JPH0319111A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置
において用いられる磁気ヘッドの製造方法に関するもの
である。

〔従来の技術］ 近年の磁気記録技術の高密度化に伴い、メタルテープの
ような高保磁力記録媒体が用いられるようになり、一方
、磁気ヘッドに使用されるコア材料には必然的に高い飽
和磁束密度を有するものが要求されるようになっている
。このような要求の下、磁気回路を形或する軟磁性金属
薄膜とこの軟磁性金属薄膜を支持する基板とからなる磁
気ヘッド、例えば、第３図に示すように、傾斜型と称さ
れる磁気ヘッド１が提案されている。

この磁気ヘッドｌにおいて、各基板２におけるギャップ
対向面にはギャップ３に対して非平行な傾斜面２ａ・２
ａが形威されており、各基板２の一方の傾斜面２ａに前
記の軟磁性金属薄膜４が形威されている．そして、上記
の９’Ａ　Ｅｉｌ性金Ｆｒ％薄膜４・４が図示しないギ
ャンプ材を介して前記のギャンプ３を形威するように上
記一対の基仮２・２が貼り合わされ、低融点ガラス５・
５にて互いに接着されている．各基仮２にはコイル巻線
溝２ｂ・２ｂが形威されており、このコイル巻線溝２ｂ
を用いてコイル６が巻回されている。

｛ｎ気ヘッド１を製造するには、基板の表面に略Ｖ字状
の複数の溝を一定間隔で連続して形威した後、各溝の一
方の傾斜面２ａに所定の膜厚で軟磁性金属薄膜４を形威
する。そして、前記の各溝に低融点ガラス５を充填して
、この充填された低融点ガラス５の表面部を基板表面に
一致させるように平面状に研磨してコアブロックを得る
．次いで、このコアブロックにコイル巻線用溝を加工し
たものを一対用意し、互いのガラス充填面を突き合わせ
且つ軟磁性金属薄膜４・４が一直線状をなすように貼り
合わせた後、前記の低融点ガラス５が溶融する温度の雰
囲気中において前記・一対のコアプロンクを接着させる
．そして、この接着で得られた６ｉ気ヘッドブロックを
所定幅で切り出して磁気ヘッド本体を得、このようにし
て得られた各磁気へノド本体に対して巻線を施すことに
より磁気ヘソド１が得られる． 〔発明が解決しようとする課題〕 ところで、上記の方法において、低融点ガラスを溶融し
て一対のコアブロンクを接合する際には、例えば、第４
図に示すように、バイス７により上記のコアブロックに
対して一定の圧力を加えるのであるが、このとき低融点
ガラス５は溶融しているので、上記の加圧力を軟磁性金
属薄膜４だけで受ける形となる。

軟＋１１性金属薄膜の変形、ひいてはコアブロンクの変
形を防止する必要から、上記の接合においては、極めて
小さな締付トルクでもってコアプロンクを加圧固定しな
ければならないが、かかる加圧力が小さすぎるとコアブ
ロック同士が密着せずに隙間ができ、磁気ヘッドの不良
を誘発することにもなる．上記のバイス７については、
ビス８と螺子穴９との摩擦を考慮し、通常の締付トルク
に所定のマージンを持たせているが、上記従来の方法の
場合、元々小さい締付トルクで固定する必要があること
から、特に下限のマージンを設定し難く、必然的にマー
ジンが狭くなり、トルク管理が困難であるという欠点を
有していた． 〔課題を解決するための手段〕 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、上記の課題を解
決するために、基板の一方の面に略Ｖ字状のＶ字溝を複
数個連続して形成する工程と、各ｖ字溝の一方の傾斜面
に軟磁性金属薄膜を形戊する工程と、各Ｖ字溝に低融点
ガラスを充填する工程と、上記低融点ガラスの充填部の
表面を前記の基板表面に一致するように平面状に研磨し
てコアブロックを得る工程と、一対のコアブロックを突
き合わせて上記の低融点ガラスにより接合して磁気ヘッ
ドブロックを得る工程とを有する磁気ヘッドの製造方法
において、前記の■字満の形成に際して、Ｖ字溝の形威
していない平坦領域を部分的に且つ一対のコアブロック
同士の間で対応するように設けることを特徴としている
． 〔作　用〕 上記のｔ！Ｉ戒によれば、一対のコアブロックを接合す
るときに互いの平坦領域同士が対面して、かかる接合時
の加圧力を軟磁性金属薄■Δと共に平坦領域が受けてく
れることになる．即ち、平坦領域を設けたことにより加
圧力を受けることになる受圧面積が大きくなるので上記
加圧力を幾分大きくすることができ、加圧力の許容幅が
拡がることになる．従って、上記の圧力付与をバイスで
行うときには、締付トルクも幾分大きく設定することが
でき、この締付トルクにマージンを持たせ易《なり、加
圧固定のトルク管理が容易になる．〔実施例〕 本発明の一実施例を第１図ないし第３図に基づいて説明
すれば、以下の通りである．なお、従来例で用いた第３
図をここで再び使用する．本発明に係る磁気ヘッドの製
造方法により製造される磁気ヘッドは、傾斜型の磁気ヘ
ッドと称されるものであり、ここでは従来例で示したも
のと同様のものを製造する場合について説明する．磁気
ヘッド１（第３図に示している）を製造するには、第１
図（ａ）に示すように、感光性結晶化ガラス、結晶化ガ
ラス、セラミックスなどの非磁性材料、或いは軟磁性フ
エライトといった磁性材料からなる基板２の表面に所定
ビッチＸで略■字状のＶ字溝Ｇ・・・を連続して形成す
ると共に、例えば、ｖ字溝Ｇ・・・の４個おきにＶ字溝
の形威していない平坦領域２Ｃを形威する。別言すれば
、かかる平坦領域２Ｃに形或するはずのＶ字溝を形威し
ないで平坦部分を残すようにする。また、かかる平坦領
域２Ｃ・・・は、後述する一対のコアブロックＢ−Ｂ同
士の間で対応するように設ける。

