302A/pt not_active IP Right Cessation
- 1990-03-21 IT IT19748A patent/IT1239546B/it active IP Right Grant
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0899005A1 (de) * | 1997-08-19 | 1999-03-03 | JSR Corporation | Wässerige Dispersionsaufschlämmung anorganischer Partikel und dessen Herstellung |
US6068769A (en) * | 1997-08-19 | 2000-05-30 | Jsr Corporation | Aqueous dispersion slurry of inorganic particles and production methods thereof |
WO2000030807A2 (en) * | 1998-11-25 | 2000-06-02 | Applied Materials, Inc. | A carrier head with edge control for chemical mechanical polishing |
WO2000030807A3 (en) * | 1998-11-25 | 2000-11-23 | Applied Materials Inc | A carrier head with edge control for chemical mechanical polishing |
US7951848B2 (en) | 2005-03-17 | 2011-05-31 | Wacker Chemie Ag | Aqueous dispersions of partially hydrophobic silicas |
DE102008041466A1 (de) | 2008-08-22 | 2010-02-25 | Wacker Chemie Ag | Wäßrige Dispersionen hydrophober Kieselsäuren |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2644768B1 (fr) | 1994-02-11 |
GB2229432A (en) | 1990-09-26 |
FR2644768A1 (fr) | 1990-09-28 |
CN1027162C (zh) | 1994-12-28 |
BE1002854A3 (fr) | 1991-07-02 |
IT1239546B (it) | 1993-11-05 |
GB9006122D0 (en) | 1990-05-16 |
KR900014248A (ko) | 1990-10-23 |
CA2012719A1 (en) | 1990-09-21 |
BR9001302A (pt) | 1991-04-02 |
JP2949633B2 (ja) | 1999-09-20 |
KR0148692B1 (ko) | 1998-08-17 |
GB2229432B (en) | 1992-09-23 |
CA2012719C (en) | 1999-06-08 |
AU625980B2 (en) | 1992-07-23 |
AU5201090A (en) | 1990-09-27 |
CN1045754A (zh) | 1990-10-03 |
IT9019748A1 (it) | 1991-09-21 |
JPH0360420A (ja) | 1991-03-15 |
IT9019748A0 (it) | 1990-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4006392A1 (de) | Waessrige colloidale dispersion aus in der gasphase hergestelltem siliciumdioxid, aus einer saeure und aus einem stabilisator, sowie ein verfahren zu ihrer hertellung | |
DE4006393A1 (de) | Waessrige colloidale dispersion von aus der gasphase hergestelltem siliciumdioxyd ohne stabilisator | |
DE69030274T2 (de) | Peroxysäure und ein Verfahren zur Herstellung von Peroxysäuren | |
EP0975705B1 (de) | Pufferlösungen für suspensionen, verwendbar zum chemisch-mechanischen polieren | |
DE69728554T2 (de) | Verfahren zur herstellung einer hydroxylapatit-suspension | |
DE2402225A1 (de) | Giessbare, fliessfaehige massen | |
DE102004031785A1 (de) | Polyol enthaltende Siliciumdioxid-Dispersion | |
DE69014379T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von anorganischen Oxydteilchen. | |
DE10065027A1 (de) | Wäßrige Dispersion, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung | |
DE69300541T2 (de) | Wasserhaltige Lauge. | |
EP0339310A1 (de) | Wässrige Dispersion von Gips und deren Verwendung als Füllstoff und Streichpigment bei der Papier- und Kartonherstellung | |
DE2037154C3 (de) | Bindemittel für Präzisionsgießformen | |
DE2022347A1 (de) | Durch organisches Amin und starke Base stabilisierte Kieselsaeuresole mit hoher Oberflaeche | |
DE102007059861A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siliciumdioxid-Dispersionen | |
EP0518175A2 (de) | Präparation eines neutralen Metalloxidsols | |
DE69023573T2 (de) | Wässerige Hydroxyethylcellulose-Suspension. | |
EP0327660B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Füllstoffen und Flammschutzmitteln auf der Basis von Aluminiumhydroxid in Form von Hydrargillit | |
EP0061685A2 (de) | Gelbildende Zusammensetzung auf der Basis eines Celluloseethers, ein Verfahren zur Herstellung eines Gels, ein Verfahren zur reversiblen Aufhebung des Gels und ihre Verwendung bei der Sekundärförderung von Erdöl | |
DE69205688T2 (de) | Suspension und Agglomeration von Amidoperoxysäuren. | |
DE3330455C2 (de) | ||
DE2012924B2 (de) | In Wasser stabiles Titanchelat | |
CH493272A (de) | Verfahren zur Herstellung von handelsfähigen, kolloidalen Lösungen von feinstverteiltem Siliziumdioxyd oder dieses enthaltenden Mischoxyden | |
DE2529711A1 (de) | Verfahren zur herstellung von phosphorsaeure | |
DE2647672A1 (de) | Gelierte kohlenwasserstoffzusammensetzungen | |
EP0183945A2 (de) | Wässrige stabile Suspension wasserunlöslicher, zum Binden von Calciumionen befähigter Silikate und deren Verwendung zur Herstellung von Wasch- und Reinigungsmitteln |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: CABOT CORP., BOSTON, MASS., US CABOT MICROELECTRON |
|
8131 | Rejection |