次に、同図（ｂ）に示すように、各ｖ字溝Ｇの一方の傾
斜面２ａに、真空蒸着法やスパッタ法などの薄膜形或技
術により所定の膜厚、即ち、磁気ヘッドのトラック幅に
ほぼ相当する膜厚（例えば、２０Ｉｊｍ）でＦｅＡｆｆ
ｉＳｉ系合金等からなる軟磁性金属薄膜４を形威する． その後、同図（Ｃ）に示すように、低融点ガラス５をＶ
字溝Ｇ・・・内に充填した後、同図（ｄ）に示すように
、ガラス充填部の表面を基板２の表面に一致させるよう
に平面状に研磨してコアブロックＢを得る。

次に、同図（ｅ）に示すように、このコアブロックＢに
コイル巻線用溝Ｂ１・Ｂ２を形成し、このようにコイル
巻線用溝Ｂ１・Ｂ２を形威したちの一対用意する。そし
て、一方のコアブロックＢ若しくは両コアブロックＢ−
Ｂのギャップ形或面Ｐに所定のギャップ３（第３図に示
している）となるようにＳｉｎ．等の非磁性ギャップ材
（図示せず）をスパッタリング法等により形威する。

次いで、同図（ｒ）に示すように、一対のコアブロック
Ｂを、互いのガラス充填面（前記のギャップ形成面Ｐで
もある）側を突き合わせ且つ軟磁性金属薄膜４が一直線
状をなすように貼り合わせた後、前記の低融点ガラス５
が溶融して接着力を持つ温度まで昇温しで前記一対のコ
アブロックＢ・Ｂを接着させる。そして、この接着で得
られた磁気ヘッドブロックＨＢを所定幅で切り出して磁
気ヘッド本体を得、このようにして得られた各磁気ヘッ
ド本体に対して巻線を施すことにより第３図に示した磁
気ヘッド１が得られる。なお、かかる磁気ヘッド１につ
いては、例えばＶＴＲ用フエライトヘッド等として用い
られるが、このときには、ベース板への接着固定、テー
プ摺動面の研磨等の処理が加えられることになる。

ここで、コアブロックＢ−Ｂ同士の接合に際してのコア
ブロックＢへの加圧に対する受圧面の大きさについて、
従来法によるものと本発明の方法によるものとを比較す
る。

例えば、Ｖ字溝をピッチ０．３８ｍｍで２５本連続して
形成した従来に係るコアブロックと、第２図に示すよう
に、ｖ字溝Ｇ・・・の４本おきに平坦領域２ｃを形威し
た本実施例に係るコアブロックＢとについての受圧面の
比率を算出してみると、以下の第１式の通りとなる。な
お、本実施例にかかるコアブロックＢも従来に係るコア
ブロックも共にコア長さが９．５ｍｍ（０．３Ｂ　　（
ピッチ）Ｘ２５（溝数）＝９．５）であり、また、本実
施例に係るコアブロックＢにおいてはＶ字溝Ｇ・・・を
２ｏ本、平坦領域２ｃを５個持つことになる。また、軟
磁性金属薄膜４の膜厚は０．０２ｍｍとなっている。

即ち、本実施例の方法で得られるコアブロックＢについ
ては、従来のそれよりも４．７５倍の受圧面の大きさを
持つことになり、加圧固定の際の加圧力を幾分大きくす
ることができ、加圧力の許容幅が拡がることになる。

ここで、上記の圧力付与をバイスで行う場合を考えると
、以下の第２式により、締付トルクＴの許容範囲は受圧
面積Ａが大きくなる程大きくなるので、本実施例の方法
によれば、従来に比べて４．７５倍の締付トルク上限を
設定してトルク管理を容易に行うことができる。

Ｗ＝σＡ＝ｋＴ　　・・・第２式 Ｗ：締付力（ｋｇｆ） σ：単位面積当たりの加圧力（ｋｇ　ｆ　／ｍｍ”　）
Ａ：受圧面積（ａｕ＋＋”） ｋ：係数（１／ｍｍ） Ｔ：締付トルク（ｋｇｆ−ｆｉｌｌ） 〔発明の効果〕 本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、以上のように、
基板の一方の面に略■字状のＶ字溝を複数個連続して形
成する工程と、各Ｖ字溝の一方の傾斜面に軟磁性金属薄
膜を形或する工程と、各Ｖ字溝に低融点ガラスを充填す
る工程と、上記低融点ガラスの充填部の表面を前記の基
板表面に一敗するように平面状に研磨してコアブロック
を得る工程と、一対のコアブロックを突き合わせて上記
の低融点ガラスにより接合して磁気ヘッドブロックを得
る工程とを有する磁気ヘッドの製造方法において、前記
のＶ字溝の形成に際して、Ｖ字溝の形威していない平坦
領域を部分的に且つ一対のコアブロック同士の間で対応
するように設ける構威である。

これにより、コアブロック同士の接合に際しての加圧力
の許容幅が拡がることになり、例えば、上記の圧力付与
をバイスで行うときには、締付トルクも幾分大きく設定
することができ、この締付トルクにマージンを持たせ易
くなり、加圧固定のトルク管理を容易にして磁気ヘッド
生産における歩留まり向上が図れるという効果を奏する
。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第１図（ａ）は基板にＶ字溝および平坦領域を形威した
ものを示す断面図、同図（ｂ）はＶ字溝の一方の傾斜面
に軟磁性金属薄膜を形成したものを示す断面図、同図（
Ｃ）はＶ字溝に低融点ガラスを充填したものを示す断面
図、同図（ｄ）はガラス充填部を研磨して平坦化したも
のを示す断面図、同図（ｅ）はコイル巻線溝を形威した
ものを示す斜視図、同図（ｆ）は一対のコアブロックを
接合したものを示す斜視図である。 第２図はＶ字溝のピッチおよび平坦領域の幅等を示す説
明図である。 第３図は一般的な傾斜型の磁気ヘッドを示す斜視図であ
る。 第４図はコアブロック接合の際の圧力付与に用いられる
バイスを示す斜視図である。 ｌは磁気ヘッド、２は基板、２ａは傾斜面、２Ｃは平坦
領域、４は軟磁性金属薄膜、５は低融点ガラス、Ｂはコ
アブロックである。 第１　図（ａ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、基板の一方の面に略Ｖ字状のＶ字溝を複数個連続し
   て形成する工程と、各Ｖ字溝の一方の傾斜面に軟磁性金
   属薄膜を形成する工程と、各Ｖ字溝に低融点ガラスを充
   填する工程と、上記低融点ガラスの充填部の表面を前記
   の基板表面に一致するように平面状に研磨してコアブロ
   ックを得る工程と、一対のコアブロックを突き合わせて
   上記の低融点ガラスにより接合して磁気ヘッドブロック
   を得る工程とを有する磁気ヘッドの製造方法において、
   前記のＶ字溝の形成に際して、Ｖ字溝の形成していない
   平坦領域を部分的に且つ一対のコアブロック同士の間で
   対応するように設けることを特徴とする磁気ヘッドの製
   造方法。